JPH0448259U - - Google Patents

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JPH0448259U
JPH0448259U JP9112790U JP9112790U JPH0448259U JP H0448259 U JPH0448259 U JP H0448259U JP 9112790 U JP9112790 U JP 9112790U JP 9112790 U JP9112790 U JP 9112790U JP H0448259 U JPH0448259 U JP H0448259U
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vapor deposition
electron beam
outlet
inlet
vacuum chamber
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案実施例の外観図で、第2図はそ
の縦断面図である。また、第3図は本考案実施例
の使用状態を示す図である。 1……ハース本体、1a……電子ビーム導入口
、1b……蒸気出口、2……ネツト、B……電子
ビーム、M……蒸着材料。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空室内の蒸着材料に電子ビームを照射するこ
    とによりその材料を蒸発させ、上記真空室内に置
    かれた基板表面に蒸着膜を形成する装置において
    、上記蒸着材料を収容するハースであつて、電子
    ビーム導入口および蒸気出口のみが開口された略
    密閉構造で、かつその導入口および出口は、当該
    蒸着装置に設置された状態では膜を形成すべき基
    板に対面しない位置に設けられているとともに、
    上記蒸気出口にはネツトが取り付けられているこ
    とを特徴とする、電子ビーム蒸着装置用ハース。
JP9112790U 1990-08-29 1990-08-29 Pending JPH0448259U (ja)

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