JPH0251259U - - Google Patents
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- JPH0251259U JPH0251259U JP12888688U JP12888688U JPH0251259U JP H0251259 U JPH0251259 U JP H0251259U JP 12888688 U JP12888688 U JP 12888688U JP 12888688 U JP12888688 U JP 12888688U JP H0251259 U JPH0251259 U JP H0251259U
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- JP
- Japan
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- thin film
- shield plate
- sample surface
- evaporated particles
- ionization section
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案実施例の構成図、第２図は本考
案の他の実施例を説明するための図、第３図は従
来の薄膜製造装置の構成例を示す図である。 ３……イオン化部、５……遮蔽板、５ｂ……貫
通孔、Ｍ……蒸着材料、Ｔ……基板。
案の他の実施例を説明するための図、第３図は従
来の薄膜製造装置の構成例を示す図である。 ３……イオン化部、５……遮蔽板、５ｂ……貫
通孔、Ｍ……蒸着材料、Ｔ……基板。
Claims (1)
- 蒸着材料を真空雰囲中で加熱することによりそ
の材料を蒸発させ、その蒸発粒子をイオン化部に
よりイオン化して試料表面に導くことによつて、
その試料表面上に薄膜を形成する装置において、
上記イオン化部の前段に、蒸発粒子の上記試料以
外への進行を遮るための遮蔽板を設けるとともに
、その遮蔽板を冷却し得るよう構成したことを特
徴とする、薄膜製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12888688U JPH0251259U (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12888688U JPH0251259U (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0251259U true JPH0251259U (ja) | 1990-04-10 |
Family
ID=31382643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12888688U Pending JPH0251259U (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0251259U (ja) |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP12888688U patent/JPH0251259U/ja active Pending