JPH0476552A - マスクの製造方法及び露光データ作成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［概要］ マスクの製造方法及び露光データ作成装置に関し、 ウェハー上の各チップに対して異なるチップコードを正
確に付与することができ、しかもチップコードを付与す
る手作業がなくなり、労力の低減及び納期短縮化を図る
ことを目的とし、ルチクル単位のデバイスパターンのデ
ータとチップサイズ情報及びウェハサイズ情報とに基づ
いてウェハ上に配置される各チップ位置に前記デバイス
パターンを展開させてウェハイメージデータを作成し、
その作成したウェハイメージデータを露光データに変換
し、その露光データに基づいてマスクを製造するように
したマスクの製造方法において、ウェハイメージデｉり
に展開されるウェハ上の各チップに対してそれぞれ異な
る番号を付し、その付された番号に対応してチップコー
ドパターンを発生し、その各チップコードパターンのデ
ータと前記ウェハイメージデータとを合成した後、その
合成したデータを露光データに変換するように構成する
。

［産業上の利用分野］ 本発明はＬＳＩ製造時に使用されるマスクの製造方法及
び露光データ作成装置に関するものである。

ＬＳＩチップのテストおいてウェハ上のどの位置に不良
チップが多（発生するか、その分布を認識し、原因を究
明しすることは今後の不良防止対策になり歩留まりを上
げるうえで重要である。そこで、ウェハ上の形成される
各チップを識別するチップコードを各チップに対して効
率良（かつ正確に付与することが必要となる。

［従来の技術］ 従来、マスクを作成する１つの方法としてレチクルを使
用しステップ及リピートによって作成する方法がある。

この方法においては同一レチクルのデータしかマスク上
に焼付けるこしかできないことから、ウェハ上の各チッ
プに互いに異なるチップコードを付すことは困難である
。

そこで、デバイスパターンのデータとチップサイズ情報
及びウェハサイズ情報とに基づいて前記デバイスパター
ンをウェハ上に展開させてなるウェハイメージデータを
作成した後、ＣＡＤ端末装置を使用して、画面上にウェ
ハイメージに展開した各チップに対して一つ一つ互いに
異なるチップコードを追加して露光データを作成してい
た。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、ウェハイメージに展開した各チップに対
して一つ一つ作業者の手によって互いに異なるチップコ
ードを付与していくことは、膨大な作業と手間を要し、
露光データの納期短縮化を図る上で問題となるとともに
、正確性に欠けるという問題があった。

本発明の目的は上記問題点を解消するためになされたも
のであって、その目的はウェハ上の各チップに対して異
なるチップコードを正確に付与することができ、しかも
チップコードを付与する手作業がなくなり、労力の低減
及び納期短縮化を図ることができるマスクの製造方法及
び露光データ作成装置を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 第１図は、上記目的を達成する本発明を説明する原理ブ
ロック図である。

符号化手段Ｉにおいて、パラメータとして与えられたチ
ップサイズ情報２及びウェハサイズ情報３とに基づいて
ウェハ上にチップの配置を決め、その配置される各チッ
プに対してそれぞれ異なる番号を付す。

次に、ウェハイメージ展開手段４において、ウェハ上に
配置される番号が付された各チップに対して予めＣＡＤ
装置等で作成したルチクル単位のデバイスパターンデー
タ５をあてはめ、ウェハイメージに展開する。チップコ
ードパターン発生手段６において、そのウェハイメージ
に展開されたイメージデータの各チップに対してそれぞ
れ異なるチップコードパターンを発生する。

次に、チップコードパターン合成手段７において、その
各チップに対して発生されたチップコードパターンと前
記ウェハイメージデータとを合成する。その結果、ウェ
ハイメージデータは各チップに対して異なるチップコー
ドパターンが合成されたデータとなる。そして、データ
変換手段８において、その合成されたウェハイメージデ
ータを露光データ９に変換する。

［作用］ 従って、本発明では、ウェハイメージ展開手段４により
、ｌレチクル単位のデバイスパターンのデータ５をチッ
プサイズ情報２及びウェハサイズ情報３に基づいて展開
したウェハイメージデータと、チップコードパターン発
生手段６により、その展開され番号が付された各チップ
に対してその番号に対応して発生したチップコードパタ
ーンとを、チップコードパターン合成手段７にて合成す
るだけで、ウェハ上の各チップに対して異なるチップコ
ードを正確に付与することができる露光データ９が素早
く作成されることになる。

［実施例］ 以下本発明を具体化した露光データ作成装置の一実施例
を図面に従って説明する。

第２図においてコンピュータよりなる露光データ作成装
置１１はＣＡＤ装置等の設計装置１２にて作成されたｌ
レチクル単位の露光データ１３を入力するとともに、同
じ＜ＣＡＤ装置等の制御情報入力装置１４からのウェハ
サイズ、チップサイズ及びブロック個数等の各種の制御
情報を入力するようになっている。尚、ブロック個数の
制御情報はｌレチクル単位の露光データ１３がブロック
レチクルの露光データの場合にその個数が入力される。

そして、露光データ作成装置１１は露光データ１３を後
記するウェハイメージに展開等の内部処理が行えるデー
タ形式に変換する機能を有する。

又、作成装置１１は制御情報のウェハサイズ、チップサ
イズ及びブロック個数に基づいてウェハ上にチップの配
置を決め、その配置された各チップに対してそれぞれ異
なる番号を付す、いわゆるナンバリンク処理を行う機能
を有する。

さらに、露光データ作成装置１１は前記ウェハ上に配置
されたナンバリングされた各チップに対して前記データ
形式を変換した露光データをあてはめ、ウェハイメージ
に展開したイメージデータに展開処理を行う機能を有す
る。又、作成装置１１はイメージデータの各チップに対
してチップコードパターンを付けるために、各チップに
付した番号に対応したチップコードパターンを自動発生
し、−イメージデータとチップコードパターンを合成す
る機能を有している。

そして、最後に露光データ作成装置１１はウェハ上の各
チップに対してチップコードパターンを合成したイメー
ジデータをマスク露光データ１７の形式にデータ変換す
るようになっている。

又、露光データ作成装置１１はウェハサイズ、チップサ
イズ及びブロック個数の制御情報の他に置換え指示情報
や削除指示情報を制御情報入力装置１４から入力するよ
うになっていて、置換え指示情報に基づいてウェハ上の
一部の位置を、他のｌレチクル単位の露光データ１３に
よるチップに代えてウェハイメージに展開したり、削除
指示情報に基づいてウェハー上の所定の位置にチップが
配置されない領域を設けたウェハイメージに展開するこ
ともできるようになっている。

従って、露光データ作成装置１１にて作成されたマスク
露光データ１７はウェハイメージデータとチップコード
パターンデータを合成したデータなので、マスク露光デ
ータ１７を使用して半導体装置を製造するとき、ウェハ
上に形成される各チップには第３図に示すようにその各
チップ２０毎に異なるチップコード２１が合わせて形成
されるので、そのチップコード２１を見てウェハ上のど
の位置に不良チップが多く発生しているか、その分布を
認識し、原因を究明しすることが容易に行うことができ
る。

しかも、ウェハサイズ、チップサイズ及びブロック個数
等の制御情報に基づいて露光データ１３をウェハイメー
ジに展開した際、ウェハイメージに展開した各チップに
予め番号を定義し、その番号に基づいて各チップに対応
するチップコードパターンデータを発生してイメージデ
ータに合成するようにしたので、短時間にかつ正確にウ
ェハ上の各チップ２０に対してチップコード２Ｉを付与
することができ、手作業がなくなり労力の低減及び納期
短縮化を図ることができる。

又、本実施例ではウェハ上の所定の個所に別のチップパ
ターン、例えばテスト用のチップを形成したい場合には
、置換え指示情報の制御情報を制御情報入力装置１４か
ら入力するとともに、テスト用チップの露光データ１３
を設計装置１２から入力することによって、ウェハイメ
ージに展開するとき、その置換え指示情報に基づ（ウェ
ハ上の所定位置にテスト用チップに置き換えてウェハイ
メージを展開するようにできるので、１枚のマスク上に
複数種類のチップが作成でき、多品種少量の時代におけ
るチップ開発では開発費用の面で有利となる。

Ｅ発明の効果コ 以上詳述したように、本発明によればウェハ上の各チッ
プに対して異なるチップコードを正確に付与することが
でき、しかもチップコードを付与する手作業がなくなり
、労力の低減及び納期短縮化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を説明する原理ブロック図、第２図は本
発明の一実施例を説明するための露光データ作成装置の
概略構成図、 第３図は本発明により作成されたマスク露光データにて
形成されたチップとチップコードを示す図である。 図において、 ■は符号化手段、 ２はチップサイズ情報、 ３はウェハサイズ情報、 ４はウェハイメージ展開手段、 ６はチップコードパターン発生手段、 ７はチップコードパターン合成手段、 ８は露光データ変換手段、 ２０はチップ、 ２１はチップコードである。 第２図 本発明の一実１ｉｅｔＴ＆説明するための露光データ作
成装置のＩ略構成図管図面無し 第３図 マスク露先データにて形成されたチ５ブとチ・シブコド
奄示す図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、１レチクル単位のデバイスパターンのデータとチッ
   プサイズ情報及びウェハサイズ情報とに基づいてウェハ
   上に配置される各チップ位置に前記デバイスパターンを
   展開させてウェハイメージデータを作成し、その作成し
   たウェハイメージデータを露光データに変換し、その露
   光データに基づいてマスクを製造するようにしたマスク
   の製造方法において、前記ウェハイメージデータに展開
   されるウェハ上の各チップに対してそれぞれ異なる番号
   を付し、その付された番号に対応したチップコードパタ
   ーンを発生し、その各チップコードパターンのデータと
   前記ウェハイメージデータとを合成した後、その合成し
   たデータを露光データに変換したことを特徴とするマス
   クの製造方法。 ２、チップサイズ情報（２）及びウェハサイズ情報（３
   ）とに基づいてウェハ上に配置されるチップ位置及びそ
   のチップ番号を決定する符号化手段（１）と、 符号化手段（１）にて決定されたウェハ上に配置される
   各チップに対して１レチクル単位のデバイスパターンの
   データ（５）をあてはめ、ウェハイメージに展開しウェ
   ハイメージデータを作成するウェハイメージ展開手段（
   ４）と、 展開されたイメージデータの各チップに対してそれぞれ
   異なるチップコードパターンを発生するチップコードパ
   ターン発生手段（６）と、 その各チップに対して設定されたチップコードパターン
   をウェハイメージデータに合成するチップコードパター
   ン合成手段（７）と、 その合成されたウェハイメージデータを露光データ（９
   ）に変換するデータ変換手段（８）とからなる露光デー
   タ作成装置。