JPH0475618B2 - - Google Patents

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JPH0475618B2
JPH0475618B2 JP21645485A JP21645485A JPH0475618B2 JP H0475618 B2 JPH0475618 B2 JP H0475618B2 JP 21645485 A JP21645485 A JP 21645485A JP 21645485 A JP21645485 A JP 21645485A JP H0475618 B2 JPH0475618 B2 JP H0475618B2
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JP
Japan
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stem
joint
metal
envelope
metal body
Prior art date
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JP21645485A
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English (en)
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JPS6276241A (ja
Inventor
Hiroshi Sugawara
Masanori Hoshino
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はマグネトロンに用いるステムに関す
る。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来、マグネトロンの陰極支持部に用いるステ
ムとして、第6図で示すものがある。図中1はセ
ラミツクスからなるステム本体で、このステム本
体1には両端面間に貫通する貫通孔2,2が形成
されている。ステム本体1の両方の側面には座金
接合面3,3が形成され、且つ一方の側面には座
金接合面3の周囲に段差をもたせてエンベローブ
接合面4が形成されている。ステム本体1の貫通
孔2,2には陰極支持棒5,6が挿通され、これ
ら陰極支持棒5,6はステム本体1の座金接合面
3,3にろう付けにより接合した座金7,7とろ
う付けを施して接合封着されている。なお、支持
棒5,6は高温下で使用されるため高温強度にす
ぐれたMoで形成する。ステム本体1のエンベロ
ープ接合面4には、金属エンベロープ8がろう付
けにより接合封着してある。前記ステム本体1の
座金接合面3,3とエンベロープ接合面4は、座
金7,7および金属エンベロープ8を接合するた
めに、メタライズ層9,9および10を形成し、
このメタライズ層の表面にろう付けを行なつてい
る。また、陰極支持棒5,6と座金7,7との接
合部はステム本体1の外気に対する封止部となる
ので、支持棒5,6と座金7,7とのろう付けを
行なう上で、ろう材ののりを良くし接合封着性を
高めるために、表面にNiメツキを施している。
なお、図中11は陰極フイラメント、12,13
は陰極フイラメント11を支持棒5,6に保持す
るエンドシールドである。
しかして、このような従来のステムでは、ステ
ム本体1の一側面に座金接合面3とエンベロープ
接合面4とを、電気的絶縁をもたせるために高さ
を異ならせ段差をつけて形成してあるので、両接
合面3,4にメタライズ層9,10を形成する場
合に、1回の作業で両面に同時にメタライズ層材
料を塗布することができず、2回に分けて手作業
で塗布する必要があるので、作業性が悪い。しか
も、ステム本体1の貫通孔2,2に陰極支持棒
5,6を挿通し、ステム本体1の両端面で座金
7,7に接合封着するので、ステム本体1の両端
面の座金接合面3,3にメタライズ層9,9を形
成しなければならず、メタライズ層形成作業の作
業性が悪い。また、Moからなる陰極支持棒5,
6にNiメツキを施して座金7,7とろう付けを
行なうが、Moに対するNiメツキは大変困難であ
る。
〔発明の目的〕
本発明は前記事情に基づいてなされたもので、
製造性と信頼性に優れたマグネトロンのステムを
提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明のマグネトロンのステムは、セラミツク
スからなるステム本体の一側部に、陰極支持棒と
固定する接合金属体を接合するための互いい分離
した複数の金属体接合面と、エンベロープを接合
するための金属体接合面と分離したエンベロープ
接合面とを夫々同一高さの平面として形成し、且
つステム本体に、接合金属体と固定する端子を挿
通するための孔を、一側部から他側部にわたり貫
通して形成したことを特徴とするものである。
〔発明の実施例〕
以下本発明の一実施例を図面について説明す
る。
第1図ないし第5図は本発明の一実施例を示
し、第1図ないし第4図はステムを示し、第5図
はステムをマグネトロンの陰極支持部を組み込ん
だ構造を示している。図中21はAl2O3などのセ
ラミツクスで形成された例えば有頭円筒形をなす
ステム本体である。このステム本体21の頭部上
側面には、外周部にリング形の突条によりエンベ
ロープ接合面22が形成され、このエンベロープ
接合面22に囲まれた内周側にリング形をなす溝
部23が形成され、さらにこの溝部23で囲まれ
た中央部には2個の金属体接合面24,25が形
成されていて、これら金属体接合面24,25の
間には溝部26が形成されている。また、ステム
本体21には、金属体接合面24,25からステ
ム本体頭部下側面にかけてステム本体1の軸方向
に沿つて貫通する2個の端子挿通孔27,28が
形成してあり、且つ各金属体接合面24,24に
は、支持棒係合凹部29,30が端子挿通孔2
7,28と並べて形成してある。ここで、前記エ
ンベロープ接合面22と金属体接合面24,25
は同一高さ位置にある平面として形成される。ま
た、エンベローブ接合面22と金属体接合面2
4,25とは、溝部23によつて分離され電気的
に充分絶縁されている。さらに、金属体接合面2
4,25同士は、溝部26によつて分離され電気
的に充分絶縁されている。なお、ステム本体21
の下部に形成した凹部31は、端子と金属エンベ
ロープとの間の電気的絶縁を保持するものであ
る。
このように構成されたステムをマグネトロンの
陰極支持部に組み込む構造について説明する。ス
テム本体21のエンベロープ接合面22と金属体
接合面24,25にメタライズ層32,33,3
4を形成する(第2図、第3図および第4図参
照)。このメタライズ層32,33,34は、
Mo−Mnペーストを各接合面22,24,25
上に塗布し、その後にペーストを乾燥、焼成して
形成する。各接合面22,24,25は同一高さ
位置にあるために、スクリーン印刷などの方法に
よりペーストを各接合面上に1度に塗布すること
ができる。ステム本体21の金属体接合面24,
25には、メタライズ層33,34の上に接合金
属体35,36をろう付けにより接合する。接合
金属体35,36は第1図で示すように、ステム
本体21の端子挿通孔27,28および支持棒係
合凹部29,30と対応して2個の孔部37,3
8が夫々形成してある。なお、孔部37,38に
はバーリング加工が施されている。接合金属体3
5,36はセラミツクスと近い熱膨張係数を有
し、メタライズ層とろう付けし易い金属を使用す
る。また、ステム本体21のエンベロープ接合面
22には、メタライズ層32の上に金属エンベロ
ープ39をろう付けにより接合してエンベロープ
と接合面との間を気密に封止する。金属エンベロ
ープ39の内側には陰極支持棒40,41が設け
られ、これら陰極支持棒40,41で図示しない
陰極フイラメントを保持する。陰極支持棒40,
41の下端部は各接合金属体35,36の一方の
孔部38,38に挿通してろう付けにより接合す
る。ここでは、陰極支持棒40,41と接合金属
体35,36の孔部38,38との接合部が、ス
テム本体21を外気に対して気密に封止する封止
部とは関係ない箇所にあるため、支持棒と接合金
属体とをろう付けする上で、支持棒にNiメツキ
を施すことを回避することができる。すなわち、
陰極支持棒40,41を形成するMoに対し、メ
ツキ処理が困難なNiメツキを回避することがで
きる。なお、陰極支持棒40,41の下端は、ス
テム本体21の金属体接合面24,25に形成し
た係止凹部29,30に挿入して係合する。これ
により陰極支持棒40,41を安定し保持でき
る。さらに、ステム本体21の端子挿通孔27,
28には端子42,43を挿通し、これら端子4
2,43の上端部は接合金属体35,36の他方
の孔部37,37に挿通してろう付けにより接合
して気密に封止する。ここでは、端子42,43
は陰極支持棒に比して低温下で使用されるため
に、Moで形成する必要がなくメツキが容易な金
属で形成する。そして、端子42,43にメツキ
を施してろう付けにより接合金属体35,36と
接合封止する。すなわち、ステム本体21の外気
に対する封止部である端子42,43と接合金属
体35,36との接合封止部の信頼性を高めるこ
とができる。
しかして、このようなステムを用いた陰極支持
構造では、端子42,43に外力が加わつても直
接陰極フイラメントに伝わらないため、陰極フイ
ラメントが変形したり、破損することがない。
なお、陰極支持棒は2本に限らず、3本以上設
けるようにしても良い。
本発明のステムを製造する場合の具体的な一例
は次の通りである。92%アルミナを材料粉末とし
て成形後に、温度約1500℃の酸化雰囲気中で焼成
しステム本体を形成する。このステム本体にMo
ペーストを塗布し、乾燥後に温度約1400℃程度の
不活性雰囲気中にて焼成してメタライズ層を形成
する。このメタライズ層の表面にNiメツキを施
して製品とする。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明のマグネトロンのス
テムによれば、ステム本体におけるエンベロープ
接合面と金属体接合面にメタライズ層材料を一回
の作業で塗布することができるとともに、ステム
本体の一側面にのみメタライズ層を形成すれば良
いのでメタライズ層形成作業が容易である。さら
に、ろう付け用のメツキが困難なMoからなる陰
極支持棒を、ステム本体の気密接合部に使用しな
くとも良く、陰極支持棒にメツキを施す必要がな
くなる。そして、端子の気密接合部を信頼性ある
ものとすることができる。また、端子に加わる外
力により陰極フイラメントが変形破損することを
防止できる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第5図は本発明の一実施例を示
し、第1図はステムを示す斜視図、第2図はその
上面図、第3図は第2図−線に沿う断面図、
第4図は第2図−線に沿う断面図、第5図は
本発明のステムを設けたマグネトロンの陰極支持
部を示す断面図、第6図は従来のステムを設けた
マグネトロンの陰極支持部を示す断面図である。 21……ステム本体、22……エンベロープ接
合面、24,25……金属体接合面、27,28
……端子挿通孔、35,36……接合金属体、4
0,41……陰極支持棒、42,43……端子。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 セラミツクスからなるステム本体の一側部
    に、陰極支持棒と固定する接合金属体を接合する
    ための互いに分離した複数の金属体接合面と、エ
    ンベロープを接合するための前記金属体接合面と
    分離したエンベロープ接合面と夫々同一高さの平
    面として形成し、且つ前記ステム本体には、前記
    接合金属体と固定する端子を挿通するための孔
    を、一側部から他側部にわたり貫通して形成した
    ことを特徴とするマグネトロンのステム。 2 ステム本体の金属体接合面に、陰極支持棒を
    係合する凹部を形成してなる特許請求の範囲第1
    項に記載のマグネトロンのステム。
JP21645485A 1985-09-30 1985-09-30 マグネトロンのステム Granted JPS6276241A (ja)

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JP21645485A JPS6276241A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 マグネトロンのステム

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JP21645485A JPS6276241A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 マグネトロンのステム

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JPS6276241A JPS6276241A (ja) 1987-04-08
JPH0475618B2 true JPH0475618B2 (ja) 1992-12-01

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KR0161015B1 (ko) * 1992-07-28 1998-12-01 강진구 마그네트론의 음극지지구조체
JP4926392B2 (ja) * 2004-10-29 2012-05-09 浜松ホトニクス株式会社 光電子増倍管及び放射線検出装置
JP5285868B2 (ja) * 2007-04-25 2013-09-11 株式会社東芝 マグネトロン用ステムの製造方法

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