JPH0466212B2

JPH0466212B2 -

Info

Publication number: JPH0466212B2
Application number: JP59014961A
Authority: JP
Inventors: Kikumasa Sato; Seiichi Inoe; Taisuke Matsuhashi; Osamu Myamoto
Original assignee: Eisai Co Ltd
Current assignee: Eisai Co Ltd
Priority date: 1984-01-30
Filing date: 1984-01-30
Publication date: 1992-10-22
Also published as: JPS60158126A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、天然型のポリプレノールを合成的に
製造するにあたり極めて重要な中間体であるシス
型イソプレノイドに関する。

更に詳しく述べれば、次の一般式（式中Ｘはハロゲン原子、水酸基または水素を
意味し、Ｒは水素原子または水酸基の保護基を意
味する）で表わされるシス型イソプレノイドおよびその製
造方法に関する。

近年、種々のポリプレノールが、動物、植物、
微生物から単離され、その後ポリプレノールは、
多糖類、ペプチドグリカン、糖蛋白質などの合成
の中間体として生体内で重要な働きをしているこ
とが徐々に明らかとされており、医薬品、食品な
どとして利用できる可能性が大きい。

しかしながら、これらのポリプレノール類は、
イソプレン単位で構成されているため、シス型イ
ソプレン、トランス型イソプレンが存在し、天然
型のものは、これらが特定の配列になつているた
め、これを合成的に得ることは従来困難であつ
た。一方、これを含有している動植物から抽出・
単離する方法は、資源的に限界があり、大量生産
には適さず、したがつて工業的ではない。

そこで、本発明者等は、天然に存在するポリプ
レノールと同じ立体配位を有するものを合成法に
よつて得ることを長年にわたつて鋭意研究を重ね
てきたが次の一般式で示されるシス型イソプレノ
イド（式中Ｘはハロゲン原子、水酸基または水素を
意味し、Ｒは水素原子または水酸基の保護基を意
味する）で表わされるシス型イソプレノイドが、種々のポ
リプレノールを合成する際に重要な中間体であ
り、これを出発物質とするば、種々の天然型の立
体配位を有するポリプレノールが製造できること
を見い出し、本発明を完成したものである。

すなわち、本発明化合物のシス型イソプレノイ
ドは２〜３個のイソプレン単位がいずれもシス型
〔一般式（）においてＸが水素原子のときは２
個〕であるので、これを利用することにより種々
のバクテリアルプレノール（Bacterialprenol）、
ベツラプレノール（Betulaprenol）、フイカプレ
ノール（Ficaprenol）、ドリコール（Dolichol）、
またはヘキサヒドロポリプレノール
（Hexahydropolyprenol）類などを合成すること
が可能である。例えばベツラプレノールは、次の
ような構造式 ω−〔Ｔ〕₂−〔Ｃ〕_2-5−Ｃ−OH （式中ωは式（CH₃）₂C＝CH−CH₂−で表わさ
れる基を意味し、Ｔはトランスイソプレン単位を
意味し、Ｃはシスイソプレン単位を意味する）を
有するが、本発明化合物を利用することによりア
ルコール末端（α末端）に、シスイソプレン単位
を数個導入することが可能である。

したがつて、本発明の目的は、天然型の種々の
ポリプレノールを製造するに有用な新規な中間体
を提供するにある。

更に本発明の目的は、天然型の種々のポリプレ
ノールを製造するに有用な新規な中間体を製造す
る方法を提供するにある。

本発明化合物（）においてＸの定義にみられ
るハロゲン原子とは、例えば塩素、臭素、ヨウ
素、フツ素などを意味し、Ｒは水酸基の保護基を
意味するが、この代表例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチルなどの低級アルキル基、ベ
ンジル、フエネチル、ベンツヒドリルなどのアラ
ルキル基、アセチル、プロピオニル、ブチロイ
ル、ピパロイルなどのアシル基、テトラヒドロピ
ラニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシ
メチル基などをあげることができる。

本発明化合物のシスイソプレノイドの製造方法
としては例えば次のような方法をあげることがで
きる。

(1) 一般式（）において、ＸおよびＲがいずれ
も水素原子である場合（式中Arはアール基を意味する）（式中Halはハロゲン原子を意味し、Ｙは水
酸基の保護基を意味する）すなわち、化合物（）で表わされるプレニ
ルアリールスルホンにイソプレン単位がいるれ
もシス体である化合物（）を反応せしめて化
合物（）で表わされる（Ｚ，Ｚ）−ポリプレ
ニルアリールスルホン系化合物を得る。この反
応は例えばテトラヒドロフラン、ヘキサメチレ
ンホスホリルアミド（HMPA）混合溶媒中、
ブチルリチウムの存在下に反応させて得ること
ができる。

次いで得られた化合物（）の（Ｚ，Ｚ）−
ポリプレニルアリールスルホン系化合物を、脱
スルホン化し、かつ水酸基の保護基を脱離せし
めて、化合物（′）すなわち、（Ｚ，Ｚ）−フ
アルネソールとする。この反応は通常リチウム
−低級アルキルアミンの存在下におこなう。低
級アルキルアミンとして最も好ましいものはエ
チルアミンである。この際反応溶媒は、リチウ
ム−低級アルキルアミンの調製が、低級アルキ
ルアミン自体を溶媒としてこなわれるので特に
用いなくてもよいが、エチルエーテル、テトラ
ハイドロフランなどのエーテル系溶媒を併用し
てもよい。また反応温度は−30℃以下、好まし
くは−60〜−80℃である。

この一連の反応において、Arで表示されて
いるアリール基とは、例えばフエニル基、パラ
−トリル基、キシリル基、ナフチル基などを意
味し、Ｙは水酸基の保護基を意味するが、この
代表例としては、メチル、エチル、プロピル、
ブチルなどの低級アルキル基、ベンジル、フエ
ネチル、ベンツヒドリルなどのアラルキル基、
アセチル、プロピオニル、ブチロイル、ビバロ
イルなどのアシル基、テトラヒドロピラニル
基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチ
ル基などをあげることができる。

(2) 一般式（）において、Ｘが水素原子であ
り、Ｒが水酸基の保護基を意味する場合 (1)で得られた（Ｚ，Ｚ）−フアルネソールに
一般式Ｒ Hal（式中Ｒは水酸基の保護基を意
味し、Halはハロゲン原子を意味する）である
ハロゲン化物を反応せしめて、次の一般式で表
わされる（Ｚ，Ｚ）−フアルネソール誘導体
（″）とする。

Ｒがベンジル基であり、Halが塩素である場
合、具体的に説明すれば次のとおりである。

すなわち、出発物質である（Ｚ，Ｚ）−フア
ルネソールにベンジルクロライドを例えば水素
化ナトリウムの存在下に反応せしめて、（Ｚ，
Ｚ）−フアルネシルベンジルエーテルとする。

(3) Ｘが水酸基であり、Ｒが水酸基の保護基を意
味する場合（式中THPOはテトラヒドロピラニルオキ
シ基を示す）すなわち、化合物（）で表わされる（Ｚ，
Ｚ，Ｚ）−（２，６，10）−ドデカトリエン−１
−オール誘導体のテトラヒドロピラニルオキシ
基を脱離せしめて、（）で表わされる（Ｚ，
Ｚ，Ｚ）−（２，６，10）−ドデカトリエン−１
−オール誘導体を得る。

本工程において出発物質である化合物（）
は例えば次のような方法で得ることができる。

（式中Ｒは水酸基の保護基を意味し、Phは
フエニル基を意味する）すなわち、テトラヒドロピラニルオキシアセ
トン（）に、水酸基が保護された（Ｚ，Ｚ）
−（４，８−ジメチル−４，８−デカジエン−
１−イル）トリフエニルフオスフオニウムアイ
オダイド系化合物（）を、ｎ−ブチルリチウ
ムの存在下で反応せしめて、化合物（）を得
る。

また更に述べれば、この際用いる化合物
（）は例えば次のような方法で製造すること
が可能である。

（式中Tosはトシル基を意味し、Ｒは水酸基
の保護基を意味する）すなわち、(2)で述べた（Ｚ，Ｚ）−フアルネ
ソールの水酸基を保護した化合物（″）をＮ
−ブロムスクシンイミド（NBS）で処理し、
エポキシ化合物（）とし、次いで、例えば過
ヨウ素酸、NaBH₄で処理し、エポキシ基を開
裂せしめて化合物（）で表わされるアルコー
ル体とする。

次いでこの化合物（）をトシルクロライド
と反応せしめて、化合物（）とし、更にこの
化合物にNaIを作用せしめて、アイオダイド
（XI）とし、これにトリフエニルホスフインを
作用せしめてトリフエニルホスホニウム塩
（）とする。

(4) Ｘがハロゲン原子であり、Ｒが水酸基の保護
基を意味する場合 (3)の方法によつて得られた（Ｚ，Ｚ，Ｚ）−
（２，６，10）−ドデカトリエン−１−オール
（）の水酸基を次の方法によりハロゲン化
し、ハロゲン体（′′′′）とする。

（式中Halはハロゲン原子を意味する）本発明によつて得られるシス型イソプレノイ
ド（′′′′は、イソプレン単位が、（Ｚ，ZZ）型
であるので、種々の天然ポリプレノールを製造
する際の出発物質として極めて重要である。す
なわち、本発明のシス型イソプレノイド（
′′′′）を炭素鎖伸長剤として用いることにより、
これまで困難とされていた種々の天然ポリプレ
ノールを製造することが可能である。

例えば、本発明で得られたシス型イソプレノ
イドを出発物質として、（Ｚ，Ｚ，Ｚ，Ｅ，Ｅ）
−ヘキサプレノール〔ベツラプレノール−６〕、
（Ｚ，Ｚ，Ｚ，Ｚ，Ｚ，Ｅ，Ｅ）−オクタプレノ
ール〔ベツラプレノール−８〕、（Ｚ，Ｚ，Ｚ，
Ｚ，Ｚ，Ｚ，Ｅ，Ｅ）−ノナプレノール〔ベツ
ラプレノール−９〕などを製造することが可能
である。

次に本発明の代表的な実施例を掲げるが、本発
明がこれらのみに限定されることがないことはい
うまでもない。

実施例１（Ｚ，Ｚ）−フアルネソールの合成 (1) （Ｚ，Ｚ）−１−ベンジルオキシ−９−ｐ−
トリルスルホニル−３，７，11−トリメチル−
２，６，10−ドデカトリエンプレニルｐ−トリスルホン749mg（3.35m
mol）を無水テトラヒドロフラン（THF）８
mlと、ヘキサメチレンホスホリルアミド
（HMPA）２mlの混合溶媒に溶解し、−40℃に
冷却する。これにｎ−ブチルリチウム2.23ml
（3.35m mol）を加え、−40〜−３℃で10分間撹
拌した後−65℃に冷却する。これに（Ｚ，Ｚ）
−１−ベンジルオキシ−８−クロロ−３，７−
ジメチル−２，６−オクタジエン620mg
（2.23m mol）のTHF溶液５mlを−65〜−60℃
で10分かけて加え、同温度で更に30分間撹拌し
た。次いでゆつくりと昇温し、０℃でメタノー
ル１mlと水20mlを加え、反応を停止した後、エ
ーテル：ヘキサン１：１溶媒で抽出し、洗浄、
乾燥（MgSO₄）し、減圧下でこれを濃縮し、
粗生成物1.343ｇを得た。次いでシリカゲルク
ロマトグラフイーで精製し、標題化合物である
カツプリング体（Ｚ，Ｚ）−１−ベンジルオキ
シ−９−ｐ−トリルスルホニル−３，７，11−
トリメチル−２，６，10−ドデカトリエン864
mg（収率83％）を得た。

n²⁵ _D：1.5461 IR（neat）cm^-1：1660，1300，1140，740，700 NMR（CCl₄）δ： 1.17（ｓ，3H），1.59，1.65，1.75（eacho，
9H），1.9−2.1（ｍ，4H），2.40（ｓ，3H），
2.5−2.9（ｍ，2H），3.72（sextert，1H），
3.95（ｄ，2H），4.47（ｓ，2H），4.94（ｄ，
1H），5.16（ｔ，1H），5.40（ｔ，1H），7.27
（ｄ，2H），7.30（ｓ，5H），7.70（ｄ，2H） (2) （Ｚ，Ｚ）−フアルネソール −70℃に冷却したフラスコに、シリンダーか
ら無水エチルアミン８mlをとり、リチウム180
mg（26mg−atm）を小片にして加える。これを
ゆつくりと０℃まで昇温すると、リチウムは完
全に溶解し、濃青色の溶液となる。再び−70℃
に冷却し、これに(1)で得られた（Ｚ，Ｚ）−１
−ベンジルオキシ−９−ｐ−トリルスルホニル
−３，７，11−トリメチル−２，６，10−ドデ
カトリエン400mg（0.858m mol）の無水エーテ
ル溶液５ml溶液を10分かけて加える。その後、
−70〜−65℃で30分撹拌した後、濃青色が消え
るまでイソプレンを加える。できるだけ低温に
保ちながら、反応物が白色になるまでメタノー
ルを加える。できるだけ低温に保ちながら反応
物が白色になるまでメタノールを加える。室温
に戻し、反応系の固体がすべて溶けるまで水を
加え、減圧下で注意深く濃縮する。濃縮液をエ
ーテルで抽出し、水および飽和食塩水で洗浄
し、MgSO₄で乾燥後溶媒を留去し、標題化合
物の（Ｚ，Ｚ）−フアルネソール203mgを得た。
これをシリカゲルクロマトグラフイーで精製
（展開溶媒イソプロピルエーテル／ヘキサン）
し、標題化合物165mg（収率86％）を得た。本
化合物が、（Ｚ，Ｚ）−フアルネソールであるこ
とはGLCで確認した。

実施例２（Ｚ，Ｚ）−１−ベンジルオキシ−３，７，11
−トリメチル−２，６，10−ドデカトリエンの
合成〔（Ｚ，Ｚ）−フアルネシルベンジルエーテ
ル〕水素化ナトリウム2.84ｇ（65m mol）を200ml
４ツ口フラスコに入れ、ヘキサンで洗浄する。次
いで１，２−ジメトキシエタン（DME）90mlを
投入し、70℃に昇温する。これに実施例１ど得ら
れた（Ｚ，Ｚ）−フアルネソール11.1ｇ（50m
mol）のDME溶液を、72〜75℃で、30分かけて
滴下する。その後還流温度まで昇温し、４時間還
流する。70℃まで冷却し、ベンジルクロライド
8.3ｇ（65m mol）を70〜73℃で10分かけて加え
る。次いで再び還流温度に昇温し、1.5時間還流
する。徐々に冷却し、室温にて一夜放置する。次
いで常圧下でDMEを留去し、残渣は氷水（50ml）
中に注ぐ。これにヘキサン50mlを加え、ヘキサン
で抽出し、飽和食塩水で洗浄し、Na₂SO₄で乾燥
後、溶媒を減圧下に留去する。残渣を減圧蒸留す
ることにより標題化合物（Ｚ，Ｚ）−１−ベンジ
ルオキシ−３，７，11−トリメチル−２，６，10
−ドデカトリエン｛（Ｚ，Ｚ）−フアルネシルベン
ジルエーテル｝13.1ｇ（収率84％）を得た。

沸点：150〜155℃／0.05〜0.06mm n²⁵ _D：1.5110 IR（neat）cm^-1：1665，1100，1070，740，700 NMR（CCl₄）δ：1.59（ｓ，3H），1.68，（ｓ，
6H），1.74（ｓ，3H），1.95〜2.15（br，
8H），3.95（ｄ，2H，Ｊ＝７），4.42（ｓ，
2H），4.9−5.2（br，2H），5.37（ｔ，1H，
Ｊ＝７），7.22（ｓ，5H）実施例３（Ｚ，Z.Z）−12−ベンジルオキシ−２，６，10
−トリメチル−２，６，10−ドデカトリエン−
１−オールの合成 (1) （Ｚ，Ｚ）−10，11−エポキシ−３，７，11
−トリメチル−２，６−ドデカジエノイルベン
ジルエーテル実施例２で得られたベンジルエーテル体1.00
ｇ（3.20m mol）を20％DME溶液５ml
（DME40ml＋H₂O10ml）に溶解し、氷浴により
０℃に冷却する。次いで同温度でNES684mg
（3.84m mol；1.2eq）を少しずつ25分かけて加
えた。その後０〜４℃で1.3時間撹拌した。こ
の時点でTLCでチエツクしたところ（３％酢
酸エチル／ヘキサン）、原料が残つているため、
47％HBr1滴を加え。その後更に０〜５℃で1.2
時間撹拌を続けた。反応液に4N−NaOHaq3
mlを10℃以上にならないように加えた。徐々に
室温に戻し、室温にて一晩放置した。反応液を
水で希釈し、エーテル抽出し、洗浄、乾燥
（Na₂SO₄）後、減圧下で濃縮し粗生成物1.24ｇ
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フイーに付し、ヘキサン−酢酸エチルで展開
し、下記の構造式で示される目的物質であるモ
ノエポキシ体621mg（59％；３〜８％酢酸エチ
ル／ヘキサンにより溶出）およびジエポキシ体
135mg（12％；20〜25％酢酸エチル／ヘキサン
により溶出）を得た。

モノエポキシ体：（式中Pnはフエニル基を意味する） Γn²⁵ _D：1.5070 ΓIR（neat）cm^-1：1660，1250，（エポキシ），
1100，1070，740，700 ΓNMR（CCl₄）δ：1.18，1.20（eaohs，6H）
1.35〜1.65（ｍ，2H），1.67（ｓ，3H），1.75
（ｓ，3H），1.95〜2.30（ｍ，6H），2.50
（ｔ，Ｊ＝６，1H），3.95（ｄ，Ｊ＝７Hz，
2H），4.44（ｓ，2H），5.11（bs，1H），5.37
（ｔ，Ｊ＝７Hz，1H），7.23（ｓ，5H）ジエポキシ体（式中Phは前記の意味を有する） n²⁵ _D：1.5026 IR（neat）cm^-1：1660，1250，1100，1070，
740，700 NMR（CCl₄）δ： 1.23（ｓ，9H），1.40〜1.67（ｍ，6H），1.77
（ｓ，3H），1.94〜2.35（ｍ，2H），2.55
（ｔ，＝６Hz2H），3.97（ｄ，Ｊ＝７Hz，
2H），4.43（ｓ，2H），5.43（ｔ，Ｊ＝７Hz，
1H），7.25（ｓ，5H） (2) （Ｚ，Ｚ）−10−（ベンジルオキシ）−４，８
−ジメチル−４，８−デカジエン−１−オール過ヨウ素酸（H₅IO₆）22.3ｇ（98m mol）を
水90mlに溶解し、氷冷撹拌下、(1)の方法によつ
て得られたエポキシド（モノ）15.5ｇ（47.3m
mol）のジオキサン溶液130mlを加える（５〜
８℃、１時間）。その後、氷浴を取り去り、室
温において2.5時間撹拌する。次いで水150mlで
希釈し、エーテル−ヘキサン（１：１）で抽出
（100ml×４）、洗浄、乾燥（MgSO₄）後、減圧
下で濃縮する。次に残渣をエタノール50に溶解
し、この溶液をナトリウムボロハイドライド
（NaBH₄）1.9ｇ（5m mol）のエタノール
（120ml）溶液中へ50分かけて加えた。滴下後、
室温で1.5時間撹拌した。反応液に10％硫酸溶
液（2.2N）を注意深く加え後、減圧下で濃縮
する。水150mlで希釈し、抽出（エーテル−ヘ
キサン（１：１）；100ml×４）、洗浄、乾燥
（MgSO₄）後、減圧下で溶媒を留去し、粗生成
物16.7ｇを得た。これをシリカゲルクロマトグ
ラフイーに付し、15〜20％ヘキサン−酢酸エチ
ルによつて展開し下記の構造式で示す目的物質
10.5ｇ（収率77％）を得た。

（式中Phは前記の意味を有する） Γn²⁵ _D：1.5168 ΓIR（neat）cm^-1：3400，1660，1070，740，
700 ΓNMR（CCl₄）δ： 1.3〜1.7（ｍ，2H），1.66（ｓ，3H），1.75
（ｓ，3H），1.9〜2.2（ｍ，6H），2.76（ｓ，
1H），3.45（ｔ，2H，Ｊ＝６），3.95（ｄ，
Ｊ＝７Hz2H），4.43（ｓ，2H），5.06（bs，
1H），5.36（ｔ，Ｊ＝７Hz，1H），7.26（ｓ，
5H） (3) （Ｚ，Ｚ）−〔10−（ベンジルオキシ）−４，８
−ジメチル−４，８−デカジエン−１−イル〕
トリフエニル−ホスホニウムアイオダイド (2)の方法で得られたアルコール体9.5ｇ
（33m mol）を間隔ピリジン65mlに溶解し、ト
シルクロライド12.6ｇ（66m mol）の塩氷浴に
よつて冷却しなら、15分かけて加え（−７〜−
５℃）。更に同温度で15分撹拌し後、氷浴中
（０℃）で一晩15時間放置した。次いで氷水130
ml中に注ぎ、エーテル−ヘキサン（１：１）で
抽出した後、抽出液を4N−塩酸でピリジンが
なくなるまで洗浄する。ピリジンの有無は、
TLCで確認できる。更に、これを浄し、乾燥
（MgSO₄）した。減圧下で濃縮することによ
り、粗エステル体13.7ｇ（94％）を得。続い、
これをアセトン250mlに溶解し、ヨウ化ナトリ
ウム24.8ｇ（165m mol）を加え、室温にて39
時間撹拌した。析出している結晶をロ過によつ
て除去し、母液は減圧下で濃縮する。これを
Na₂S₂O₃・5H₂O4ｇを含む水40mlで希釈し、抽
出（ヘキサン）、洗浄、乾燥（MgSO₄）後、減
圧下で濃縮し、下記の構造式の粗ヨード体11.6
ｇ（収率94ｇ）を得た。

（式中Phは前記の意味を有する） ΓIR（neat）cm^-1：1660，1100，1070，740，
700 ΓNMR（CCl₄）δ：1.64（ｓ，3H），1.75（ｓ，
3H），1.9〜2.2（ｍ，8H），3.03（ｔ，Ｊ＝
６Hz，2H），3.90（ｄ，Ｊ＝７Hz，2H），
4.40（ｓ，2H），5.07（bs，1H），5.33（ｔ，
Ｊ＝７Hz，1H），7.16（ｓ，5H）上記の方法で得られた粗ヨード体11.6ｇ
（29.1m mol）とトリフエニルホスフイン21ｇ
（80m mol）を乾燥ベンゼン70mlに溶解し、還
流温度で22時間反応させた。室温まで冷却し、
激しく撹拌されたエーテル700ml中に注ぐ。こ
のとき、急激な結晶析出を防ぐため、ゆつくり
加えた方がよい。注ぎおわつた後、更に10分間
撹拌し、生じた結晶を過し、エーテルで徹底
的に洗浄する。減圧下で乾燥することによつて
下記の構造式を有する目的物質を白色結晶とし
て17.0ｇを得た。

（式中Phは前記の意味を有する） Γ融点（℃）：70−72 ΓNMR（CDCl₄）δ：1.56（ｓ，3H），1.72（ｓ，
3H），1.95〜2.5（ｍ，8H），3.52（brm，
2H），3.98（ｄ，Ｊ＝６Hz，2H），4.47（ｓ，
2H），5.20（bs，1H），5.35（ｔ，Ｊ＝６Hz，
1H），7.26（ｓ，5H），7.5〜8.05（ｍ，15H） (4) （Ｚ，Ｚ，Ｚ）−１−（ベンジルオキシ）−３，
７，11−トリメチル−12−（２−テトラハイド
ロピラニルオキシ）−２，６，10−ドデカリエ
ン (3)の方法によつて得られたホスホニウム塩
5.64ｇ（8.55m mol）を無水テトラヒドロフラ
ン（THF）150mlに溶解し、−70℃に冷却する。
ｎ−ブチルリチウム（1.5Mヘキサン溶液）6.1
（9.4m mol）を15分かけて加えるオレンジ色の
イリド溶液となる。同温度で更に１時間撹拌し
後、テトラヒドロピラニルアセトン2.70ｇ
（17.1m mol）のテトラヒドロフラン溶液10ml
を10分で加えた。徐々に室温まで昇温しながら
撹拌を続せ、室温にて一晩14時間放置した。次
いでメタノール５mlを加え、反応を停止した
後、減圧下で濃縮する。残渣をメタノール20ml
と水40mlで希釈し、抽出（エーテル：ヘキサン
＝１：１）、洗浄（飽和食塩水）、乾燥
（MgSO₄）後、減圧下で濃縮する。残渣をヘキ
サンで希釈すると、白い結晶が析出するから、
これを別し、母液は若び濃縮し、粗生成物
4.72ｇを得た。これをシリカゲル（200ｇ）カ
ラムクロマトグラフイーに付し、７〜９％酢酸
エチル／ヘキサンで展開することにより、下記
の構造式を有する目的物質2.92ｇ（収率83％）
を得た。

（式中Phは前記の意味を有する） Γn²⁵ _D：1.5125 ΓIR（neat）cm^-1：1660，1200，1120，1020，
740，700 ΓNMR（CCl₄）δ： 1.4〜1.9（brm，6H），1.66（ｓ，3H），1.74
（ｓ，6H），1.95〜2.25（ｍ，8H），3.3〜3.8
（brm，2H），3.93（ｄ，2H），3.98（ｓ，
2H），4.41（ｓ，2H），4.51（bs，1H），4.9
〜5.5（ｍ，3H），7.18（ｓ，5H） (5) （Ｚ，Ｚ，Ｚ）−12−ベンジルオキシ−２，
６，10−トリメチル−２，６，10−ドデカトリ
エン−１−オール (4)で得られた（Ｚ，Ｚ，Ｚ）−１−ベンジル
オキシ−３，７，11−トリメチル−12−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）−２，６，10−
ドデカトリエン1.991ｇ（4.83m mol）と、ｐ
−トルエンスルホン酸水和物（TsOH・H₂O）
95mg（0.5m mol）をメタノール100mlに溶解
し、室温で38時間撹拌した。飽和炭酸水素ナト
リウム溶液により反応液を中和し後、減圧下で
濃縮する。水で希釈し、エーテル抽出、洗浄
（飽和食塩水）、乾燥（MgSO₄）後、溶媒を留
去し、目的物質の粗生成物1.617ｇを得た。こ
れをシリカゲル（45ｇ）カラムクロマトグラフ
イーに付し、20％酢酸エチル／ヘキサンで展開
することにより、下記の構造式を有する標題化
合物1.493ｇ（収率94％）を得た。

（式中Phは前記の意味を有する） Γn²⁰ _D：1.5234 ΓIR（neat）cm^-1：3350，1660，1090，1070，
1000，740，700 ΓNMR（CCl₄）δ： 1.65（ｓ，3H），1.74（ｓ，6H），1.95〜2.25
（ｍ，8H），2.11（ｓ，1H），3.92（ｄ，
2H），3.96（ｓ，2H），4.44（ｓ，2H），4.95
〜5.5（ｍ，3H），7.21（ｓ，5H）なお、実施例３の(5)の方法によつて得られた
アリルアルコール体がＺ体であることは、これ
を二酸化マンガンで酸化し得られる下記の構造
を有するα，β−不飽和アルデヒドのNMRに
よつて確認した。

（式中Phは前記の意味を有する。）実施例４（Ｚ，Ｚ，Ｚ）−12−クロロ−３，７，11−ト
リメチル−２，６，10−ドデカトリエニルベン
ジルエーテル実施例３の方法によつ得られた（Ｚ，Ｚ，Ｚ）
−12−ベンジルオキシ−２，６，10−トリメチル
−２，６，10−ドデカトリエン−１−オール800
mg（2.44m mol）とｓ−コリジン594mg（4.90m
mol）の混合物の中に、窒素気流化塩化リチウム
212mg（5.0m mol）のDMF溶液８mlを加え、０
℃に冷却する。これにメタンスルホニルクロリド
0.38ml（4.90m mol）を加え、更に同温度で、2.5
時間撹拌した。反応液を氷水200ml中に注ぎ、エ
ーテル−ヘキサン（１：１）で抽出、浄（飽和硝
酸銅溶液と飽和食塩水）、乾燥（Na₂SO₄）後濃
縮し、粗生成物981mgを得た。これをシリカゲル
クロマトグラフイーに付し、７％IPE／ヘキサン
で展開し、下記の構造式を有する標題化合物719
mg（収率85％）を得た。

（式中Phは前記の意味を有する） ΓIR（neat）cm^-1：1660，1090，1070，740，700 ΓNMR（CCl₄）δ：1.67（ｓ，3H），1.75（ｓ，
3H），1.80（ｓ，3H），2.07（bs，8H），3.99
（ｄ，2H），4.03（ｓ，2H），4.49（ｓ，
2H），5.10（bs，1H），5.24（ｔ，1H），5.34
（ｔ，1H），7.31（ｓ，5H）

Claims

【特許請求の範囲】１次の一般式（式中Ｘはハロゲン原子または水酸基を意味
し、Ｒは水素原子または水酸基の保護基を意味す
る）で表わされるシス型イソプレノイド。