JPS60158126A - シス型イソプレノイド - Google Patents
シス型イソプレノイドInfo
- Publication number
- JPS60158126A JPS60158126A JP59014961A JP1496184A JPS60158126A JP S60158126 A JPS60158126 A JP S60158126A JP 59014961 A JP59014961 A JP 59014961A JP 1496184 A JP1496184 A JP 1496184A JP S60158126 A JPS60158126 A JP S60158126A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- cis
- group
- hexane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、天然型のポリプレノールを合成的に製造する
にあたり極めてM賛な中間体であるシス型インプレノイ
ドに関する。
にあたり極めてM賛な中間体であるシス型インプレノイ
ドに関する。
更に詳しく述べれば。
次の一般式
(式中Xはハロゲン原子、水酸基または水素を意味し、
Rは水素原子筐たは水酸基の保護基を意味する) で表わされるシス型インプレノイドおよびその製造方法
に関する。
Rは水素原子筐たは水酸基の保護基を意味する) で表わされるシス型インプレノイドおよびその製造方法
に関する。
近年1種々のポリプレノールが、動物、植物、微生物か
ら単離され、その後ポリプレノールは。
ら単離され、その後ポリプレノールは。
多糖類、ペプチドグリカン、糖蛋白質などの合成の中間
体として生体内でM景な働きをしていることが徐々に明
らかとされており、医薬品。
体として生体内でM景な働きをしていることが徐々に明
らかとされており、医薬品。
食品などとして利用できる可能性が大きい。
しかしながら、これらのポリプレノール類は、イソプレ
ン単位で構成されているため、シス型インブレン、トラ
ンス型インプレ/が存在し、天然型のものは、これらが
%足の配列になっているため、これを合成的に得ること
は従来困難であった。一方、これを含有している動植物
から抽出・単離する方法は、資源的に限界があり、大量
生産には適さず、したがって工業的ではないO そこで、本発明者等は、天然に存在するポリプレノール
と同じ立体配位な有するものを合成法によって得ること
を長年にわたって鋭意研究を凪ねてきたが次の一般式で
示されるシス型インプレノイド (式中又はハロゲン原子、水酸基または水系を意味し、
Rは水素原子または水酸基の保護基を意味する) で表わされるシス型インクレノイドか、櫨々のポリプレ
ノールを@敢する際に蔦安な中間体であり、これを出発
物置とすれは、稙々の天然型の立体配位な有するボリル
ノールが製造できることを見い出し1本発明を完成した
ものである。
ン単位で構成されているため、シス型インブレン、トラ
ンス型インプレ/が存在し、天然型のものは、これらが
%足の配列になっているため、これを合成的に得ること
は従来困難であった。一方、これを含有している動植物
から抽出・単離する方法は、資源的に限界があり、大量
生産には適さず、したがって工業的ではないO そこで、本発明者等は、天然に存在するポリプレノール
と同じ立体配位な有するものを合成法によって得ること
を長年にわたって鋭意研究を凪ねてきたが次の一般式で
示されるシス型インプレノイド (式中又はハロゲン原子、水酸基または水系を意味し、
Rは水素原子または水酸基の保護基を意味する) で表わされるシス型インクレノイドか、櫨々のポリプレ
ノールを@敢する際に蔦安な中間体であり、これを出発
物置とすれは、稙々の天然型の立体配位な有するボリル
ノールが製造できることを見い出し1本発明を完成した
ものである。
すなわち1本発明化合物のシス型インクレノイドは2〜
3個のインプレン単位がいずれもシス型〔一般式(I)
においてXが水素原子のときは2個〕であるので、これ
を利用することにより種々のバクテリアルンレノール(
Bacteria/pran′3/入ベツラプレノール
(Betu/aprenol)、 フイヵグレノール(
Ficaprsno/λ Fリコール(Do/1oho
Iり、またはへキサヒドロポリプレノール(Hexah
ydro−polyprenol)類などを合成するこ
とがoJ能である。例えはベンツプレノールは、次のよ
うな構造式 %式% (式中ωは式(OH,)20= OH−0H2−で表わ
される基を意味し、Tはトランスインプレン単位を意味
し、Cはシスイングレン単位を意味する)を有するが、
本発明化合物を利用Jることによりアルコール末端(α
木端)に、シスイングレン単位を数個導入することが可
能である。
3個のインプレン単位がいずれもシス型〔一般式(I)
においてXが水素原子のときは2個〕であるので、これ
を利用することにより種々のバクテリアルンレノール(
Bacteria/pran′3/入ベツラプレノール
(Betu/aprenol)、 フイヵグレノール(
Ficaprsno/λ Fリコール(Do/1oho
Iり、またはへキサヒドロポリプレノール(Hexah
ydro−polyprenol)類などを合成するこ
とがoJ能である。例えはベンツプレノールは、次のよ
うな構造式 %式% (式中ωは式(OH,)20= OH−0H2−で表わ
される基を意味し、Tはトランスインプレン単位を意味
し、Cはシスイングレン単位を意味する)を有するが、
本発明化合物を利用Jることによりアルコール末端(α
木端)に、シスイングレン単位を数個導入することが可
能である。
したがって、本発明の目的は、天然型の槽々のポリプレ
ノールを製造するに有用な新規な中間体を提供するにあ
る。
ノールを製造するに有用な新規な中間体を提供するにあ
る。
更に本発明の目的は、天然型の樵々のポリプレノールを
製造1−るに有用な〃「蜆な中間体を製造する方法を提
供するにある。
製造1−るに有用な〃「蜆な中間体を製造する方法を提
供するにある。
本発明化合物(I)においてXの定義にみられるハロク
ン原子とは、例えは塩素、臭素、ヨウ素。
ン原子とは、例えは塩素、臭素、ヨウ素。
フッ素などを意味し、Rは水ば丞の保護基を意味するが
、この代表例としては、メチル、エチル、70ビル、ブ
チルなどの低級アルキル丞。
、この代表例としては、メチル、エチル、70ビル、ブ
チルなどの低級アルキル丞。
ヘンシル、フェネチル、ベンツヒドリルナト0.)アラ
ルキル示、アセチル、7゛ロビオニル、ブチロイル、ピ
バロイル1よどのアシル泰、テトラヒドロビ2ニル基、
メトキシメチル鯖、メトキシエトキシメチル基などをあ
げることができる。
ルキル示、アセチル、7゛ロビオニル、ブチロイル、ピ
バロイル1よどのアシル泰、テトラヒドロビ2ニル基、
メトキシメチル鯖、メトキシエトキシメチル基などをあ
げることができる。
本発明化合物のシスインクレノイドの!!!!造方法と
しては汐uえは次のような方法をあけることができる。
しては汐uえは次のような方法をあけることができる。
(1)一般式(すにおいて、XおよびRがいずれも水系
原子であるjilii台 (式中Arはアリール基を意味するり 十 (式中Hatはハロゲン原子を意味し、Yは水酸基の保
護−4を意味する) ′jなわち、化合物(II)で表わされるブレニルアリ
ールスルホンにインプレン単位がいずれもシス体である
化合物(1#を反応・せしめて化合物(1v)で表わさ
れる(2.2)−ポリプレニルアリールスルホン系化合
物を得る。この反応は例えはテトラヒドロフラン、ヘキ
サメチレンホスホリルアミド(HMPAJ 混合溶媒中
、ブチルリチウムの存在下に反応させて得ることができ
る。
原子であるjilii台 (式中Arはアリール基を意味するり 十 (式中Hatはハロゲン原子を意味し、Yは水酸基の保
護−4を意味する) ′jなわち、化合物(II)で表わされるブレニルアリ
ールスルホンにインプレン単位がいずれもシス体である
化合物(1#を反応・せしめて化合物(1v)で表わさ
れる(2.2)−ポリプレニルアリールスルホン系化合
物を得る。この反応は例えはテトラヒドロフラン、ヘキ
サメチレンホスホリルアミド(HMPAJ 混合溶媒中
、ブチルリチウムの存在下に反応させて得ることができ
る。
次いで得られた化合物(1%Qの(z12)−ポリプレ
ニルアリールスルホン系化合物を、脱スルホン化し、か
つ水酸基の保護基を脱離せしめて、化合物<1’) −
jなわち−(Z+z)−7アルネンールとする。この反
応は通常リチウム−低級アルキルアばンの存在下におこ
なう。低級アルキルアミンとして最も好ましいものはエ
チルアミンである。この除反応溶媒は、リチクムー低級
アルキルアミンの調製が、低級アルキルアミン自体を溶
媒としておこなわれるので特に用いな(てもよいが、エ
チルエーテル、テトラハイドロフランなどのエーテル系
溶媒を併用してもよい。また反応温屓は一30℃以下、
好ましくは−60〜−80℃である。
ニルアリールスルホン系化合物を、脱スルホン化し、か
つ水酸基の保護基を脱離せしめて、化合物<1’) −
jなわち−(Z+z)−7アルネンールとする。この反
応は通常リチウム−低級アルキルアばンの存在下におこ
なう。低級アルキルアミンとして最も好ましいものはエ
チルアミンである。この除反応溶媒は、リチクムー低級
アルキルアミンの調製が、低級アルキルアミン自体を溶
媒としておこなわれるので特に用いな(てもよいが、エ
チルエーテル、テトラハイドロフランなどのエーテル系
溶媒を併用してもよい。また反応温屓は一30℃以下、
好ましくは−60〜−80℃である。
この一連の反応において、Arで表示されているアリー
ル基とは、例えばフェニル基、パラ−トリル基、キシリ
ル基、ナフチル基などを意味し、Yは水酸基の保護基を
意味するが。
ル基とは、例えばフェニル基、パラ−トリル基、キシリ
ル基、ナフチル基などを意味し、Yは水酸基の保護基を
意味するが。
この代表例としては、メチル、エチル、グロビル、ブチ
ルなどの低級アルキル基、ベンジル、フェネチル、ベン
ツヒドリルナトのアラルキル基、アセチル、グロビオニ
ル、ブチロイル、ピバロイルなどのアシル基、テトラヒ
ドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキメ
チル基などをあげることができる。
ルなどの低級アルキル基、ベンジル、フェネチル、ベン
ツヒドリルナトのアラルキル基、アセチル、グロビオニ
ル、ブチロイル、ピバロイルなどのアシル基、テトラヒ
ドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキメ
チル基などをあげることができる。
(2)一般式(I)において、Xが水素原子であり、R
が水酸基の保護基を意味1′る場合 (1)で得られた(z 、Z)−ファルネソールに一般
式RHaZ(式中Rは水酸基の保護基を意味し、Hat
はハロゲン原子を意味する)であるハロゲン化物を反応
せしめて1次の一般式で表わされる(z、z) −7ア
ルネン一ル誘導体(■つとする。
が水酸基の保護基を意味1′る場合 (1)で得られた(z 、Z)−ファルネソールに一般
式RHaZ(式中Rは水酸基の保護基を意味し、Hat
はハロゲン原子を意味する)であるハロゲン化物を反応
せしめて1次の一般式で表わされる(z、z) −7ア
ルネン一ル誘導体(■つとする。
Rがベンジル基であり、Hatが塩素である場合、具体
的に説明すれは次のとおりである。
的に説明すれは次のとおりである。
す7よりも、出発物質である(2.2)−ファルネソー
ルにベンジルクロライドを例えは水素化ナトリウムの存
在下に反応セしめて、(2,2)−ファルネシルベンジ
ルエーテルトスる。
ルにベンジルクロライドを例えは水素化ナトリウムの存
在下に反応セしめて、(2,2)−ファルネシルベンジ
ルエーテルトスる。
(3)xが水酸基であp、Rが水#R基の保護基を意味
する場合 (式中THPOはテトラヒドロピラニルオキシすなわち
、化合物(■で表わされる(Z、Z、Z) −(2,6
,10)−ドデカトリエン−1−オール誘導体のテトラ
ヒドロピラニルオキシ基を脱離せしめて、(Fつで表わ
される(Z、Z、Z) −C2t6*10)−ドデカト
リエン−1−オール誘導体を得る0 本工程において出発物質である化合物(■は例えば次の
ような方法で得ることができる。
する場合 (式中THPOはテトラヒドロピラニルオキシすなわち
、化合物(■で表わされる(Z、Z、Z) −(2,6
,10)−ドデカトリエン−1−オール誘導体のテトラ
ヒドロピラニルオキシ基を脱離せしめて、(Fつで表わ
される(Z、Z、Z) −C2t6*10)−ドデカト
リエン−1−オール誘導体を得る0 本工程において出発物質である化合物(■は例えば次の
ような方法で得ることができる。
(式中Rは水酸基の保趨基を意味し、phはフェニル基
を意味する) すなわち、テトンヒドロピラニルオキシアセトン(■に
、水酸基が保膿された(2+2) −(4,8−ジメチ
ル−4,8−デカジエン−1−イル)トリフェニルフォ
スフオニウムアイオダイド系化合物(■)を、n−ブチ
ルリチウムの存在下で反応せしめて、化合物(V)を得
る。
を意味する) すなわち、テトンヒドロピラニルオキシアセトン(■に
、水酸基が保膿された(2+2) −(4,8−ジメチ
ル−4,8−デカジエン−1−イル)トリフェニルフォ
スフオニウムアイオダイド系化合物(■)を、n−ブチ
ルリチウムの存在下で反応せしめて、化合物(V)を得
る。
fた更に述べわは、この線用いる化合物(νすは例えは
次のよう7裏方法で製造す0ことが可能である。
次のよう7裏方法で製造す0ことが可能である。
(式中Toeはトシル基を意味し、Rは水酸基の保−基
を意味する) すなわち、(2)で述べた(2.2)−ファルネソール
の水酸基を保護した化合物(I″)をN−ブロムスクシ
ンイミド(+vsl で処理し、エボ中シ化合物(−り
Il)とし、次いで、例えは過ヨウ素酸、NhBHaで
処理し、エポキシ基を開裂せしめて化合物(K)で表わ
されるアルコール体とする。
を意味する) すなわち、(2)で述べた(2.2)−ファルネソール
の水酸基を保護した化合物(I″)をN−ブロムスクシ
ンイミド(+vsl で処理し、エボ中シ化合物(−り
Il)とし、次いで、例えは過ヨウ素酸、NhBHaで
処理し、エポキシ基を開裂せしめて化合物(K)で表わ
されるアルコール体とする。
次いでこの化合物CK)をトシルクロライドと反応琶し
めて、化合物(X)とし、更にこの化合物にNa工を作
用せしめて、アイオダイド(′A)とし、これにトリフ
ェニルホスフィンを作用せしめてトリフェニルホスホニ
ウム塩(Vjl)とする。
めて、化合物(X)とし、更にこの化合物にNa工を作
用せしめて、アイオダイド(′A)とし、これにトリフ
ェニルホスフィンを作用せしめてトリフェニルホスホニ
ウム塩(Vjl)とする。
(4)xが−・ロゲン原子であり、Rが水酸基の保―基
を意味する場合 (3)の方法によって得られた(z、z、z) −(2
t6.1リードデカトリエン−1−オール(I’りの水
酸基を次の方法によpハロゲン化し、ハロゲン体(I’
7)とする。
を意味する場合 (3)の方法によって得られた(z、z、z) −(2
t6.1リードデカトリエン−1−オール(I’りの水
酸基を次の方法によpハロゲン化し、ハロゲン体(I’
7)とする。
(式中Ha)はハロゲン原子を意味する)本発明によっ
て得られるシス型インプレノイド(1勺は、インダレ7
単位が、(z t z + z )型であるので、種々
の天然ポリプレノールを製造する際の出発物質として極
めて重賛である。すなわち1本発明のシス型インプレノ
イド(1”つを炭素鎖伸長剤として用いることにより、
これまで困難とされていた種々の一天然ボリプレノール
を製造することが可能である。
て得られるシス型インプレノイド(1勺は、インダレ7
単位が、(z t z + z )型であるので、種々
の天然ポリプレノールを製造する際の出発物質として極
めて重賛である。すなわち1本発明のシス型インプレノ
イド(1”つを炭素鎖伸長剤として用いることにより、
これまで困難とされていた種々の一天然ボリプレノール
を製造することが可能である。
例えは、本発明で得られたシス型インプレノイドを出発
物質として、(z、z、z、g、g)−ヘキサプレノー
ル〔ベツラプレノール−6〕、(Z+Z+Z、Z、Z、
E、E)−オクタプレノール〔ベラ2プレノール−91
、(Z+Z+z+Zyzsz+E+幻−ノナプ1//−
ル〔ベツラプレノール−9〕などを装造することが可能
である。
物質として、(z、z、z、g、g)−ヘキサプレノー
ル〔ベツラプレノール−6〕、(Z+Z+Z、Z、Z、
E、E)−オクタプレノール〔ベラ2プレノール−91
、(Z+Z+z+Zyzsz+E+幻−ノナプ1//−
ル〔ベツラプレノール−9〕などを装造することが可能
である。
次に本発明の代表的な実施例を掲げるが、本発明がこれ
らのみに限定されることがないことはいうまでもない。
らのみに限定されることがないことはいうまでもない。
プレニルp−トリルスルホン749my(5,55m
mol )を無水テトラヒt“ロフジン(THFJ8I
nlと、ヘキサメチレンホスホリルアミド(HMPA)
2m O) i合溶媒に溶解し、−40℃に冷却する
。これにn−ブチルリチウム2.23m (5,55m
mol )を加え、−40〜−30℃で10分間攪拌
した後−65℃に冷却する。これに(Z、Z) −1−
ベンジルオキシ−8−クロロ−3,7−シメチルー2.
6−オクタジニン62 oり(2,25m mol )
のTHF溶液5dを−65〜−60℃で10分かけて加
え、同温度で更に30分間攪拌した。次いでゆつ(シと
昇温し、0℃でメタノール1dと水20−を加え、反応
を停止した後、エーテル:ヘキサン1:1溶媒で抽出し
、洗浄、乾燥(MgSO4) L、減圧下でこれを疾縮
し、粗生成物1.5451を得た。次いでシリカゲルク
ロマトグラフィーで梢製し、標題化合物であるカップリ
ング体(Z、Z、l −1−ベンジルオキシ−9−p−
トリルスルホニル−5,7,11−トリメチル−2,6
,10−ドデカトリエン864゜ダ(収率83%)を得
た。
mol )を無水テトラヒt“ロフジン(THFJ8I
nlと、ヘキサメチレンホスホリルアミド(HMPA)
2m O) i合溶媒に溶解し、−40℃に冷却する
。これにn−ブチルリチウム2.23m (5,55m
mol )を加え、−40〜−30℃で10分間攪拌
した後−65℃に冷却する。これに(Z、Z) −1−
ベンジルオキシ−8−クロロ−3,7−シメチルー2.
6−オクタジニン62 oり(2,25m mol )
のTHF溶液5dを−65〜−60℃で10分かけて加
え、同温度で更に30分間攪拌した。次いでゆつ(シと
昇温し、0℃でメタノール1dと水20−を加え、反応
を停止した後、エーテル:ヘキサン1:1溶媒で抽出し
、洗浄、乾燥(MgSO4) L、減圧下でこれを疾縮
し、粗生成物1.5451を得た。次いでシリカゲルク
ロマトグラフィーで梢製し、標題化合物であるカップリ
ング体(Z、Z、l −1−ベンジルオキシ−9−p−
トリルスルホニル−5,7,11−トリメチル−2,6
,10−ドデカトリエン864゜ダ(収率83%)を得
た。
n25: 1−5461
IR(neat)Olll 、 1660,1300,
1140,740,70ONMR((lj C14)
δ: 1.17(s、5H)、 1.59,1.65゜
1.75(eaoho、9HJ、 1.9−2.1(m
、4H)、 2.40CB、5H)、 2.5−2.9
(m、2H)、 3.72(sextert。
1140,740,70ONMR((lj C14)
δ: 1.17(s、5H)、 1.59,1.65゜
1.75(eaoho、9HJ、 1.9−2.1(m
、4H)、 2.40CB、5H)、 2.5−2.9
(m、2H)、 3.72(sextert。
1H)、 3.95(d、2H)、 4.47(s。
2H)、 4.94(d、IH)、 5.16(t。
IH)、5.40(t、1B、l、 7.27((1゜
2H)、7.50(s、5H)、7.70(d。
2H)、7.50(s、5H)、7.70(d。
2H)
(27(Z、Z)−ファルネンール
ー70℃に冷却したフラスコに、シリンダーから無水エ
チルアミン8 utlをとり、リチウム180ダ(26
m9− atm )を小片にして加える。これをゆっく
りと0℃まで昇温すると、リチウムは完全に溶解し、l
青色の溶液となる。再び一70℃に冷却し、これに(1
)で得られた(ztz) −1−ベンジルオキシ−9−
p−トリルスルホニル−3,7,11−)ジメチル−2
゜6.10−ドデカトリエン400ダ(0,858mm
ol )の無水エーテル溶液5属溶液を10分かけて加
える。その後、−70〜−65℃で30分攪拌した後、
mft色が消えるまでイン7“し/を加える。できるだ
け低温に保ちながら、反応物が白色になるまでメタノー
ルを加える。できるだけ低温に保ちながら反応物が白色
になるまでメタノールを加える。室温に戻し、反応系の
固体がブベて溶けるまで水を加え、減圧下で注意深(濃
縮する。濃縮液をエーテルで抽出し、水および飽和食塩
水で洗浄し、Mg804で乾燥後溶媒を留去し、標題化
合物の<2.2)−ファルネソール2051149を得
た。これをシリカゲルクロマトグラフィーで精製(展開
溶媒インプロピルエーテル/ヘキサン)し、標題化合物
165ダ(収率86%)を得た。本化合物が、(Z、Z
)−ファルネソールであることはGLOで確認した。
チルアミン8 utlをとり、リチウム180ダ(26
m9− atm )を小片にして加える。これをゆっく
りと0℃まで昇温すると、リチウムは完全に溶解し、l
青色の溶液となる。再び一70℃に冷却し、これに(1
)で得られた(ztz) −1−ベンジルオキシ−9−
p−トリルスルホニル−3,7,11−)ジメチル−2
゜6.10−ドデカトリエン400ダ(0,858mm
ol )の無水エーテル溶液5属溶液を10分かけて加
える。その後、−70〜−65℃で30分攪拌した後、
mft色が消えるまでイン7“し/を加える。できるだ
け低温に保ちながら、反応物が白色になるまでメタノー
ルを加える。できるだけ低温に保ちながら反応物が白色
になるまでメタノールを加える。室温に戻し、反応系の
固体がブベて溶けるまで水を加え、減圧下で注意深(濃
縮する。濃縮液をエーテルで抽出し、水および飽和食塩
水で洗浄し、Mg804で乾燥後溶媒を留去し、標題化
合物の<2.2)−ファルネソール2051149を得
た。これをシリカゲルクロマトグラフィーで精製(展開
溶媒インプロピルエーテル/ヘキサン)し、標題化合物
165ダ(収率86%)を得た。本化合物が、(Z、Z
)−ファルネソールであることはGLOで確認した。
実施例2
水素化ナトリウム2.841 (65m mol )を
2007d4ンロフラスコに入れ、ヘキサンで洗浄する
。次いで1,2−ジメトキシエタン(DME)90ゴを
投入し、70℃に昇温する。これに実施例1で得られた
(2.2)−ファルネンール11.11 (50m m
ol )のDME溶液を、72〜75℃で、30分かげ
て滴下する。その後還流温度まで昇温し、4時間還流す
る。70℃まで冷却し、ベンジルクロライド8.3 J
i’ (65m mol )″4rニア0へ76℃で1
0分かけて〃uえる。次いで古び還流温度に昇温し、1
.5時l!ノ還流する。徐々に冷却し、室温にて一夜放
置する。次いで當圧下でDMEを留去し、残渣は氷水(
50ml )中に注ぐ。これにヘキサン50rnlを加
え、ヘキサンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、N&2s
04で乾燥後、溶媒を減圧下に留去′1−る。残渣を減
圧蒸留することにより標題化合?/I (Z、Z) −
1−ベンジルオキシ−3,7,11−トリメチル−2,
6,10−ドデカトリエ/l <z+zノーファルネシ
ルベンジルエーテルl 15.1 # (収率84%)
を僧tム沸 点: 150 へ155℃10.05 S
O,06w1n25: 1.5110 IR(neat) am 、 1665.1100.1
070.740.70ONMR(OOI!4)δ: 1
.59(s、5H)、 1.A8(s、6H)、 1.
74(s、i)、 1.95〜2.15(br、8H)
。
2007d4ンロフラスコに入れ、ヘキサンで洗浄する
。次いで1,2−ジメトキシエタン(DME)90ゴを
投入し、70℃に昇温する。これに実施例1で得られた
(2.2)−ファルネンール11.11 (50m m
ol )のDME溶液を、72〜75℃で、30分かげ
て滴下する。その後還流温度まで昇温し、4時間還流す
る。70℃まで冷却し、ベンジルクロライド8.3 J
i’ (65m mol )″4rニア0へ76℃で1
0分かけて〃uえる。次いで古び還流温度に昇温し、1
.5時l!ノ還流する。徐々に冷却し、室温にて一夜放
置する。次いで當圧下でDMEを留去し、残渣は氷水(
50ml )中に注ぐ。これにヘキサン50rnlを加
え、ヘキサンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、N&2s
04で乾燥後、溶媒を減圧下に留去′1−る。残渣を減
圧蒸留することにより標題化合?/I (Z、Z) −
1−ベンジルオキシ−3,7,11−トリメチル−2,
6,10−ドデカトリエ/l <z+zノーファルネシ
ルベンジルエーテルl 15.1 # (収率84%)
を僧tム沸 点: 150 へ155℃10.05 S
O,06w1n25: 1.5110 IR(neat) am 、 1665.1100.1
070.740.70ONMR(OOI!4)δ: 1
.59(s、5H)、 1.A8(s、6H)、 1.
74(s、i)、 1.95〜2.15(br、8H)
。
5、’、*5(d、2H,J=7)、4.42(a、2
H)。
H)。
4.9−5.2(br、2H)、5.37(t、IH。
J−7)、7.22(s、5H)
実施例6
の合成
エーテル
実施例2で得られたベンジルエーテル体1.001 (
3,20m vno! )を20%DMIC溶。
3,20m vno! )を20%DMIC溶。
液50mA!(D M K 40mJ十H2010d)
に溶解し、水浴によ90℃に冷却する。次いで同温度で
NBS 684〜(L84mmo/;1.2 eq)を
少しずつ25分かけて加えた。その彼0へ4℃で1.3
時間撹拌した。この時点でTLCでチェックしたところ
(3%酢酸エチル/ヘキサン)、原料が残っているため
、47%HBr 1滴を加えた。その俊更に0〜5℃で
1.2時間攪拌を続けた。反応液に4N−NaOH1,
5tnlを10℃以上にならないように加えた。徐々に
室温に戻し、室温にて一晩放−,シた。反応液を水で希
釈し、エーテル抽出し、洗浄、乾燥(N IL 2 S
O4)後、減圧下で縦縞し粗生成物1.24.9を得
た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、ヘキサン−酢酸エチルで展開し、下記の構造式で示さ
れる目的物質であるモノエポキシ体6211R9(59
%;6へ8%fo酸エチル/ヘキサンにより溶出)およ
びジェポキシ体155 ml (12%;20〜25%
酢酸エチル/ヘキサンにより溶出)を得た。
に溶解し、水浴によ90℃に冷却する。次いで同温度で
NBS 684〜(L84mmo/;1.2 eq)を
少しずつ25分かけて加えた。その彼0へ4℃で1.3
時間撹拌した。この時点でTLCでチェックしたところ
(3%酢酸エチル/ヘキサン)、原料が残っているため
、47%HBr 1滴を加えた。その俊更に0〜5℃で
1.2時間攪拌を続けた。反応液に4N−NaOH1,
5tnlを10℃以上にならないように加えた。徐々に
室温に戻し、室温にて一晩放−,シた。反応液を水で希
釈し、エーテル抽出し、洗浄、乾燥(N IL 2 S
O4)後、減圧下で縦縞し粗生成物1.24.9を得
た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、ヘキサン−酢酸エチルで展開し、下記の構造式で示さ
れる目的物質であるモノエポキシ体6211R9(59
%;6へ8%fo酸エチル/ヘキサンにより溶出)およ
びジェポキシ体155 ml (12%;20〜25%
酢酸エチル/ヘキサンにより溶出)を得た。
。25#
n D y 1−5070
0 IR(neat) 0In−1: 1660.12
50(エボキ7)、1100゜1070、740.70
0 0 NMR(OC14)δ; 1.18.1.20(e
aohg、6H)1.35 へ1.65(m、2H)、
1.67(8゜5H)、1.75c8,5H)、1.9
5〜2.60(m、dHハ2 、s o (t t J
−6+ j H) t5.95(d、J−7Hz、2
Hハ4.44(g。
50(エボキ7)、1100゜1070、740.70
0 0 NMR(OC14)δ; 1.18.1.20(e
aohg、6H)1.35 へ1.65(m、2H)、
1.67(8゜5H)、1.75c8,5H)、1.9
5〜2.60(m、dHハ2 、s o (t t J
−6+ j H) t5.95(d、J−7Hz、2
Hハ4.44(g。
2H)、 5.11(bs、1H)、 5.37(t。
J−7Hz、IH) 、7.25(s、5H)25 。
n 、 、 1.5026
IR(neatJ 0II−’: 1660.f250
,1100,1070,740゜0O NMn(ccl!4)δ: 1.23(a、9Hハ1.
40〜1 * 67 (m *6H)+ ’、7’(s
t5H)+ 1.94〜2.35(m、2H)、 2.
55(t、J”6Hz、2H)。
,1100,1070,740゜0O NMn(ccl!4)δ: 1.23(a、9Hハ1.
40〜1 * 67 (m *6H)+ ’、7’(s
t5H)+ 1.94〜2.35(m、2H)、 2.
55(t、J”6Hz、2H)。
197(d、J−7Hz、2H)、4.43(s。
2H)、5.45(t、J−7Hz、IH)。
7.25(s、5H)
ジメチル−4,8−デカジエン−1−オール過ヨク累酸
(H5I06) 22.5 Ii(98m rnol)
を水tpoxttに溶解し、水冷攪拌下、(1)の方法
によって得られたエボ中シト(モノ) 15.51 (
47,5m mol!)のジオキサン溶液150Mを加
える(5〜8℃、1時間)。その後、氷浴な取p去り、
室温に8いて2.5時間攪拌する。次いで水150dで
希釈し、エーテル−ヘキサン(1:1)で抽出(100
11LlX4ハ洗浄、乾燥(MgSO4)後、減圧下で
濃縮する。
(H5I06) 22.5 Ii(98m rnol)
を水tpoxttに溶解し、水冷攪拌下、(1)の方法
によって得られたエボ中シト(モノ) 15.51 (
47,5m mol!)のジオキサン溶液150Mを加
える(5〜8℃、1時間)。その後、氷浴な取p去り、
室温に8いて2.5時間攪拌する。次いで水150dで
希釈し、エーテル−ヘキサン(1:1)で抽出(100
11LlX4ハ洗浄、乾燥(MgSO4)後、減圧下で
濃縮する。
次に残渣をエタノール50属に溶解し、この溶液なナト
リウムボロ/)イドライド(NILBH4)1.9 E
l (50m moj )のエタノール(120M)溶
液中へ50分かけて加えた。滴下後、室温で1.5時間
撹拌した。反応液に10%硫酸溶液(2,2N )を注
意深く加えた後、減圧下で濃縮する。水150ゴで希釈
し、抽出(エーテル−ヘキサン(1:1.);100m
×4)、洗浄、乾燥(MgSO4)仮、減圧下で溶媒を
留去し、粗生成物16.71を得た。これをシリカゲル
クロマトグラフィーに付し、15〜20%ヘキサン−酢
酸エチルによって展開し下記の構造式で示す目的物%1
0.5#(収率77%)を得た。
リウムボロ/)イドライド(NILBH4)1.9 E
l (50m moj )のエタノール(120M)溶
液中へ50分かけて加えた。滴下後、室温で1.5時間
撹拌した。反応液に10%硫酸溶液(2,2N )を注
意深く加えた後、減圧下で濃縮する。水150ゴで希釈
し、抽出(エーテル−ヘキサン(1:1.);100m
×4)、洗浄、乾燥(MgSO4)仮、減圧下で溶媒を
留去し、粗生成物16.71を得た。これをシリカゲル
クロマトグラフィーに付し、15〜20%ヘキサン−酢
酸エチルによって展開し下記の構造式で示す目的物%1
0.5#(収率77%)を得た。
(式中phは前記の意味を有する)
25 。
’n al、5168
OIR(neat)(m 、 3400,1660,1
070,740,700oNnn(ocz4)δ: 1
.5〜1.7(m、2H)、 1.66(s、5H)。
070,740,700oNnn(ocz4)δ: 1
.5〜1.7(m、2H)、 1.66(s、5H)。
1.75(g、5H)、 1.9〜2.2(rtr、6
H)。
H)。
2.76(8,IH)、 5.45(t、2H,J−6
゜)。
゜)。
3.95(d、J−7Hz、2H)、 4.45(s。
2H)、 5.06(bs、1H)、 5.36(t。
J−7Hz、IH)、 7.26(a、5H)(2)の
方法で得られたアルコール体9.5g(53m moj
)を乾燥ピリジン651Llに溶解し、トシルクロラ
イド12.61 (66m rnol)を塙氷浴によっ
て冷却しながら、15分かけて加えた(−7〜−5℃)
。更に同温度で15分攪拌した後、水浴中(0℃)で−
晩15時間放置した。次いで氷水130m1中に注キ゛
、エーテル−ヘキサン(1:1)で抽出した後、抽出液
を4N−塩酸でピリジンがなくなるまで洗浄する。ピリ
ジンの有無は、’rLoで確認できる。更に、これを洗
浄し、乾燥(Mgso4) t、た。減圧1・で縁線す
ることにより、粗エステル体’+ 5.7.9 (94
%)を得た。
方法で得られたアルコール体9.5g(53m moj
)を乾燥ピリジン651Llに溶解し、トシルクロラ
イド12.61 (66m rnol)を塙氷浴によっ
て冷却しながら、15分かけて加えた(−7〜−5℃)
。更に同温度で15分攪拌した後、水浴中(0℃)で−
晩15時間放置した。次いで氷水130m1中に注キ゛
、エーテル−ヘキサン(1:1)で抽出した後、抽出液
を4N−塩酸でピリジンがなくなるまで洗浄する。ピリ
ジンの有無は、’rLoで確認できる。更に、これを洗
浄し、乾燥(Mgso4) t、た。減圧1・で縁線す
ることにより、粗エステル体’+ 5.7.9 (94
%)を得た。
絖いて、これをアセトン250 rnlに溶解し。
ヨウ化ナトリウム24.81 (165m mol )
を加え、室温にて39時間撹拌した。析出している結晶
な口過によって除去し、母液は減圧下で濃縮する。これ
をNa2S2O3@55H2O4を含む水60mbで希
釈し、抽出(ヘキサン)。
を加え、室温にて39時間撹拌した。析出している結晶
な口過によって除去し、母液は減圧下で濃縮する。これ
をNa2S2O3@55H2O4を含む水60mbで希
釈し、抽出(ヘキサン)。
洗浄、乾燥(MgS04)後、減圧下で濃縮し、下記の
構造式の粗ヨード体11.6.9 (収率94g)を得
た。
構造式の粗ヨード体11.6.9 (収率94g)を得
た。
(式中phは前記の意味を44する)
o IR(neat) 01M 、 1660,110
0,1070,740,700o NM R(OC1a
)δ: 1.64(s、3H)、 1.75(s、3
H)。
0,1070,740,700o NM R(OC1a
)δ: 1.64(s、3H)、 1.75(s、3
H)。
1.9〜2.2(m、8H)、 5.03(t。
J−’6Hz、2H)、 5.90(d、J=7Hz。
2H)、 4.40(s、2H)、 5.07(bs。
IH)、 5.33(t、J−7Hz、IH)。
7.16(s、5H)
上記の方法で得られた租ヨード体11.6Ji’(29
,1m mol )とトリフェニルホスフィン 211
1 (80m molりをinベンゼン70祷に溶解し
、還流温度で22時間反応さセた。
,1m mol )とトリフェニルホスフィン 211
1 (80m molりをinベンゼン70祷に溶解し
、還流温度で22時間反応さセた。
室温まで冷却し、激しく撹拌されたエーテル7001n
l中に注ぐ。このとき、急激な結晶析出舎防ぐため、ゆ
っくり加えた方かよい。注ぎおわった後、更に10分間
撹拌し、生じた結晶を1過し、エーテルで徹底的に洗#
する。
l中に注ぐ。このとき、急激な結晶析出舎防ぐため、ゆ
っくり加えた方かよい。注ぎおわった後、更に10分間
撹拌し、生じた結晶を1過し、エーテルで徹底的に洗#
する。
減圧下で乾燥することによって下記の構造式を有する目
的物質を白色結晶として17.0.9をイqた。
的物質を白色結晶として17.0.9をイqた。
(式中phは前記の意味を有する)
0融点(°す: 7O−72
o NMR(ODO1!s)δ: 1.56(g、6H
,)、 1.72(8,5H)+1.95〜2.5(m
、8H)、 3.52(brm。
,)、 1.72(8,5H)+1.95〜2.5(m
、8H)、 3.52(brm。
211ハ 5.9B(d、J=6Hz、21す。
4.47(3,2H)、 5.20(bs、1)()。
5.55(t、J−6Hz、IHハフ、26(J5H)
、 7.50へ8.05(m、151.)(3)の方
法によって得られたホスホニウム塩5.64 g (8
,55m molンを無水テトラヒドロ7ラン(THF
) 150Inlに溶解し、−70℃に冷却する。n−
ブチルリチウム(1,5Mヘキサン溶液) 6.1 r
at (9,4m mol )を15分かけて加えると
オレンジ色のイリド溶液となる。同温度で更に1時間撹
拌した後、テトラヒドロピラニルアセトン2,70.9
(17,1m molりのテトラヒドロフラン溶液1
0di10分で加えた。徐々に室温まで昇温しlよから
攪拌を続け、室温にて一晩14時間放置した。次いでメ
タノール5ILlを加え、反応を停止した後、減圧下で
濃f!する。残渣をメタノール2atttlと水40/
AJで希釈し、抽出(ニー・チル:ヘキサン=1:1)
、洗#(飽和食塩水)、乾燥(MgSO4)後、減圧下
で濃縮する。
、 7.50へ8.05(m、151.)(3)の方
法によって得られたホスホニウム塩5.64 g (8
,55m molンを無水テトラヒドロ7ラン(THF
) 150Inlに溶解し、−70℃に冷却する。n−
ブチルリチウム(1,5Mヘキサン溶液) 6.1 r
at (9,4m mol )を15分かけて加えると
オレンジ色のイリド溶液となる。同温度で更に1時間撹
拌した後、テトラヒドロピラニルアセトン2,70.9
(17,1m molりのテトラヒドロフラン溶液1
0di10分で加えた。徐々に室温まで昇温しlよから
攪拌を続け、室温にて一晩14時間放置した。次いでメ
タノール5ILlを加え、反応を停止した後、減圧下で
濃f!する。残渣をメタノール2atttlと水40/
AJで希釈し、抽出(ニー・チル:ヘキサン=1:1)
、洗#(飽和食塩水)、乾燥(MgSO4)後、減圧下
で濃縮する。
残渣をヘキサンで希釈すると、白い結晶が析出するから
、これをf別し、母液は再び濃縮し、粗生成物4.72
&を得た。これをシリカゲル(200#)カラムクロ
マトグラフィーに付し、7〜9%酢酸エチル/ヘキサン
で展開するととKより、下記の構造式を有する目的物質
2.92.9 (収率86%)を得た。
、これをf別し、母液は再び濃縮し、粗生成物4.72
&を得た。これをシリカゲル(200#)カラムクロ
マトグラフィーに付し、7〜9%酢酸エチル/ヘキサン
で展開するととKより、下記の構造式を有する目的物質
2.92.9 (収率86%)を得た。
(式中phは前記の意味を有する)
on2D′=1.5125
oIR(neat) m−’ : j66D、1200
.’h20,1020,740゜00 oNMR(00/4) δ: 1.4〜1.9(brm
、6H,)、 1.56(s。
.’h20,1020,740゜00 oNMR(00/4) δ: 1.4〜1.9(brm
、6H,)、 1.56(s。
3H)、1.74(8,?SH,)、 1.95へ2.
25(m、8H)、 3.3〜5.8(brm。
25(m、8H)、 3.3〜5.8(brm。
2H)、 3.95(d、2H)、 3.98(s。
2H)、 4.41(s、2H)、 4.51(bs、
IH)、 4.9〜5.5(m、LH)。
IH)、 4.9〜5.5(m、LH)。
7.18(s、5B)
一オー化
(4)で得られた(zsz*z) −1−ベンジルオキ
シ−3,7,11−トリメチル−12−(2−テトラヒ
ドロピラニルオキシ) −2,S、10−ドデカトリエ
ン1.99111 (4,85m mol )と、p−
トルエンスルホン酸水相物(T80H@H2C)) 9
5In9(0,5mmo/)’tメタノール100dに
溶解し、室温で38時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液により反応液を中和した後、減圧下で凝縮する
。水で希釈し□、エーテル抽出、洗浄(飽和食塩水)、
乾燥(MgSO4)後、溶媒を留去し、目的物質の粗生
成物1.6171i欠得た。これをシリカゲル(45J
il)カラムクロマトグラフィーに付し、20%酢酸エ
チル/ヘキサンで展開すること罠より、下記の構造式を
有する標題化合物1.493 # (収率94%)を得
た。
シ−3,7,11−トリメチル−12−(2−テトラヒ
ドロピラニルオキシ) −2,S、10−ドデカトリエ
ン1.99111 (4,85m mol )と、p−
トルエンスルホン酸水相物(T80H@H2C)) 9
5In9(0,5mmo/)’tメタノール100dに
溶解し、室温で38時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液により反応液を中和した後、減圧下で凝縮する
。水で希釈し□、エーテル抽出、洗浄(飽和食塩水)、
乾燥(MgSO4)後、溶媒を留去し、目的物質の粗生
成物1.6171i欠得た。これをシリカゲル(45J
il)カラムクロマトグラフィーに付し、20%酢酸エ
チル/ヘキサンで展開すること罠より、下記の構造式を
有する標題化合物1.493 # (収率94%)を得
た。
(式中phは前記の意味な有する)
20 。
on n −1−5254
oIR(qeaz) Qta 、 3350,1660
,1090,1070゜1000.740,700 oNMR(QC;14) δ: 1.55(a、3H)
、 1.74(s、6H)。
,1090,1070゜1000.740,700 oNMR(QC;14) δ: 1.55(a、3H)
、 1.74(s、6H)。
1.95へ2.25(m、8HJ、2.11(s。
1H)、3.92(d、2H)、5.96(ts。
2H)、4.44(s、2H)、4.95へ5.5(m
、5H)、7.21(s、5H)なお、実施例3の(5
)の方法によって得られたアリルアルコール体が2体で
あることは、これを二酸化マンガンで酸化して(4)ら
れる下記の構造を有するα、β−不飽和アルデヒドのN
、MRによって確認した。
、5H)、7.21(s、5H)なお、実施例3の(5
)の方法によって得られたアリルアルコール体が2体で
あることは、これを二酸化マンガンで酸化して(4)ら
れる下記の構造を有するα、β−不飽和アルデヒドのN
、MRによって確認した。
(式中phは前記の意味を有する。)
実施例4
実施例6の方法によって得られた(Z、Z、Z) −1
2−ベンジルオキシ−2,<S、10−トリメチル−2
゜6.10−ドデカトリエン−1−オール800ダ(2
,44m rnol )とS−コリジン594Ing(
4,90m mo/ )の混合物の中に、窒素気流化塊
化リチウム212ml (5,0m mo/ )のDM
F溶液81nlを加え、0℃に冷却する。これにメタン
スルホニルクロリド0.58 tttl (4,90m
mol)を加え、更に同温度で、2.5時間攪拌した
。反応液を氷水200IILl中に注さ、エーテル−ヘ
キサン(1:1)で抽出、洗浄(飽和?rs w鋼溶液
と飽和食壌水〕、乾燥(N a 2 S O4)後−縮
し、粗生成物981ダを得た。これをシリカゲルクロマ
トグラフィーに句し、7%IPE/ヘキサンで展開し、
下記の構造式を有する標題化合物719■(収率85%
)を得た。
2−ベンジルオキシ−2,<S、10−トリメチル−2
゜6.10−ドデカトリエン−1−オール800ダ(2
,44m rnol )とS−コリジン594Ing(
4,90m mo/ )の混合物の中に、窒素気流化塊
化リチウム212ml (5,0m mo/ )のDM
F溶液81nlを加え、0℃に冷却する。これにメタン
スルホニルクロリド0.58 tttl (4,90m
mol)を加え、更に同温度で、2.5時間攪拌した
。反応液を氷水200IILl中に注さ、エーテル−ヘ
キサン(1:1)で抽出、洗浄(飽和?rs w鋼溶液
と飽和食壌水〕、乾燥(N a 2 S O4)後−縮
し、粗生成物981ダを得た。これをシリカゲルクロマ
トグラフィーに句し、7%IPE/ヘキサンで展開し、
下記の構造式を有する標題化合物719■(収率85%
)を得た。
(式中phは前記の意味を有する)
o IR(rteat) Cm 、 1660,109
0,1070,740,700o NkAR(OD O
/ 3)δ: 1.67(s、5H)、 1.75(s
、5H)。
0,1070,740,700o NkAR(OD O
/ 3)δ: 1.67(s、5H)、 1.75(s
、5H)。
1.80(s、5Hハ2.07(bs、8H,)。
3.99(d、2H)、 4.05(s、2H)。
4.49(s、2HJ、5.10(bs、iH)。
5.24(t、IHJ、5.34(t、1H)。
7.31(s、5)り
出願人代理人 古 谷 馨
手続補正W(方式)
%式%
2、発明の名称
シス型イソプレノイド
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
(021)エーザイ株式会社
4、代理人
東京都中央区日本橋横山町lの3中井ビル昭和59年4
月24日(発送日) 8、 添付書類の目録 明細書 1通
月24日(発送日) 8、 添付書類の目録 明細書 1通
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の一般式 (式中Xはハロゲン原子、水酸基または水素原子を意味
し、Rは水素原子または水#i2基の保護基を意味する
) で表わされるシス型インプレノイド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59014961A JPS60158126A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | シス型イソプレノイド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59014961A JPS60158126A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | シス型イソプレノイド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60158126A true JPS60158126A (ja) | 1985-08-19 |
JPH0466212B2 JPH0466212B2 (ja) | 1992-10-22 |
Family
ID=11875573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59014961A Granted JPS60158126A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | シス型イソプレノイド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60158126A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5262213A (en) * | 1975-11-18 | 1977-05-23 | Sankyo Co Ltd | Polypluenyl derivatives |
JPS56113718A (en) * | 1980-01-12 | 1981-09-07 | Agency Of Ind Science & Technol | Bifunctional terpenoid, its preparation, and ulcer preventive agent comprising it |
-
1984
- 1984-01-30 JP JP59014961A patent/JPS60158126A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5262213A (en) * | 1975-11-18 | 1977-05-23 | Sankyo Co Ltd | Polypluenyl derivatives |
JPS56113718A (en) * | 1980-01-12 | 1981-09-07 | Agency Of Ind Science & Technol | Bifunctional terpenoid, its preparation, and ulcer preventive agent comprising it |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0466212B2 (ja) | 1992-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20080312465A1 (en) | Intermediate compounds in the synthesis of dronabinol | |
JP2010100629A (ja) | プロスタグランジン誘導体の製造方法及びその出発物質 | |
JPS6087278A (ja) | 7‐オキサビシクロ置換プロスタグランジンフエニルカルボン酸誘導体 | |
CA1258863A (en) | Cyclohexane derivatives | |
JPS5839660A (ja) | プロスタグランジンc−9のエノ−ルアシレ−ト同族体 | |
JPS60158126A (ja) | シス型イソプレノイド | |
JPS6388153A (ja) | 20,20,20−トリフルオロアラキドン酸誘導体およびその製造法 | |
JPS6157836B2 (ja) | ||
JPS58164585A (ja) | 新規ベンゾピラン化合物類 | |
JPH045656B2 (ja) | ||
JPS58121207A (ja) | 三環式メチロ−ルのエステル又はエ−テル化合物並びにこれを含有する香料又はフレ−バ−組成物 | |
WO1996026891A1 (fr) | Derives de cyclopentene substitues et leur procede de preparation | |
JP3266701B2 (ja) | 2,3−ジヒドロポリプレノールの製造法 | |
JPS5921864B2 (ja) | フルオロプロスタグランジン及びその製造法 | |
JPH02235860A (ja) | 1―アルキルチオ―及び1―ベンジルチオ―1―ホルミルシクロプロパンの製造方法 | |
JP3228486B2 (ja) | ヒドロキシケトン誘導体およびその製造方法 | |
JP3541421B2 (ja) | 含アレン−α−置換シクロペンテノン誘導体及びその製造方法 | |
JPS60158128A (ja) | (ζ,ζ,ζ,e,e)−ヘキサプレノ−ルの製造方法 | |
JPS59101458A (ja) | 新規なチアプロスタグランジン誘導体及びその製法 | |
JPH0761979A (ja) | ビスフェノール誘導体及びその製造方法 | |
JPS59152338A (ja) | (z,z,e,e)−ペンタプレノ−ルの製造方法 | |
JPS6015615B2 (ja) | 新規な16−アルキル−20−アルコキシプロスタジエン酸誘導体 | |
JPH029856A (ja) | 新規なヒドロキシスルホンおよびその製造方法 | |
JPH0582383B2 (ja) | ||
JPH0420425B2 (ja) |