JP2815988B2 - ３―ｎ―シクロヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法 - Google Patents
３―ｎ―シクロヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノール
誘導体の製造法に関し、更に詳しくは、有機工業薬品ま
たは各種色素中間体として有用な３−Ｎ−シクロヘキシ
ル−Ｎ−アルキルアミノフェノールの製造法に関する。
誘導体の製造法に関し、更に詳しくは、有機工業薬品ま
たは各種色素中間体として有用な３−Ｎ−シクロヘキシ
ル−Ｎ−アルキルアミノフェノールの製造法に関する。
従来、３−アミノフェノール誘導体は有機工業薬品ま
たは各種色素中間体として有用であり、３−Ｎ−シクロ
ヘキシルアミノフェノール誘導体も、色素中間体として
有用であることが知られている（例えば、特公昭51−12
626号公報、特公昭51−23204号公報）。
たは各種色素中間体として有用であり、３−Ｎ−シクロ
ヘキシルアミノフェノール誘導体も、色素中間体として
有用であることが知られている（例えば、特公昭51−12
626号公報、特公昭51−23204号公報）。
また、３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノールはシ
クロヘキシルアミンとレゾルシノールとの反応により製
造できること、更に３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェ
ノールをメチル化またはエチル化することにより、３−
Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノフェノールまた
は３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェノー
ルが製造されることも報告されている（特公昭51−1262
6号公報）。
クロヘキシルアミンとレゾルシノールとの反応により製
造できること、更に３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェ
ノールをメチル化またはエチル化することにより、３−
Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノフェノールまた
は３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェノー
ルが製造されることも報告されている（特公昭51−1262
6号公報）。
しかし、上記公報に記載されている製造法は、まずシ
クロヘキシルアミンとレゾルシノールとより３−Ｎ−シ
クロヘキシルアミノフェノールを生成させ、反応液を水
洗後、３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノールを蒸留
により単離した後、この３−Ｎ−シクロヘキシルアミノ
フェノールにジメチル硫酸またはジエチル硫酸を作用さ
せることにより、それぞれ対応する３−Ｎ−シクロヘキ
シル−Ｎ−メチルアミノフェノールまたは３−Ｎ−シク
ロヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェノールを製造してい
る。
クロヘキシルアミンとレゾルシノールとより３−Ｎ−シ
クロヘキシルアミノフェノールを生成させ、反応液を水
洗後、３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノールを蒸留
により単離した後、この３−Ｎ−シクロヘキシルアミノ
フェノールにジメチル硫酸またはジエチル硫酸を作用さ
せることにより、それぞれ対応する３−Ｎ−シクロヘキ
シル−Ｎ−メチルアミノフェノールまたは３−Ｎ−シク
ロヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェノールを製造してい
る。
即ち、レゾルシノールを出発原料として２段階で反応
を行い、中間体である３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフ
ェノールは単離している。このように煩わしい操作を行
っているためか、例えば３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−
メチルアミノフェノールの収率はレゾルシノールからの
通算で約27〜36％と非常に低いものであった（特公昭51
−12626号公報）。
を行い、中間体である３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフ
ェノールは単離している。このように煩わしい操作を行
っているためか、例えば３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−
メチルアミノフェノールの収率はレゾルシノールからの
通算で約27〜36％と非常に低いものであった（特公昭51
−12626号公報）。
本発明の課題は、従来方法の欠点であった煩わしい操
作を省き、簡便な操作で且つ高収率で３−Ｎ−シクロヘ
キシルアミノフェノール誘導体を製造する方法を提供す
ることである。
作を省き、簡便な操作で且つ高収率で３−Ｎ−シクロヘ
キシルアミノフェノール誘導体を製造する方法を提供す
ることである。
本発明者らは、上述の課題を解決するために鋭意検討
した結果、本発明に到達した。
した結果、本発明に到達した。
即ち、本発明は一般式（Ｉ） （式中、Ｒはアルキル基を示す）で表される３−Ｎ−シ
クロヘキシルアミノフェノール誘導体を製造する方法に
おいて、シクロヘキシルアミンとレゾルシノールとを反
応させ、生成した３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノ
ールを反応液から単離することなく、アルキル化剤を該
反応液に添加して、該３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフ
ェノールに作用させることを特徴とする３−Ｎ−シクロ
ヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法である。
クロヘキシルアミノフェノール誘導体を製造する方法に
おいて、シクロヘキシルアミンとレゾルシノールとを反
応させ、生成した３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノ
ールを反応液から単離することなく、アルキル化剤を該
反応液に添加して、該３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフ
ェノールに作用させることを特徴とする３−Ｎ−シクロ
ヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法である。
一般式（Ｉ）において、Ｒはアルキル基、すなわち、
直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり、好ましくは
炭素数１〜20個のアルキル基、より好ましくは炭素数１
〜14個のアルキル基である。具体例としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブ
チル基、ｎ−ペンテル基、２−メチルブチル基、３−メ
チルブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルペンチル
基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２
−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、４−メチルヘキシ
ル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノ
ニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシ
ル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基を例示す
ることができる。
直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり、好ましくは
炭素数１〜20個のアルキル基、より好ましくは炭素数１
〜14個のアルキル基である。具体例としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブ
チル基、ｎ−ペンテル基、２−メチルブチル基、３−メ
チルブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルペンチル
基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２
−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、４−メチルヘキシ
ル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノ
ニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシ
ル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基を例示す
ることができる。
シクロヘキシルアミンとレゾルシノールと反応させて
３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノールを生成させる
方法において、使用するレゾルシノールとシクロヘキシ
ルアミンとの量は、レゾルシノール１モルに対しシクロ
ヘキシルアミンを0.8〜２モルの範囲であり、好ましく
は、１〜２モルの範囲である。
３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノールを生成させる
方法において、使用するレゾルシノールとシクロヘキシ
ルアミンとの量は、レゾルシノール１モルに対しシクロ
ヘキシルアミンを0.8〜２モルの範囲であり、好ましく
は、１〜２モルの範囲である。
反応温度は、80〜200℃の範囲が好ましく、130〜200
℃の範囲がより好ましい。
℃の範囲がより好ましい。
反応時間は、数時間ないし数十時間を要する。
尚、この反応の際に少量の塩化亜鉛や塩化マグネシウ
ムを存在させると反応を促進させることができる。また
反応液の着色を防止するには、反応を窒素やアルゴン等
の不活性ガス雰囲気中で行なうことが好ましい。
ムを存在させると反応を促進させることができる。また
反応液の着色を防止するには、反応を窒素やアルゴン等
の不活性ガス雰囲気中で行なうことが好ましい。
上記の反応によりＮ−シクロヘキシルアミノフェノー
ルを含有する反応液が得られる。本発明の方法では、こ
の反応生成物であるＮ−シクロヘキシルアミノフェノー
ルは単離することなく、これを含有する反応液にアルキ
ル化剤を添加して引続きアルキル化反応を行う。この、
反応液から３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノールを
単離することなくアルキル化剤を作用させる際には、反
応液に未反応または過剰のシクロヘキシルアミンが存在
していても構わないが、好ましくは反応液に含まれてい
るシクロヘキシルアミンは大部分を蒸留により反応系外
に除去する。
ルを含有する反応液が得られる。本発明の方法では、こ
の反応生成物であるＮ−シクロヘキシルアミノフェノー
ルは単離することなく、これを含有する反応液にアルキ
ル化剤を添加して引続きアルキル化反応を行う。この、
反応液から３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノールを
単離することなくアルキル化剤を作用させる際には、反
応液に未反応または過剰のシクロヘキシルアミンが存在
していても構わないが、好ましくは反応液に含まれてい
るシクロヘキシルアミンは大部分を蒸留により反応系外
に除去する。
また、本発明の方法で使用するアルキル化剤として
は、ジアルキル硫酸エステル、ハロゲ化アルキル、アル
キル−Ｐ−トルホンスルホン酸エステルまたはトリアル
キルリン酸エステル等を好ましい例として挙げることが
できる。具体例としては、ジメチル硫酸、ジエチル硫
酸、ジ−ｎ−プロピル硫酸、ジ−ｎ−ブチル硫酸、ヨウ
化メチル、ヨウ化エチル、ｎ−プロピルブロマイド、ｎ
−ブチルブロマイド、イソブチルブロマイド、ｎ−ペン
チルブロマイド、２−メチルブチルブロマイド、３−メ
チルブチルブロマイド、ｎ−ヘキシルブロマイド、２−
メチルペンチルブロマイド、３−メチルペンチルブロマ
イド、４−メチルペンチルブロマイド、２−エチルブチ
ルブロマイド、ｎ−ヘプチルブロマイド、４−メチルヘ
キシルブロマイド、ｎ−オクチルブロマイド、２−エチ
ルヘキシルブロマイド、ｎ−ノニルブロマイド、ｎ−デ
シルブロマイド、ｎ−ウンデシルブロマイド、ｎ−ドデ
シルブロマイド、ｎ−トリデシルブロマイド、ｎ−テト
ラデシルブロマイド、メチル−Ｐ−トルエンスルホン酸
エステル、エチル−Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、
ｎ−プロピル−Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、ｎ−
ブチル−Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、ｎ−ペンチ
ル−Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、ｎ−オクチル−
Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、ｎ−デシル−Ｐ−ト
ルエンスルホン酸エステル、トリメチルリン酸エステ
ル、トリエチルリン酸エステル、トリ−ｎ−ブチルリン
酸エステル、トリ−２−エチルヘキシルリン酸エステル
を例示することができる。
は、ジアルキル硫酸エステル、ハロゲ化アルキル、アル
キル−Ｐ−トルホンスルホン酸エステルまたはトリアル
キルリン酸エステル等を好ましい例として挙げることが
できる。具体例としては、ジメチル硫酸、ジエチル硫
酸、ジ−ｎ−プロピル硫酸、ジ−ｎ−ブチル硫酸、ヨウ
化メチル、ヨウ化エチル、ｎ−プロピルブロマイド、ｎ
−ブチルブロマイド、イソブチルブロマイド、ｎ−ペン
チルブロマイド、２−メチルブチルブロマイド、３−メ
チルブチルブロマイド、ｎ−ヘキシルブロマイド、２−
メチルペンチルブロマイド、３−メチルペンチルブロマ
イド、４−メチルペンチルブロマイド、２−エチルブチ
ルブロマイド、ｎ−ヘプチルブロマイド、４−メチルヘ
キシルブロマイド、ｎ−オクチルブロマイド、２−エチ
ルヘキシルブロマイド、ｎ−ノニルブロマイド、ｎ−デ
シルブロマイド、ｎ−ウンデシルブロマイド、ｎ−ドデ
シルブロマイド、ｎ−トリデシルブロマイド、ｎ−テト
ラデシルブロマイド、メチル−Ｐ−トルエンスルホン酸
エステル、エチル−Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、
ｎ−プロピル−Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、ｎ−
ブチル−Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、ｎ−ペンチ
ル−Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、ｎ−オクチル−
Ｐ−トルエンスルホン酸エステル、ｎ−デシル−Ｐ−ト
ルエンスルホン酸エステル、トリメチルリン酸エステ
ル、トリエチルリン酸エステル、トリ−ｎ−ブチルリン
酸エステル、トリ−２−エチルヘキシルリン酸エステル
を例示することができる。
３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノールを含有する
反応液にアルキル化剤を作用させる際には、溶媒を用い
なくても良いが、溶媒の存在下であっても構わない。溶
媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン等を挙げることができ、また、アルキル化剤とし
てハロゲン化アルキルを作用させる際には、メタノー
ル、エタノール、メチルセロソルブやジメチルホルムア
ミド等の極性溶媒を使用しても構わない。
反応液にアルキル化剤を作用させる際には、溶媒を用い
なくても良いが、溶媒の存在下であっても構わない。溶
媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン等を挙げることができ、また、アルキル化剤とし
てハロゲン化アルキルを作用させる際には、メタノー
ル、エタノール、メチルセロソルブやジメチルホルムア
ミド等の極性溶媒を使用しても構わない。
このアルキル化の反応温度は、通常20〜200℃の範
囲、好ましくは、50〜150℃の範囲である。
囲、好ましくは、50〜150℃の範囲である。
反応時間は、反応温度により異なるが、通常数時間な
いし数十時間を要する。
いし数十時間を要する。
以上の反応により得られる反応液から、目的の一般式
（Ｉ）で表される３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノ
ール誘導体を単離するには、反応混合物に、あるいは溶
媒を留去した残渣に、塩基、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等と
作用させた後に、目的物が固体の場合は濾過により、ま
た油状の場合は溶媒抽出等により分離し、単離できる。
（Ｉ）で表される３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノ
ール誘導体を単離するには、反応混合物に、あるいは溶
媒を留去した残渣に、塩基、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等と
作用させた後に、目的物が固体の場合は濾過により、ま
た油状の場合は溶媒抽出等により分離し、単離できる。
更に必要に応じて、溶媒を用い再結晶または蒸留によ
り精製することができる。
り精製することができる。
本発明によれば、３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェ
ノール誘導体を簡便にしかも高収率で製造することがで
きる。
ノール誘導体を簡便にしかも高収率で製造することがで
きる。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する
が、本発明は、これらの実施例に限定されるものではな
い。
が、本発明は、これらの実施例に限定されるものではな
い。
実施例１ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがメチル基である化合物の
製造〕 シクロヘキシルアミン495g（５モル）とレゾルシノー
ル550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹拌
後、未反応のシクロヘキシルアミンを減圧下（50〜60mm
Hg）で留去後、残渣にキシレン300mlとメチル−Ｐ−ト
ルエンスルホン酸エステル930g（５モル）を加え、更に
140℃で10時間撹拌を行った。反応後、冷却し、10％NaO
H水にて中和後、有機層を分離し、減圧下で蒸留するこ
とにより３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノフ
ェノール871gをほぼ無色の油状物として得た。収率85
％。b.p.165〜172℃/3mmHg ′Ｈ−NMR（CDCl3）（ppm） δ 1.08〜1.86（m,10H） 2.95（s,3H）,3.64（m,1H）,4.50（s,1H） 6.13（m,3H）,7.00（m,1H） 実施例２ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがエチル基である化合物の
製造〕 実施例１においてメチル−Ｐ−トルエンスルホン酸エ
ステルの代わりにエチル−Ｐ−トルエンスルホン酸エス
テルを用いた他は、実施例１に記載した方法に従い、３
−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェノールを
製造した。
製造〕 シクロヘキシルアミン495g（５モル）とレゾルシノー
ル550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹拌
後、未反応のシクロヘキシルアミンを減圧下（50〜60mm
Hg）で留去後、残渣にキシレン300mlとメチル−Ｐ−ト
ルエンスルホン酸エステル930g（５モル）を加え、更に
140℃で10時間撹拌を行った。反応後、冷却し、10％NaO
H水にて中和後、有機層を分離し、減圧下で蒸留するこ
とにより３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノフ
ェノール871gをほぼ無色の油状物として得た。収率85
％。b.p.165〜172℃/3mmHg ′Ｈ−NMR（CDCl3）（ppm） δ 1.08〜1.86（m,10H） 2.95（s,3H）,3.64（m,1H）,4.50（s,1H） 6.13（m,3H）,7.00（m,1H） 実施例２ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがエチル基である化合物の
製造〕 実施例１においてメチル−Ｐ−トルエンスルホン酸エ
ステルの代わりにエチル−Ｐ−トルエンスルホン酸エス
テルを用いた他は、実施例１に記載した方法に従い、３
−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェノールを
製造した。
収率87％。b.p.162〜170℃/4mmHg ′Ｈ−NMR（CDCl3）（ppm） δ 1.20（t,3H）,1.08〜1.86（m,10H） 3.40（q,2H）,3.64（m,1H）,4.50（s,1H） 6.13（m,3H）,7.00（m,1H） 実施例３ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがｎ−プロピル基の化合物
の製造〕 シクロヘキシルアミン495g（５モル）とレゾルシノー
ル550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹拌
後、未反応のシクロヘキシルアミンを減圧下（50〜60mm
Hg）で留去後、キシレン300mlとｎ−プロピル−Ｐ−ト
ルエンスルホン酸エステル1070g（５モル）を加え、更
に140℃で10時間撹拌を行った。反応後、冷却し、ｎ−
ヘキサン200mlを加えた後、２層に分離した下層を分離
後、10％NaOH水で中和後、析出した結晶を濾過、水洗
後、減圧下で乾燥しクリーム色の３−Ｎ−シクロヘキシ
ル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノフェノール1070gを得た。
収率92％。融点106〜109℃ ′Ｈ−NMR（CDCl3）（ppm） 0.95（t,3H）,1.08〜1.86（m,12H） 3.20（t,2H）,3.64（m,1H）,4.50（s,1H） 6.13（m,3H）,7.00（m,1H） 実施例４ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがｎ−ブチル基の化合物の
製造〕 実施例３においてｎ−プロピル−Ｐ−トルエンスルホ
ン酸エステルの代わりに、ｎ−ブチル−Ｐ−トルエンス
ルホン酸エステルを用いた他は、実施例３に記載した方
法に従い、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ブチルア
ミノフェノールを製造した。収率90％。
の製造〕 シクロヘキシルアミン495g（５モル）とレゾルシノー
ル550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹拌
後、未反応のシクロヘキシルアミンを減圧下（50〜60mm
Hg）で留去後、キシレン300mlとｎ−プロピル−Ｐ−ト
ルエンスルホン酸エステル1070g（５モル）を加え、更
に140℃で10時間撹拌を行った。反応後、冷却し、ｎ−
ヘキサン200mlを加えた後、２層に分離した下層を分離
後、10％NaOH水で中和後、析出した結晶を濾過、水洗
後、減圧下で乾燥しクリーム色の３−Ｎ−シクロヘキシ
ル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノフェノール1070gを得た。
収率92％。融点106〜109℃ ′Ｈ−NMR（CDCl3）（ppm） 0.95（t,3H）,1.08〜1.86（m,12H） 3.20（t,2H）,3.64（m,1H）,4.50（s,1H） 6.13（m,3H）,7.00（m,1H） 実施例４ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがｎ−ブチル基の化合物の
製造〕 実施例３においてｎ−プロピル−Ｐ−トルエンスルホ
ン酸エステルの代わりに、ｎ−ブチル−Ｐ−トルエンス
ルホン酸エステルを用いた他は、実施例３に記載した方
法に従い、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ブチルア
ミノフェノールを製造した。収率90％。
融点124〜126℃ ′Ｈ−NMR（CDCl3）（ppm） 0.95（t,3H）,1.08〜1.86（m,14H） 3.20（t,2H）,3.64（m,1H） 4.50（s,1H）,6.13（m,3H）,7.00（m,1H） 実施例５ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがエチル基の化合物の製
造〕 シクロヘキシルアミン545g（5.5モル）とレゾルシノ
ール550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹
拌後、未反応或いは過剰のシクロヘキシルアミンを留去
後、残渣にトルエン500mlを加え、50℃でジエチル硫酸7
70g（５モル）を２時間を要し滴下した。更に100℃で６
時間撹拌後、冷却し、20％Na2CO3水で中和後、トルエン
層を分離、水洗後、減圧下で蒸留することにより３−Ｎ
−シクロヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェノール964gを
ほぼ無色の油状物として得た。
造〕 シクロヘキシルアミン545g（5.5モル）とレゾルシノ
ール550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹
拌後、未反応或いは過剰のシクロヘキシルアミンを留去
後、残渣にトルエン500mlを加え、50℃でジエチル硫酸7
70g（５モル）を２時間を要し滴下した。更に100℃で６
時間撹拌後、冷却し、20％Na2CO3水で中和後、トルエン
層を分離、水洗後、減圧下で蒸留することにより３−Ｎ
−シクロヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェノール964gを
ほぼ無色の油状物として得た。
収率88％。b.p.162〜170℃/4mmHg 実施例６ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがｎ−プロピル基の化合物
の製造〕 シクロヘキシルアミン495g（５モル）とレゾルシノー
ル550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹拌
後、未反応のシクロヘキシルアミンを減圧下（50〜60mm
Hg）で留去後、残渣にメチルセロソルブ500mlとｎ−プ
ロピルブロマイド677g（5.5モル）を加え、100〜110℃
で10時間撹拌した。過剰のｎ−プロピルブロマイドを留
去後、残渣を５の水に注ぎ、更に10％NaOH水にて中和
後、析出したクリーム色の結晶を濾過、水洗後、真空乾
燥を行い、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−プロピル
アミノフェノール1070gを得た。
の製造〕 シクロヘキシルアミン495g（５モル）とレゾルシノー
ル550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹拌
後、未反応のシクロヘキシルアミンを減圧下（50〜60mm
Hg）で留去後、残渣にメチルセロソルブ500mlとｎ−プ
ロピルブロマイド677g（5.5モル）を加え、100〜110℃
で10時間撹拌した。過剰のｎ−プロピルブロマイドを留
去後、残渣を５の水に注ぎ、更に10％NaOH水にて中和
後、析出したクリーム色の結晶を濾過、水洗後、真空乾
燥を行い、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−プロピル
アミノフェノール1070gを得た。
収率92％、融点106〜109℃ 実施例７ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがｎ−ブチル基の化合物の
製造〕 実施例６において、ｎ−プロピルブロマイドの代わり
にｎ−ブチルブロマイドを用いた他は、実施例６に記載
した方法に従い、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ブ
チルアミノフェノールを製造した。
製造〕 実施例６において、ｎ−プロピルブロマイドの代わり
にｎ−ブチルブロマイドを用いた他は、実施例６に記載
した方法に従い、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ブ
チルアミノフェノールを製造した。
収率91％。融点124〜126℃ 実施例８ 〔一般式（Ｉ）において、Ｒがイソブチル基の化合物の
製造〕 シクロヘキシルアミン495g（５モル）とレゾルシノー
ル550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹拌
後、未反応のシクロヘキシルアミンを減圧下（50〜60mm
Hg）で留去後、残渣にメチルセロソルブ500mlとイソブ
チルブロマイド685g（５モル）を加え、100〜110℃で10
時間撹拌した。未反応のイソブチルブロマイド及び大部
分のメチルセロソルブを減圧下で留去後、残渣を５の
水に注ぎ、更に10％NaOH水にて中和後、分離したオイル
をトルエンで抽出し、トルエン層を水洗、分離し、トル
エンを留去後、油状物として３−Ｎ−シクロヘキシル−
Ｎ−イソブチルアミノフェノール1148gを得た。収率87
％。
製造〕 シクロヘキシルアミン495g（５モル）とレゾルシノー
ル550g（５モル）との混合物を160〜170℃で12時間撹拌
後、未反応のシクロヘキシルアミンを減圧下（50〜60mm
Hg）で留去後、残渣にメチルセロソルブ500mlとイソブ
チルブロマイド685g（５モル）を加え、100〜110℃で10
時間撹拌した。未反応のイソブチルブロマイド及び大部
分のメチルセロソルブを減圧下で留去後、残渣を５の
水に注ぎ、更に10％NaOH水にて中和後、分離したオイル
をトルエンで抽出し、トルエン層を水洗、分離し、トル
エンを留去後、油状物として３−Ｎ−シクロヘキシル−
Ｎ−イソブチルアミノフェノール1148gを得た。収率87
％。
′Ｈ−NMR（CDCl3）（ppm） 0.86（d,6H）,1.07〜1.92（m,11H） 2.99（d,2H）,3.64（m,1H）,4.50（s,1H） 6.13（m,3H）,7.00（m,1H） 実施例９、10、11 〔一般式（Ｉ）において、Ｒが３−メチルブチル基の化
合物の製造（実施例９）、Ｒがｎ−ヘキシル基の化合物
の製造（実施例10）、Ｒがｎ−オクチル基の化合物の製
造（実施例11）〕 実施例８においてイソブチルブロマイドの代わりに３
−メチルブチルブロマイド（実施例９）、ｎ−ヘキシル
ブロマイド（実施例10）またはｎ−オクチルブロマイド
（実施例11）を用いた他は、実施例８と同様の方法によ
り、それぞれ３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−３′−メチ
ルブチルアミノフェノール（収率87％）、３−Ｎ−シク
ロヘキシル−Ｎ−ｎ−ヘキシルアミノフェノール（収率
89％）、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−オクチルア
ミノフェノール（収率90％）を得た。
合物の製造（実施例９）、Ｒがｎ−ヘキシル基の化合物
の製造（実施例10）、Ｒがｎ−オクチル基の化合物の製
造（実施例11）〕 実施例８においてイソブチルブロマイドの代わりに３
−メチルブチルブロマイド（実施例９）、ｎ−ヘキシル
ブロマイド（実施例10）またはｎ−オクチルブロマイド
（実施例11）を用いた他は、実施例８と同様の方法によ
り、それぞれ３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−３′−メチ
ルブチルアミノフェノール（収率87％）、３−Ｎ−シク
ロヘキシル−Ｎ−ｎ−ヘキシルアミノフェノール（収率
89％）、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−オクチルア
ミノフェノール（収率90％）を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 215/76 C07C 213/02 ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、Ｒはアルキル基を示す）で表される３−Ｎ−シ
クロヘキシルアミノフェノール誘導体を製造する方法に
おいて、シクロヘキシルアミンとレゾルシノールとを反
応させ、生成した３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェノ
ールを反応液から単離することなく、アルキル化剤を該
反応液に添加して、該３−Ｎ−シクロヘキシルアミノフ
ェノールに作用させることを特徴とする３−Ｎ−シクロ
ヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18787690A JP2815988B2 (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | ３―ｎ―シクロヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18787690A JP2815988B2 (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | ３―ｎ―シクロヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0477460A JPH0477460A (ja) | 1992-03-11 |
| JP2815988B2 true JP2815988B2 (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=16213755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18787690A Expired - Fee Related JP2815988B2 (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | ３―ｎ―シクロヘキシルアミノフェノール誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2815988B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4116830A1 (de) * | 1991-05-23 | 1992-11-26 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von n,n-disubstituierten m-aminophenolen |
-
1990
- 1990-07-18 JP JP18787690A patent/JP2815988B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0477460A (ja) | 1992-03-11 |
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