JPH0454190Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0454190Y2
JPH0454190Y2 JP8602987U JP8602987U JPH0454190Y2 JP H0454190 Y2 JPH0454190 Y2 JP H0454190Y2 JP 8602987 U JP8602987 U JP 8602987U JP 8602987 U JP8602987 U JP 8602987U JP H0454190 Y2 JPH0454190 Y2 JP H0454190Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust
reaction vessel
flow path
exhaust gas
bias
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP8602987U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63195550U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP8602987U priority Critical patent/JPH0454190Y2/ja
Publication of JPS63195550U publication Critical patent/JPS63195550U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0454190Y2 publication Critical patent/JPH0454190Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、火炎加水分解バーナを用いた光フア
イバ母材の製造装置に関するものである。
(従来技術及びその問題点) 反応容器と、この反応容器内に挿入された種棒
にガラス微粒子を吹付けて光フアイバ母材を生成
させる火炎加水分解バーナと、前記反応容器内の
排気ガスを排気通路を介して吸引する排気装置
と、前記排気流路に介装されたアキユムレート用
タンクと、前記排気流路に接続されて排気流路内
に圧力調整用のバイアスガスを供給するバイアス
ガス供給流路と、前記反応容器内の圧力変動を検
出する圧力検出器と、この圧力検出器からの信号
に応じて動作して前記反応容器内の圧力を一定に
維持するためのダンパーとを備えた光フアイバ母
材の製造装置は、従来からよく知られている。
しかしながら、この種従来装置では、バイアス
ガスの流量を調整して反応容器内の圧力を一定に
維持するためのダンパーを、排気ガス温度の高い
反応容器とアキユムレート用タンクとの間に配置
しているため、ダンパーを構成するバタフライバ
ルブ等の材質を、かなり耐蝕性を有しかつ耐熱性
に優れたものにする必要があり、装置が高価なも
のになるという不都合があつた。
(問題点を解決するための手段) 上記問題点を解消するため、本考案の光フアイ
バ母材の製造装置は、反応容器と、この反応容器
内に挿入された種棒にガラス微粒子を吹付けて光
フアイバ母材を生成させる火炎加水分解バーナ
と、前記反応容器内の排気ガスを排気流路を介し
て吸引する排気装置と、前記排気流路に介装され
たアキユムレート用タンクと、前記排気流路に接
続されて排気流路内に圧力調整用のバイアスガス
を供給するバイアスガス供給流路と、前記反応容
器内の圧力変動を検出する圧力検出器と、この圧
力検出器からの信号に応じて動作して前記反応容
器内の圧力を一定に維持するためのダンパーとを
備えた光フアイバ母材の製造装置において、前記
バイアスガス供給流路を、前記アキユムレート用
タンクの排気ガス流出口付近と前記排気装置の排
気ガス流入口付近との少なくとも2箇所で前記排
気流路に接続し、前記排気装置の排気ガス流入口
付近に接続されたバイアスガス供給流路に前記ダ
ンパーを配置したものである。
(実施例) 以下、本考案の一実施例を第1図に基づいて説
明する。
第1図は本考案の一実施例における光フアイバ
母材の製造装置の概略全体構成図で、反応容器1
の内部には種棒2aが挿入され、この種棒2aは
図外の駆動装置により軸心回りの回転力と軸心方
向の移動力とを同時に与えられる。前記反応容器
1の内部には火炎加水分解バーナ3の先端部が貫
入しており、この火炎加水分解バーナ3の火炎4
にはガラス微粒子が混入され、いわゆる煤付けに
より前記種棒2aに光フアイバ母材2bが生成さ
れる。前記反応容器1は、排気流路5を介して排
気装置としての排気ガス処理用スクラバー6に接
続されており、排気流路5は管7と管8とにより
構成されている。この管7と管8との間にはアキ
ユムレート用タンク9が介装されており、前記排
気流路5には、前記アキユムレート用タンク9の
排気ガス流出口9a付近にバイアスガス供給流路
10が接続されていると共に、前記排気ガス処理
用スクラバー6の排気ガス流入口6aの付近にバ
イアスガス供給流路11が接続されている。前記
バイアスガス供給流路10は管12により構成さ
れており、前記バイアスガス供給流路11は管1
3により構成されている。前記反応容器1には反
応容器1内の圧力を検出する圧力検出器15が取
付けられており、この圧力検出器15の出力端は
制御装置16の入力端に電気的に接続され、制御
装置16の出力端はダンパー17の入力端に電気
的に接続されている。前記ダンパー17は、例え
ばバタフライバルブと、このバタフライバルブを
回動させる電動機とからなり、バタフライバルブ
は前記バイアスガス供給流路11を構成する前記
管13の内部に配置され、電動機は前記制御装置
16の出力端に電気的に接続される。
次に作用を説明する。反応容器1の内部では、
周知のいわゆる煤付けにより種棒2aを基にして
光フアイバ母材2bが生成される。そして排気ガ
スは、排気ガス処理用スクラバー6の吸引力によ
り排気流路5を構成する管7の内部に導かれ、ア
キユムレート用タンク9の内部に至る。アキユム
レート用タンク9内部の排気ガスは、排気ガス処
理用スクラバー6の吸引力により排気流路5を構
成する管8の内部に導かれ、排気ガス処理用スク
ラバー6の吸引力によりバイアスガス供給流路1
0を構成する管12の内部に導かれたバイアスガ
ス(本実施例では空気)と合流し、管8内を排気
ガス処理用スクラバー6側へと流動する。そして
排気ガス処理用スクラバー6の吸引力によりバイ
アスガス供給流路11を構成する管13の内部に
導かれたバイアスガス(本実施例では空気)と合
流した後、排気ガス処理用スクラバー6の内部に
吸引され、所定の処理がなされる。
いま、反応容器1の内圧が所定値から変動した
とすると、圧力検出器15の出力信号がそれに応
じて変動し、制御装置16は圧力検出器15の出
力信号の変動に応じてダンパー17の電動機を駆
動し、これによりダンパー17のバタフライバル
ブが回動してバイアスガス供給流路11を流れる
バイアスガスの流量が変化し、反応容器1の内圧
が所定値に戻る。すなわち、反応容器1の内圧が
所定値よりも高くなつた場合、換言すれば大気圧
との差が小さくなつた場合、ダンパー17により
バイアスガス供給流路11を流れるバイアスガス
の流量を減少させる。これにより、排気ガス処理
用スクラバー6に吸引される排気ガスの流量が多
くなり、反応容器1の内圧は低くなつて所定値に
戻る。逆に、反応容器1の内圧が所定値よりも低
くなつた場合、換言すれば大気圧との差が大きく
なつた場合、ダンパー17によりバイアスガス供
給流路11を流れるバイアスガスの流量を増加さ
せる。これにより、排気ガス処理用スクラバー6
に吸引される排気ガスの流量が少なくなり、反応
容器1の内圧は高くなつて所定値に戻る。かくし
て、反応容器1の内圧は常に所定値となるように
制御される。なおアキユムレート用タンク9は、
排気ガス処理用スクラバー6の排気速度の変動を
抑制するためのバツフアタンクとして機能する。
このように、反応容器1から排出された排気ガ
スは、排気流路5を流れる途中でかなりの熱を放
出し、しかもアキユムレート用タンク9の排気ガ
ス流出口9aから流出した直後にバイアスガス供
給流路10のバイアスガスと混合されて冷却され
るので、排気ガス処理用スクラバー6の排気ガス
流入口6a付近に至つた時には40℃以下の温度に
なつており、この排気ガスの影響でダンパー17
が高温に晒されることがない。したがつてダンパ
ー17のバタフライバルブ等を耐熱性の低いポリ
塩化ビニル(PVC)等で製作することができ、
製作コストを低減できる。
(別の実施例) 上記実施例のおいては、バイアスガスとして空
気を用いたが、空気に限るものではなく、不活性
ガスや酸化性ガスあるいはそれらの混合ガス等、
各種のガスを使用できる。
また上記実施例においては、アキユムレート用
タンク9の排気ガス流出口9a付近と排気ガス処
理用スクラバー6の排気ガス流入口6a付近とに
おいて管8にバイアスガス供給流路10およびバ
イアスガス供給流路11を接続したが、これらバ
イアスガス供給流路10とバイアスガス供給流路
11との間の位置において管8にさらに別のバイ
アスガス供給流路を接続するようにしてもよい。
(考案の効果) 以上説明したように本考案によれば、バイアス
ガス供給流路を、アキユムレート用タンクの排気
ガス流出口付近と排気装置の排気ガス流入口付近
との少なくとも2箇所で排気流路に接続し、排気
装置の排気ガス流入口付近に接続されたバイアス
ガス供給流路にダンパーを配置したので、バイア
スガスと混合されて冷却された排気ガスがダンパ
ーの付近を通過することにより、ダンパーが排気
ガスの影響で高温に晒されることがなくなり、し
たがつてダンパーを構成するバタフライバルブ等
の材質を耐熱性の低いものにすることができ、製
作コストと大幅に低減できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例における光フアイバ
母材の製造装置の概略全体構成図である。 1……反応容器、2a……種棒、2b……光フ
アイバ母材、3……火炎加水分解バーナ、5……
排気流路、6……排気ガス処理用スクラバー(排
気装置)、6a……排気ガス流入口、9……アキ
ユムレート用タンク、9a……排気ガス流出口、
10……バイアスガス供給流路、11……バイア
スガス供給流路、15……圧力検出器、17……
ダンパー。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 反応容器と、この反応容器内に挿入された種棒
    にガラス微粒子を吹付けて光フアイバ母材を生成
    させる火炎加水分解バーナと、前記反応容器内の
    排気ガスを排気流路を介して吸引する排気装置
    と、前記排気流路に介装されたアキユムレート用
    タンクと、前記排気流路に接続されて排気流路内
    に圧力調整用のバイアスガスを供給するバイアス
    ガス供給流路と、前記反応容器内の圧力変動を検
    出する圧力検出器と、この圧力検出器からの信号
    に応じて動作して前記反応容器内の圧力を一定に
    維持するためのダンパーとを備えた光フアイバ母
    材の製造装置において、前記バイアスガス供給流
    路を、前記アキユムレート用タンクの排気ガス流
    出口付近と前記排気装置の排気ガス流入口付近と
    の少なくとも2箇所で前記排気流路に接続し、前
    記排気装置の排気ガス流入口付近に接続されたバ
    イアスガス供給流路に前記ダンパーを配置したこ
    とを特徴とする光フアイバ母材の製造装置。
JP8602987U 1987-06-02 1987-06-02 Expired JPH0454190Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8602987U JPH0454190Y2 (ja) 1987-06-02 1987-06-02

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8602987U JPH0454190Y2 (ja) 1987-06-02 1987-06-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63195550U JPS63195550U (ja) 1988-12-15
JPH0454190Y2 true JPH0454190Y2 (ja) 1992-12-18

Family

ID=30941967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8602987U Expired JPH0454190Y2 (ja) 1987-06-02 1987-06-02

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0454190Y2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2803510B2 (ja) * 1993-02-10 1998-09-24 住友電気工業株式会社 光ファイバ用ガラス母材の製造方法および装置
JP4668890B2 (ja) * 2006-12-05 2011-04-13 コバレントマテリアル徳山株式会社 合成シリカガラス製造装置、合成シリカガラス製造方法
JP2009132549A (ja) * 2007-11-29 2009-06-18 Covalent Materials Tokuyama Corp 合成石英ガラスの製造装置
JP5102591B2 (ja) * 2007-11-29 2012-12-19 コバレントマテリアル株式会社 合成シリカガラスの製造装置
JP5615314B2 (ja) * 2012-03-28 2014-10-29 コバレントマテリアル株式会社 合成シリカガラスの製造装置及び合成石英ガラスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63195550U (ja) 1988-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR830010350A (ko) 다수의 보일러용 가스조절 시스텐
US4813989A (en) Apparatus for fabricating optical fiber preform
JPH023087B2 (ja)
JPH0454190Y2 (ja)
US3782074A (en) Process and apparatus for cleansing and pumping contaminated industrial gases using a nozzle having a variable throat area
US4493635A (en) Oxygen-enriched air ratio control device for combustion apparatus
IE802663L (en) Growing silicate glass layers
JPS5817263B2 (ja) 液体ソ−スのガス化方法
JPS57155305A (en) Treatment of gas generated from blast furnace at time of vacant furnace blowing
CN219851276U (zh) 料道烟气洁净装置
JPS57140330A (en) Spinning method for optical fiber
JPS5761641A (en) Manufacturing of optical fiber preform
SU1497432A1 (ru) Способ регулировани процесса дожигани окиси углерода и устройство дл его осуществлени
JP2005162573A (ja) ガラス母材の製造方法
JPS5645845A (en) Producing device of optical fiber
JPS62226834A (ja) 光フアイバ線引装置
JPS58200066A (ja) 可変ベンチユリ型気化器用空燃比制御装置
JPS5719308A (en) Method for blowing fuel to blast furnace
JPS59128226A (ja) Vad反応容器の排気圧制御方法
JPH10135142A (ja) 不純物拡散装置
JPS63279769A (ja) 海苔乾燥室の制御方法
SU1449970A2 (ru) Пневматический регул тор расхода газа
JP3529763B2 (ja) 水蒸気発生装置
SU986874A1 (ru) Способ управлени тепловым режимом вагранки минераловатного производства
JPH0139009B2 (ja)