JPH0454175A - アルキルピペラジン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規なアルキルピペラジン誘導体に関する。本
発明の化合物は、５−リボキシケナーセ阻害作用及びシ
クロオキシゲナーゼ阻害作用を有する。

（式中、 Ｒは低級アルキル基を示す。

て表わさ 従来の技術 アレルギー性喘息、アレルギー性鼻炎、炎症等の発症に
はアラキドン酸の５−リポキシゲナーゼ生成物であるロ
イコトリエン類、シクロオキシゲナーゼ生成物であるプ
ロスダグランジン類が深く関与する物質であると考えら
れている。従って、種々のアレルギー性疾患、炎症等を
より強力に且つ的確に抑制するには、５−リポキシゲナ
ーゼを阻害すると共にシクロオキシゲナーゼを阻害する
ことが望ましく、これら両方を強力に阻害する薬剤の開
発が強く望まれている。

発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は優れた５−リポキシゲナーゼ阻害作用及
びシクロオキシゲナーゼ阻害作用を有し、抗喘息剤、抗
アレルギー剤、脳疾患用剤、循環器用剤、腎炎治療剤、
消炎鎮痛剤、肝疾患用剤等として有用な新規なアルキル
ピペラジン誘導体を提供することにある。

問題点を解決するための手段 本発明は一般式 ［式中、Ａ及びＡ−は同一もしくは相異なってメチレン
基又はカルボニル基を、Ｂは−ＮＨ−又は−０−を、Ｘ
はヒドロキシ基又は水素原子を、Ｘは水素原子又はハロ
ゲン原子を示す。ｍは０〜２の整数を、ｎは６〜１５の
整数を示す。Ｑは一般式（式中、Ｒは低級アルキル基を
示す。）で表わされる基又は一般式 （式中、Ｒ−は低級アルキル基又は水素原子を示す。）
で表わされる基を示す。］で表わされるアルキルピペラ
ジン誘導体又はその塩に係る。

一般式（１）で表わされる本発明化合物は、優れた５−
リポキシゲナーゼ阻害活性及びシクロオキシゲナーゼ阻
害活性を有しており、抗喘息剤、抗アレルギー剤、脳疾
患用剤、循環器用剤、腎炎治療剤、消炎鎮痛剤、肝疾患
用剤等として有効である。

本発明においてＲ及びＲ′で示される低級アルキル基と
しては、例えば、メチル、エチル、ｎ　−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル基等
の炭素数１〜４の直鎖状又は分枝状のアルキル基を例示
できる。Ｘ−で示されるハロゲン原子としては、例えば
、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等を例示できる。

本発明のアルキルピペラジン誘導体の塩としては、その
薬学的に許容される塩、例えば塩酸、硫酸、リン酸等の
無機酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、シュウ酸、
フマル酸等の有機酸等との塩が挙げられる。

一般式（１）で表わされる本発明化合物は下記反応工程
式（Ｉ）又は（ＩＩ）に示す方法により製造される。

く反応工程式（１）〉 ［式中、ＡＳＡ−１Ｂ、ｍＳｎ、Ｘ、Ｘ−及びＱは前記
に同じ。］ 一般式（４）で表わされるカルホン酸を、一般式（５）
で表わされるアルコール又はアミンと、溶媒中、縮合剤
を用い、塩基の存在下又は非存在下に反応させることに
より、目的の一般式（１）で表わされるアルキルピペラ
ジン誘導体を得ることができる。この時、一般式（５）
の化合物においてＸがヒドロキン基の場合は、適当な保
護基によって保護した後に縮合させることもてきる。保
護基としては、後に脱保護反応によってこの基を除去す
る際に、他に影響を及ぼすことかない限り特に制限はな
く、例えば、メトキシエトキシメチル基、メトキシメチ
ル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル
基等を使用でき、これら保護基の導入は、例えばジャー
ナル　オブ　アメリカン　ケミカル　ソサエティー（Ｊ
ｏｕｒ口ａｔ　ｏｆＡｍｅｒｉｃａｎ　　Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ　　５ｏｃｉｅｔｙ、、）　　１００．　８０３１
　　（１９７ｇ）に記載の方法に従って行なうことがで
きる。上記溶媒としては反応に関与しないものであれば
特に制限はなく、例えばエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の非プロトン性極性溶媒等か使用できる。縮
合剤としては、例えばＮ、Ｎ−ジシクロへキシルカルボ
ジイミド、エトキシカルホニルクロリド等を示すことが
できる。塩基としては、例えば４−ジメチルアミノピリ
ジン、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ピリジン、
トリエチルアミン等を示すことができる。

反応に際しては、一般式（４）の化合物に対し、一般式
（５）の化合物を１〜２倍当貴程度、縮合剤を１〜２倍
当量程度、塩基を触媒量もしくは１〜２倍当企程度用い
るのが好ましい。又、反応時間は４〜４８時間程度であ
り、反応温度は水冷下から室温程度で有利に進行する。

尚、一般式（４）で表わされる化合物は例えば後記反応
工程式（ＩＩＩ）に従い製造することができる。

〈反応工程式（■）〉 ［式中、Ａ、Ａ−Ｂ、ｍ、ｎ、Ｘ、Ｘ−及びＱは前記に
同し。］ 一般式（４）で表わされるカルボン酸を通常用いられる
方法、例えば塩化チオニル、五塩化リン等を用いる塩素
化法等により酸クロライド（６）とした後、溶媒中、塩
基の存在下又は非存在下に一般式（５）の化合物と反応
させることにより、目的の一般式（１）で表わされるア
ルキルピペラジン誘導体を得ることができる。この時、
一般式（５）の化合物においてＸがヒドロキシ基の場合
は、反応工程式（１）と同様の方法により保護した後に
縮合させることもできる。溶媒としては反応に関与しな
いものであれば特に制限はなく、反応工程式（Ｉ）につ
いて例示した溶媒を使用することができる。塩基として
は、例えばピリジン、トリエチルアミン等の有機アミン
類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の無機塩類を示すことができ、
有機アミン類を用いた場合には、これを溶媒として用い
ても良い。反応に際しては、一般式（６）の化合物に対
し、一般式（５）の化合物を１〜１．５倍当量程度、塩
基を１当量から過剰量用いるのが好ましい。又、反応時
間は１〜１２時間程度であり、反応温度は水冷下から室
温程度で有利に進行する。

く反応工程式（■）（化合物（４）の製法）〉［式中、
Ｒ及びｍは前記に同じ。］ （Ａ法） 一般式（７）で表わされる化合物を適当な溶媒中、酸の
存在下に、飽和脂肪族ジカルボン酸のモノ低級アルキル
クロライドと反応させ、得られたエステル体を加水分解
するこ吉により一般式（８）の化合物を得ることができ
る。溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制
限はなく、例えば反応工程式（Ｉ）で例示した溶媒が使
用できる。

酸としては例えば塩化アルミニウム、臭化亜鉛、塩化チ
タン等のルイス酸類、硫酸、ビロリン酸等の無機酸等を
例示することができる。飽和脂肪族ジカルボン酸モノ低
級アルキルクロライドとしては、例えばシュウ酸モノエ
チルクロライド、マロン酸モノエチルクロライド、コハ
ク酸モノエチルクロライド等を例示することができる。

反応原料の使用割合は、一般式（７）の化合物に対し、
飽和脂肪族ジカルボン酸モノ低級アルキルクロライドを
１〜１．５倍当量程度、酸を１〜１．５倍当量程度とす
るのが好ましい。反応時間は１〜２４時間程度であり、
反応温度は水冷下から室温程度で有利に進行する。加水
分解反応は、通常のエステルの加水分解反応に準じて行
なえば良く、酸加水分解、アルカリ加水分解のいずれの
反応を用いることも可能である。

（Ｂ法） 通常のカルボニル基の還元に用いられる方法に従って、
一般式（９）の化合物を製造することができ、例えばＣ
ｌ　ｅｍｍｅｎｓｅｎ還元、Ｗｏｌｆｆ−Ｋｉｓｈｎｅ
ｒ還元反応等を適用することかできる。

（Ｃ法） 一般式（９）の化合物に、溶媒中で、酸化剤を反応させ
ることにより、一般式（１０）のカルボン酸を得ること
ができる。この時場合によっては、反応補助剤としてピ
リジン−２，６−ジカルボン酸を加えることにより反応
は有利に進行する。用いられる酸化剤としては特に制限
は無く、例えば硝酸第二セリウムアンモニウム等の無機
塩を挙げることができる。溶媒としては反応に関与しな
いものであれば特に制限はなく、例えばエタノール、プ
ロパツール、ブタノール等のアルコール類、酢酸等の有
機酸類、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒および水等を挙げることが
できる。反応原料の使用割合は、一般式（９）の化合物
に対し、酸化剤を５〜１５倍当量程度用い、補助剤を添
加するときは２〜２０倍当量用いるのが好ましい。反応
時間は１０〜６０分程度であり、反応温度は水冷下から
室温程度で有利に進行する。

一般式（５）で表わされる化合物のうち、Ｂが一〇−で
表わされる基である化合物は、例えば特開昭６１−１５
２１３５６号に記載の方法により製造することができる
。Ｂが−ＮＨ−で表わされる基である化合物は、例えば
下記の反応工程式（ＩＶ）に従い製造することができる
。

〈反応工程式（■）（化合物（５）の製法）〉１式中、
２はｔ−ブトキシカルホニル基又はヘンシルオキシカル
ボニル基を示し、Ｘ、Ｘ−及びｎは前記に同じ。］ （Ｄ法） 一般式（１１）で表わされるカルボン酸を、溶媒中で、
縮合剤を用い、塩基の存在下に、一般式（１２）で表わ
されるアミンと反応させることにより、一般式（１３）
で表わされるピペラジン化合物を得ることができる。溶
媒としては反応に関与しないものであれば特に制限はな
く、例えばエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
非プロトン性極性溶媒等が使用できる。縮合剤としては
、一般にペプチド合成に利用されているものであれば特
に制限はなく、例えばＮ、　　Ｎジシクロへキシルカル
ホジイミド、エトキシカルボニルクロリド等を示すこと
ができる。塩基としては、例えば４−ジメチルアミノピ
リジン、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を示すこ
とができる。反応原料の使用割合は、一般式（１１）の
化合物に対七、一般式（１２）の化合物を１〜２倍当曾
、縮合剤を１〜２倍当量、塩基を触媒量もしくは１〜２
倍当量用いるのが好ましい。又、反応時間は１〜４８時
間程度であり、反応温度は水冷下から室温程度で有利に
進行する。

（Ｅ法） 一般式（１３）で表わされる化合物を、溶媒中、酸で処
理するか又は水素添加することにより、Ｚで示される基
を除去して、一般式（１４）で表わされるピペラジン化
合物を得ることができる。溶媒としては反応に関与しな
いものであれば特に制限はなく、例えば（Ｄ法）で例示
した溶媒の他、メタノール、エタノール等のプロトン性
極性溶媒も使用することができる。酸としては、一般に
アミノ基の保護基を脱保護する際に用いられるものであ
れば特に制限はなく、例えば塩酸、硫酸、トリフルオロ
酢酸、臭化水素酸等を例示できる。水素添加により脱保
護する場合は、例えばパラジウム炭素等の触媒を用いる
ことでより有利に反応は進行する。

（Ｆ法） 一般式（１３）で表わされる化合物に、溶媒中、還元剤
を反応させることにより、一般式（１５）で表わされる
ピペラジン化合物を得ることができる。

溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制限は
なく、例えば（Ｄ法）で例示した溶媒を使用することが
できる。還元剤としては、例えば水素化リチウムアルミ
ニウム、アルミニウムハイドライド等を例示することが
できる。

（Ｇ法） 一般式（１５）で表わされる化合物を、（Ｅ法）と同様
に反応させることにより、一般式（１６）て表わされる
ピペラジン化合物を得ることかできる。

上記（Ｄ法）〜（Ｇ法）による原料化合物の具体的製造
例を、後記参考例１〜３に示す。

又、前述の反応により得られた本発明化合物は、これを
例えばエーテル類、低級アルコール、酢酸エチル、ヘキ
サン等の溶媒中、室温程度の温度下に、前記有機酸また
は無機酸と反応させる等の従来公知の方法により、塩の
形態とすることができる。

上記反応工程式（Ｉ）〜（ＩＶ）で得られた各化合物は
、濃縮、濾過、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通
常当分野で用いられる手段により単離、精製される。

実施例 次に参考例及び実施例を示し、本発明を更に詳しく説明
する。

く参考例１〉 １−（２−アミノ−２−フェニルアセチル）−４−デシ
ルピペラジンの合成 Ｎ−ホルミルピペラジン２０ｇ　（０，１８ｍｏｌ）、
１ブロモデカン３７．２ｍｔ　（０，１８ａ＋ｏｌ）及
び炭酸カリウム２５ｇ　（０，１８ｍｏｌ）を、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド２０ｍ１に懸濁させ、８０°Ｃ
で３時間攪拌した。ベンゼン３００ｍ１で抽出し、水洗
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。

残渣をメタノール８０ｍ１に溶解し、濃塩酸２０ｍ１を
加え、３時間加熱還流した。減圧下溶媒を留去し、析出
した結晶をアセトンで洗浄し、Ｎ−デシルピペラジンを
塩酸塩として３５．６ｇ　（収率６６％）得た。

Ｎ−デシルピペラジン２．０ｇ　（７，３５ｍｍｏｌ）
　、Ｎ−１−ブトキシカルボニルフェニルグリシン１．
９ｇ　（７，５６１１１０１０１）　、炭酸水素ナトリ
ウム１．３ｇ（１５，５ｍｍｏｌ）　、及び４−ジメチ
ルアミノピリジンｔ２ｚｍｇ（１，０ｍｍｏｌ）の乾燥
塩化メチレン溶液２０ｍ１に、Ｎ。

Ｎ′−ジシクロへキシルカルボジイミド２．３ｇ（８，
６４ｍ＋＋＋ｏｌ）を加え、室温下に１２時間攪拌した
。

析出品を濾取し、塩化メチレンで洗浄し、母液と洗液と
を減圧下に濃縮した後、残渣をシリカケルカラムクロマ
トグラフィー（クロロホルム：メタノール＝Ｌ５：ｌ）
にて精製し、１−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルフェニ
ルグリシル）−４−デシルピペラジンを２．８ｇ　（収
率８３％）得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）　　δｐｐｍ：０．８７（
３Ｈ，ｍ）、　１．２４〜１．４Ｌ（２５Ｈ，＋ＩＩ）
、　２．１４〜２．３９（６Ｈ，ｍ）、　　３．３０〜
３．６８（４Ｈ，ｍ）、　　５．５５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝
７．１Ｈｚ）。

６．１２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝７．１［（ｚ）、　７．２３
〜７．３３（５Ｈ，ｍ）ＭＳ　：　　４６０（Ｍａｌ＞ １−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルフェニルクリシル）
−４〜デシルビペラシン２．９ｇ　（６，３２ｍｍｏｌ
）を酢酸エチル５ｍｌに溶解し、水冷下４Ｎ塩酸−酢酸
エチル溶液２０ｍ１を加え、１時間攪拌した。析出晶を
濾取し、少量のエーテルで洗浄後、減圧上乾燥し、１−
（２−アミノ−２−フェニルアセチル）４−デシルピペ
ラジンを塩酸塩として２５ｇ（収率９０％）得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６＋Ｄ２０）δｐｐ［ｌＩ
：０．８６（３Ｈ，ｍ）、　１．２７（１２Ｈ，ｍ）、
　１．７６（２ｔ（、ｍ）、　３．１１〜３．５４（１
２Ｈ，＋＋＋）　、　４．７２（ＩＨ，ｍ）　、７．４
０〜７．５７（５Ｈ，耐ＭＳ　：　　３５８（Ｍ−１） く参考例２〉 Ｌ−（２−アミノ−２−フェニルエチル）−４−デシル
ピペラジンの合成 参考例１と同様にして得た１−（Ｎ−ｔ−ブトキシカル
ボニルフェニルグリシル）−４−デシルピペラジン１７
ｇ　（３７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５０ｍ１溶
液を、アルミニウムハイドライドのテトラヒドロフラン
溶液［Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈ
ｅＬＩｌｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙ、　９０．２９２７　
（１９６８）コ１４０ｍ１に水冷下滴下して加え、３時
間攪拌した。この溶液に水酸化カリウム２．１ｇの水７
．６ｍｌ溶液を滝下し、室温下１２時間攪拌した。析出
物を濾取し、テトラヒドロフラン１００ｍ１で洗浄し、
母液と洗液とを合わせ、減圧下濃縮した。残渣を酢酸エ
チル１５０ｍ１に溶解し、０．５Ｎ塩酸８０［０１、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで脱水後、減圧下濃縮した。残
渣を参考例１と同様に処理し、１−（２−アミノ−２−
フェニルエチル）−４−デシルピペラジンを塩酸塩とし
て９．９ｇ　（収率５９％）得た。

１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６＋Ｄ２’　Ｏ）δｐｐｍ
：０．８６（３Ｈ，ｕ＋）、　１．２６（Ｌ２ｔ１．ｍ
）、　１．７０（２Ｈ，ｍ）、　２．９８〜３．８６（
１４Ｈ，ｍ）、　４．７２（１１１，ｍ）、７．４０〜
７．６３（５Ｈ，ｍ）ＭＳ　：　３４４（Ｍ−１） 〈参考例３〉 １−（２−アミノ−２−フェニルエチル）−４［１０−
（２−テトラヒドロピラニルオキシ）デシルコピペラジ
ンの合成 １−ベンジル−４−［ＬＯ−（２−テトラヒドロピラニ
ルオキシ）デシルコピペラジン５８３ｍｇ　（１゜４０
ｍｍｏｌ）をエタノール２０ｍ１に溶解し、１０％バラ
ジラム炭素２００ｍｇを加えて水素雰囲気下、３気圧で
８時間振盪した。触媒を濾去し、洗液を減圧下濃縮し、
Ｎ−［１０−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）デシ
ルコ　ピペラジンを３７５ｍｇ　（収率８２％）得た。

次にＮ−ｔ−ブトキシカルボニルフェニルグリシンとＮ
−［１０−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）デシル
］ピペラジンを用い、参考例１．２と同様の方法で１−
（２−アミノ−２−フェニルエチル）−４−［１０−（
２−テトラヒドロピラニルオキシ）デシル］　ピペラジ
ンを塩酸塩として３８４ｍｇ　（収率７５％）得た。

ｌＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３＋Ｄ２０）δｐｐｍ　：１．
２８〜１．６３（２０Ｈ，ｍ）　、２．１９〜２．６８
（１４Ｈ，＋ｎ）　、　３．２５〜３．８６（５Ｈ，ｍ
）、　４．５６＜ＬＨ，ｍ）、　７．２４〜７．３８（
５Ｈ，ｍ）ＭＳ　：　４４４（Ｍ−１）、　４２８（Ｍ
−１７）〈実施例１〉 １．４−ジメトキシ−２，３，５−トリメチルベンゼン
３６．０ｇ　（０，２ｍｏｌ）の乾燥塩化メチレン溶液
に、水冷下コハク酸モノエチルクロライド３３．６ｇ（
０，２ｍｏｌ）　、塩化アルミニウム４５．３ｇ　（０
，３４ｍｏｌ）を加え、室温下１６時間攪拌した。反応
液に水１００ｍ１を加え、塩化メチレン８００ｍ１で抽
出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した
。残渣をメタノール２００ｍ１に溶解し、水酸化ナトリ
ウム１０．４ｇ　（０，２６ｍｏｌ）の水２０ｍ１溶液
を加え、室温下１０時間攪拌後、減圧下濃縮し、水１５
００ｍｌと塩化メチレン９００ｍ１で分配した。水層を
１Ｎ塩酸で酸性とし、塩化メチレン２０００ｍ１で抽出
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮、乾燥
し、４−（２，５−ジメトキシ−３，４，６−ドリメチ
ルフエニル）−４−オキソ酪酸を収率７４％で得た。

亜鉛粉末３０ｇの水１５ｍ１懸濁液に塩化水銀３ｇ及び
濃塩酸５ｍｌを加え５分間攪拌した。上澄液を除き、水
１５ｍ１で洗浄し、トルエン１５０ｍ１．４−　（２゜
５−ジメトキシ−３，４，６，）リメチルフェニル）−
４−オキソ酪酸１５．４ｇ　（５５，０ｍｍｏｌ）及び
濃塩酸２５ｍ１を加え、２４時間加熱還流した。１Ｎ水
酸化ナトリウムを加えアルカリ性とし、熱ベンゼン１０
１００Ｏで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下濃縮した。残渣をアセトニトリル１２０ｍ１に溶解
し、水６０ｍ１、ピリジン−２，６−ジカルボン酸２７
．６ｇ　（０，１７ｍｏｌ）を加え、この溶液に硝酸第
二セリウムアンモニウムの５０％アセトニトリル水溶液
２００　ｍｌを加え、水冷下２０分間攪拌した。水１０
ｍ１を加え、エーテル５００ｍ１で抽出し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下濃縮後、シリカケルカラム
クロマトグラフィー（クロロホルム：エタノール−２０
：１）で精製し、４−　（２，３，５−）−リフチル−
１，４−ベンゾキノンー６−イル）酪酸を収率９５％で
得た。

４−　（２，３，５−トリメチル−１，４−ベンゾキノ
ン−６−イル）醋酸２３６ｍｇ　（１［０１１１０１）
　、参考例１で得たアミン４５５ｍｇ　（１ｍｍｏｌ）
　、４−シメチルアミノピリンン１２ｍｇ　（０，１ｍ
ｍｏｌ）の乾燥塩化メチレン溶液７ｍｌに、水冷下Ｎ、
Ｎ−−ジンクロヘシクカルホジイミド３０９ｍｇ　（１
，５ｍｍｏりの塩化メチレン溶液３ｍｌを加え、室温下
２４時間攪拌した。析出品を濾取し、塩化メチレンで洗
浄し、母液と洗液とを減圧下濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール−１
５：１）にて精製した。得られたオイル状物質をエーテ
ルに溶解し、マレイン酸く２．１当量）のエーテル溶液
を加え、析出品を濾取した。エーテルでよく洗浄し、下
記第１表に記載の化合物１を６１３ｍｇ　（収率７７％
）得た。

融点１６７〜１６Ｌ５℃ 〈実施例２〜７〉 実施例１と同様にして第１表に示す化合物２〜７を合成
した。尚、第１表の元素分析値において上段が分析値、
下段が理論値を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） ［式中、Ａ及びＡ′は同一もしくは相異なってメチレン
   基又はカルボニル基を、Ｂは−ＮＨ−又は−Ｏ−を、Ｘ
   はヒドロキシ基又は水素原子を、Ｘ′は水素原子又はハ
   ロゲン原子を示す。ｍは０〜２の整数を、ｎは６〜１５
   の整数を示す。Ｑは一般式▲数式、化学式、表等があり
   ます▼（２） （式中、Ｒは低級アルキル基を示す。）で表わされる基
   又は一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（３） （式中、Ｒ′は低級アルキル基又は水素原子を示す。）
   で表わされる基を示す。］で表わされるアルキルピペラ
   ジン誘導体又はその塩。