JPH0447918Y2 - - Google Patents

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JPH0447918Y2
JPH0447918Y2 JP8123888U JP8123888U JPH0447918Y2 JP H0447918 Y2 JPH0447918 Y2 JP H0447918Y2 JP 8123888 U JP8123888 U JP 8123888U JP 8123888 U JP8123888 U JP 8123888U JP H0447918 Y2 JPH0447918 Y2 JP H0447918Y2
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JP
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chamber
inlet
outlet
heating chamber
stirrer
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JP8123888U
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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、排気路の湿度又は気化物の濃度をセ
ンサにより検出して被調理物の調理具合を検知
し、マグネトロンの出力を制御する電子レンジに
関する。
〔従来の技術〕
一般に、排気路にセンサを設けて湿度を検出
し、被調理物の調理具合を検知してマグネトロン
の出力を自動制御するようにした電子レンジの例
として、たとえば実公昭57−12326号公報(F24C
7/08)に記載の調理装置があり、この調理装置
は第3図に示すように構成されている。
即ち、第3図において、1は本体、2は加熱室
3の前面開口部に開閉自在に設けられた扉、4は
扉2に設けられた把手、5はフアンモータであ
り、加熱室3にマイクロ波を供給するマグネトロ
ン6に冷却風を送風し、マグネトロン6を冷却す
る。
さらに、7はマグネトロン6の冷却後の冷却風
の一部を本体1の上部に形設したパンチングより
本体1の外部に導出すると共に、残りを加熱室3
の上部のパンチングより加熱室3に導入するエア
ガイド、8は加熱室3の空気を本体1の外部に排
出する排気用エアガイド、9は本体1の前面上部
に設けられた操作部であり、キー入力部10、図
外の表示部からなり、内部にマイクロコンピユー
タ等からなる制御回路11が設けられている。
12は湿度センサであり、排気用のエアガイド
8の上部に配設され、加熱室3からのエアガイド
8内の相対湿度を検出し、センサ12の検出湿度
が所定値のときに、制御回路11によりマグネト
ロン6の出力が制御される。
ところで、第3図に示す構成では、マグネトロ
ン6の冷却風の一部を、エアガイド7によつて本
体1の外部に直接排気するようにし、加熱室3に
流入する空気の流量を低減し、加熱室3内を通過
する風量を必要最少限度に留めることにより、湿
度センサ12の感度を大幅に向上させている。
しかし、このように加熱室3内を通過する風量
を必要最少限度にすると、スタラ攪拌式電子レン
ジに適用した場合、加熱室3の上部に設けられマ
イクロ波を攪拌する風力駆動式スタラフアンを駆
動するには、十分な風力を得ることができないと
いう不都合が生じる。
そこで、従来第4図に示す構成のスタラ攪拌式
電子レンジが考えられている。
第4図において、13は電子レンジ本体(図示
せず)内の調理室14の上部に導波管15を介し
てマイクロ波を供給するマグネトロンであり、図
示されていないが、プロアモータ、ブロアフアン
からなる冷却手段により、マグネトロン13の冷
却風が送風され、冷却される。
16は誘電損失の小さい樹脂成型板やシリコン
ラミネート板などからなる仕切板であり、図示さ
れていないが、調理室14の周壁に形成された載
置突起などに仕切板16の周辺部が載置され、仕
切板16が調理室14の上部に着脱自在に設けら
れ、調理室14を上側のスタラ室17と下側の加
熱室18に仕切つている。
このとき、前記したように、仕切板16は、周
辺部が前記載置突起に載置され、清掃などのため
に着脱自在になつているめ、仕切板16と調理室
14の周壁との間に間〓19が生じる。
20は加熱室18の右側壁面に形成された第1
の流入口、21は加熱室18の左側壁面に形成さ
れた第1の排出口、22はスタラ室17の右側壁
面に形成された第2の流入口、23はスタラ室1
7の左側壁面に形成された第2の排出口、24は
第1の排出口21の外側に設けられ第1の排出口
21を介して加熱室18と前記本体の外部とを連
通した排気ダクト、25は加熱制御用の湿度セン
サ又はガスセンサからなる検出センサであり、排
気ダクト24内に配設され、第1の排出口21か
ら前記本体の外部への排気路の相対湿度又は排気
中のガス濃度を検出し、センサ25の検出湿度又
は検出濃度が所定値のときに、図外の制御回路に
よりマグネトロン13の出力が制御される。
26は前記冷却手段による冷却後の冷却風を第
1及び第2の流入口20,22に導くガイド、2
7はスタラ室17に設けられ第2の流入口22か
ら第2の排出口23への通風力により回転するス
タラフアン、28は加熱室18の底部に設けられ
たターンテーブル等の載置台29上に載置された
被調理物である。
〔考案が解決しようとする課題〕
ところで、第4図に示す構成の場合、スタラ室
17においてスタラフアン27を回転駆動するの
に十分な通風力を確保することはできるが、第1
の流入口20と第1の排出口21との開口面積、
及び第2の流入口22と第2の排出口23との開
口面積の大小関係の設定が適当でない場合、加熱
室18の空気圧に比べてスタラ室17の空気圧の
方が高くなり、スタラ室17の空気が間〓19を
通つて加熱室18に流入するため、加熱室18に
おける被調理物28から蒸発した水蒸気の濃度や
被調理物28から気化したガス濃度が変動してセ
ンサ25の感度が変動し、マグネトロン13の出
力制御を精度よく行うことができず、被調理物2
8の仕上がりにばらつきが生じるという問題点が
ある。
そこで、本考案は前記の点に留意してなされ、
スタラ室から加熱室への空気の流入を防止し、セ
ンサ感度の変動を防止することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
つぎに、前記目的を達成するための手段を、実
施例に対応する第1図及び第2図を用いて説明す
る。
即ち、本考案は、電子レンジ本体内の調理室1
4にマイクロ波を供給するマグネトロン13と、 前記マグネトロン13に冷却風を送風するブロ
アモータ30、ブロアフアン31からなる冷却手
段32と、 前記調理室14の上部に着脱自在に設けられ前
記調理室14を上側のスタラ室17と下側の加熱
室18に仕切り、周壁との間に間〓19を有する
仕切板16と、 前記加熱室18の壁面に形成された第1の流入
口20及び該流入口20より開口面積の小なる第
1の排出口21と、 前記スタラ室17の壁面に形成された第2の流
入口22及び該流入口22より開口面積の大なる
第2の排出口23と、 前記第1の排出口20から前記本体の外部への
排気ダクト24による排気路に配設された加熱制
御用の湿度センサ又はガスセンサとからなる検出
センサ25と、 前記冷却手段32による冷却後の冷却風を前記
第1及び第2の流入口20,22に導くガイド2
6と、 前記スタラ室17に設けられ前記第2の流入口
22から前記第2の排出口23への通風力により
回転するスタラフアン27と を備えたことを特徴としている。
〔作用〕
従つて、本考案によると、第1の排出口21の
開口面積が第1の流入口20の開口面積より小さ
く、第2の排出口23の開口面積が第2の流入口
22の開口面積より大きいため、加熱室18の空
気圧に比べてスタラ室17の空気圧が低くなり、
仕切板16と周壁との間〓19を通つてスタラ室
17から加熱室18に空気が流入することはな
く、加熱室18の水蒸気濃度やガス濃度が変動す
ることが防止され、センサ25の感度の変動が防
止される。
〔実施例〕
つぎに、本考案を、その1実施例を示した第1
図及び第2図と共にに詳細に説明する。
第1図において、第4図と同一記号は同一もし
くは相当するものを示し、第4図と異なる点は、
第1の排出口21の開口面積を第1の流入口20
の開口面積より小さくし、第2の排出口23の開
口面積を第2の流入口22の開口面積より大きく
した点である。
また、第2図において、30はマグネトロン1
3の後方に配設されたブロアモータ、31はブロ
アフアンであり、ブロアモータ30の回転軸に軸
着され、ブロアモータ30及びブロアフアン31
により冷却手段32が構成されている。
従つて、前記実施例によると、第1の排出口2
1の開口面積を第1の流入口20の開口面積より
小さくし、第2の排出口23の開口面積を第2の
流入口22の開口面積より大きくしたため、加熱
室18の空気圧に比べてスタラ室17の空気圧が
低くなり、仕切板16と周壁との間〓19を通つ
てスタラ室17から加熱室18に空気が流入する
ことはなく、加熱室18の水蒸気濃度やガス濃度
が変動することを防止でき、センサ25の感度の
変動を防止することができ、センサ25による検
出湿度又は検出ガス濃度に基づくマグネトロン1
3の出力制御を精度よく行うことが可能となり、
従来のような被調理物28の仕上がりのばらつき
をなくすことができる。
〔本案の効果〕
本考案は、以上説明したように構成されている
ので、以下に記載する効果を奏する。
スタラ室の空気圧を加熱室の空気圧よりも低く
することができ、仕切板と周壁との間〓を通つて
スタラ室から加熱室に空気が流入することを阻止
でき、従来のような加熱室の水蒸気濃度やガス濃
度の変動による湿度センサ、ガスセンサのセンサ
感度の変動を防止でき、センサによる検出濃度又
はガス濃度に基づくマグネトロンの出力制御を精
度よく行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本考案の電子レンジの1実
施例の一部切断正面図及び一部切断右側面図、第
3図及び第4図はそれぞれ異なる従来例の一部切
断右側面図及び一部切断正面図である。 13……マグネトロン、14……調理室、16
……仕切板、17……スタラ室、18……加熱
室、19……間〓、20……第1の流入口、21
……第1の排出口、22……第2の流入口、23
……第2の排出口、25……センサ、26……ガ
イド、27……スタラフアン、32……冷却手
段。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 電子レンジ本体内の調理室にマイクロ波を供給
    するマグネトロンと、 前記マグネトロンに冷却風を送風する冷却手段
    と、 前記調理室の上部に着脱自在に設けられ前記調
    理室を上側のスタラ室と下側の加熱室に仕切り、
    周壁との間に間〓を有する仕切板と、 前記加熱室の壁面に形成された第1の流入口及
    び該流入口より開口面積の小なる第1の排出口
    と、 前記スタラ室の壁面に形成された第2の流入口
    及び該流入口より開口面積の大なる第2の排出口
    と、 前記第1の排出口から前記本体の外部への排気
    路に配設された加熱制御用の湿度センサ又はガス
    センサと、 前記冷却手段による冷却後の冷却風を前記第1
    及び第2の流入口に導くガイドと、 前記スタラ室に設けられ前記第2の流入口から
    前記第2の排出口への通風力により回転するスタ
    ラフアンと を備えた電子レンジ。
JP8123888U 1988-06-20 1988-06-20 Expired JPH0447918Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP8123888U JPH0447918Y2 (ja) 1988-06-20 1988-06-20

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JP8123888U JPH0447918Y2 (ja) 1988-06-20 1988-06-20

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JPH023695U JPH023695U (ja) 1990-01-11
JPH0447918Y2 true JPH0447918Y2 (ja) 1992-11-11

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