JPH0445996B2 - - Google Patents
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- JPH0445996B2 JPH0445996B2 JP61183566A JP18356686A JPH0445996B2 JP H0445996 B2 JPH0445996 B2 JP H0445996B2 JP 61183566 A JP61183566 A JP 61183566A JP 18356686 A JP18356686 A JP 18356686A JP H0445996 B2 JPH0445996 B2 JP H0445996B2
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 4
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 7
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0085—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
- H05K3/0088—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor for treatment of holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/02—Details related to mechanical or acoustic processing, e.g. drilling, punching, cutting, using ultrasound
- H05K2203/0285—Using ultrasound, e.g. for cleaning, soldering or wet treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0736—Methods for applying liquids, e.g. spraying
- H05K2203/0746—Local treatment using a fluid jet, e.g. for removing or cleaning material; Providing mechanical pressure using a fluid jet
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
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- Y10S239/00—Fluid sprinkling, spraying, and diffusing
- Y10S239/19—Nozzle materials
-
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- Y10S239/00—Fluid sprinkling, spraying, and diffusing
- Y10S239/22—Safety air nozzles
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、水平に案内される導体板の孔を処理
液で処理することによつて導体板を製造する方法
及び装置に関する。
液で処理することによつて導体板を製造する方法
及び装置に関する。
従来の技術
孔によつて両面を相互に結合する、すなわち絶
縁面内で活性化および金属化により、つまり所謂
スルーホールメツキ法により両面を相互に結合す
るプリント配線用導体板は、その動作能力に関し
てその都度の不純物が精密に除去されうるかどう
かに著しく依存している。
縁面内で活性化および金属化により、つまり所謂
スルーホールメツキ法により両面を相互に結合す
るプリント配線用導体板は、その動作能力に関し
てその都度の不純物が精密に除去されうるかどう
かに著しく依存している。
このようなスルーホールの洗浄方法および装置
はすでに公知である(西独国特許第2606984号)。
しかし同方法および装置は長い処理時間を伴う比
較的低い流通速度を有しており、これは改善を要
する。
はすでに公知である(西独国特許第2606984号)。
しかし同方法および装置は長い処理時間を伴う比
較的低い流通速度を有しており、これは改善を要
する。
発明が解決しようとする問題点
本発明の課題は、導体板の孔を短い処理時間で
高い流通速度をもつて精密に洗浄しかつ処理する
ことによつて導体板を製造する方法および装置を
提供することである。
高い流通速度をもつて精密に洗浄しかつ処理する
ことによつて導体板を製造する方法および装置を
提供することである。
問題点を解決するための手段
前記課題は、
(a) 導体板の孔を洗浄するため液状洗浄剤、又は
(b) 同孔を活性化するための貴金属溶液、又は
(c) 同孔を化学的に金属化するため浴溶液を定常
波の形で使用し、この際導体板8を水平に案内
し、導体板の輸送路の下部にありかつ同路に対
して直角に配置された、前記処理液の送出に使
用されるノズル5によつて形成される処理区間
を介して進行させることによつて導体板を製造
する方法において、前記ノズルがスリツトされ
ているか、パンチされているか、又は対称的あ
るいは非対称的に開口されている穿孔面の形で
存在することを特徴とする導体板の製造の方法
によつて解決される。
波の形で使用し、この際導体板8を水平に案内
し、導体板の輸送路の下部にありかつ同路に対
して直角に配置された、前記処理液の送出に使
用されるノズル5によつて形成される処理区間
を介して進行させることによつて導体板を製造
する方法において、前記ノズルがスリツトされ
ているか、パンチされているか、又は対称的あ
るいは非対称的に開口されている穿孔面の形で
存在することを特徴とする導体板の製造の方法
によつて解決される。
導体板は好ましくはノズルの上部1mmの距離に
配置される。
配置される。
本発明による前記方法を実施するための装置
は、ノズルが、有孔マスクによつてノズル内室の
上部から分離されている、流入口を有する控室か
ら形成されるノズルケーシングの上部に配置され
ていることを特徴としておりかつスリツトされて
いるか、パンチされているか又は対称的もしくは
非対称的に開口されている穿孔面の形で存在す
る。好ましくはノズルケーシングの上部はノズル
に向つて傾斜する面を有する。ノズルケーシング
の内部の、好ましくはその上部には超音波発振器
が配置されている。
は、ノズルが、有孔マスクによつてノズル内室の
上部から分離されている、流入口を有する控室か
ら形成されるノズルケーシングの上部に配置され
ていることを特徴としておりかつスリツトされて
いるか、パンチされているか又は対称的もしくは
非対称的に開口されている穿孔面の形で存在す
る。好ましくはノズルケーシングの上部はノズル
に向つて傾斜する面を有する。ノズルケーシング
の内部の、好ましくはその上部には超音波発振器
が配置されている。
また好ましくはその下部に陽極が固定されてい
てもよい。
てもよい。
また本発明による装置は、導体板の上部および
下部でずらして配置されている2個のノズル装置
を有していてもよい。
下部でずらして配置されている2個のノズル装置
を有していてもよい。
本発明による方法は、従来達成されなかつたよ
うにして、極めて短い処理時間で導体板の孔を内
壁を完全に洗浄することができる。
うにして、極めて短い処理時間で導体板の孔を内
壁を完全に洗浄することができる。
また該方法は、常用の活性化−および金属化溶
液を用いるこれらの孔の活性化および化学的金属
化、場合によつて電気的金属化にも適している。
液を用いるこれらの孔の活性化および化学的金属
化、場合によつて電気的金属化にも適している。
0.15mmまでの微小孔径さえ安全に状態調整さ
れ、活性化されかつ/または化学的にされうるこ
とは、極めて有利である。
れ、活性化されかつ/または化学的にされうるこ
とは、極めて有利である。
また他の利点は、金属化、例えば銅メツキが付
着する水泡がなくなるために極めて改善されるこ
と、大部分の工程段階が加熱することなく実施さ
れうることおよび取付け金属化(Geste−
llenmetallisierung)が省かれることである。
着する水泡がなくなるために極めて改善されるこ
と、大部分の工程段階が加熱することなく実施さ
れうることおよび取付け金属化(Geste−
llenmetallisierung)が省かれることである。
液上洗浄剤としては、例えば水、硫酸のような
酸、または塩基を使用することができる。活性化
のためには、例えばパラジウム塩溶液のような貴
金属溶液を基剤とする活性化用に常用される活性
化溶液を使用することができる。
酸、または塩基を使用することができる。活性化
のためには、例えばパラジウム塩溶液のような貴
金属溶液を基剤とする活性化用に常用される活性
化溶液を使用することができる。
化学的および場合によつては電気的金属化のた
めにも同様に金属化用に常用される浴溶液を使用
することができる。
めにも同様に金属化用に常用される浴溶液を使用
することができる。
実施例
本発明の実施例を図面により詳述する。図中の
番号および記号は次のものを表わす: 1……ノズルケーシング、2……控室、3……
有孔マスク、4…ノズル内室、5……ノズル、6
……陽極、7……ノズルケーシング1と導体板8
との間の空間、8……導体板、9……超音波発振
器、10……流入口、11……すり接点、12…
…処理溶液、13……ポンプ、14……容器、1
5……ガイドローラ; A……導体板下部の装置、 A+B……超音波発振器9を有する装置、 A+C……垂直にまたはずらして対向的に配置さ
れた2個の装置、 A+B+C……超音波発振器9を有する対向的に
配置された2個の装置、 A+D……電解(D)(陽極+陰極)を伴う装置、 A+C+D……電解(D)を伴う対向的に配置さ
れた2個の装置、 動作時の作業過程は大体において次のように進
行する:数個の流入口10から、例えば水のよう
な処理溶液が控室2に導入される。ノズル内室4
は、ノズル5への流動をそれによつて分配する有
孔マスク3によつて分割されている。スリツトノ
ズル前のノズル内室は、ノズル5を通過した後の
溶液の噴出(Schwall)を均一にするための貯留
室として役立つ。ノズルケーシング1と導体板8
との空間7には、溶液を長い流動領域を越えても
孔中を強制通過させる過剰圧力が生じる。導体板
の化学的処理の場合には、下部ノズルのみを用い
て作業が行われる。超音波を用いる洗浄方法およ
び電気化学方法の場合には、導体板の上部および
下部でそれぞれずらして配置されている2個のノ
ズルを用いて作業される。これらの場合にはノズ
ル内ないしは導体板上に超音波発振器9が取付け
られている。電解の場合には陽極6が内室に固定
されている。導体板8の負の分極は、ノズルの前
後の湿潤領域の外に配置されているすり接点11
を介して行われる。
番号および記号は次のものを表わす: 1……ノズルケーシング、2……控室、3……
有孔マスク、4…ノズル内室、5……ノズル、6
……陽極、7……ノズルケーシング1と導体板8
との間の空間、8……導体板、9……超音波発振
器、10……流入口、11……すり接点、12…
…処理溶液、13……ポンプ、14……容器、1
5……ガイドローラ; A……導体板下部の装置、 A+B……超音波発振器9を有する装置、 A+C……垂直にまたはずらして対向的に配置さ
れた2個の装置、 A+B+C……超音波発振器9を有する対向的に
配置された2個の装置、 A+D……電解(D)(陽極+陰極)を伴う装置、 A+C+D……電解(D)を伴う対向的に配置さ
れた2個の装置、 動作時の作業過程は大体において次のように進
行する:数個の流入口10から、例えば水のよう
な処理溶液が控室2に導入される。ノズル内室4
は、ノズル5への流動をそれによつて分配する有
孔マスク3によつて分割されている。スリツトノ
ズル前のノズル内室は、ノズル5を通過した後の
溶液の噴出(Schwall)を均一にするための貯留
室として役立つ。ノズルケーシング1と導体板8
との空間7には、溶液を長い流動領域を越えても
孔中を強制通過させる過剰圧力が生じる。導体板
の化学的処理の場合には、下部ノズルのみを用い
て作業が行われる。超音波を用いる洗浄方法およ
び電気化学方法の場合には、導体板の上部および
下部でそれぞれずらして配置されている2個のノ
ズルを用いて作業される。これらの場合にはノズ
ル内ないしは導体板上に超音波発振器9が取付け
られている。電解の場合には陽極6が内室に固定
されている。導体板8の負の分極は、ノズルの前
後の湿潤領域の外に配置されているすり接点11
を介して行われる。
本発明による方法は、特に電子工学で使用され
るプリント配線用導体板の処理用に好適である。
るプリント配線用導体板の処理用に好適である。
第1図は本発明による装置の横断面図、第2図
は同装置の斜視図、第3図は本発明による方法段
階を説明するための略示断面図、第4a図は有孔
マスクの平面図、第4b図はその側断面図であ
る: 1……ノズルケーシング、2……控室、3……
有孔マスク、4…ノズル内室、5……ノズル、6
……陽極、8……導体板、9……超音波発振器、
10……流入口、12……処理溶液、13……ポ
ンプ。
は同装置の斜視図、第3図は本発明による方法段
階を説明するための略示断面図、第4a図は有孔
マスクの平面図、第4b図はその側断面図であ
る: 1……ノズルケーシング、2……控室、3……
有孔マスク、4…ノズル内室、5……ノズル、6
……陽極、8……導体板、9……超音波発振器、
10……流入口、12……処理溶液、13……ポ
ンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a) 導体板の孔を洗浄するための液状洗浄
剤、又は (b) 同孔を活性化するための貴金属溶液、又は (c) 同孔を化学的に金属化するため浴溶液を定常
波の形で使用し、この際導体板8を水平に案内
し、導体板の輸送路の下部にありかつ同路に対
して直角に配置された、前記処理液の送出に使
用されるノズル5によつて形成される処理区間
を介して進行させることによつて導体板を製造
する方法において、前記ノズルがスリツトされ
ているか、パンチされているか、又は対称的あ
るいは非対称的に開口されている穿孔面の形で
存在することを特徴とする導体板の製造方法。 2 導体板が、ノズルの上部1mmの距離に配置さ
れる特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 導体板8を定速で水平に案内するための輸送
装置、輸送路の下部にあつて、輸送装置に対して
直角に配置されたノズル5及び処理溶液12を導
体板の下側のノズルから送出するためのポンプ1
3を有しかつ (a) 導体板の孔を洗浄するための液状洗浄剤、又
は (b) 同孔を活性化するための貴金属溶液、又は (c) 同孔を化学的に金属化するための浴溶液を定
常波の形で使用して導体板を製造する装置にお
いて、ノズル5が、有孔マスク3によつてノズ
ル内室4の上部から分離されている、流入口1
0を備えた控室2を有するノズルケーシング1
の上部に配置されておりかつスリツトされてい
るか、パンチされているか又は対称的もしくは
非対称的に開口されている穿孔面の形で存在す
ることを特徴とする導体板製造装置。 4 ノズルケーシング1の上部がノズルに向つて
傾斜する面を有する特許請求の範囲第3項記載の
装置。 5 ノズルケーシング1の内部に、好ましくはそ
の上部に超音波発振器9が配置されている特許請
求の範囲第3項記載の装置。 6 導体板の上部及び下部でずらして配置されて
いる2個のノズル装置を有する特許請求の範囲第
3項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3528575.3 | 1985-08-06 | ||
DE19853528575 DE3528575A1 (de) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | Verfahren und einrichtung zur reinigung, aktivierung und/oder metallisierung von bohrloechern in horizontal gefuehrten leiterplatten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6297396A JPS6297396A (ja) | 1987-05-06 |
JPH0445996B2 true JPH0445996B2 (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=6278093
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61183566A Granted JPS6297396A (ja) | 1985-08-06 | 1986-08-06 | 導体板の製造方法及び装置 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4789405A (ja) |
EP (1) | EP0212253B2 (ja) |
JP (1) | JPS6297396A (ja) |
KR (1) | KR930010062B1 (ja) |
CN (1) | CN1016483B (ja) |
AT (1) | AT397011B (ja) |
BG (1) | BG49390A3 (ja) |
CA (1) | CA1276528C (ja) |
CZ (1) | CZ278956B6 (ja) |
DE (2) | DE3528575A1 (ja) |
SK (1) | SK278074B6 (ja) |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3638630A1 (de) * | 1986-11-11 | 1988-05-26 | Schering Ag | Verfahren zur entfernung von harzverschmutzungen in bohrloechern von leiterplatten |
DE8703114U1 (ja) * | 1987-02-25 | 1987-04-09 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4709 Bergkamen, De | |
DE3879929D1 (de) * | 1988-02-25 | 1993-05-06 | Schmid Gmbh & Co Geb | Vorrichtung zur behandlung von elektrischen leiterplatten. |
DE3821980A1 (de) * | 1988-06-29 | 1990-01-11 | Schering Ag | Vorrichtung und verfahren zur reinigung und behandlung von horizontal bewegten leiterplatten |
DE3916694A1 (de) * | 1989-05-23 | 1990-11-29 | Schering Ag | Anordnung zur chemischen behandlung und/oder reinigung von gut, insbesondere von mit bohrungen versehenen leiterplatten, sowie dazugehoeriges verfahren |
DE3916693A1 (de) * | 1989-05-23 | 1990-11-29 | Schering Ag | Anordnung zur behandlung und/oder reinigung von gut, insbesondere von mit bohrungen versehenen leiterplatten |
DE3932779A1 (de) * | 1989-09-30 | 1991-04-11 | Schering Ag | Verfahren zum behandeln von gegenstaenden mit einer fluessigkeit, sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE3935831A1 (de) * | 1989-10-27 | 1991-05-02 | Hoellmueller Maschbau H | Anlage zur herstellung von durchkontaktierten leiterplatten und multilayern |
DE4040119A1 (de) * | 1990-12-13 | 1992-06-17 | Schering Ag | Verfahren zum durchfluten von bohrungen in plattenfoermigen werkstuecken, insbesondere leiterplatten, und vorrichtung hierfuer |
IT1252381B (it) * | 1991-11-12 | 1995-06-12 | Occleppo Di Francesco Occleppo | Dispositivo per la formazione d'una pellicola sulle pareti dei forellini nelle piastre per circuiti stampati |
US5289639A (en) * | 1992-07-10 | 1994-03-01 | International Business Machines Corp. | Fluid treatment apparatus and method |
IT1256443B (it) * | 1992-11-23 | 1995-12-05 | Impianto galvanico a celle elettrolitiche contrapposte con alimentazione in continuo delle superfici da trattare | |
US5378307A (en) * | 1993-04-28 | 1995-01-03 | International Business Machines Corporation | Fluid treatment apparatus |
DE4402596C2 (de) * | 1994-01-28 | 1997-03-27 | Atotech Deutschland Gmbh | Elektrolytisches Verfahren in horizontalen Durchlaufanlagen und Vorrichtung zur Durchführung desselben |
JPH10512101A (ja) * | 1995-01-05 | 1998-11-17 | ヒューベル エゴン | 超微細孔を有したプレート形状の加工材料の処理のための方法と装置 |
US5720813A (en) | 1995-06-07 | 1998-02-24 | Eamon P. McDonald | Thin sheet handling system |
DE19524523A1 (de) * | 1995-07-05 | 1997-01-09 | Atotech Deutschland Gmbh | Anwendung eines Verfahrens und einer Vorrichtung zum Behandeln von Fluiden in der Leiterplattentechnik |
US5741361A (en) * | 1995-07-06 | 1998-04-21 | Allan H. McKinnon | Method for fluid transport |
US5614264A (en) * | 1995-08-11 | 1997-03-25 | Atotech Usa, Inc. | Fluid delivery apparatus and method |
US5904773A (en) | 1995-08-11 | 1999-05-18 | Atotech Usa, Inc. | Fluid delivery apparatus |
DE19530989C1 (de) * | 1995-08-23 | 1997-03-13 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum Filmstrippen |
DE19534521C1 (de) * | 1995-09-06 | 1996-11-21 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von sich in Werkstücke erstreckende Löcher oder Vertiefungen mit flüssigen Behandlungsmitteln und Anwendung des Verfahrens zur Behandlung von Leiterplatten |
JP3005898B2 (ja) * | 1998-04-30 | 2000-02-07 | 東京化工機株式会社 | 液体噴射装置 |
US6336976B1 (en) * | 1999-01-04 | 2002-01-08 | Kabushiki Kaisha Sankyo Seiki Seisakusho | Hole processing apparatus and method thereof and dynamic pressure bearings cleaning method |
JP3120073B2 (ja) * | 1999-02-22 | 2000-12-25 | 東京化工機株式会社 | 薬液処理装置 |
DE10015349A1 (de) | 2000-03-23 | 2001-10-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von durchgehende Löcher und/oder Vertiefungen aufweisenden Schaltungsträgern sowie Anwendung des Verfahrens und Verwendung der Vorrichtung |
DE10110823A1 (de) * | 2001-03-07 | 2002-10-02 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zum Abtragen von Materialablagerungen, die bei einer Laserbearbeitung entstehen |
DE10255884B4 (de) | 2002-11-29 | 2006-05-11 | Atotech Deutschland Gmbh | Düsenanordnung |
DE10323658A1 (de) * | 2003-05-15 | 2004-12-02 | Gebr. Schmid Gmbh & Co. | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrats |
DE102004002421A1 (de) * | 2004-01-16 | 2005-08-18 | Atotech Deutschland Gmbh | Düsenanordnung |
US9206514B2 (en) | 2007-01-11 | 2015-12-08 | Peter Philip Andrew Lymn | Liquid treatment apparatus |
CN102950127A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-03-06 | 大连太平洋电子有限公司 | 一种线路板钻孔刀具的清洗方法 |
JP6160147B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2017-07-12 | Tdk株式会社 | 電子部品モジュールの製造方法、無電解メッキ方法及び無電解メッキ装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5858292A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-06 | Electroplating Eng Of Japan Co | 微小孔を有するメツキ物のメツキ装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3868272A (en) * | 1973-03-05 | 1975-02-25 | Electrovert Mfg Co Ltd | Cleaning of printed circuit boards by solid and coherent jets of cleaning liquid |
FR2301307A1 (fr) * | 1975-02-24 | 1976-09-17 | Applic Meca Pour Ind Labo | Installation pour le traitement de produits par passage dans un liquide |
DE2606984C3 (de) * | 1976-02-20 | 1978-08-24 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum chemischen Reinigen von Kontaktierungslöchern in Leiterplatten |
US4131483A (en) * | 1976-05-28 | 1978-12-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Methods for cleaning articles with upward flowing liquids |
US4076222A (en) * | 1976-07-19 | 1978-02-28 | Schaming Edward J | Runout cooling method and apparatus for metal rolling mills |
US4132567A (en) * | 1977-10-13 | 1979-01-02 | Fsi Corporation | Apparatus for and method of cleaning and removing static charges from substrates |
JPS5621147A (en) * | 1979-07-27 | 1981-02-27 | Xerox Corp | Sheet collector and sorter |
DE3006045A1 (de) * | 1980-02-18 | 1981-08-20 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren und vorrichtung zur behandlung, insbesondere reinigung, von flachen objekten |
DE3011061C2 (de) * | 1980-03-21 | 1983-12-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur Intensivierung von Spül- und Reinigungsprozessen für Perforationen in Formstücken in Spül- und Reinigungsautomaten |
DE3305564C1 (de) * | 1983-02-15 | 1984-03-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum Aufbau von metallisierten Leiterbahnen und Durchkontaktierungen an gelochten Leiterplatten |
SE440719B (sv) * | 1983-06-17 | 1985-08-12 | Holmstrands Plaatindustri Ab | Sett och anordning vid rengoring av kretskort, som tidigare underkastats en lodningsoperation med flussmedel |
US4543130A (en) * | 1984-08-28 | 1985-09-24 | Rca Corporation | Megasonic cleaning apparatus and method |
-
1985
- 1985-08-06 DE DE19853528575 patent/DE3528575A1/de not_active Ceased
-
1986
- 1986-07-16 EP EP86109731A patent/EP0212253B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-07-16 DE DE8686109731T patent/DE3669256D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-08-01 BG BG76053A patent/BG49390A3/xx unknown
- 1986-08-04 US US06/893,563 patent/US4789405A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-08-04 AT AT0209586A patent/AT397011B/de not_active IP Right Cessation
- 1986-08-05 CN CN86105385A patent/CN1016483B/zh not_active Expired
- 1986-08-06 KR KR1019860006487A patent/KR930010062B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-08-06 CA CA000515424A patent/CA1276528C/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-08-06 CZ CS865884A patent/CZ278956B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1986-08-06 SK SK5884-86A patent/SK278074B6/sk unknown
- 1986-08-06 JP JP61183566A patent/JPS6297396A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5858292A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-06 | Electroplating Eng Of Japan Co | 微小孔を有するメツキ物のメツキ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0212253B2 (de) | 1998-11-11 |
CN86105385A (zh) | 1987-04-01 |
ATA209586A (de) | 1993-05-15 |
SK278074B6 (en) | 1995-12-06 |
DE3669256D1 (de) | 1990-04-05 |
CA1276528C (en) | 1990-11-20 |
KR870002752A (ko) | 1987-04-06 |
EP0212253B1 (de) | 1990-02-28 |
KR930010062B1 (ko) | 1993-10-14 |
EP0212253A2 (de) | 1987-03-04 |
JPS6297396A (ja) | 1987-05-06 |
US4789405A (en) | 1988-12-06 |
DE3528575A1 (de) | 1987-02-19 |
AT397011B (de) | 1994-01-25 |
CN1016483B (zh) | 1992-04-29 |
CZ278956B6 (en) | 1994-10-19 |
BG49390A3 (en) | 1991-10-15 |
EP0212253A3 (en) | 1987-08-12 |
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