JP6160147B2 - 電子部品モジュールの製造方法、無電解メッキ方法及び無電解メッキ装置 - Google Patents
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Description
20 モジュール基板
20a 集合基板
21 モジュール基板の主面
21a 集合基板の主面
22 モジュール基板の裏面
22a 集合基板の裏面
23 モジュール基板の側面
24 ランドパターン
25 外部端子
31〜33 電子部品
40 モールド樹脂
40a モールド樹脂の表面
41 第1の表面
42 第2の表面
43 キャビティ
44 ワックス層
45 ガラスフィラー
46 低密度層
50 電磁波シールド
60 マスキングテープ
70x,70y スリット
80 気泡
100 無電解メッキ装置
110 トレイ
112 穴(排出機構)
120 プール
130 循環機構
132 ポンプ
132b バイパス経路
132i 吸引経路
132o 排出経路
134 バルブ機構
140 固定治具
140x,140y 固定治具の側面
142 固定治具の主面
144 突起部
146 貫通孔
150 シャワーヘッド
152 処理室
152x,152y 処理室の側面
154 挿入口
156 配管
158 ノズル
M メッキ液
XC スリットの交差部分
Claims (9)
- 集合基板の主面に電子部品を搭載する工程と、
前記電子部品を覆うよう前記集合基板の前記主面にモールド樹脂を形成する工程と、
前記集合基板の裏面にマスキングテープを貼り付けた状態で、前記モールド樹脂及び前記集合基板を前記主面側からダイシングすることにより、複数の電子部品モジュールに分割する工程と、
前記複数の電子部品モジュールの裏面に前記マスキングテープが貼り付けられたたまま状態で、前記電子部品モジュールの上面及び前記ダイシングによって露出した前記複数の電子部品モジュールの側面に無電解メッキを施す工程と、を備え、
前記無電解メッキを施す工程は、前記複数の電子部品モジュールをメッキ液に浸漬した状態で、前記複数の電子部品モジュールの前記側面を内壁とするスリットに前記メッキ液を噴射することにより行うことを特徴とする電子部品モジュールの製造方法。 - 前記ダイシングする工程は、前記モールド樹脂及び前記集合基板を第1の方向に切断することにより前記第1の方向に延在する第1のスリットを形成する工程と、前記モールド樹脂及び前記集合基板を前記第1の方向と交差する第2の方向に切断することにより前記第2の方向に延在する第2のスリットを形成する工程とを含み、
前記無電解メッキを施す工程は、前記第1及び第2のスリットが交差する部分に前記メッキ液を噴射することにより行うことを特徴とする請求項1に記載の電子部品モジュールの製造方法。 - 前記ダイシングを行う前に前記モールド樹脂の表面を粗面化する工程をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子部品モジュールの製造方法。
- 前記モールド樹脂にはガラスフィラーが含まれており、前記粗面化する工程は、前記モールド樹脂の表面に露出する前記ガラスフィラーを除去する工程を含むことを特徴とする請求項3に記載の電子部品モジュールの製造方法。
- 前記粗面化する工程は、前記ガラスフィラーを除去する前に、前記モールド樹脂の前記表面を研削する工程をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の電子部品モジュールの製造方法。
- 主面及び前記主面に形成されたスリットを有する被処理物をメッキ液に浸漬する工程と、
前記被処理物を前記メッキ液に浸漬した状態で、前記スリット内に前記メッキ液を噴射する工程と、を備えることを特徴とする無電解メッキ方法。 - 前記スリットは、第1の方向に延在する第1のスリットと、前記第1の方向と交差する第2の方向に延在する第2のスリットとを含み、
前記メッキ液を噴射する工程は、前記第1及び第2のスリットが交差する部分に前記メッキ液を噴射することにより行うことを特徴とする請求項6に記載の無電解メッキ方法。 - メッキ液を貯留するトレイと、
主面及び前記主面に形成されたスリットを有する被処理物を、前記トレイに貯留されたメッキ液に浸漬した状態で固定する固定治具と、
前記固定治具によって固定された前記被処理物の前記スリット内に、前記メッキ液を噴射するノズルと、
前記トレイから排出される前記メッキ液を貯留するプールと、
前記プール内の前記メッキ液を汲み上げ、前記ノズルを介して前記トレイに供給する循環機構と、を備え、
前記トレイには前記メッキ液を排出する排出機構が設けられており、前記循環機構による前記メッキ液の供給が停止されると、前記排出機構による前記メッキ液の排出により、前記トレイ内における前記メッキ液の水位は前記被処理物を浸漬可能な水位未満となることを特徴とする無電解メッキ装置。 - 前記排出機構は前記トレイの底部に設けられた穴であり、前記トレイは前記プールの上部に配置されていることを特徴とする請求項8に記載の無電解メッキ装置。
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