JPH0442230A - 感光剤塗布装置 - Google Patents
感光剤塗布装置Info
- Publication number
- JPH0442230A JPH0442230A JP15029590A JP15029590A JPH0442230A JP H0442230 A JPH0442230 A JP H0442230A JP 15029590 A JP15029590 A JP 15029590A JP 15029590 A JP15029590 A JP 15029590A JP H0442230 A JPH0442230 A JP H0442230A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- photosensitive agent
- rotary
- peripheral edge
- rotating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔）既要〕
ボススキャナー装置等のホロウィンドの製造装置に関し
、製品の品質向上と製造工数の削減を目的とし、 感光剤を塗布する試料を積載して回転する回転試料台を
具えた感光剤塗布装置において、該回転試料台の周縁部
に上記試料の裏面周縁部と非接触状態となる感光剤の回
込みを防止用段差を設けたことを特徴とする。
、製品の品質向上と製造工数の削減を目的とし、 感光剤を塗布する試料を積載して回転する回転試料台を
具えた感光剤塗布装置において、該回転試料台の周縁部
に上記試料の裏面周縁部と非接触状態となる感光剤の回
込みを防止用段差を設けたことを特徴とする。
本発明は感光剤を塗布する塗布装置に係わり、特にボス
スキャナー装置等のホロウィンドの感光処理工程にて使
用される製造装置の改良に関する。
スキャナー装置等のホロウィンドの感光処理工程にて使
用される製造装置の改良に関する。
Ｐ ＯＳ （Ｐｏｉｎｔ ＯＦ ５ａｌｅｓ）端末の普
及に伴って、バーコード読取り装置の量産化、低価格化
が要求されている。そのためバーコード読取り装置で使
用するホロウィンドの歩留まり向上が必要である。
及に伴って、バーコード読取り装置の量産化、低価格化
が要求されている。そのためバーコード読取り装置で使
用するホロウィンドの歩留まり向上が必要である。
バーコード読取り装置のホロウィンドを製造するにあた
って、試料に感光剤を塗布した後にレーザー光線を照射
して露光している。感光剤には高揮発性、高粘土の液体
を用いている。塗布剤を試料表面に均一に塗布する必要
があるため回転式の塗布装置を使用している。回転式塗
布装置は試料の変形を防くため試料をそれと同等または
それよりも大きな回転試料台に載せて固定している。試
料の表面上中心部に感光剤を落とし装置を回転させる。
って、試料に感光剤を塗布した後にレーザー光線を照射
して露光している。感光剤には高揮発性、高粘土の液体
を用いている。塗布剤を試料表面に均一に塗布する必要
があるため回転式の塗布装置を使用している。回転式塗
布装置は試料の変形を防くため試料をそれと同等または
それよりも大きな回転試料台に載せて固定している。試
料の表面上中心部に感光剤を落とし装置を回転させる。
そして回転による遠心力にて感光剤を拡散さゼ試料表面
上部全部に均一に塗布する。
上部全部に均一に塗布する。
上記の回転式の塗布装置では、感光剤が遠心力にて試料
の表面全部に拡散し均一に塗布されるが、しかし試料の
表面上に余った感光剤は遠心力にて周囲に飛散するもの
と試料の裏面に回り込むものとがある。試料の裏面に回
込むものは方形の試料の周囲端面の裏面と試料台との接
触面に毛細管現象の原理にて浸透し付着する。また遠心
力にて周囲に飛散した感光剤が図示しない密閉容器の内
側にぶつかり反射して再度、試料の裏面に付着するもの
もある。そしてこのように裏面に付着した感光剤はボロ
ウィンドとしての光学的機能の妨げとなるので取除かな
くてはならず、従来その作業に多くの工数を要していた
。
の表面全部に拡散し均一に塗布されるが、しかし試料の
表面上に余った感光剤は遠心力にて周囲に飛散するもの
と試料の裏面に回り込むものとがある。試料の裏面に回
込むものは方形の試料の周囲端面の裏面と試料台との接
触面に毛細管現象の原理にて浸透し付着する。また遠心
力にて周囲に飛散した感光剤が図示しない密閉容器の内
側にぶつかり反射して再度、試料の裏面に付着するもの
もある。そしてこのように裏面に付着した感光剤はボロ
ウィンドとしての光学的機能の妨げとなるので取除かな
くてはならず、従来その作業に多くの工数を要していた
。
従って本発明は試料裏面への感光剤の不要な付着を防止
するようにした回転式塗布装置の提供を目的とするもの
である。
するようにした回転式塗布装置の提供を目的とするもの
である。
〔問題点を解決するだめの手段〕
上述の目的を達成するため、本発明では感光剤を塗布す
る試料１を積載して回転する回転試料台１０を具えた感
光剤塗布装置において、該回転試料台１０の周縁部に上
記試料１の裏面周縁部と非接触状態となる感光剤の回込
みを防止用段差１３を設けたことを特徴とする感光剤塗
布装置が提案される。
る試料１を積載して回転する回転試料台１０を具えた感
光剤塗布装置において、該回転試料台１０の周縁部に上
記試料１の裏面周縁部と非接触状態となる感光剤の回込
みを防止用段差１３を設けたことを特徴とする感光剤塗
布装置が提案される。
以上述べたように、本発明による塗布装置では回転試料
台の端部に回込み防止用段差を設けたことにより試料と
回転試料台との間隙の毛細管現象の発生を防止した。そ
してこの結果、感光剤が試料裏面に付着するのを防止す
ることができる。
台の端部に回込み防止用段差を設けたことにより試料と
回転試料台との間隙の毛細管現象の発生を防止した。そ
してこの結果、感光剤が試料裏面に付着するのを防止す
ることができる。
〔実施例］
以下、本発明に係る塗布装置の実施例につき説明する。
第１図は本発明に係る塗布装置の構成図である。
１は試料、１０は回転試料台、１１は真空ポンプ、１２
はモータ、１３は回込み防止用段差、１４は傾斜部、１
５は吸引溝、１６は接続口をしめす。
はモータ、１３は回込み防止用段差、１４は傾斜部、１
５は吸引溝、１６は接続口をしめす。
図示しない密閉容器の容器内部に本発明の回転式塗布装
置を内蔵している。そして塗布装置は方形の試料１を載
せる方形の回転試料台１０と、試料１を回転試料台１０
に吸着する真空ポンプ１１と、回転試料台１０を回転さ
せるモータ１２等から構成されている。
置を内蔵している。そして塗布装置は方形の試料１を載
せる方形の回転試料台１０と、試料１を回転試料台１０
に吸着する真空ポンプ１１と、回転試料台１０を回転さ
せるモータ１２等から構成されている。
第２図の回転試料台上面の説明図に示すように、回転試
料台１０の平坦面上には真空吸着のための吸引溝１５が
中心の接続口１６につながって、十字状及び包囲状に設
けられている。接続口１６は回転軸の中を通して真空ポ
ンプ１１に接続されている。そして試料ｌを回転試料台
１０の上に置き、接続口１６に接続した真空ポンプ１１
にてエアを抜き取り試料１を回転試料台１０に吸着する
。
料台１０の平坦面上には真空吸着のための吸引溝１５が
中心の接続口１６につながって、十字状及び包囲状に設
けられている。接続口１６は回転軸の中を通して真空ポ
ンプ１１に接続されている。そして試料ｌを回転試料台
１０の上に置き、接続口１６に接続した真空ポンプ１１
にてエアを抜き取り試料１を回転試料台１０に吸着する
。
−古本発明の特徴として第３図に第１図のＡ部詳細図を
示すように方形の回転試料台１の四辺周縁部に回込み防
止用段差１３が深さＬは大略０．４ｍｍから０．６髄程
度、幅Ｗは５胴から６ｍｍ程度の切欠きとして形成され
ている。
示すように方形の回転試料台１の四辺周縁部に回込み防
止用段差１３が深さＬは大略０．４ｍｍから０．６髄程
度、幅Ｗは５胴から６ｍｍ程度の切欠きとして形成され
ている。
試料１は例えばガラスを使用する。そして該試料１の上
部中心部に感光剤を所定量だけ注ぎ図示しない密閉容器
の蓋を閉める。そして回転試料台１０と連結したモータ
１２にて回転試料台１０を所定の回転速度で所定時間内
だけ回転させる。感光剤は回転試料台１０の回転よる遠
心力にて試料１の表面を拡散し試料１全面を均一に浸透
し塗布される。塗布する液の膜厚は例えば大略６μ±２
μである。感光剤は試料１の全面に拡散され、そして余
った感光剤は遠心力にて周囲に飛散する。
部中心部に感光剤を所定量だけ注ぎ図示しない密閉容器
の蓋を閉める。そして回転試料台１０と連結したモータ
１２にて回転試料台１０を所定の回転速度で所定時間内
だけ回転させる。感光剤は回転試料台１０の回転よる遠
心力にて試料１の表面を拡散し試料１全面を均一に浸透
し塗布される。塗布する液の膜厚は例えば大略６μ±２
μである。感光剤は試料１の全面に拡散され、そして余
った感光剤は遠心力にて周囲に飛散する。
試料１の裏面周縁部は回込み防止用段差１３によって回
転試料台１０と非接触状態となっているので、従来のよ
うに毛細管現象によって試料の裏面に感光剤が回込むこ
とはない。また遠心力にて周囲に飛散した感光剤も図示
しない密閉容器の内側にぶつかり反射してくるが、回転
試料台１０の周辺壁を傾斜部１４としたことにより、こ
の反射感光剤が試料１の裏面に付着するのも遮蔽するこ
とができる。
転試料台１０と非接触状態となっているので、従来のよ
うに毛細管現象によって試料の裏面に感光剤が回込むこ
とはない。また遠心力にて周囲に飛散した感光剤も図示
しない密閉容器の内側にぶつかり反射してくるが、回転
試料台１０の周辺壁を傾斜部１４としたことにより、こ
の反射感光剤が試料１の裏面に付着するのも遮蔽するこ
とができる。
（発明の効果１
以上説明したように本発明による回転塗布装置の回込み
防止段差および傾斜部を設けることで試料の裏面に必要
でない感光剤が塗布されることはない。このためにホロ
ウィンド品質向上と製造工数の削減になる。
防止段差および傾斜部を設けることで試料の裏面に必要
でない感光剤が塗布されることはない。このためにホロ
ウィンド品質向上と製造工数の削減になる。
０は回転試料台、
１は真空ポンプ、
２はモータ、
３ば回込み防止段差、
４は傾斜部、
５は吸引溝、
６ば接続口、
Ｌは回込み防止用段差の深さ、
Ｗは回込み防止用段差の幅を示す。
第１図は本発明の塗布装置の構成図、
第２図は本発明の実施例を示す回転試料台上面の説明図
、第３図は第１図のＡ部詳細図である。 図において、 ■は試料、
、第３図は第１図のＡ部詳細図である。 図において、 ■は試料、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 感光剤を塗布する試料（１）を積載して回転する回転試
料台（１０）を具えた感光剤塗布装置において、 該回転試料台（１０）の周縁部に上記試料（１）の裏面
周縁部と非接触状態となる感光剤の回込みを防止用段差
（１３）を設けたことを特徴とする感光剤塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15029590A JPH0442230A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 感光剤塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15029590A JPH0442230A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 感光剤塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0442230A true JPH0442230A (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15493877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15029590A Pending JPH0442230A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 感光剤塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0442230A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006343427A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体劣化加速試験方法及び加速試験装置 |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP15029590A patent/JPH0442230A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006343427A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体劣化加速試験方法及び加速試験装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6053675B2 (ja) | スピンコ−テイング方法 | |
| JPH08257469A (ja) | 基板回転装置および基板処理装置 | |
| JPH05169003A (ja) | 塗布装置 | |
| JPH0442230A (ja) | 感光剤塗布装置 | |
| TW434657B (en) | Apparatus and method of applying resist | |
| JPH097918A (ja) | 基板塗布用チャック | |
| JPS584587B2 (ja) | 回転式粘性剤塗布方法およびその装置 | |
| JP3184311B2 (ja) | スピンチャック | |
| JP2793554B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH01159080A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JP3362069B2 (ja) | スピン処理装置 | |
| JPS5888068A (ja) | 薄膜塗布装置 | |
| JPH08107053A (ja) | 成膜除去方法 | |
| JP2735239B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH05123632A (ja) | 液状塗布物質の塗布方法 | |
| JPH0219957Y2 (ja) | ||
| JPS60189934A (ja) | 粘性液の塗布方法 | |
| JPH0385732A (ja) | 回路パターン形成用ガラス基板 | |
| JP2950849B2 (ja) | 塗布方法 | |
| JPH05166720A (ja) | 半導体装置の製造方法及びその製造装置 | |
| JP3501255B2 (ja) | スピンコート法およびスピンコート装置 | |
| JPH0754997Y2 (ja) | フォトレジスト塗布装置 | |
| JPS63111618A (ja) | 基板回転装置 | |
| JPH01191147A (ja) | フォトレジスト塗布装置 | |
| JPH05259051A (ja) | 半導体基板のスピンコーティング装置 |