JPH0441518A

JPH0441518A - 光硬化性樹脂組成物

Info

Publication number: JPH0441518A
Application number: JP2148635A
Authority: JP
Inventors: Kensho Oshima; 憲昭大島; Yosuke Takahashi; 洋介高橋; Yasuhiko Shida; 志田　康彦
Original assignee: Tosoh Corp
Current assignee: Tosoh Corp
Priority date: 1990-06-08
Filing date: 1990-06-08
Publication date: 1992-02-12
Anticipated expiration: 2014-10-06
Also published as: JP2959050B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、光デイスク基板表面改質用の光硬化性樹脂組
成物に関し、詳しくは、デジタルオーディオディスク、
光ディスクあるいは光磁気ディスクなどの光学ディスク
ル板表面の耐擦傷性を高めかつ、ゴミ、ホコリなどの付
着か少ない低表面抵抗の表面保護コート用光硬化性樹脂
組成物に関するものである。

［従来の技術］記録層あるいは光反射層からなる光記録層に情報を記録
および再生したり、情報記録層に形成された情報を再生
するデジタルオーディオディスクや光ディスク、光磁気
ディスクの基板として、ポリカーボネート、ポリメチル
メタクリレート、アモルファスポリオレフィンなどの合
成樹脂基板か用いられている。

これらの樹脂は、光学的に均質で透明性が高く、成形性
、機械的強度等に優れた特徴を有しているが、表面硬度
が低く、基板表面にキズ等かつきゃすく、これによりデ
ィスクに記録された情報の読取り感度が低下したりエラ
ーが発生しやすくなるという欠点を有する。

また、合成樹脂基板は、使用時に帯電しやすく、ゴミや
ホコリなどを表面に吸着しやすいため、やはり信号の読
取り感度が低下したり、エラーが発生するなどの欠点を
有する。

この様な問題点を解決するために、合成樹脂基板上に光
あるいは熱により硬化する樹脂組成物をデイピングまた
はスピナー法により塗布し、硬化させることにより基板
を保護する表面保護コート剤が開発されている。

しかしながら、基板の保護を目的とする従来の保護コー
トでは基板の帯電性は解決されず、帯電によるゴミやホ
コリの基板への付着による読取り感度の低下、エラーの
発生などが未解決の問題となっている。

基板の帯電性を防ぐ方法として、保護コート剤の中に、
帯電防止剤をブレンドする方法も考えられるが、この方
法では、ディスクの表面に帯電防止剤がブリードするた
め、デジタルオーディオディスク、光ディスク、光磁気
ディスクなどの光学ディスクには適用できない。

以上のように、現在に至るまで良好な帯電防止能を有し
、かつブリードを起こさない光硬化性樹脂組成物は見出
だされていない。

［発明が解決しようとする課題］本発明者らは、上記状況に鑑み、光ディスクのゴミ、ホ
コリの付着を防止する良好な帯電防止能を有し、かつブ
リードを起こさない光硬化性樹脂組成物と、これを保護
コート剤として用いた光記録媒体およびその製造方法に
関するものである。

［課題を解決するための手段］本発明者らは、上記の課題を解決すべく、鋭意検討を行
った。その結果、特定の構造を有し、かつアクリルおよ
び／またはメタクリル基を有する重合体を含有する光硬
化性樹脂組成物が光学ディスク基板表面の保護コート剤
として有効であり、基板表面の耐擦傷性を高め、低表面
抵抗値を示し、かつブリードの発生がないという特徴を
有することを見出だし、本発明に到達した。

すなわち本発明は、下記−最大（１）％式％（ただし、Ｒ＋　、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれＨあるいはＣ
Ｈ３、ｎは１〜１４の整数、Ｘは０〜０．９９．ｙは０
，０１〜１の正数）で表される化合物を含む、デジタルオーディオディスク
、光ディスクあるいは光磁気ディスクなどの光学ディス
クの保護コート剤として、基板表面の耐擦傷性に優れ、
低表面抵抗値を示し、かつブリード性のない光硬化性樹
脂組成物を提供するものである。

本発明における一般式（１）で表される重合体ハ、ホリ
エチレングリコールモノアクリルｌｌｘステルまたは／
およびメタクリル酸エステルの重合体とアクリル酸ハラ
イドまたは／およびメタクリル酸ハライドとの反応、あ
るいはアクリル酸または／およびメタクリル酸との反応
から得られる。

本発明における、アクリル酸ハライドまたは／およびメ
タクリル酸ハライドとの反応率、あるいはアクリル酸ま
たは／およびメタクリル酸との反応率は、１９６から１
００９６の任意の正数であるか、５％〜１００％か好ま
しい。

反応率が１％以下では、光による反応性か低下するため
、必要とされる物性が発現しない。

本発明における光硬化性樹脂組成物は上記の重合体単独
でもよいし、その他に光により硬化する多官能アクリル
または／およびメタクリル酸エステルあるいは架橋性オ
リゴマーを含む混合物でもよく、その混合比は、光硬化
後の物性を低下しない範囲で任意である。得られる組成
物の粘度等を考慮すると取り扱いのよさから混合物とし
た方が好ましい。

本発明における多官能アクリルまたは／およびメタクリ
ル酸エステルは、２官能あるいは３官能以上のアクリル
または／およびメタクリル酸（以下“（メタ）アクリル
酸”という）エステルであるが、架橋効率の点から３官
能以上の（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。

本発明で用いる３官能以上の（メタ）アクリル酸エステ
ルの代表的なものとして、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ　（
メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキ
サイド変性ペンタエリスリトールトリ　（メタ）アクリ
レート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレ
ンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシア
ヌール酸エチレンオキサイド・ε−カプロラクトン変性
トリ（メタ）アクリレート、ヘキサメチレンジイソシア
ネートとグリセリン付加物のジアクリレート・シメタク
リレト等を挙げることができる。

また、本発明で用いる２官能の（メタ）アクリル酸エス
テルの代表的なものとして、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノ
ールＡ（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイド
変性（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（
メタ）アクリル酸安息香酸エステル、３−（メタ）アク
リロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート、
ジブロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等を挙
げることができる。

本発明で用いる多官能性（メタ）アクリル酸エステルは
少なくとも１５重量％以上使用するのが好ましい。

１５重量％より少ない場合、紫外線により硬化した膜の
架橋度が不足し、接着強度などの初期物性の低下のみな
らず湿熱雰囲気下における接着力の低下が著しく実用的
でない。

この多官能性（メタ）アクリル酸エステルは、１種類で
も良いし２種類以上を併用しても良い。

本発明で用いる架橋性オリゴマーの代表的なものとして
次のものを例示することかできる。

ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエテル（メタ
）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレ−！・
、エポキシ（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）ア
クリレート等である。

これらの具体例として、さらに次のものを挙げることか
できる。

ポリブチレンアジペートジアクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジアクリレート、（ポリエステルグリコー
ルとイソシアネートからなる）ポリウレタンジアクリレ
ート、スピログリコールウレタン／アクリレート、ビス
フェノールＡ型エポキンアクリレート、ビスフェノール
Ｆ型エポキシアクリレート、フェノールノボラック型エ
ポキンアクリレート、タレゾールノボラック型エポキシ
メタクリレート、ポリジメチルシロキサンジメタクリレ
ート等である。

これらのアクリレート類は実用性に富む架橋性オリゴマ
ーとして有用であるか、これら以外に不飽和ポリエステ
ルや側鎖に活性基を有するポリアミド、ポリウレタン、
ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、
ポリフェニレンオキサイド等の樹脂をアクリル酸エステ
ル変性したものも十分に使用できる。

本発明で用いる架橋性オリゴマーの分子口はかなり広い
範囲に亘って使用することかできるか、好ましくは、２
００〜５００００である。

本発明の架橋性オリゴマーは少なくとも１５重量％以上
用いることが望ましい。

この架橋性オリゴマーは、１種類でも良いし２種類以上
を併用しても良い。

本発明の光硬化性樹脂組成物は光開始剤を含有している
が、その光開始剤としては、例えばベンジルジメチルケ
タール等のケタール類、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−１−プロピルエ
ーテル α−メチルベンゾイン等のベンゾイン類、９。

１０−アントラキノン、１−クロルアントラキノン、２
−クロルアントラキノジ、２−エチルアントラキノン等
のアントラキノン類、ベンゾフェノン、ｐ−クロルベン
ゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフェノン、ｐ、
ｐ　−テトラメチルジアミノベンゾフェノン、ｐ、ｐ−
−テトラエチルジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェ
ノン類、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン
、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン等のア
セトフェノン類、ジベンゾスベロン等のスベロン類、ジ
フェニルスルフィド、チオキサントン、２−メチル−１
−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフィリッ
プロバノン−１等の含硫黄化合物類、メチレンブルー、
エオシン、フルオレセイン等の色素類等が挙げられ、単
独にまたは２種類以上併用して使用される。

本発明においては、この光開始剤の配合比は、樹脂組成
物全体に対して０．１〜２０重量％であり、好ましくは
０．５〜２０重量％である。

本発明の樹脂組成物は、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反
応を防止するために、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル、ｔ−ブチルカテコール、ｐ−ベンゾキノン、２．５
−ｔ−ブチルハイドロキノン、フェノチアジン等の公知
の熱重合防止剤を添加するのが望ましい。

さらに本発明の樹脂組成物は、硬化体の物性を劣化させ
ない範囲で上記添加物の他に消泡剤、レベリング剤等の
各種添加剤を添加しても良い。

上記のような樹脂組成物を硬化させてなる有機保護層は
光学ディスク基板上に設けられるが、この様な保護層を
光学ディスク基板上に設けるには以下のようにすれば良
い。

すなわち、まず刷毛塗り法、スプレー法、浸漬法、バー
コード法、ロールコータ−法、スピンコーター法等の塗
膜方法を用いて基板上に上記の樹脂組成物を塗布して、
塗膜を設け、この塗膜を硬化させれば良い。

塗布厚みは、０．５〜５００μｍ好ましくは１〜５０μ
ｍである。

塗膜の硬化方法は、紫外線等の光を任意の条件で照射す
ることにより得られる。

この際樹脂組成物の硬化性を向上させるために窒素、ア
ルゴン等の不活性気体雰囲気下で硬化させても同等問題
はない。

上記の光学ディスク基板の材質およびその構成等は同等
限定されるものではない。

［発明の効果］このようにして得られた本発明の光硬化性樹脂組成物を
所定条件で光硬化させたものは、基板表面の耐擦傷性を
高め、低表面抵抗値を示し、かつブリードの発生がない
という特徴を持ち、デジタルオーディオディスク、光デ
ィスク、光磁気ディスクなどの光学ディスク基板の表面
の保護コート剤として極めて優れたものである。

［実施例〕以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。

なお、実施例において得られる諸物性は下記の試験法に
より測定した。

（１）加速耐久性：温度８０℃、湿度８０％ＲＨ試験　
　　　の環境に２０００時間放置した。

（２）硬度　　　：　Ｊ　Ｉ　Ｓ−に−６９１１に従い
鉛箪硬度試験装置にて測定（３）顕微鏡観察：偏光顕微鏡を用いて観察を行った。

表面のブリードか認められたものを×、認められなかったものをＯとした。

（４）表面抵抗　：表面抵抗測定装置を用い、２３℃、
５０９ＯＲＨの条件で表面抵抗を測定した。

実施例１１０００−セパラブルフラスコにノナエチレングリコー
ルモノメタクリレート９６．４ｇ、　テトラヒドロフラ
ン４００ｄ、　　アゾイソブチロニトリル０．３２ｇを
加え、脱気後、アルゴン置換し、５５℃で攪拌下５時間
反応させた。反応終了後、ヘキサン２０００−の中に反
応溶液を投入して、生成物を得、その後テトラヒドロフ
ラン５００ｒＲ１に再度溶解し、ヘキサン２０００−に
投入し生成物を精製し、回収した。得られた重合体を真
空下、４０℃にて乾燥したところ、収量は７４ｇであっ
た。

得られた重合体は、赤外吸収スペクトル、１Ｈおよび”
Ｃ−ＮＭＲスペクトルからノナエチレングリコールモノ
メタクリレートがラジカル重合したオリゴマ一体である
ことが確認された。

実施例２アルゴン雰囲気下で５００−セパラブルフラスコに実施
例１で得られた重合体４８．５ｇをテトラヒドロフラン
２００−に溶解させ、アクリル酸クロライド４．５ｇを
０℃で添加し、その後、室温で２時間攪拌下、反応した
。

反応終了後、水５０ｍ１を添加、濾過し、反応物をヘキ
サン１０１００Ｏ！に投入し生成物を回収した。

生成物を真空下４０℃にて乾燥したところ、収量は４２
ｇであった。

生成物は、赤外吸収スペクトル、１Ｈおよび”Ｃ−ＮＭ
Ｒスペクトルからアクリル化か４５％進行していること
が明らかとなった。

実施例３アクリル酸クロライド９．１ｇを添加した以外は、実施
例２と同様に反応を行った。

反応終了後、水５０ｒｎ１を添加、濾過し、反応物をヘ
キサン１０１００Ｏに投入し生成物を回収した。

生成物を真空下４０℃にて乾燥したところ、収量は４５
ｇであった。

生成物は、赤外吸収スペクトル、１Ｈおよび１３ｃｍＮ
ＭＲスペクトルからアクリル化が９５９０進行している
ことが明らかとなった。

実施例４実施例２で得られた重合体５０％、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート３０％、１，６−ヘキサンジオール
ジアクリレート２０％を配合し、全量１００ｇに調整し
、これに対し、５％の１ヒドロキシシクロへキシルフェ
ニルケトンを添加して、光重合性樹脂組成物を構成した
。

この樹脂組成物を５．２５インチのポリカーボネート製
光磁気ディスク上に３０００　ｒ　ｐｍで５秒間スピン
コードし、塗膜を形成した。

ついて、このディスクを出力１２０Ｗの高圧水銀灯を用
いて１０秒間紫外線露光した。このときの紫外線量は、
波長３６５ｎｍの積算照度として８７０　ｍ　Ｊであっ
た。

このようにして硬化した保護コート層を有するディスク
を用いて加速耐久試験を行い、表面抵抗、ディスク表面
の顕微鏡観察、鉛筆硬度のｅｊ定を行った。結果を表１
に示す。

実施例５実施例３て合成した重合体を用いるほかは、実施例４と
同様に樹脂組成物を配合し、スピンコトを行い、紫外線
露光を行った。

この後、実施例４と同様の試験を行った。結果を表１に
示す。

比較例表面保護コート剤のベースレジンとしてビスフェノール
Ａ−エポキシアクリレート４０％、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート３０％、エチレングリコールジアク
リレート２０％、１．６−ヘキサンジオールジアクリレ
ート１０％を配合し、全１１００ｇに調整し、これに対
し、５９（ｌの１ヒドロキシンクロへキシルフェニルケ
トンを添加して、光重合性樹脂組成物を構成した後、実
施例４と同様にスピンコード、紫外線露光をおこなった
。この後、実施例４と同様の試験を行った。

結果を表１に示す。

表１

Claims

【特許請求の範囲】

（１）下記一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１）（ただし、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３はそれぞれＨあるい
はＣＨ＿３、ｎは１〜１４の整数、ｘは０〜０．９９、
ｙは０．０１〜１の正数）で表される化合物を含有することを特徴とする光硬化性
樹脂組成物。
（２）特許請求の範囲第１項記載の光硬化性樹脂組成物
からなる有機保護層を設けたことを特徴とする光記録媒
体。