JPH0440772B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0440772B2 JPH0440772B2 JP18866782A JP18866782A JPH0440772B2 JP H0440772 B2 JPH0440772 B2 JP H0440772B2 JP 18866782 A JP18866782 A JP 18866782A JP 18866782 A JP18866782 A JP 18866782A JP H0440772 B2 JPH0440772 B2 JP H0440772B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- head
- magnetic permeability
- recording
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Co] Chemical class [Cr].[Co] WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘツドに関し、詳しくは垂直磁化膜
を記録媒体とする垂直磁気記録に用いる磁気ヘツ
ドに関する。
を記録媒体とする垂直磁気記録に用いる磁気ヘツ
ドに関する。
本発明の目的は実用性の高い垂直磁気記録用の
記録再生ヘツドを得ることにある。
記録再生ヘツドを得ることにある。
コバルト−クロム合金垂直磁化膜を記録媒体と
した垂直磁気記録方式は高記録密度が達成できる
方式であると期待されており、研究開発が活発に
進められている。最も高性能なヘツドとして提案
されているヘツドは第１図に示す主磁極−補助磁
極タイプの垂直ヘツドである。このヘツドは軟磁
性薄膜１からなる主磁極と軟磁性体３のまわりに
巻き回されたコイル４からなる補助磁極で構成さ
れている。主磁極−補助磁極タイプのヘツドを使
用すると、主磁極の先端に発生する強い垂直磁界
により良好な垂直磁気記録が可能であり、再生効
率も低くない。しかし実用的な観点からみると、
記録媒体の両側に２つに分れた構成のヘツドは使
えない。その理由として、まず第１に２ブロツク
に分れているためコストの低下が困難であるこ
と、第２に２つのヘツドブロツクの位置調整が必
要なため組立時の調整工数が煩雑であること、第
３にリジツトデイスクメモリー装置に使用できず
使用範囲が限定されること等が挙げられる。従つ
て実用的なヘツドは一体構造でなければならない
と考えられる。従来のリングタイプの磁気ヘツド
は再生効率は高いが、垂直磁界が強くないので基
本的に垂直磁気記録には適さない。
した垂直磁気記録方式は高記録密度が達成できる
方式であると期待されており、研究開発が活発に
進められている。最も高性能なヘツドとして提案
されているヘツドは第１図に示す主磁極−補助磁
極タイプの垂直ヘツドである。このヘツドは軟磁
性薄膜１からなる主磁極と軟磁性体３のまわりに
巻き回されたコイル４からなる補助磁極で構成さ
れている。主磁極−補助磁極タイプのヘツドを使
用すると、主磁極の先端に発生する強い垂直磁界
により良好な垂直磁気記録が可能であり、再生効
率も低くない。しかし実用的な観点からみると、
記録媒体の両側に２つに分れた構成のヘツドは使
えない。その理由として、まず第１に２ブロツク
に分れているためコストの低下が困難であるこ
と、第２に２つのヘツドブロツクの位置調整が必
要なため組立時の調整工数が煩雑であること、第
３にリジツトデイスクメモリー装置に使用できず
使用範囲が限定されること等が挙げられる。従つ
て実用的なヘツドは一体構造でなければならない
と考えられる。従来のリングタイプの磁気ヘツド
は再生効率は高いが、垂直磁界が強くないので基
本的に垂直磁気記録には適さない。
本発明はこのような状況を踏まえ、実用的かつ
高性能な磁気ヘツド、すなわち高性能な垂直磁気
記録用ヘツドを提案するものである。第２図に本
発明の磁気ヘツドの構造の一例を示す。本ヘツド
は薄膜プロセスにより製造されるヘツドであり、
量産性は高い。本ヘツドは記録時には主磁性とし
てコアが働き、再生時にはリングタイプのヘツド
として機能するように構成されている。即ち、記
録コイルにおける記録は、スパイラル状に形成さ
れた薄膜コイル８に電流を流し、高透磁率薄膜(a)
７と、高透磁率薄膜(b)１１，１２を同方向に励磁
し高透磁率薄膜(b)１２の記録媒体に面する側の端
部から発生する磁界によりなされる。その様子を
第３図に示す。第３図中の矢印は磁界あるいは磁
化の方向を示す。ヘツド先端１９に対し、記録媒
体１８は紙面に向つて右の方向に移動しており、
(a)、(b)、(c)の順に記録がなされていく。第３図か
ら分るように高透磁率薄膜７，１２合わせたもの
が主磁極として機能しており、垂直磁界は強い。
この場合の主磁極は厚みが大であるので、コアの
磁気飽和が起きにくく、磁束の逃げが小さい。従
つて、薄膜コイルであるのでコア先端にコイルが
位置していることもあり記録効率は高い。高透磁
率薄膜(b)１１はコアの磁気飽和をより起きにくく
する役割を担つている。一方、再生はギヤツプ部
１３により拾い上げた磁束を多層の薄膜コイル
９，１０を有する再生コイル部によりなされる。
高透磁率薄膜７，１１，１２で閉磁路が形成され
ており、ギヤツプ部が１３であり、閉磁路に巻き
回されたコイルが９，１０となつているリングタ
イプのヘツドとして機能する。薄膜コイル９，１
０は電流を流さないので発熱の問題がないので小
さくまとめることができる。従つてターン数を増
すことも容易であり、さらに磁路長を小さくでき
るので再生感度を高くすることは容易である。ギ
ヤツプ部１３をうすく形成しギヤツプ長を小さく
することにより高密度記録の再生も十分に行なえ
る。次に製造方法の概略を説明する。保護膜６を
形成した基板５上に高透磁率薄膜(a)７を形成後、
薄膜コイル８，９，１０を順次形成する。この段
階で絶縁膜１４，１５，１６，１７を形成してコ
イルの電気絶縁を確保する。次にギヤツプ部１３
を形成する。その後高透磁率薄膜(b)１１，１２を
順次形成する。最後に保護膜１８を形成して薄膜
プロセスは終了する。基板切断、形状加工、先端
研磨を行なつてヘツドは完成する。このヘツドで
記録コイル８をスパイラル状にしたのはコイル面
積を大きくし発熱によるヘツドの温度上昇を防ぐ
ためであり、再生コイルを９，１０と多層のスパ
イラル状に形成したのはコンパクトにまとめ、タ
ーン数を増すためである。
高性能な磁気ヘツド、すなわち高性能な垂直磁気
記録用ヘツドを提案するものである。第２図に本
発明の磁気ヘツドの構造の一例を示す。本ヘツド
は薄膜プロセスにより製造されるヘツドであり、
量産性は高い。本ヘツドは記録時には主磁性とし
てコアが働き、再生時にはリングタイプのヘツド
として機能するように構成されている。即ち、記
録コイルにおける記録は、スパイラル状に形成さ
れた薄膜コイル８に電流を流し、高透磁率薄膜(a)
７と、高透磁率薄膜(b)１１，１２を同方向に励磁
し高透磁率薄膜(b)１２の記録媒体に面する側の端
部から発生する磁界によりなされる。その様子を
第３図に示す。第３図中の矢印は磁界あるいは磁
化の方向を示す。ヘツド先端１９に対し、記録媒
体１８は紙面に向つて右の方向に移動しており、
(a)、(b)、(c)の順に記録がなされていく。第３図か
ら分るように高透磁率薄膜７，１２合わせたもの
が主磁極として機能しており、垂直磁界は強い。
この場合の主磁極は厚みが大であるので、コアの
磁気飽和が起きにくく、磁束の逃げが小さい。従
つて、薄膜コイルであるのでコア先端にコイルが
位置していることもあり記録効率は高い。高透磁
率薄膜(b)１１はコアの磁気飽和をより起きにくく
する役割を担つている。一方、再生はギヤツプ部
１３により拾い上げた磁束を多層の薄膜コイル
９，１０を有する再生コイル部によりなされる。
高透磁率薄膜７，１１，１２で閉磁路が形成され
ており、ギヤツプ部が１３であり、閉磁路に巻き
回されたコイルが９，１０となつているリングタ
イプのヘツドとして機能する。薄膜コイル９，１
０は電流を流さないので発熱の問題がないので小
さくまとめることができる。従つてターン数を増
すことも容易であり、さらに磁路長を小さくでき
るので再生感度を高くすることは容易である。ギ
ヤツプ部１３をうすく形成しギヤツプ長を小さく
することにより高密度記録の再生も十分に行なえ
る。次に製造方法の概略を説明する。保護膜６を
形成した基板５上に高透磁率薄膜(a)７を形成後、
薄膜コイル８，９，１０を順次形成する。この段
階で絶縁膜１４，１５，１６，１７を形成してコ
イルの電気絶縁を確保する。次にギヤツプ部１３
を形成する。その後高透磁率薄膜(b)１１，１２を
順次形成する。最後に保護膜１８を形成して薄膜
プロセスは終了する。基板切断、形状加工、先端
研磨を行なつてヘツドは完成する。このヘツドで
記録コイル８をスパイラル状にしたのはコイル面
積を大きくし発熱によるヘツドの温度上昇を防ぐ
ためであり、再生コイルを９，１０と多層のスパ
イラル状に形成したのはコンパクトにまとめ、タ
ーン数を増すためである。
以上述べたように、本発明の磁気ヘツドは記録
コイル部と再生コイル部とを一体的に構成するこ
とにより、強い垂直磁界を効率良く発生すること
ができるので良質な垂直記録が可能であり、再生
においてもリングタイプのヘツドの高再生効率を
利用しており優れた再生が可能である。このヘツ
ドは薄膜プロセスにより製造されるので量産性も
あり、狭トラツク化にも容易に対応でき、リジツ
トデイスク装置用のヘツドとしても十分対応でき
るので極めて実用性は高く本発明の意義は大きい
ものがある。
コイル部と再生コイル部とを一体的に構成するこ
とにより、強い垂直磁界を効率良く発生すること
ができるので良質な垂直記録が可能であり、再生
においてもリングタイプのヘツドの高再生効率を
利用しており優れた再生が可能である。このヘツ
ドは薄膜プロセスにより製造されるので量産性も
あり、狭トラツク化にも容易に対応でき、リジツ
トデイスク装置用のヘツドとしても十分対応でき
るので極めて実用性は高く本発明の意義は大きい
ものがある。
第１図は主磁極−補助磁極タイプのヘツドの概
略図であり、第２図は本発明による磁気ヘツドの
一例の断面図を示す。第３図は本発明による磁気
ヘツドの記録のプロセスを概略を示す図である。 １，７，１１，１２……高透磁率薄膜、（７…
…高透磁率薄膜(a)、１１，１２……高透磁率薄膜
(b)）、２，１８……記録媒体、３……高透磁率材、
４……コイル、５……非磁性基板、６……保護膜
（非電導性）、８，９，１０……薄膜コイル、１３
……ギヤツプ部（誘電体膜）、１４，１５，１６，
１７……絶縁膜、１８……保護膜。
略図であり、第２図は本発明による磁気ヘツドの
一例の断面図を示す。第３図は本発明による磁気
ヘツドの記録のプロセスを概略を示す図である。 １，７，１１，１２……高透磁率薄膜、（７…
…高透磁率薄膜(a)、１１，１２……高透磁率薄膜
(b)）、２，１８……記録媒体、３……高透磁率材、
４……コイル、５……非磁性基板、６……保護膜
（非電導性）、８，９，１０……薄膜コイル、１３
……ギヤツプ部（誘電体膜）、１４，１５，１６，
１７……絶縁膜、１８……保護膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 非磁性基板上に断続して形成された高透磁率
薄膜(a)と、記録コイル部と、再生コイル部とを有
し、 前記記録コイル部は、前記断続して形成された
高透磁率薄膜(a)間を連結する高透磁率薄膜(b)に巻
かれた薄膜コイルを有し、 前記再生コイル部は、記録媒体側の前記高透磁
率薄膜(a)と前記高透磁率薄膜(b)との接合部をはさ
んで巻かれた薄膜コイルと、前記接合部より記録
媒体側に延長して前記高透磁率薄膜(a)と対向して
ギヤツプ部を形成する高透磁率薄膜(b)とを有する
ことを特徴とする磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18866782A JPS5979412A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18866782A JPS5979412A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5979412A JPS5979412A (ja) | 1984-05-08 |
| JPH0440772B2 true JPH0440772B2 (ja) | 1992-07-06 |
Family
ID=16227740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18866782A Granted JPS5979412A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5979412A (ja) |
-
1982
- 1982-10-27 JP JP18866782A patent/JPS5979412A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5979412A (ja) | 1984-05-08 |
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