JPH01223606A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH01223606A JPH01223606A JP4909988A JP4909988A JPH01223606A JP H01223606 A JPH01223606 A JP H01223606A JP 4909988 A JP4909988 A JP 4909988A JP 4909988 A JP4909988 A JP 4909988A JP H01223606 A JPH01223606 A JP H01223606A
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- magnetic film
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、高密度磁気記録に適した磁気ヘッドに係わ
り、特に高保磁力媒体に記録再生するのに適した性能を
有する磁気ヘッド忙関する。
り、特に高保磁力媒体に記録再生するのに適した性能を
有する磁気ヘッド忙関する。
第４図は例えば特開昭５８−１８２０号公報に示された
従来の高透磁率磁性体よりなる１対の磁気コア半体の一
方に金属磁性膜を形成し、この金属磁性膜側を接合して
磁気ギャップを形成する磁気ヘッド（Ｍｅｔａｌ Ｉｎ
Ｇａｐ Ｈｅａｄｓ ：以下ＭＩＧヘッドと記す）を
示す正面図で、第５図はそのギャップ近傍部を拡大して
示す上面図である。図において、（１）は磁気ギャップ
、（２）は高飽和磁束密度を有する金属磁性膜、（８）
は高透磁率磁性体、（４）は高透磁率磁性体（８）と金
属磁性膜（８）の界面、（ηはコイル巻線溝である。
従来の高透磁率磁性体よりなる１対の磁気コア半体の一
方に金属磁性膜を形成し、この金属磁性膜側を接合して
磁気ギャップを形成する磁気ヘッド（Ｍｅｔａｌ Ｉｎ
Ｇａｐ Ｈｅａｄｓ ：以下ＭＩＧヘッドと記す）を
示す正面図で、第５図はそのギャップ近傍部を拡大して
示す上面図である。図において、（１）は磁気ギャップ
、（２）は高飽和磁束密度を有する金属磁性膜、（８）
は高透磁率磁性体、（４）は高透磁率磁性体（８）と金
属磁性膜（８）の界面、（ηはコイル巻線溝である。
この例では、磁気ギャップ（２）と界面（４）は平行で
あるが、例えば特公昭６２−３７４４６号公報を特徴と
する特開昭５８−１５５５１３号公報。
あるが、例えば特公昭６２−３７４４６号公報を特徴と
する特開昭５８−１５５５１３号公報。
特開昭６０−２４３８１０号公報など磁気ギャップ（２
）と界面（４）が非平行のものが多く提案されている。
）と界面（４）が非平行のものが多く提案されている。
これらのＭＩＧヘッドは、記録時に磁気飽和の起りやす
いギャップ部近傍を高飽和磁束密度を有する例えばセン
ダストやアモルファス磁性合金で構成し、その他の部分
を高透磁率を有する例えばＭｎ −Ｚｎ−フェライトで
構成しており、保磁力比の大きいメタルテープなどにも
記録が可能である。
いギャップ部近傍を高飽和磁束密度を有する例えばセン
ダストやアモルファス磁性合金で構成し、その他の部分
を高透磁率を有する例えばＭｎ −Ｚｎ−フェライトで
構成しており、保磁力比の大きいメタルテープなどにも
記録が可能である。
ただ、従来のＭＩＧヘッドは、コアを構成する高透磁率
磁性体と金属磁性膜の界面に金属磁性膜８のはく離対策
などのために非磁性または比透磁率がほぼ１の材料から
なる下地層を形成したり、また、下地層を形成しない場
合でも、ヘッド製造工程中に界面に非磁性化した層が発
生したりして、その下地層または非磁性化した層が疑似
ギャップとして動作し、再生時に周波数特性にうねりが
現われる、いわゆるコンタ−効果が起こるという問題点
があった。このコンタ−効果は電磁変換に極めて望まし
くない効果である。そのため、アジマス損によりこの効
果を軽減する目的で、前記磁気ギャップと界面が非平行
のものが提案されているのであるが、アジマス損は周波
数依存性があるため、低周波では十分にコンタ−効果を
低減できない、また構造上複雑にならざるを得ないので
、製造が困難である等の問題点があった。
磁性体と金属磁性膜の界面に金属磁性膜８のはく離対策
などのために非磁性または比透磁率がほぼ１の材料から
なる下地層を形成したり、また、下地層を形成しない場
合でも、ヘッド製造工程中に界面に非磁性化した層が発
生したりして、その下地層または非磁性化した層が疑似
ギャップとして動作し、再生時に周波数特性にうねりが
現われる、いわゆるコンタ−効果が起こるという問題点
があった。このコンタ−効果は電磁変換に極めて望まし
くない効果である。そのため、アジマス損によりこの効
果を軽減する目的で、前記磁気ギャップと界面が非平行
のものが提案されているのであるが、アジマス損は周波
数依存性があるため、低周波では十分にコンタ−効果を
低減できない、また構造上複雑にならざるを得ないので
、製造が困難である等の問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためてなさ
れたもので、磁気ギャップと界面が平行でも、はとんど
コンタ−効果が発生しないＭＩＧヘッドを得ることを目
的とする。
れたもので、磁気ギャップと界面が平行でも、はとんど
コンタ−効果が発生しないＭＩＧヘッドを得ることを目
的とする。
この発明の磁気ヘッドは、少くとも一方の磁性体に、こ
れより飽和磁束密度の高い磁性膜が形成される一対の磁
気コア半体を、磁性膜側を接合して磁気ギャップを形成
するもので、上記磁気コア半体の磁性膜の形成面に比透
磁率／膜厚が１００（メ７７！７１ ）以上の下地磁性
膜を形成したものである。
れより飽和磁束密度の高い磁性膜が形成される一対の磁
気コア半体を、磁性膜側を接合して磁気ギャップを形成
するもので、上記磁気コア半体の磁性膜の形成面に比透
磁率／膜厚が１００（メ７７！７１ ）以上の下地磁性
膜を形成したものである。
この発明における下地磁性膜は磁性膜形成時の膜応力を
緩和するとともに、ギャップ溶着など製造プロセス上、
ヘッドが高温にさらされた時に起こる磁性膜と磁性体の
拡散などに起因する非磁性層形成に対する障壁となり非
磁性層形成を防止する。また、この下地磁性膜は比透磁
率／膜厚が１００ （）ｔｍ−’）以上であるので、コ
ンタ−効果を著しく減少させることができる。
緩和するとともに、ギャップ溶着など製造プロセス上、
ヘッドが高温にさらされた時に起こる磁性膜と磁性体の
拡散などに起因する非磁性層形成に対する障壁となり非
磁性層形成を防止する。また、この下地磁性膜は比透磁
率／膜厚が１００ （）ｔｍ−’）以上であるので、コ
ンタ−効果を著しく減少させることができる。
我々は、前述のコンタ−効果について鉛量研究を行った
結果、以下のような結論を得た。第３図は、ギャップ長
０．３μｍの回転磁気ヘッド型のＭＩＧヘッドの高透磁
率磁性体と金属磁性膜の界面層（疑似ギャップ部）が０
．１ 、ｌＩｍ存在する時の、再生出力の周波数特性の
うねりの大きさ及び記録時の発生磁界と疑似ギャップ部
の比透磁率の関係を表わす特性図で、５ＭＨｚの周波数
、相対速度３．１４ｍ／ｓｅａで測定したものである。
結果、以下のような結論を得た。第３図は、ギャップ長
０．３μｍの回転磁気ヘッド型のＭＩＧヘッドの高透磁
率磁性体と金属磁性膜の界面層（疑似ギャップ部）が０
．１ 、ｌＩｍ存在する時の、再生出力の周波数特性の
うねりの大きさ及び記録時の発生磁界と疑似ギャップ部
の比透磁率の関係を表わす特性図で、５ＭＨｚの周波数
、相対速度３．１４ｍ／ｓｅａで測定したものである。
図において、縦軸はうねりの大きさ（ｄＢ）と発生磁界
Ｈｘ（Ｏｅ）を、横軸は疑似ギャップ部の比透磁率を表
わし、特性曲線（Ａ）はうねりの大きさ、特性曲線（Ｂ
）は発生磁界を表わしている。実質的に疑似ギャップと
して動作しないためには、書込みには発生磁界が約１０
００（Ｏｅ）以下、読み込みにはうねりの大きさが約１
ｄＢ以下が望ましい。コンタ−効果を防止するためには
この特性図からは、疑似ギャップ部の比透磁率がｌＯで
、うねりの大きさが約１ｄＢ、比透磁率３０でうねりの
大きさはほぼ零であるので、疑似ギャップ部、即ち界面
層の比透磁率が１０以上が望ましく、３０以上であれば
より望ましいことがわかる。ところが・、この比透磁率
は周波数依存性は殆どないが、疑似ギャップ長依存性が
大きく、はぼギャップ長に比例する。従って界面層は比
が 透磁率／膜厚’１００ （ｆｉｍ−”）以上が望ましく
、３００（μｍ）以上がより望ましいということになる
。
Ｈｘ（Ｏｅ）を、横軸は疑似ギャップ部の比透磁率を表
わし、特性曲線（Ａ）はうねりの大きさ、特性曲線（Ｂ
）は発生磁界を表わしている。実質的に疑似ギャップと
して動作しないためには、書込みには発生磁界が約１０
００（Ｏｅ）以下、読み込みにはうねりの大きさが約１
ｄＢ以下が望ましい。コンタ−効果を防止するためには
この特性図からは、疑似ギャップ部の比透磁率がｌＯで
、うねりの大きさが約１ｄＢ、比透磁率３０でうねりの
大きさはほぼ零であるので、疑似ギャップ部、即ち界面
層の比透磁率が１０以上が望ましく、３０以上であれば
より望ましいことがわかる。ところが・、この比透磁率
は周波数依存性は殆どないが、疑似ギャップ長依存性が
大きく、はぼギャップ長に比例する。従って界面層は比
が 透磁率／膜厚’１００ （ｆｉｍ−”）以上が望ましく
、３００（μｍ）以上がより望ましいということになる
。
この発明は、この結果より導きだされたもので、金属磁
性膜形成時の膜応力の緩和や、ギャップ溶着など製造プ
ロセス上、ヘッドが高温にさらされた時におこる金属磁
性膜と高透磁率磁性体の拡散などに起因する非磁性層形
成に対する障壁として必要な下地層の、比透磁率／膜厚
を１００ｔｒＩＬ）以上にすることにより、よシ望まし
くは３０いｎｒｌ ）以上にすることによりコンタ−効
果を著しく減少させるというものである。
性膜形成時の膜応力の緩和や、ギャップ溶着など製造プ
ロセス上、ヘッドが高温にさらされた時におこる金属磁
性膜と高透磁率磁性体の拡散などに起因する非磁性層形
成に対する障壁として必要な下地層の、比透磁率／膜厚
を１００ｔｒＩＬ）以上にすることにより、よシ望まし
くは３０いｎｒｌ ）以上にすることによりコンタ−効
果を著しく減少させるというものである。
この下地層を形成する材料としてはＦｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−
３ｉなどのＦｅ系合金、Ｃｏ −Ｚｒ−Ｎｂなどの一系
合金などが用いられる。
３ｉなどのＦｅ系合金、Ｃｏ −Ｚｒ−Ｎｂなどの一系
合金などが用いられる。
第１図はこの発明の一実施例の磁気ヘッドを示す斜視図
で、第２図はその磁気ギャップ近傍部を拡大して示す上
面図である。図において、（１）はギャップ長０３μｍ
の磁気ギャップ、（２）は高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜で、この場合は膜厚５Ａ１１のセンダスト膜、（
３）は高透磁率磁性体、この場合は―−かフェライトか
らなる磁気コア材、（５）は比透磁率１０以上の磁性を
有する膜厚０．１）ｌｒ！Ｌの下地磁性膜で、この場合
はＦｅ −Ｓｉ合金でスパッタ法で形成した。
で、第２図はその磁気ギャップ近傍部を拡大して示す上
面図である。図において、（１）はギャップ長０３μｍ
の磁気ギャップ、（２）は高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜で、この場合は膜厚５Ａ１１のセンダスト膜、（
３）は高透磁率磁性体、この場合は―−かフェライトか
らなる磁気コア材、（５）は比透磁率１０以上の磁性を
有する膜厚０．１）ｌｒ！Ｌの下地磁性膜で、この場合
はＦｅ −Ｓｉ合金でスパッタ法で形成した。
このように構成された１、４ Ｉ Ｇヘッドにおいては
、下地磁性膜（６）が金属磁性膜（２）形成時の膜応力
を緩和するとともに、金属磁性膜（２）と高透磁率磁性
体（３）間の拡散などに起因する非磁性層形成に対する
障壁となるので、その間に非磁性層が形成されることは
ない。また、下地磁性膜（６）は比透磁率／膜厚が１０
０（μｒｒＬ−１）以上であるので疑似ギャップとして
動作せず、高透磁率磁性体（８）と金属磁性膜（２）の
界面に実質的には疑似ギャップが存在しないことになる
ので、コンタ−効果が発生しない。従って、磁気ギャッ
プ（１）と上記界面を非平行にしてアジマス損でコンタ
−効果を低減させなくとも簡単な構成でコンタ−効果を
防止できる。
、下地磁性膜（６）が金属磁性膜（２）形成時の膜応力
を緩和するとともに、金属磁性膜（２）と高透磁率磁性
体（３）間の拡散などに起因する非磁性層形成に対する
障壁となるので、その間に非磁性層が形成されることは
ない。また、下地磁性膜（６）は比透磁率／膜厚が１０
０（μｒｒＬ−１）以上であるので疑似ギャップとして
動作せず、高透磁率磁性体（８）と金属磁性膜（２）の
界面に実質的には疑似ギャップが存在しないことになる
ので、コンタ−効果が発生しない。従って、磁気ギャッ
プ（１）と上記界面を非平行にしてアジマス損でコンタ
−効果を低減させなくとも簡単な構成でコンタ−効果を
防止できる。
もつとも、磁気ギャップ（２）と界面が非平行であって
もこの発明の効果がいささかも減することのないのは当
然であり、アジマス損では十分に低減できなかった低周
波におけるコンタ−効果をなくすことができろう なお、下地層の厚みとしては薄い方が良いが、現在の技
術レベルでは０．１ ｐｒｎ程度のものしか実質上得ら
れず、また拡散障壁として作用させるためには、例えば
Ｍの場合０．１ 、ａｍ程度は必要であシ、０．１声ｍ
が最適であると考えられる。
もこの発明の効果がいささかも減することのないのは当
然であり、アジマス損では十分に低減できなかった低周
波におけるコンタ−効果をなくすことができろう なお、下地層の厚みとしては薄い方が良いが、現在の技
術レベルでは０．１ ｐｒｎ程度のものしか実質上得ら
れず、また拡散障壁として作用させるためには、例えば
Ｍの場合０．１ 、ａｍ程度は必要であシ、０．１声ｍ
が最適であると考えられる。
また、上記実施例では、ＶＴＲ’ｐＤＡＴなどの回転磁
気ヘッドのものについて説明したが、フレキシブルディ
スクドライブ（ＦＤＤ ）や固定磁気ディスク（ＦＸＤ
）用のヘッドについてもＭＩＧタイプであれば同様の
効果を奏するっ なお、磁性膜がガーネットのような低飽和磁束密度を有
する酸化物磁性膜のものに適用してもコンタ−効果を生
じるものについては同様の効果を奏する。
気ヘッドのものについて説明したが、フレキシブルディ
スクドライブ（ＦＤＤ ）や固定磁気ディスク（ＦＸＤ
）用のヘッドについてもＭＩＧタイプであれば同様の
効果を奏するっ なお、磁性膜がガーネットのような低飽和磁束密度を有
する酸化物磁性膜のものに適用してもコンタ−効果を生
じるものについては同様の効果を奏する。
以上のように、この発明によれば、少くとも一方の磁性
体に、これより飽和磁束密度の高い磁性膜が形成される
一対の磁気コア半体を、磁性膜側を接合して磁気ギャッ
プを形成するものにおいて、上記磁気コア半体の磁性膜
の形成面に比透磁率／膜厚が１０００１ｃ″）以上の下
地磁性膜を形成することにより、簡単な構成であっても
、殆どコンタ−効果が発生しない磁気ヘッドが得られる
効果がある。
体に、これより飽和磁束密度の高い磁性膜が形成される
一対の磁気コア半体を、磁性膜側を接合して磁気ギャッ
プを形成するものにおいて、上記磁気コア半体の磁性膜
の形成面に比透磁率／膜厚が１０００１ｃ″）以上の下
地磁性膜を形成することにより、簡単な構成であっても
、殆どコンタ−効果が発生しない磁気ヘッドが得られる
効果がある。
第１図はこの発明の一実施例の磁気ヘッドを示す斜視図
、第２図はその要部拡大上面図、第３図はこの発明に係
わる再生出力の周波数特性のうねりの大きさ及び記録時
の発生磁界と疑似ギャップ部との比透磁率との関係を表
わす特性図、第４図は従来の磁気ヘッドを示す正面図、
第５図はその要部拡大上面図である。 図において、（１）Ｆｉ磁気ギャップ、（２）は磁性膜
、（８）は磁性体、（５）は下地磁性膜である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示すＯ 第１図 第２図 第３図 如劇ズ入Ｎツ７゛部の比逮・隘キ 第４図 第６図 、７
、第２図はその要部拡大上面図、第３図はこの発明に係
わる再生出力の周波数特性のうねりの大きさ及び記録時
の発生磁界と疑似ギャップ部との比透磁率との関係を表
わす特性図、第４図は従来の磁気ヘッドを示す正面図、
第５図はその要部拡大上面図である。 図において、（１）Ｆｉ磁気ギャップ、（２）は磁性膜
、（８）は磁性体、（５）は下地磁性膜である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示すＯ 第１図 第２図 第３図 如劇ズ入Ｎツ７゛部の比逮・隘キ 第４図 第６図 、７
Claims (1)
- 少くとも一方の磁性体に、これより飽和磁束密度の高い
磁性膜が形成される一対の磁気コア半体を、磁性膜側を
接合して磁気ギャップを形成するものにおいて、上記磁
気コア半体の磁性膜の形成面に比透磁率／膜厚が１００
（μｍ＾−＾１）以上の下地磁性膜を形成したことを特
徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4909988A JPH01223606A (ja) | 1988-03-01 | 1988-03-01 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4909988A JPH01223606A (ja) | 1988-03-01 | 1988-03-01 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01223606A true JPH01223606A (ja) | 1989-09-06 |
Family
ID=12821649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4909988A Pending JPH01223606A (ja) | 1988-03-01 | 1988-03-01 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01223606A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01298509A (ja) * | 1988-05-25 | 1989-12-01 | Sony Corp | 複合磁気ヘッド |
-
1988
- 1988-03-01 JP JP4909988A patent/JPH01223606A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01298509A (ja) * | 1988-05-25 | 1989-12-01 | Sony Corp | 複合磁気ヘッド |
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