JPH0436282A - カルバペネム誘導体 - Google Patents
カルバペネム誘導体Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D477/00—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring
- C07D477/10—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
- C07D477/12—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached in position 6
- C07D477/16—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached in position 6 with hetero atoms or carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 3
- C07D477/20—Sulfur atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
11上五皿里玉1
本発明は、カルバペネム骨格を有する新規な抗生物質に
関する。
関する。
隨米辺用術
ペニシリンおよびセファロスポリン系の抗生物質は安全
性に優れており感染症治療に広く用いられてきた。しか
し、これらは全ての菌種に有効とはいえず、また、耐性
を獲得した菌株の出現により適用範囲が制限されつつあ
る。この耐性化は、薬剤の細胞透過性を妨げることや、
β−ラクタマーゼを産生して薬剤を不活性化することに
よることが報告されている。
性に優れており感染症治療に広く用いられてきた。しか
し、これらは全ての菌種に有効とはいえず、また、耐性
を獲得した菌株の出現により適用範囲が制限されつつあ
る。この耐性化は、薬剤の細胞透過性を妨げることや、
β−ラクタマーゼを産生して薬剤を不活性化することに
よることが報告されている。
1976年に発見されたカルバペネム骨格を有するチェ
ナマイシンはそれまでの抗生物質に対する耐性菌にも有
効であり、かつ、優れた抗菌活性を示した。
ナマイシンはそれまでの抗生物質に対する耐性菌にも有
効であり、かつ、優れた抗菌活性を示した。
”しよ とする口照点
チェナマイシンおよびその後数多く報告された他のカル
バペネム誘導体は、物理化学的に不安定であることと、
腎臓のデヒドロペプチダーゼ(DHP)等の酵素によっ
て簡単に分解される欠点があり、DHP阻害剤との合剤
として使用せざるを得ない。
バペネム誘導体は、物理化学的に不安定であることと、
腎臓のデヒドロペプチダーゼ(DHP)等の酵素によっ
て簡単に分解される欠点があり、DHP阻害剤との合剤
として使用せざるを得ない。
また、特開昭60−233076号公報にはβ−ラクタ
マーゼ産生菌に安定であり、物理化学的にも安定で強い
抗菌活性を示す1−β−メチルカルバペネム化合物が開
示されている。しかしながら、これらの化合物もなお満
足すべきものではない。
マーゼ産生菌に安定であり、物理化学的にも安定で強い
抗菌活性を示す1−β−メチルカルバペネム化合物が開
示されている。しかしながら、これらの化合物もなお満
足すべきものではない。
本発明者は、さらに優れたカルバペネム誘導体を見比す
べく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成した。
べく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成した。
照点を ゛ るための
〈発明の構成〉
本発明は一歴代I
ン3
(式中、R1は低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキ
ル基または保護されたヒドロキシ低級アルキル基を、C
OOR2はカルボキシル基、カルボキシレートアニオン
または保護されたカルボキシル基を、R3は水素原子ま
たは低級アルキル基を、R4は水素原子または低級アル
キル基を、R5は2から3の窒素原子を含む4から8員
環の飽和環状複素環基を意味する。)表わされる化合物
およびその塩に関する。
ル基または保護されたヒドロキシ低級アルキル基を、C
OOR2はカルボキシル基、カルボキシレートアニオン
または保護されたカルボキシル基を、R3は水素原子ま
たは低級アルキル基を、R4は水素原子または低級アル
キル基を、R5は2から3の窒素原子を含む4から8員
環の飽和環状複素環基を意味する。)表わされる化合物
およびその塩に関する。
本明細書でカルバペネムとは次の骨格を有する化合物を
意味し、本発明はこの骨格に種々の置換基を有するカル
バペネム誘導体に関する。
意味し、本発明はこの骨格に種々の置換基を有するカル
バペネム誘導体に関する。
式■における置換基について説明する。
R1としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、n−ブチル基等の炭素数1〜6個(C,
−C6]のアルキル基が挙げられ、これらはヒドロキシ
ル基を有していてもよい。これらのうちでは1−ヒドロ
キシエチル基、特にl−ヒドロキシエチル基がカルバペ
ネム骨格の6位炭素原子上にS配置となるように結合し
、そのヒドロキシル基がこのエチル基の1位(一般にカ
ルバペネム8位といわれる)にR配置に結合している場
合が好適例として挙げられる。
ソプロピル基、n−ブチル基等の炭素数1〜6個(C,
−C6]のアルキル基が挙げられ、これらはヒドロキシ
ル基を有していてもよい。これらのうちでは1−ヒドロ
キシエチル基、特にl−ヒドロキシエチル基がカルバペ
ネム骨格の6位炭素原子上にS配置となるように結合し
、そのヒドロキシル基がこのエチル基の1位(一般にカ
ルバペネム8位といわれる)にR配置に結合している場
合が好適例として挙げられる。
R2としては水素原子またはメチル、エチル、イソブチ
ル、第三級ブチル等の直鎖状もしくは分岐鎮状C+
C−アルキル基、メトキシメチル、メトキシエチル等の
C,−C,アルコキシC,−C,アルキル基、ピバロイ
ルオキシメチル基等のC,−C,脂肪族アシルオキシメ
チル基およびフタリジル基を挙げることができる。更に
、カルボキシル基の保護基を兼ね、温和な条件で容易に
除去し得るエステル残基として、例えばp−または0−
ニトロベンジル、ベンズヒドリルもしくは2−ナフチル
メチル等のアラルキル基、2,2.2−)リクロロエト
キシ力ルボニル基、アリル基またはトリメチルシリルな
どの01−06アルキルシリル基等が挙げられる。合成
に際し、カルボキシル基の保護基として好適なエステル
残基はp−ニトロベンジル基、アリル基等である。
ル、第三級ブチル等の直鎖状もしくは分岐鎮状C+
C−アルキル基、メトキシメチル、メトキシエチル等の
C,−C,アルコキシC,−C,アルキル基、ピバロイ
ルオキシメチル基等のC,−C,脂肪族アシルオキシメ
チル基およびフタリジル基を挙げることができる。更に
、カルボキシル基の保護基を兼ね、温和な条件で容易に
除去し得るエステル残基として、例えばp−または0−
ニトロベンジル、ベンズヒドリルもしくは2−ナフチル
メチル等のアラルキル基、2,2.2−)リクロロエト
キシ力ルボニル基、アリル基またはトリメチルシリルな
どの01−06アルキルシリル基等が挙げられる。合成
に際し、カルボキシル基の保護基として好適なエステル
残基はp−ニトロベンジル基、アリル基等である。
R2は代謝されつるエステル残基であってもよ(、これ
らの好ましい例としては、ピパロイルオキシメチル基、
フタリジル基、アセトキシカルボニルオキシメチル基が
挙げられる。
らの好ましい例としては、ピパロイルオキシメチル基、
フタリジル基、アセトキシカルボニルオキシメチル基が
挙げられる。
R3としては水素原子またはメチル、エチル、プロピル
などの炭素数1〜4個を有する直鎖状もしくは分岐鎖状
低級アルキル基が挙げられ、特にメチル基が好適である
。この際1位の不斉炭素原子に関する立体配置としては
R配置のものが適当である。
などの炭素数1〜4個を有する直鎖状もしくは分岐鎖状
低級アルキル基が挙げられ、特にメチル基が好適である
。この際1位の不斉炭素原子に関する立体配置としては
R配置のものが適当である。
R4としては水素原子またはメチル、エチル、プロピル
などの炭素数1〜4個を有する直鎖状もしくは分岐鎖状
低級アルキル基がよい。
などの炭素数1〜4個を有する直鎖状もしくは分岐鎖状
低級アルキル基がよい。
R’としては4〜8員環の飽和含窒素複素環で構成され
る置換基がよく、窒素原子の数は2〜3がよい。この様
な置換基の好ましい例としてはイミダゾリジノ基、ピペ
ラジノ基またはホモピペラジノ基を挙げることができる
。
る置換基がよく、窒素原子の数は2〜3がよい。この様
な置換基の好ましい例としてはイミダゾリジノ基、ピペ
ラジノ基またはホモピペラジノ基を挙げることができる
。
なお、本発明の化合物およびその製造中間体のあるもの
は互変異性体の構造をとることも考えられる。本明細書
ではこれらを一種類の構造式で表すが、これは限定を意
味するものではない。
は互変異性体の構造をとることも考えられる。本明細書
ではこれらを一種類の構造式で表すが、これは限定を意
味するものではない。
本発明の化合物は、薬理学的に許容される塩として用い
てよいが、その例としては次のようなものがある。
てよいが、その例としては次のようなものがある。
すなわち、カルボン酸の無毒性塩、例えば、ナトリウム
、カリウム、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩、
アンモニウム塩およびトリエチルアミン、ブロカイン、
ベンジルアミンとの塩ならびにペニシリン類、セファロ
スポリン類の塩形成に用いられる他のアミン類のような
無毒性のアミン類との塩を包含する。特に好適な塩とし
てはナトリウム塩、カリウム塩を挙げることができる。
、カリウム、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩、
アンモニウム塩およびトリエチルアミン、ブロカイン、
ベンジルアミンとの塩ならびにペニシリン類、セファロ
スポリン類の塩形成に用いられる他のアミン類のような
無毒性のアミン類との塩を包含する。特に好適な塩とし
てはナトリウム塩、カリウム塩を挙げることができる。
本発明のカルバペネム誘導体には塩基性基が存在するの
で、医薬として許容される酸付加塩、例えば、塩酸、臭
化水素酸、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン
酸、コハク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等の
有機酸との塩類とすることもできる。特に好適な塩とし
ては、塩酸塩および硫酸塩を挙げることができる。また
、式■の化合物は種々の溶媒和物でもよく、例えば、水
和物として用いてもよい。
で、医薬として許容される酸付加塩、例えば、塩酸、臭
化水素酸、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン
酸、コハク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等の
有機酸との塩類とすることもできる。特に好適な塩とし
ては、塩酸塩および硫酸塩を挙げることができる。また
、式■の化合物は種々の溶媒和物でもよく、例えば、水
和物として用いてもよい。
本発明化合物は、大腸菌、プロテウス、クレブシェラ、
エンテロバクタ−、サルモネラ、セラチア、ストレプト
コッカス、スタフィロコッカス等を始め緑膿菌にも優れ
た抗菌力を示し、各種感染症、例えば、呼吸器感染症、
外傷・熱傷・手術側による二次感染症、化膿性疾患の治
療に有効である。
エンテロバクタ−、サルモネラ、セラチア、ストレプト
コッカス、スタフィロコッカス等を始め緑膿菌にも優れ
た抗菌力を示し、各種感染症、例えば、呼吸器感染症、
外傷・熱傷・手術側による二次感染症、化膿性疾患の治
療に有効である。
本発明の化合物は慣用される製剤用担体、安定化剤、溶
解補助剤、賦形剤を用いて通常の方法で製剤とすること
ができる。投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤等の
経口投与あるいは静注剤、筋注剤、半割などの非経口投
与の如き種々の方法があるが、通常は静脈注射が適当で
ある。投与量は通常成人1日250B〜3.000mg
であり、これを数回に分割投与するが、年令、性別、症
状により適宜増減することができる。
解補助剤、賦形剤を用いて通常の方法で製剤とすること
ができる。投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤等の
経口投与あるいは静注剤、筋注剤、半割などの非経口投
与の如き種々の方法があるが、通常は静脈注射が適当で
ある。投与量は通常成人1日250B〜3.000mg
であり、これを数回に分割投与するが、年令、性別、症
状により適宜増減することができる。
本発明の化合物は、下記の反応式で例示する方法によっ
て製造することができる。
て製造することができる。
公知の方法(Heterocycles (19841
2129D。
2129D。
H,5hih et all およびそれに準する方法
に従い、化合物■(式中、R1、R2およびR3は前記
に同じ)にジフェニルホスホリルクロリドを作用させる
ことにより、活性な中間体■に導くことができる。
に従い、化合物■(式中、R1、R2およびR3は前記
に同じ)にジフェニルホスホリルクロリドを作用させる
ことにより、活性な中間体■に導くことができる。
この反応は、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン等のアルキルアミン類、DBU、N−メチルモル
ホリン等の脂環状アミン類、キヌクリジン、3−キヌク
リジノール等の有機塩基、水酸、化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基
、カリウムt−ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド
等の金属アルコラード類、ナトリウムアミド、水酸化ナ
トリウム等の存在下で行うのが好ましく、ジイソプロピ
ルエチルアミン、DBUが好適である。
アミン等のアルキルアミン類、DBU、N−メチルモル
ホリン等の脂環状アミン類、キヌクリジン、3−キヌク
リジノール等の有機塩基、水酸、化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基
、カリウムt−ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド
等の金属アルコラード類、ナトリウムアミド、水酸化ナ
トリウム等の存在下で行うのが好ましく、ジイソプロピ
ルエチルアミン、DBUが好適である。
また、通常は原料および生成物に悪影響を及ぼさない溶
媒中で反応を行うのが適当であり、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド(DMF)、 ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキサイド(DMSO)、テトラヒドロフラン
(THF)、ジクロルメタン、クロロホルムおよびこれ
らの混合溶媒を例示することができる。
媒中で反応を行うのが適当であり、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド(DMF)、 ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキサイド(DMSO)、テトラヒドロフラン
(THF)、ジクロルメタン、クロロホルムおよびこれ
らの混合溶媒を例示することができる。
反応温度は一50℃乃至室温、特に−40−0℃が好適
である。反応時間は15分から8時間、特に30分から
8時間が好適である。
である。反応時間は15分から8時間、特に30分から
8時間が好適である。
活性な中間体mは、単離してまたは単離せずにチオール
化合物■と置換反応させて化合物工に導くことができる
。
化合物■と置換反応させて化合物工に導くことができる
。
チオール化合物■は塩基と共存させると反応性に冨み、
良好に反応が進行するが、塩基なしでも勿論反応は進行
する。使用可能な塩基としては前段階の反応に例示した
ものでよくジイソプロピルエチルアミン、DBUが好適
である。この塩基はチオール化合物■と当量で使用する
のが好ましいが、チオール化合物が酸付加塩である場合
は、付加されている酸を中和するに必要な量の塩基をさ
らに加えることにより良好な結果を得ることができる。
良好に反応が進行するが、塩基なしでも勿論反応は進行
する。使用可能な塩基としては前段階の反応に例示した
ものでよくジイソプロピルエチルアミン、DBUが好適
である。この塩基はチオール化合物■と当量で使用する
のが好ましいが、チオール化合物が酸付加塩である場合
は、付加されている酸を中和するに必要な量の塩基をさ
らに加えることにより良好な結果を得ることができる。
この反応も、原料および生成物に悪影響を及ぼさない溶
媒中で反応を行うのが一般的であり、前段階の反応に例
示されたものが使用できる。中間体mを単離しない場合
は同じ溶媒で反応を続けるのが好ましい。
媒中で反応を行うのが一般的であり、前段階の反応に例
示されたものが使用できる。中間体mを単離しない場合
は同じ溶媒で反応を続けるのが好ましい。
式■の化合物は式■の化合物に対して1〜3当量、好ま
しくは1〜2当量反応させるのがよい。
しくは1〜2当量反応させるのがよい。
反応温度は一50℃乃至室温、特に−40−0’Cが好
適である。反応時間は30分から一日間、特に1時間か
ら6時間が好適である。
適である。反応時間は30分から一日間、特に1時間か
ら6時間が好適である。
置換生成体は通常の後処理により単離することができ、
必要に応じてシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ
ィに付し、クロロホルム、酢酸エチル、ジクロルメタン
、メタノールあるいはこれらの混合溶媒を用いて精製す
ることができる。
必要に応じてシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ
ィに付し、クロロホルム、酢酸エチル、ジクロルメタン
、メタノールあるいはこれらの混合溶媒を用いて精製す
ることができる。
上述の置換反応成績体に保護基がある場合には所望によ
り保護基を脱離させることができる。脱離法としては、
水素添加による還元的分解、化学的還元、酸、塩基また
は酵素を用いた加水分解による方法等が挙げられる。
り保護基を脱離させることができる。脱離法としては、
水素添加による還元的分解、化学的還元、酸、塩基また
は酵素を用いた加水分解による方法等が挙げられる。
一般式Iの化合物において、置換基R2がエステル残基
、例えば、p−ニトロベンジル基、ベンジル基、ベンズ
ヒドリル基もしくは2−ナフチルメチル基である場合に
は、パラジウム担持炭素、酸化白金、その他の公知の金
属触媒を用いて接触還元することにより脱保護し、−穀
式■でCOOR2がカルボキシル基またはカルボキシレ
ートアニオンであるカルバペネム誘導体とすることがで
きる。反応溶媒としてジオキサン、THF、水、緩衝液
(混合溶媒をも含む)を用い、好適には含水ジオキサン
、リン酸緩衝液とTHFとの混合溶媒などを用い、1〜
4気圧の水素圧下で○〜50 ’C1好適には10〜3
0℃で、30分〜16時間、通常は1o分〜1時間反応
させることによって、COOR2がカルボキシル基また
はカルボキシレートアニオンであるカルバペネム誘導体
Iを得ることができる。
、例えば、p−ニトロベンジル基、ベンジル基、ベンズ
ヒドリル基もしくは2−ナフチルメチル基である場合に
は、パラジウム担持炭素、酸化白金、その他の公知の金
属触媒を用いて接触還元することにより脱保護し、−穀
式■でCOOR2がカルボキシル基またはカルボキシレ
ートアニオンであるカルバペネム誘導体とすることがで
きる。反応溶媒としてジオキサン、THF、水、緩衝液
(混合溶媒をも含む)を用い、好適には含水ジオキサン
、リン酸緩衝液とTHFとの混合溶媒などを用い、1〜
4気圧の水素圧下で○〜50 ’C1好適には10〜3
0℃で、30分〜16時間、通常は1o分〜1時間反応
させることによって、COOR2がカルボキシル基また
はカルボキシレートアニオンであるカルバペネム誘導体
Iを得ることができる。
また、化合物■のR2がp−ニトロベンジル基である場
合には、これにTHF、ジオキサン等の水溶性有機溶媒
中で、塩化アンモニウム水溶液と鉄粉とを反応させるこ
とにより、さらにR2がアリル基である場合にはTHF
、メチレンクロリド等の非プロトン性溶媒中で、テトラ
キストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、hリフ
ェニルポスフインおよび2−エチルヘキサン酸で処理す
ることによりさらにR2が2;2,2−トリクロロエチ
ル基である場合には、亜鉛未還元により脱保護してもそ
れぞれC0OR”がカルボキシル基もしくはカルボキシ
レートアニオンである目的化合物Iを得ることができる
。
合には、これにTHF、ジオキサン等の水溶性有機溶媒
中で、塩化アンモニウム水溶液と鉄粉とを反応させるこ
とにより、さらにR2がアリル基である場合にはTHF
、メチレンクロリド等の非プロトン性溶媒中で、テトラ
キストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、hリフ
ェニルポスフインおよび2−エチルヘキサン酸で処理す
ることによりさらにR2が2;2,2−トリクロロエチ
ル基である場合には、亜鉛未還元により脱保護してもそ
れぞれC0OR”がカルボキシル基もしくはカルボキシ
レートアニオンである目的化合物Iを得ることができる
。
目的化合物Iは通常の単離手段、すなわち、抽出後濃縮
し、さらに必要により再結晶、再沈殿、クロマトグラフ
ィなどによって精製することができる。また、化合物工
は結晶化することによって高純度のものが得られ、この
目的のために塩とすることにより好ましい結果が得られ
る。その際、塩としては必ずしも無毒性酸付加塩である
必要はなく、毒性のある塩として結晶化し、精製の後酸
を除去するかもしくは薬理上許容される塩に変換して目
的化合物を純度良く得ることができる。
し、さらに必要により再結晶、再沈殿、クロマトグラフ
ィなどによって精製することができる。また、化合物工
は結晶化することによって高純度のものが得られ、この
目的のために塩とすることにより好ましい結果が得られ
る。その際、塩としては必ずしも無毒性酸付加塩である
必要はなく、毒性のある塩として結晶化し、精製の後酸
を除去するかもしくは薬理上許容される塩に変換して目
的化合物を純度良く得ることができる。
体内で代謝されるエステル類を製造するには、ペニシリ
ン類やセファロスポリン類に用いられている方法(例え
ば、J、Med、Chem、 (19701,13,
607参照)に準じて、−歴代■におけるCOOR2の
R2としてあらかじめ入れておくか、またはカルボキシ
ル基あるいはカルボキシレートアニオンの化合物をエス
テル化すれば良い。
ン類やセファロスポリン類に用いられている方法(例え
ば、J、Med、Chem、 (19701,13,
607参照)に準じて、−歴代■におけるCOOR2の
R2としてあらかじめ入れておくか、またはカルボキシ
ル基あるいはカルボキシレートアニオンの化合物をエス
テル化すれば良い。
以下に、実施例および参考例により本発明化合物の製造
方法をより具体的に説明する。構造式中+7) PNB
はp−ニトロベンジルを、PMBはp−メトキシベンジ
ルを、PN2はp−ニトロベンジルオキシカルを意味す
る。一 実施例1 p−ニトロベンジル (IR,5S、 6S、8R1−
6−fl−ヒドロキシエチル1−1−メチル−2−オキ
ソカルバベナム−3−カルボキシレート 362gをア
セトニトリル36m1に溶解し、−2℃の冷浴で冷却撹
拌した。ここにアルゴン気流下、ジイソプロピルエチル
アミン1.92 mlを3分で滴下した。次いでジフェ
ニルホスホリルクロリド2.28 mlを滴下した。同
温度で30分撹拌後、−35℃に冷却下、ジイソプロピ
ルエチルアミン1.92 mlをさらに加えた後に、(
2S4s)−1ip−ニトロベンジルオキシカルボニル
)−2(4−p−ニトロベンジルオキシカルポニルビペ
ラジン−1−イル)カルボニル−4−メルカプトピロリ
ジン636gを加え同温度で16時間撹拌した。溶媒を
減圧留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに
付し、9.43 gの標題化合物を得た。
方法をより具体的に説明する。構造式中+7) PNB
はp−ニトロベンジルを、PMBはp−メトキシベンジ
ルを、PN2はp−ニトロベンジルオキシカルを意味す
る。一 実施例1 p−ニトロベンジル (IR,5S、 6S、8R1−
6−fl−ヒドロキシエチル1−1−メチル−2−オキ
ソカルバベナム−3−カルボキシレート 362gをア
セトニトリル36m1に溶解し、−2℃の冷浴で冷却撹
拌した。ここにアルゴン気流下、ジイソプロピルエチル
アミン1.92 mlを3分で滴下した。次いでジフェ
ニルホスホリルクロリド2.28 mlを滴下した。同
温度で30分撹拌後、−35℃に冷却下、ジイソプロピ
ルエチルアミン1.92 mlをさらに加えた後に、(
2S4s)−1ip−ニトロベンジルオキシカルボニル
)−2(4−p−ニトロベンジルオキシカルポニルビペ
ラジン−1−イル)カルボニル−4−メルカプトピロリ
ジン636gを加え同温度で16時間撹拌した。溶媒を
減圧留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに
付し、9.43 gの標題化合物を得た。
NMR(CDC1,)δ: 1.28f3H,d)、
1.36(3H,dl、 1,802.20(IH,m
l、 2.50−2.80(IH,ml、 3.0−5
.0f16H,m)。
1.36(3H,dl、 1,802.20(IH,m
l、 2.50−2.80(IH,ml、 3.0−5
.0f16H,m)。
5.22(IH,d)、 5.24f4H,sl、 5
.52flH,d)、 7.30−8、4OflOH,
ml 2+ 1R,5S、6S、8R,2°S4°S −6
−1−ヒドロキシエチル−2−2−1−ピペラジンカル
ボニル ピロリジン−4−イル チオ−1−メチルカル
バペネム−3実施例1−(1)で得た化合物300gを
THF 70m1に溶解してリン酸緩衝液70 mlを
加え、10%パラジウム−炭素6g(総使用量)にて、
4気圧の水素ガス雰囲気下で接触還元した。触媒を濾去
した後、溶媒を減圧濃縮して残留物をダイアイオンHP
−20(日本疎水株式会社)を充填したカラムクロマト
グラフィーに付した。溶出液を濃縮後、残留物を高速液
体クロマトグラフィー(以下、I(PLCと略す。)に
て精製し、標記の化合物520 mgを得た。
.52flH,d)、 7.30−8、4OflOH,
ml 2+ 1R,5S、6S、8R,2°S4°S −6
−1−ヒドロキシエチル−2−2−1−ピペラジンカル
ボニル ピロリジン−4−イル チオ−1−メチルカル
バペネム−3実施例1−(1)で得た化合物300gを
THF 70m1に溶解してリン酸緩衝液70 mlを
加え、10%パラジウム−炭素6g(総使用量)にて、
4気圧の水素ガス雰囲気下で接触還元した。触媒を濾去
した後、溶媒を減圧濃縮して残留物をダイアイオンHP
−20(日本疎水株式会社)を充填したカラムクロマト
グラフィーに付した。溶出液を濃縮後、残留物を高速液
体クロマトグラフィー(以下、I(PLCと略す。)に
て精製し、標記の化合物520 mgを得た。
NMR(0201δ: 1.24(3H,dl、 1.
32f3H,dl、 1.711.77flH,ml、
2.77−2.86(IH,ml、 3.16−3.
34f6Hml、 3.42(IH,dq)、 3.4
7[IH,ddl、 3.74−3.86(4Rml、
3.87(IH,ml、 4.25flH,dd)、
4.28flH,mlこのものの各種菌に対する最小
発育阻止濃度(MIC)の一部を示せば、E、コリ、N
I)[J <0.1、Pr、ブルガリス、 08602
0.10、K、 ニー ニー −E−ニー :L 。
32f3H,dl、 1.711.77flH,ml、
2.77−2.86(IH,ml、 3.16−3.
34f6Hml、 3.42(IH,dq)、 3.4
7[IH,ddl、 3.74−3.86(4Rml、
3.87(IH,ml、 4.25flH,dd)、
4.28flH,mlこのものの各種菌に対する最小
発育阻止濃度(MIC)の一部を示せば、E、コリ、N
I)[J <0.1、Pr、ブルガリス、 08602
0.10、K、 ニー ニー −E−ニー :L 。
TYPE l <0.1.Ps、エルギノーザ、 3
21220.10、S、アウレウス、 209P <
0.1であった。
21220.10、S、アウレウス、 209P <
0.1であった。
ペネム−3〜カルボン
p−ニトロベンジル (IR,5S、 6S、138)
−6−(1−ヒドロキシエチル)−2−ジフェニルホ
スホリルオキソ−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
キシレート0.297gをアセトニトリル3 mlに溶
解し、+2S、 4S) −1−(p−ニトロベンジル
オキシカルボニル) −2−(4−p〜ニトロペンジル
オキシ力ルポニルホモピベラジン−1−イル)カルボニ
ル−4−メルカプトピロリジン0.353 g、および
ジイソプロピルエチルアミン0.55gを一35℃で加
え、アルゴン気流下18.5時間撹拌した。溶媒を減圧
留去し、残留物にクエン酸水溶液、酢酸エチルを加えて
振盪し、有機層を分離後、水洗して硫酸ナトリウムにて
乾燥した。溶媒を減圧留去して油状の残留物を得、これ
をシリカゲルクロマトグラフィーに付して精製し、p−
ニトロベンジル(IR,5S、 6S、 8R) −6
−(1−ヒドロキシエチルl−2−([(2S、4Sl
−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−(4
−p−ニトロペンジルオキシ力ルポニルホモビペラジン
−1−イル)カルボニルピロリジン−4−イルコチオ)
−1−メチルカルバペネム−3−カルボキシレート 2
93 mgを得た(NMR(CDCI$ )δ:1.3
0f3H,di、 1.34(3H,di、 1.60
(3H,ml、 2.52flH。
−6−(1−ヒドロキシエチル)−2−ジフェニルホ
スホリルオキソ−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
キシレート0.297gをアセトニトリル3 mlに溶
解し、+2S、 4S) −1−(p−ニトロベンジル
オキシカルボニル) −2−(4−p〜ニトロペンジル
オキシ力ルポニルホモピベラジン−1−イル)カルボニ
ル−4−メルカプトピロリジン0.353 g、および
ジイソプロピルエチルアミン0.55gを一35℃で加
え、アルゴン気流下18.5時間撹拌した。溶媒を減圧
留去し、残留物にクエン酸水溶液、酢酸エチルを加えて
振盪し、有機層を分離後、水洗して硫酸ナトリウムにて
乾燥した。溶媒を減圧留去して油状の残留物を得、これ
をシリカゲルクロマトグラフィーに付して精製し、p−
ニトロベンジル(IR,5S、 6S、 8R) −6
−(1−ヒドロキシエチルl−2−([(2S、4Sl
−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−(4
−p−ニトロペンジルオキシ力ルポニルホモビペラジン
−1−イル)カルボニルピロリジン−4−イルコチオ)
−1−メチルカルバペネム−3−カルボキシレート 2
93 mgを得た(NMR(CDCI$ )δ:1.3
0f3H,di、 1.34(3H,di、 1.60
(3H,ml、 2.52flH。
m)、 3.10−4.40(16H,m)、 5.1
8f2H,sl、 5.21(LH,dl。
8f2H,sl、 5.21(LH,dl。
5.23(2H,sl、 5.51flH,di、 7
.35−7.72(6H,ml。
.35−7.72(6H,ml。
8、10 (6H,m) )。
この化合物0.290 gをTHF 14m1に溶解し
、1゜ン酸緩衝液14 mlを加え、更に10%パラジ
ウム−炭素30[1mgを加え4気圧の水素ガス雰囲気
下で接触還元を行った。触媒を濾去後、溶媒を減圧濃縮
して残留物をダイアイオンHP−20を充填したカラム
クロマトグラフィーに付した。溶出液を濃縮して残留物
をHPLCにて精製し、13.3 mgの標記の化合物
を得た。
、1゜ン酸緩衝液14 mlを加え、更に10%パラジ
ウム−炭素30[1mgを加え4気圧の水素ガス雰囲気
下で接触還元を行った。触媒を濾去後、溶媒を減圧濃縮
して残留物をダイアイオンHP−20を充填したカラム
クロマトグラフィーに付した。溶出液を濃縮して残留物
をHPLCにて精製し、13.3 mgの標記の化合物
を得た。
NMR(D20)δ: 1.24f3J(、d)、 1
.32f3H,d)、 1.67−1.76(IH,m
l、 2.07−2.23f2H,ml、 2.77−
2.86(IH,m)3.10−3.40(6H,ml
、 3.40−3.48(2H,m)、 3.62−4
.00(5H,ml、 4.18−4.30(3H,m
lこのものの各種菌に対する最小発育阻止濃度CMIC
)の一部を示せば、E、コリ、NIHJ <0.1、P
r、ブルガリス、 086020.10. K、 ニー
ニー モ:−xTYPEI<ロ、1.p3.エルギノ
ーザ、 321220.10、S、アウレウス、 20
9P <0.1であった。
.32f3H,d)、 1.67−1.76(IH,m
l、 2.07−2.23f2H,ml、 2.77−
2.86(IH,m)3.10−3.40(6H,ml
、 3.40−3.48(2H,m)、 3.62−4
.00(5H,ml、 4.18−4.30(3H,m
lこのものの各種菌に対する最小発育阻止濃度CMIC
)の一部を示せば、E、コリ、NIHJ <0.1、P
r、ブルガリス、 086020.10. K、 ニー
ニー モ:−xTYPEI<ロ、1.p3.エルギノ
ーザ、 321220.10、S、アウレウス、 20
9P <0.1であった。
p−ニトロベンジル (IR,5S、 6S、 8R1
−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−オ
キソカルバベナム−3−カルボキシレート 0.291
gをアセトニトリル2mlに溶解し、−2℃の冷浴で
冷却撹拌した。ここにアルゴン気流下、ジイソプロピル
エチルアミン0182 mlを3分で滴下した。次いで
ジフェニルホスホリルクロリド0.216 mlを滴下
した。同温度で30分撹拌後、−35℃に冷却下、ジイ
ソプロピルエチルアミン0.35 mlをさらに加えた
後に、(2S4Sl −1−(11−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2(3−p−ニトロベンジルオキシ
カルボニルイミダゾリジン−1−イル)カルボニル−4
−メルカプトピロリジン0.425 gを加え同温度で
4時間撹拌した。
−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−オ
キソカルバベナム−3−カルボキシレート 0.291
gをアセトニトリル2mlに溶解し、−2℃の冷浴で
冷却撹拌した。ここにアルゴン気流下、ジイソプロピル
エチルアミン0182 mlを3分で滴下した。次いで
ジフェニルホスホリルクロリド0.216 mlを滴下
した。同温度で30分撹拌後、−35℃に冷却下、ジイ
ソプロピルエチルアミン0.35 mlをさらに加えた
後に、(2S4Sl −1−(11−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2(3−p−ニトロベンジルオキシ
カルボニルイミダゾリジン−1−イル)カルボニル−4
−メルカプトピロリジン0.425 gを加え同温度で
4時間撹拌した。
溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフ
ィーに付して精製し、p〜ニトロベンジル(IR,5S
、 6S、8R1−6−(1−ヒドロキシエチル)−2
−([(2S、 4S+ −1−1]〜ニトロベンジル
オキシカルボニル−2−(3−p−二トロペンジルオキ
シカルボニルイミダゾリジン−1−イル)カルボニルピ
ロリジン−4−イルコチオ)−1−メチルカルバペネム
−3−カルボキシレート 0.456 gを得た( N
MR(CDCI s lδ: 1.2−1.4f6H,
m)、 1.8−2.2flH,ml、 2.5−
3.0(IH,ml、 3.2−5.0f14H,m
l、 5.1−5.6f6H,m)、7.4−7.8f
6H,ml。
ィーに付して精製し、p〜ニトロベンジル(IR,5S
、 6S、8R1−6−(1−ヒドロキシエチル)−2
−([(2S、 4S+ −1−1]〜ニトロベンジル
オキシカルボニル−2−(3−p−二トロペンジルオキ
シカルボニルイミダゾリジン−1−イル)カルボニルピ
ロリジン−4−イルコチオ)−1−メチルカルバペネム
−3−カルボキシレート 0.456 gを得た( N
MR(CDCI s lδ: 1.2−1.4f6H,
m)、 1.8−2.2flH,ml、 2.5−
3.0(IH,ml、 3.2−5.0f14H,m
l、 5.1−5.6f6H,m)、7.4−7.8f
6H,ml。
8.21(6H,dl)。 この化合物0.455 g
をTHF 15m1に溶解し、リン酸緩衝液15m1を
加え、10%パラジウム−炭素1.4 g (総使用量
)を用い、4気圧の水素ガス雰囲気下で接触還元した。
をTHF 15m1に溶解し、リン酸緩衝液15m1を
加え、10%パラジウム−炭素1.4 g (総使用量
)を用い、4気圧の水素ガス雰囲気下で接触還元した。
触媒を濾去後、溶媒を減圧濃縮して残留物をダイアイオ
ンIP−20を充填したカラムクロマトグラフィーに付
した。溶出液を濃縮して残留物をHPLCにて精製し、
標記の化合物28.6mgを得た。
ンIP−20を充填したカラムクロマトグラフィーに付
した。溶出液を濃縮して残留物をHPLCにて精製し、
標記の化合物28.6mgを得た。
NMRfnao)δ: 1.25(3H,dl、 1.
33(3H,dl、 1,691.75flH,m)、
2.75−2.83flH,m)、 3.10−3.
14(IH,m13.17−3.21[IH,m)、
3.22−3.29,3.40−3.51.3.56−
3.61f6H,ml、 3.82−3.88(IH,
ml、 3.99 & 4.07(IH。
33(3H,dl、 1,691.75flH,m)、
2.75−2.83flH,m)、 3.10−3.
14(IH,m13.17−3.21[IH,m)、
3.22−3.29,3.40−3.51.3.56−
3.61f6H,ml、 3.82−3.88(IH,
ml、 3.99 & 4.07(IH。
tl、 4.25flH,ddl、 4.28flH,
dql、 4.35.4.37゜4.39 and 4
.51(2H,d)このものの各種菌に対する最小発育
阻止濃度(MIC)の一部を示せば、Eコリ、NIHJ
<0.1、Pr、ブルガリス、 08602 <0.
1、K、ニューモニエTYPEI<0.1、Ps、エル
ギノーザ、 321220.20、S、アウレウス、
209P <0.1であった。
dql、 4.35.4.37゜4.39 and 4
.51(2H,d)このものの各種菌に対する最小発育
阻止濃度(MIC)の一部を示せば、Eコリ、NIHJ
<0.1、Pr、ブルガリス、 08602 <0.
1、K、ニューモニエTYPEI<0.1、Ps、エル
ギノーザ、 321220.20、S、アウレウス、
209P <0.1であった。
−歴代■のチオール化合物は以下に例示する方参考例1
(2S、4R1−4−ヒドロキシピロリジン−2−カル
ボン酸25 gを水100 mlに溶解し、ジオキサン
100m1を加えて水冷下に撹拌した。この溶液にクロ
ロギ酸 p−ニトロベンジルエステル41.1gを加え
て3時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物に10
%クエン酸水溶液 100 mlを加えて酸性として2
−ブタノンを用いて抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して、543gの標
題化合物を得た。
ボン酸25 gを水100 mlに溶解し、ジオキサン
100m1を加えて水冷下に撹拌した。この溶液にクロ
ロギ酸 p−ニトロベンジルエステル41.1gを加え
て3時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物に10
%クエン酸水溶液 100 mlを加えて酸性として2
−ブタノンを用いて抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して、543gの標
題化合物を得た。
NMR+DMSO−d、)δ: 1.80−2.15(
LH,m)、 3.00−3.60f4H,ml、 4
.05−4.25(IH,m)、 4.31f2H,s
)、 7.60f2H,dl、 8.22(2H,dl
参考例1−(11で得た化合物54.3gをDMF 5
40m1に溶解し、p−メトキシベンジルクロリド47
.5mlおよびトリエチルアミン51.2 mlを加え
た。アルゴン気流下70℃に加熱し撹拌した。14時間
後溶媒を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィにより精製し、標題化合物57.1gを得た。
LH,m)、 3.00−3.60f4H,ml、 4
.05−4.25(IH,m)、 4.31f2H,s
)、 7.60f2H,dl、 8.22(2H,dl
参考例1−(11で得た化合物54.3gをDMF 5
40m1に溶解し、p−メトキシベンジルクロリド47
.5mlおよびトリエチルアミン51.2 mlを加え
た。アルゴン気流下70℃に加熱し撹拌した。14時間
後溶媒を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィにより精製し、標題化合物57.1gを得た。
NMRfcDcls)δ: 1.80−2.40(2H
,ml、 3.60−3.90(2Hml、 3.80
(18,sl、 4.40−4.47f2H,m)、
5.00−5.32(4H,++d、 6.70−8.
40 (8)!、m)トリフェニルホスフィン275g
をTHF 400m1に溶解し、−20℃に冷却し撹拌
した。ジエチルアゾジカルボキシレート16.5 ml
を加え20分間撹拌すると、白色結晶が析出した。参考
例1−(2)で得た化合物30.1gおよびチオ安息香
酸12.4 mlのTHE溶液を滴下し、冷浴を外し室
温で16時間撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィに付し、37.5gの
標題化合物を得た。
,ml、 3.60−3.90(2Hml、 3.80
(18,sl、 4.40−4.47f2H,m)、
5.00−5.32(4H,++d、 6.70−8.
40 (8)!、m)トリフェニルホスフィン275g
をTHF 400m1に溶解し、−20℃に冷却し撹拌
した。ジエチルアゾジカルボキシレート16.5 ml
を加え20分間撹拌すると、白色結晶が析出した。参考
例1−(2)で得た化合物30.1gおよびチオ安息香
酸12.4 mlのTHE溶液を滴下し、冷浴を外し室
温で16時間撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィに付し、37.5gの
標題化合物を得た。
NMR(CDC1,lδ: 1.95−2.40(IH
,mf、 2.50−3.05(IHml、 3.40
−3.75 (IH,m)、 3.74f3H,sl、
3.95−435(2H,ml、 4.35−4.7
0flH,ml、 4.90−5.35f4H,m)。
,mf、 2.50−3.05(IHml、 3.40
−3.75 (IH,m)、 3.74f3H,sl、
3.95−435(2H,ml、 4.35−4.7
0flH,ml、 4.90−5.35f4H,m)。
6、60−8.30 (13H,m)
4 2S、4S−11−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル−4−ベンゾイルチオピロリジン−2−カルボン参考
例1−(3)で得た化合物37.5gにアニソール15
mlを加え水冷下撹拌した。トリフルオロ酢酸100
mlを加え、さらに室温下2時間反応させた。トリフ
ルオロ酢酸を減圧濃縮し、残留物にキシレン50m1を
加えて再度減圧濃縮した。2時間減圧下に放置後、クロ
ロホルムを加えると結晶が析出した。これを濾取して標
題化合物を19.9 g得た。
ル−4−ベンゾイルチオピロリジン−2−カルボン参考
例1−(3)で得た化合物37.5gにアニソール15
mlを加え水冷下撹拌した。トリフルオロ酢酸100
mlを加え、さらに室温下2時間反応させた。トリフ
ルオロ酢酸を減圧濃縮し、残留物にキシレン50m1を
加えて再度減圧濃縮した。2時間減圧下に放置後、クロ
ロホルムを加えると結晶が析出した。これを濾取して標
題化合物を19.9 g得た。
NMR(DMSO−d、)δ: 1.80−2.25(
LH,ml、 2.60−3.65(3H,m)、 3
.95−4.60(2H,ml、 5.25(2H,m
l、 7.40−8.30(9H,m) 三W」とン 参考例1−(41で得た化合物6.45 gをTHF
300m1に溶解し水冷下に撹拌しておき、1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール2.53 g、ジシクロへキシ
ルカルボジイミド9.29 gを加え室温で2時間撹拌
した。反応液再度水冷し、1ip−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)ピペラジン3.62 gを加え室温で2
時間撹拌した。溶媒を減圧留去後残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィに付し標題化合物8.56 gを
得た。
LH,ml、 2.60−3.65(3H,m)、 3
.95−4.60(2H,ml、 5.25(2H,m
l、 7.40−8.30(9H,m) 三W」とン 参考例1−(41で得た化合物6.45 gをTHF
300m1に溶解し水冷下に撹拌しておき、1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール2.53 g、ジシクロへキシ
ルカルボジイミド9.29 gを加え室温で2時間撹拌
した。反応液再度水冷し、1ip−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)ピペラジン3.62 gを加え室温で2
時間撹拌した。溶媒を減圧留去後残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィに付し標題化合物8.56 gを
得た。
NMR(CDC1*)δ: 1.8−2.20flH,
m)、 2.60−3.00(IH。
m)、 2.60−3.00(IH。
ml、 3.00−4.00(IOH,ml、 4.0
5−4.25(IH,ml、 4,654.95(1)
1.n)、 7.35−8.45[13H,m)参考例
1−(5)で得た化合物8.56 gをメタノール10
0 ml、T旺100 mlの混合溶媒に溶解し、水冷
下に撹拌した。アルゴン気流下にナトリウムメトキサイ
ド1.88 gを加え30分撹拌した。反応液に10%
クエン酸水溶液を加えて酸性とし、更に水を加えて溶媒
を減圧留去した。油状残留物を酢酸エチルにて抽出し、
抽出液を水洗復硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに
付し標題化合物6.23 gを得た。
5−4.25(IH,ml、 4,654.95(1)
1.n)、 7.35−8.45[13H,m)参考例
1−(5)で得た化合物8.56 gをメタノール10
0 ml、T旺100 mlの混合溶媒に溶解し、水冷
下に撹拌した。アルゴン気流下にナトリウムメトキサイ
ド1.88 gを加え30分撹拌した。反応液に10%
クエン酸水溶液を加えて酸性とし、更に水を加えて溶媒
を減圧留去した。油状残留物を酢酸エチルにて抽出し、
抽出液を水洗復硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに
付し標題化合物6.23 gを得た。
参考例2
[2S、 4S) −1−ip−二トロペンジルオキシ
カルボニル)−4−ベンゾイルチオピロリジン−2−カ
ルボン酸1.08 gをTHF 30m1に溶解し、水
冷下1−ヒドロキシベンゾトリアゾール0.42 gお
よびジシクロへキシルカルボジイミド0.57 gを加
え3時間撹拌した。この中に1−(p−ニトロベンジル
オキシカルボニル)ホモピペラジン0.77gを加えて
室温で18時間撹拌した。析出したジシクロヘキシル尿
素を濾去し、母液を減圧乾固した。残留物にアセトニト
リルを加え再度ジシクロヘキシル尿素を濾去した。アセ
トニトリルを減圧留去して残留物に酢酸エチルおよびI
N塩酸を加えて振盪し、有機層を分離後、水洗した。有
機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を減圧留去した。
カルボニル)−4−ベンゾイルチオピロリジン−2−カ
ルボン酸1.08 gをTHF 30m1に溶解し、水
冷下1−ヒドロキシベンゾトリアゾール0.42 gお
よびジシクロへキシルカルボジイミド0.57 gを加
え3時間撹拌した。この中に1−(p−ニトロベンジル
オキシカルボニル)ホモピペラジン0.77gを加えて
室温で18時間撹拌した。析出したジシクロヘキシル尿
素を濾去し、母液を減圧乾固した。残留物にアセトニト
リルを加え再度ジシクロヘキシル尿素を濾去した。アセ
トニトリルを減圧留去して残留物に酢酸エチルおよびI
N塩酸を加えて振盪し、有機層を分離後、水洗した。有
機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を減圧留去した。
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製
して標記の化合物157gを得た。
して標記の化合物157gを得た。
NMR(CDCh161.60−1.70(IH,ml
、 1.80−2.00(2Hml、 2.60−3.
00(IH,ml、 3.20−3.80(IOH,m
)、 4,604.80(IH,ml、 5.21(4
H,sl、 7.45(2H,dl、 7.47f2H
d) l11.21f4)1.d) 参考例2−mで得た化合物148gをメタノール20m
1とジオキサン5 mlの混液に溶解し、ナトリウムメ
トキサイド0.46 gを室温で加え、15分撹拌した
。溶媒を減圧留去し、残留物に酢酸エチルおよびIN塩
酸を加えて振盪し、有機層を分離後水洗した。有機層を
硫酸ナトリウムにて乾燥し溶媒を減圧留去した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して標
記の化合物0.85 gを得た。
、 1.80−2.00(2Hml、 2.60−3.
00(IH,ml、 3.20−3.80(IOH,m
)、 4,604.80(IH,ml、 5.21(4
H,sl、 7.45(2H,dl、 7.47f2H
d) l11.21f4)1.d) 参考例2−mで得た化合物148gをメタノール20m
1とジオキサン5 mlの混液に溶解し、ナトリウムメ
トキサイド0.46 gを室温で加え、15分撹拌した
。溶媒を減圧留去し、残留物に酢酸エチルおよびIN塩
酸を加えて振盪し、有機層を分離後水洗した。有機層を
硫酸ナトリウムにて乾燥し溶媒を減圧留去した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して標
記の化合物0.85 gを得た。
NMRfcDcla)δ: 1.70−2.00f2
H,ml、3.20−3.9010H,m)、 4.
45−4.80(IH,m)、 5.20f2H,s
)、 5.24(2H,s)、 7.47(2H,
d)、 7.49f2H,di、 8.23(4H
,d)参考例3 NMR(CDCMδ: 1.90−2.40flH,
ml、 2.60−3.00(IH。
H,ml、3.20−3.9010H,m)、 4.
45−4.80(IH,m)、 5.20f2H,s
)、 5.24(2H,s)、 7.47(2H,
d)、 7.49f2H,di、 8.23(4H
,d)参考例3 NMR(CDCMδ: 1.90−2.40flH,
ml、 2.60−3.00(IH。
m)、 3.50−5.1 (10H,m)、 5
.25(4H1br、sl、 7.4−7.6゜7.
9−8.0(9H,n+)、 8.21(4H,di
(23,4S) −1−(1)−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−4−ベンゾイルチオピロリジン−2−カ
ルボン酸0.72gをジクロロメタン1(l mlに溶
解し、室温でシュウ酸クロリド0.32m1およびDM
F 1滴を加え75分撹拌した。溶媒を減圧留去後、−
5℃で1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)イ
ミダシリン0.5gのジクロロメタン10 mlの溶液
およびトリエチルアミン0.37 mlを加え2時間撹
拌した。
.25(4H1br、sl、 7.4−7.6゜7.
9−8.0(9H,n+)、 8.21(4H,di
(23,4S) −1−(1)−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−4−ベンゾイルチオピロリジン−2−カ
ルボン酸0.72gをジクロロメタン1(l mlに溶
解し、室温でシュウ酸クロリド0.32m1およびDM
F 1滴を加え75分撹拌した。溶媒を減圧留去後、−
5℃で1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)イ
ミダシリン0.5gのジクロロメタン10 mlの溶液
およびトリエチルアミン0.37 mlを加え2時間撹
拌した。
反応液をクロロホルムにて希釈して水洗し、硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して標
記の化合物1.04gを得た。
ウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して標
記の化合物1.04gを得た。
参考例3− (1)で得た化合物066gをメタノール
10 mlに溶解しナトリウムメトキサイド0.14g
を室温で加え、2時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残
留物に酢酸エチルおよび1N塩酸を加えて振盪し、有機
層を分離後水洗した。有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥
し溶媒を減圧留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製して標記の化合物0.43 g
を得た。
10 mlに溶解しナトリウムメトキサイド0.14g
を室温で加え、2時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残
留物に酢酸エチルおよび1N塩酸を加えて振盪し、有機
層を分離後水洗した。有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥
し溶媒を減圧留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製して標記の化合物0.43 g
を得た。
NMR((:Del、)δ: 1.8−2.2(lH,
ml、 2.5−2.9(lH,m)。
ml、 2.5−2.9(lH,m)。
3.1−5.ulOH,ml、 5.21(2H,sl
、 5.26(2H,s)、 7.4−7、7 f4H
,++! 、 8.22 f4H,d)λ肛立盈還 本発明の新規なカルバペネム誘導体は、ダラム陽性菌、
陰性菌、さらには偏性嫌気性菌に対して強力な抗菌活性
を示し、ペニシリンおよび上2アロスポリン耐性菌にも
高い感受性を示すなど、極めて広い抗菌スペクトルを有
する。さらに本発明の化合物は物理化学的性質にも優れ
、腎臓のデヒドロベプチターゼ、β−ラクタマーゼなど
による酵素分解も受けにくく、医薬として期待される。
、 5.26(2H,s)、 7.4−7、7 f4H
,++! 、 8.22 f4H,d)λ肛立盈還 本発明の新規なカルバペネム誘導体は、ダラム陽性菌、
陰性菌、さらには偏性嫌気性菌に対して強力な抗菌活性
を示し、ペニシリンおよび上2アロスポリン耐性菌にも
高い感受性を示すなど、極めて広い抗菌スペクトルを有
する。さらに本発明の化合物は物理化学的性質にも優れ
、腎臓のデヒドロベプチターゼ、β−ラクタマーゼなど
による酵素分解も受けにくく、医薬として期待される。
用区北葛西1丁目16番13号
第−製薬中央研究
Claims (8)
- (1)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I (式中、R^1は低級アルキル基、ヒドロキシ低級アル
キル基または保護されたヒドロキシ低級アルキル基を、
COOR^2はカルボキシル基、カルボキシレートアニ
オンまたは保護されたカルボキシル基を、R^3は水素
原子または低級アルキル基を、R^4は水素原子または
低級アルキル基を、R^5は2から3の窒素原子を含む
4から8員環の飽和環状複素環基を意味する。)表わさ
れる化合物およびその塩 - (2)R^1が1−ヒドロキシエチル基である請求項1
記載の化合物 - (3)(6S,8R)−6−(1−ヒドロキシエチル)
−カルバペネム誘導体である請求項1または2の化合物 - (4)(1R,5S,6S,8R)−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−メチルカルバペネム誘導体である請
求項1または2記載の化合物 - (5)R^5がイミダゾリジノ基、ピペラジノ基または
ホモピペラジノ基である請求項4記載の化合物 - (6)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2は水素原子またはCOOR^2としてカ
ルボキシレートアニオンを表す。)で表される請求項1
記載の化合物 - (7)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、COOR^2は前記の定義に等しい。 )で表される請求項1記載の化合物
- (8)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、COOR^2は前記の定義に等しい。 )で表される請求項1記載の化合物
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2138690A JP2934283B2 (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | カルバペネム誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2138690A JP2934283B2 (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | カルバペネム誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0436282A true JPH0436282A (ja) | 1992-02-06 |
JP2934283B2 JP2934283B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=15227839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2138690A Expired - Fee Related JP2934283B2 (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | カルバペネム誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2934283B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0692471A1 (de) | 1994-07-15 | 1996-01-17 | Degussa Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver 3-Hydroxy-Pyrrolidine mit hoher Enantiomerenreinheit |
WO1998004531A1 (en) * | 1996-07-26 | 1998-02-05 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Curable mixtures based on epoxy resins comprising imidazoles |
JP2019512547A (ja) * | 2016-03-16 | 2019-05-16 | オーキッド ファーマ リミテッド | カルバペネム化合物 |
-
1990
- 1990-05-29 JP JP2138690A patent/JP2934283B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0692471A1 (de) | 1994-07-15 | 1996-01-17 | Degussa Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver 3-Hydroxy-Pyrrolidine mit hoher Enantiomerenreinheit |
WO1998004531A1 (en) * | 1996-07-26 | 1998-02-05 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Curable mixtures based on epoxy resins comprising imidazoles |
JP2019512547A (ja) * | 2016-03-16 | 2019-05-16 | オーキッド ファーマ リミテッド | カルバペネム化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2934283B2 (ja) | 1999-08-16 |
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