JPH04354329A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPH04354329A JPH04354329A JP15535391A JP15535391A JPH04354329A JP H04354329 A JPH04354329 A JP H04354329A JP 15535391 A JP15535391 A JP 15535391A JP 15535391 A JP15535391 A JP 15535391A JP H04354329 A JPH04354329 A JP H04354329A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造方法に
関し、特に自己整合的に金属シリサイド層を形成する半
導体装置の製造方法に関する。
関し、特に自己整合的に金属シリサイド層を形成する半
導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年の半導体装置、特にMOSFET(
MOS型トランジスタ)の短チャネル化に伴って、ソー
ス・ドレイン領域を浅い接合にする必要性がある。とこ
ろがソース・ドレイン領域を浅くすると層抵抗が増大し
、かつアルミニウム配線とのコンタクト抵抗も増大しデ
バイスの特性を劣化させてしまうことが判っている。 この問題を解決する手段として用いられているのが拡散
層のシリサイド化である。ここで、従来のチタンシリサ
イド構造のMOSFETの製造方法を図4を参照して説
明する。
MOS型トランジスタ)の短チャネル化に伴って、ソー
ス・ドレイン領域を浅い接合にする必要性がある。とこ
ろがソース・ドレイン領域を浅くすると層抵抗が増大し
、かつアルミニウム配線とのコンタクト抵抗も増大しデ
バイスの特性を劣化させてしまうことが判っている。 この問題を解決する手段として用いられているのが拡散
層のシリサイド化である。ここで、従来のチタンシリサ
イド構造のMOSFETの製造方法を図4を参照して説
明する。
【0003】先ず、図4(a)のように、P型シリコン
基板1に公知の技術を用いてゲート酸化膜2及びタング
ステンシリサイド3aとポリシリコン3bの二重構造(
以下、ポリサイド)のゲート電極3を形成する。次に、
図4(b)のように、リンを1〜10×1013cm−
2程打ち込み低濃度のn− 領域4を形成する。更に、
公知の技術を用いてサイドウォール5を形成し、砒素を
1〜10×1015cm−2程イオン注入して高温で熱
処理し、n+ 拡散層領域6を形成する。次に、チタン
を 700Å程度スパッタしてチタン膜7を形成し、更
にシリコンを 80Kevで3E15程度イオン注入し
てチタンとn+ 拡散層領域6の界面をミキシングする
。
基板1に公知の技術を用いてゲート酸化膜2及びタング
ステンシリサイド3aとポリシリコン3bの二重構造(
以下、ポリサイド)のゲート電極3を形成する。次に、
図4(b)のように、リンを1〜10×1013cm−
2程打ち込み低濃度のn− 領域4を形成する。更に、
公知の技術を用いてサイドウォール5を形成し、砒素を
1〜10×1015cm−2程イオン注入して高温で熱
処理し、n+ 拡散層領域6を形成する。次に、チタン
を 700Å程度スパッタしてチタン膜7を形成し、更
にシリコンを 80Kevで3E15程度イオン注入し
てチタンとn+ 拡散層領域6の界面をミキシングする
。
【0004】次に、例えば 650℃の温度で熱処理を
施し、n+ 拡散層領域6上に自己整合的にチタンシリ
サイド9が形成され、これを例えばアンモニアと過酸化
水素水の混合液等に浸すと、図4(c)のように、シリ
サイド化されずに残っているチタンのみが選択的に除去
され、チタンシリサイド9のみが残される。以下、図4
(d)のように、公知の技術を用いて層間絶縁膜10及
びアルミニウム電極11を形成し、所望のNチャネルM
OSFETを得る。
施し、n+ 拡散層領域6上に自己整合的にチタンシリ
サイド9が形成され、これを例えばアンモニアと過酸化
水素水の混合液等に浸すと、図4(c)のように、シリ
サイド化されずに残っているチタンのみが選択的に除去
され、チタンシリサイド9のみが残される。以下、図4
(d)のように、公知の技術を用いて層間絶縁膜10及
びアルミニウム電極11を形成し、所望のNチャネルM
OSFETを得る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、砒素等の不
純物などが高濃度に含まれるシリコン層をシリサイド化
した場合には、不純物濃度の低いシリコン層をシリサイ
ド化した時に比較して不純物の影響によりシリサイド化
反応が抑制されるので、そのシート抵抗が4〜10倍も
高くなってしまう。これを解決するために、前記した従
来の製造方法では、チタンを形成した後にその上からシ
リコンをイオン注入して界面をミキシングすることによ
り反応させ、通常のシート抵抗を得ている。しかしなが
ら、この方法では、シリコンをチタンの膜上から高エネ
ルギでイン注入することが要求されるため、このイオン
注入によってチタン原子がノックオンされ、拡散層深く
押し込まれ拡散層リーク電流を増大させ、デバイス特性
の劣化を引き起こすという問題が生じている。本発明の
目的は、このような金属原子のノックオンによるデバイ
ス特性の劣化を生じることなく金属シリサイド層を形成
する方法を提供することにある。
純物などが高濃度に含まれるシリコン層をシリサイド化
した場合には、不純物濃度の低いシリコン層をシリサイ
ド化した時に比較して不純物の影響によりシリサイド化
反応が抑制されるので、そのシート抵抗が4〜10倍も
高くなってしまう。これを解決するために、前記した従
来の製造方法では、チタンを形成した後にその上からシ
リコンをイオン注入して界面をミキシングすることによ
り反応させ、通常のシート抵抗を得ている。しかしなが
ら、この方法では、シリコンをチタンの膜上から高エネ
ルギでイン注入することが要求されるため、このイオン
注入によってチタン原子がノックオンされ、拡散層深く
押し込まれ拡散層リーク電流を増大させ、デバイス特性
の劣化を引き起こすという問題が生じている。本発明の
目的は、このような金属原子のノックオンによるデバイ
ス特性の劣化を生じることなく金属シリサイド層を形成
する方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の製造方法は、シ
リコン基板の表面に比較的薄い高融点金属膜を堆積する
工程と、この高融点金属膜の表面からシリコン原子を比
較的低いエネルギーでイオン注入する工程と、この高融
点金属膜上に比較的厚い高融点金属を堆積する工程と、
熱処理ししてシリコン基板の表面に高融点金属のシリサ
イド層を形成する工程を含んでいる。
リコン基板の表面に比較的薄い高融点金属膜を堆積する
工程と、この高融点金属膜の表面からシリコン原子を比
較的低いエネルギーでイオン注入する工程と、この高融
点金属膜上に比較的厚い高融点金属を堆積する工程と、
熱処理ししてシリコン基板の表面に高融点金属のシリサ
イド層を形成する工程を含んでいる。
【0007】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の第1実施例を製造工程順に示す断面
図である。先ず、図1(a)は図4(a)及び(b)に
示したと同様に、P型シリコン基板1上にゲート酸化膜
2を形成し、この上にタングステンシリサイド3aとポ
リシリコン3bからなるポリサイドゲート電極3を形成
する。又、リンを1〜10×1013cm−2程打ち込
み、低濃度のn− 領域4を形成し、更に公知の技術を
用いてサイドウォール5を形成した後、砒素を1〜10
×1015cm−2程度イオン注入し、かつ高温で熱処
理してn+ 拡散層領域6を形成する。
る。図1は本発明の第1実施例を製造工程順に示す断面
図である。先ず、図1(a)は図4(a)及び(b)に
示したと同様に、P型シリコン基板1上にゲート酸化膜
2を形成し、この上にタングステンシリサイド3aとポ
リシリコン3bからなるポリサイドゲート電極3を形成
する。又、リンを1〜10×1013cm−2程打ち込
み、低濃度のn− 領域4を形成し、更に公知の技術を
用いてサイドウォール5を形成した後、砒素を1〜10
×1015cm−2程度イオン注入し、かつ高温で熱処
理してn+ 拡散層領域6を形成する。
【0008】次に、図1(b)のように、全面にチタン
を 200Å程度スパッタして薄いチタン膜7を形成し
、その上で表面からシリコンを 20Kevの低エネル
ギで3E15程度イオン注入してチタンとn+ 拡散層
6の界面をミキシングする。その上で、全面にチタンを
500Å程度スパッタして厚いチタン膜8を形成する
。次に、例えば 650℃の温度で熱処理すると、図1
(c)のように、n+ 拡散層領域6の表面に自己整合
的にチタンシリサイド9が形成される。その後、例えば
アンモニアと過酸化水素水の混合液等に浸すとシリサイ
ド化されず残っているチタン膜8,7を選択的に除去す
る。しかる上で、図1(d)のように、公知の技術を用
いて層間絶縁膜10を形成し、かつ前記チタンシリサイ
ド9に接続されるアルミニウム電極11を形成してNチ
ャネルMOSFETを得る。
を 200Å程度スパッタして薄いチタン膜7を形成し
、その上で表面からシリコンを 20Kevの低エネル
ギで3E15程度イオン注入してチタンとn+ 拡散層
6の界面をミキシングする。その上で、全面にチタンを
500Å程度スパッタして厚いチタン膜8を形成する
。次に、例えば 650℃の温度で熱処理すると、図1
(c)のように、n+ 拡散層領域6の表面に自己整合
的にチタンシリサイド9が形成される。その後、例えば
アンモニアと過酸化水素水の混合液等に浸すとシリサイ
ド化されず残っているチタン膜8,7を選択的に除去す
る。しかる上で、図1(d)のように、公知の技術を用
いて層間絶縁膜10を形成し、かつ前記チタンシリサイ
ド9に接続されるアルミニウム電極11を形成してNチ
ャネルMOSFETを得る。
【0009】したがって、この製造方法では、薄いチタ
ン膜7の上からシリコンをイオン注入してミキシングを
行うため、イオン注入のエネルギが低くてよく、チタン
原子がノックオンされることが抑制できる。このため、
チタン原子がn+ 拡散層6の深くまで押し込まれるこ
とがなく、拡散層リーク電流が増大されることはなく、
デバイス特性の劣化が防止される。因に、図2に本発明
法と従来法で夫々製造した半導体装置における拡散層リ
ーク電流を示すように、本発明方法によれば拡散層リー
ク電流を従来の1/10〜 1/100に抑えることが
可能となる。
ン膜7の上からシリコンをイオン注入してミキシングを
行うため、イオン注入のエネルギが低くてよく、チタン
原子がノックオンされることが抑制できる。このため、
チタン原子がn+ 拡散層6の深くまで押し込まれるこ
とがなく、拡散層リーク電流が増大されることはなく、
デバイス特性の劣化が防止される。因に、図2に本発明
法と従来法で夫々製造した半導体装置における拡散層リ
ーク電流を示すように、本発明方法によれば拡散層リー
ク電流を従来の1/10〜 1/100に抑えることが
可能となる。
【0010】図3は本発明の第2実施例を製造工程順に
示す断面図である。ここでは、本発明をポリシリコンゲ
ート電極ののシリサイド化に適用している。先ず、図3
(a)のように、P型シリコン基板1上にゲート酸化膜
2を形成し、この上に2000Åのn+ 型ポリシリコ
ンゲート電極3A及びサイドウォール5を形成する。
示す断面図である。ここでは、本発明をポリシリコンゲ
ート電極ののシリサイド化に適用している。先ず、図3
(a)のように、P型シリコン基板1上にゲート酸化膜
2を形成し、この上に2000Åのn+ 型ポリシリコ
ンゲート電極3A及びサイドウォール5を形成する。
【0011】次に、図3(b)のように、チタンを 2
00Å程度スパッタして薄いチタン膜7を形成し、この
表面から 20Kevの低エネルギでシリコンを3E1
5程度イオン注入し、チタン膜7とゲート電極3Aの界
面をミキシングする。更に、この上に再度チタンを 8
00Å程度スパッタし、厚いチタン膜8を形成する。そ
して、例えば 650℃の温度で熱処理するとゲート電
極3Aの表面上に自己整合的にチタンシリサイド9が形
成される。
00Å程度スパッタして薄いチタン膜7を形成し、この
表面から 20Kevの低エネルギでシリコンを3E1
5程度イオン注入し、チタン膜7とゲート電極3Aの界
面をミキシングする。更に、この上に再度チタンを 8
00Å程度スパッタし、厚いチタン膜8を形成する。そ
して、例えば 650℃の温度で熱処理するとゲート電
極3Aの表面上に自己整合的にチタンシリサイド9が形
成される。
【0012】しかる上で、図3(c)のように、例えば
アンモニアと過酸化水素水の混合液等に浸すとシリサイ
ド化されず残っているチタン膜7,8のみが選択的に除
去され、チタンシリサイド9がゲート電極3Aの上面の
みに残され、金属シリサイド構造のゲート電極が形成さ
れる。このようにしてゲート電極3Aを形成すれば、ゲ
ート酸化膜2中にノックオンされるチタン原子の数を減
らすことができ、トランジスタの信頼性を向上させると
いう新たな効果も有する尚、本発明はチタン以外の高融
点金属についても同様に適用することができる。
アンモニアと過酸化水素水の混合液等に浸すとシリサイ
ド化されず残っているチタン膜7,8のみが選択的に除
去され、チタンシリサイド9がゲート電極3Aの上面の
みに残され、金属シリサイド構造のゲート電極が形成さ
れる。このようにしてゲート電極3Aを形成すれば、ゲ
ート酸化膜2中にノックオンされるチタン原子の数を減
らすことができ、トランジスタの信頼性を向上させると
いう新たな効果も有する尚、本発明はチタン以外の高融
点金属についても同様に適用することができる。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、シリコン
表面に薄い高融点金属膜を形成した上で低エネルギでシ
リコンをイオン注入し、その上で厚く高融点金属膜を形
成してシリサイド化を行っているので、高融点金属膜か
らノックオンされるチタン原子の量を減らし、拡散層リ
ーク電流を従来の1/10〜 1/100に抑え、デバ
イスの高性能及び高信頼性という効果を有する。
表面に薄い高融点金属膜を形成した上で低エネルギでシ
リコンをイオン注入し、その上で厚く高融点金属膜を形
成してシリサイド化を行っているので、高融点金属膜か
らノックオンされるチタン原子の量を減らし、拡散層リ
ーク電流を従来の1/10〜 1/100に抑え、デバ
イスの高性能及び高信頼性という効果を有する。
【図1】本発明の第1実施例を製造工程順に示す断面図
である。
である。
【図2】本発明方法と従来方法における拡散リーク電流
特性を示す図である。
特性を示す図である。
【図3】本発明の第2実施例を製造工程順に示す断面図
である。
である。
【図4】従来の製造方法を製造工程順に示す断面図であ
る。
る。
1 P型シリコン基板
3 ゲート電極
6 n+ 拡散層
7 薄いチタン膜
8 厚いチタン膜
9 チタンシリサイド
Claims (1)
- 【請求項1】 シリコン基板上に高融点金属のシリサ
イド層を有する半導体装置の製造方法において、前記シ
リコン基板の表面に比較的薄い高融点金属膜を堆積する
工程と、この高融点金属膜の表面からシリコン原子を比
較的低いエネルギーでイオン注入する工程と、前記高融
点金属膜上に比較的厚い高融点金属を堆積する工程と、
熱処理して前記シリコン基板の表面に高融点金属のシリ
サイド層を形成する工程を含むことを特徴とする半導体
装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15535391A JPH04354329A (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15535391A JPH04354329A (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04354329A true JPH04354329A (ja) | 1992-12-08 |
Family
ID=15604049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15535391A Pending JPH04354329A (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04354329A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10242081A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-09-11 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007116186A (ja) * | 2006-12-04 | 2007-05-10 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60192371A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-30 | Nec Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JPS60193380A (ja) * | 1984-03-15 | 1985-10-01 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
1991
- 1991-05-31 JP JP15535391A patent/JPH04354329A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60192371A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-30 | Nec Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JPS60193380A (ja) * | 1984-03-15 | 1985-10-01 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10242081A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-09-11 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007116186A (ja) * | 2006-12-04 | 2007-05-10 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
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