JPH04339308A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH04339308A JPH04339308A JP11184991A JP11184991A JPH04339308A JP H04339308 A JPH04339308 A JP H04339308A JP 11184991 A JP11184991 A JP 11184991A JP 11184991 A JP11184991 A JP 11184991A JP H04339308 A JPH04339308 A JP H04339308A
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- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜技術により製造す
る薄膜磁気ヘッドの製造方法に関する。
る薄膜磁気ヘッドの製造方法に関する。
【0002】情報処理システムの外部記憶装置として磁
気ディスク装置が比較的多く採用されており、この磁気
ディスク装置の小型化並びに大容量化が要求されている
。このような要求に対して、磁気記録の高密度化が進め
られており、その為の記録ヘッドとして、磁極とコイル
とを薄膜技術により構成した薄膜磁気ヘッドか開発され
ている。
気ディスク装置が比較的多く採用されており、この磁気
ディスク装置の小型化並びに大容量化が要求されている
。このような要求に対して、磁気記録の高密度化が進め
られており、その為の記録ヘッドとして、磁極とコイル
とを薄膜技術により構成した薄膜磁気ヘッドか開発され
ている。
【0003】
【従来の技術】図4(A),(B)は薄膜磁気ヘッドの
斜視図,一部拡大図を示す。
斜視図,一部拡大図を示す。
【0004】同図中、10はアルミニウム・チタン・カ
ーボン(AlTic)のスライダであり、浮上面10a
が磁気記録媒体に対向する。スライダ10の端面10b
に薄膜電磁変換素子を構成するコイル11及びヨーク1
2,13等が形成されている。
ーボン(AlTic)のスライダであり、浮上面10a
が磁気記録媒体に対向する。スライダ10の端面10b
に薄膜電磁変換素子を構成するコイル11及びヨーク1
2,13等が形成されている。
【0005】図5は薄膜磁気ヘッドの断面構造図を示す
。AlTicのスライダ10を基板としてアルミナ(A
l2 O3 )層15が形成され、更にヨーク12のパ
ーマロイ層が形成され、フェノール樹脂等のレジスト層
17内にコイル11の銅配線が設けられている。更にレ
ジスト層17上にヨーク13のパーマロイ層が形成され
、保護膜としてのアルミナ層18に覆われている。まだ
レジスト層17の浮上面10a側は幅狭とされてヨーク
12,13により磁気ギャップが形成されている。
。AlTicのスライダ10を基板としてアルミナ(A
l2 O3 )層15が形成され、更にヨーク12のパ
ーマロイ層が形成され、フェノール樹脂等のレジスト層
17内にコイル11の銅配線が設けられている。更にレ
ジスト層17上にヨーク13のパーマロイ層が形成され
、保護膜としてのアルミナ層18に覆われている。まだ
レジスト層17の浮上面10a側は幅狭とされてヨーク
12,13により磁気ギャップが形成されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】スライダ10に薄膜磁
気ヘッドを形成した後、ヘッドの磁気ギャップ19形成
部分が浮上面10aと略同一平面となるよう図5の破線
に示す如く、平面加工を行なう。従来はこの平面加工を
常温で行なっていた。
気ヘッドを形成した後、ヘッドの磁気ギャップ19形成
部分が浮上面10aと略同一平面となるよう図5の破線
に示す如く、平面加工を行なう。従来はこの平面加工を
常温で行なっていた。
【0007】しかし、磁気ディスク装置を長時間使用す
ると、磁気ディスク装置の内部は例えば70℃程度の高
温となる。ここで、薄膜磁気ヘッドを構成する各部材の
線膨張係数はレジスト層17が140×10−6(1/
℃)、アルミナ層15,18が8×10−6(1/℃)
、コイル11の銅が18×10−6(1/℃)、ヨーク
12,13のパーマロイ層が17×10−6(1/℃)
と夫々異なっており、特にレジスト層17が他の部材に
対して非常に大きな線膨張係数を持つ。
ると、磁気ディスク装置の内部は例えば70℃程度の高
温となる。ここで、薄膜磁気ヘッドを構成する各部材の
線膨張係数はレジスト層17が140×10−6(1/
℃)、アルミナ層15,18が8×10−6(1/℃)
、コイル11の銅が18×10−6(1/℃)、ヨーク
12,13のパーマロイ層が17×10−6(1/℃)
と夫々異なっており、特にレジスト層17が他の部材に
対して非常に大きな線膨張係数を持つ。
【0008】このため、高温時には特にレジスト層17
の膨張によりヘッドの磁気ギャップ19部分が図5に実
線で示す如くスライダ10の浮上面10aよりも突出し
、この膨張部分が磁気記録媒体と接触してしまう。磁気
記録媒体は接地電位とされているため、上記接触により
ノイズが発生し、また磁気記録媒体の表面が損傷し、品
質低下の原因になるという問題があった。
の膨張によりヘッドの磁気ギャップ19部分が図5に実
線で示す如くスライダ10の浮上面10aよりも突出し
、この膨張部分が磁気記録媒体と接触してしまう。磁気
記録媒体は接地電位とされているため、上記接触により
ノイズが発生し、また磁気記録媒体の表面が損傷し、品
質低下の原因になるという問題があった。
【0009】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
ヘッドの磁気ギャップ部分がスライダの浮上面より膨張
することを防止し、ノイズの発生及び磁気記録媒体の損
傷を防止する薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。
ヘッドの磁気ギャップ部分がスライダの浮上面より膨張
することを防止し、ノイズの発生及び磁気記録媒体の損
傷を防止する薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
はスライダの端面に薄膜電磁変換素子を形成した薄膜磁
気ヘッドにおいて、薄膜電磁変換素子の磁気ギャップが
形成された端面を使用時の温度範囲を越える高温状態で
スライダの磁気記録媒体と対向する浮上面と略同一面と
なるように平面加工する。
はスライダの端面に薄膜電磁変換素子を形成した薄膜磁
気ヘッドにおいて、薄膜電磁変換素子の磁気ギャップが
形成された端面を使用時の温度範囲を越える高温状態で
スライダの磁気記録媒体と対向する浮上面と略同一面と
なるように平面加工する。
【0011】また、薄膜電磁変換素子の磁気ギャップが
形成されてた端面に、磁気ギャップが覗出する開口窓を
持つ非磁性かつ高剛性の変形防止部材を形成する。
形成されてた端面に、磁気ギャップが覗出する開口窓を
持つ非磁性かつ高剛性の変形防止部材を形成する。
【0012】
【作用】本発明においては、高温状態で磁気ギャップ形
成面を平面加工しているため、常温使用時には磁気ギャ
ップ部分はスライダの浮上面より引込んだ状態となり、
高温使用時にも磁気ギャップ部分は浮上面と同一で浮上
面より突出することがなく、磁気ギャップ部分が磁気記
録媒体に接触することがない。
成面を平面加工しているため、常温使用時には磁気ギャ
ップ部分はスライダの浮上面より引込んだ状態となり、
高温使用時にも磁気ギャップ部分は浮上面と同一で浮上
面より突出することがなく、磁気ギャップ部分が磁気記
録媒体に接触することがない。
【0013】また、変形防止部材を設けているため、高
温時の膨張が上記変形防止部材によって抑えられて磁気
ギャップ部分が浮上面より突出することが防止され、高
温時に磁気ギャップ部分が磁気記録媒体に接触すること
がない。
温時の膨張が上記変形防止部材によって抑えられて磁気
ギャップ部分が浮上面より突出することが防止され、高
温時に磁気ギャップ部分が磁気記録媒体に接触すること
がない。
【0014】
【実施例】図1,図2は、本発明ヘッドの第1実施例の
断面構造図を示す。同図中、図5と同一部分には同一符
号を付し、その説明を省略する。
断面構造図を示す。同図中、図5と同一部分には同一符
号を付し、その説明を省略する。
【0015】図1(A)において、スライダ10にアル
ミナ層15,ヨーク12,レジスト層17及びコイル1
1,ヨーク13,アルミナ層18よりなる薄膜磁気ヘッ
ドを形成した後、周囲温度を磁気ディスク装置の長時間
使用時の温度以上の例えば80℃に設定する。この状態
でアルミナ層15,18夫々の浮上面側の端面15a,
18aがスライダ10の浮上面10aと同一平面となる
ように平面加工する。ヨーク12,13はアルミナ層1
5,18より軟らかいためにヨーク12,13の浮上面
側の端面12a,13aはアルミナ層15,18の端面
15a,18aより深く削られる。
ミナ層15,ヨーク12,レジスト層17及びコイル1
1,ヨーク13,アルミナ層18よりなる薄膜磁気ヘッ
ドを形成した後、周囲温度を磁気ディスク装置の長時間
使用時の温度以上の例えば80℃に設定する。この状態
でアルミナ層15,18夫々の浮上面側の端面15a,
18aがスライダ10の浮上面10aと同一平面となる
ように平面加工する。ヨーク12,13はアルミナ層1
5,18より軟らかいためにヨーク12,13の浮上面
側の端面12a,13aはアルミナ層15,18の端面
15a,18aより深く削られる。
【0016】上記の加工後、温度を常温まで低下させる
と、図2に示す如くアルミナ層15,18、ヨーク12
,13、レジスト層17,コイル11の収縮により、ア
ルミナ層15の端面15a,18aはスライダ10の浮
上面10aより引上げられ、ヨーク12,13の端面1
2a,13aは端面15a,18aより更に引上げられ
、浮上面10aから端面12a,13aまでのリセス量
は所定値(例えば0.05μm)となる。
と、図2に示す如くアルミナ層15,18、ヨーク12
,13、レジスト層17,コイル11の収縮により、ア
ルミナ層15の端面15a,18aはスライダ10の浮
上面10aより引上げられ、ヨーク12,13の端面1
2a,13aは端面15a,18aより更に引上げられ
、浮上面10aから端面12a,13aまでのリセス量
は所定値(例えば0.05μm)となる。
【0017】この薄膜磁気ヘッドを適用した磁気ディス
ク装置が長時間使用されて例えば70℃と高温になった
場合、磁気ヘッドは図1に示す如き状態となって磁気ギ
ャップ19部分が膨張して浮上面10aより突出するこ
とはなく、磁気記録媒体に接触してノイズを発生したり
媒体を損傷することが防止される。
ク装置が長時間使用されて例えば70℃と高温になった
場合、磁気ヘッドは図1に示す如き状態となって磁気ギ
ャップ19部分が膨張して浮上面10aより突出するこ
とはなく、磁気記録媒体に接触してノイズを発生したり
媒体を損傷することが防止される。
【0018】図3は本発明ヘッドの第2実施例の断面構
造図を示す。同図中、図1と同一部分には同一符号を付
す。図3中、ヨーク12,13、アルミナ層15,18
、レジスト層17夫々の浮上面10a側の端面12a,
13a,15a,18aは浮上面10aより引込んだ位
置となるよう平面加工された後、変形防止部材21が形
成される。この変形防止部材21は非磁性かつ高剛性の
例えば銅又はアルミニウム等の材料が用いられる。
造図を示す。同図中、図1と同一部分には同一符号を付
す。図3中、ヨーク12,13、アルミナ層15,18
、レジスト層17夫々の浮上面10a側の端面12a,
13a,15a,18aは浮上面10aより引込んだ位
置となるよう平面加工された後、変形防止部材21が形
成される。この変形防止部材21は非磁性かつ高剛性の
例えば銅又はアルミニウム等の材料が用いられる。
【0019】この変形防止部材21の形成後、ヨーク1
2,13の端面12a,13a及び磁気ギャップ19が
覗出するように変形防止部材21に開口窓22が形成さ
れる。なお、変形防止部材21を形成する際に開口窓2
2部分をマスクしておき、形成後このマスクを除去して
も良い。
2,13の端面12a,13a及び磁気ギャップ19が
覗出するように変形防止部材21に開口窓22が形成さ
れる。なお、変形防止部材21を形成する際に開口窓2
2部分をマスクしておき、形成後このマスクを除去して
も良い。
【0020】この実施例では高温時にレジスト層17が
膨張しても変形防止部材21によって磁気ギャップ19
部分が浮上面10aより突出することが防止され、ノイ
ズの発生及び磁気記録媒体の損傷のおそれがなくなる。
膨張しても変形防止部材21によって磁気ギャップ19
部分が浮上面10aより突出することが防止され、ノイ
ズの発生及び磁気記録媒体の損傷のおそれがなくなる。
【0021】なお、変形防止部材21の表面に線膨張係
数がこれより小さな第2の変形防止部材を追加形成し、
2つの変形防止部材のバイメタル効果によって高温時に
レジスト層19の膨張と対抗するような力を発生するよ
うに構成しても良い。
数がこれより小さな第2の変形防止部材を追加形成し、
2つの変形防止部材のバイメタル効果によって高温時に
レジスト層19の膨張と対抗するような力を発生するよ
うに構成しても良い。
【0022】
【発明の効果】上述の如く、薄膜磁気ヘッドは、ヘッド
の磁気ギャップ部分がスライダの浮上面より膨張するこ
とを防止してノイズの発生及び磁気記録媒体の損傷を防
止でき、実用上きわめて有用である。
の磁気ギャップ部分がスライダの浮上面より膨張するこ
とを防止してノイズの発生及び磁気記録媒体の損傷を防
止でき、実用上きわめて有用である。
【図1】本発明ヘッドの第1実施例の断面構造図である
。
。
【図2】本発明ヘッドの第1実施例の断面構造図である
。
。
【図3】本発明ヘッドの第2実施例の断面構造図である
。
。
【図4】薄膜磁気ヘッドの斜視図,一部拡大図である。
【図5】従来ヘッドの一例の断面構造図である。
10 スライダ
10a 浮上面
11 コイル
12,13 ヨーク
15,18 アルミナ層
17 レジスト層
19 磁気ギャップ
21 変形防止部材
22 開口窓
Claims (2)
- 【請求項1】 スライダ(10)の端面に薄膜電磁変
換素子を形成した薄膜磁気ヘッドにおいて、該薄膜電磁
変換素子の磁気ギャップ(19)が形成された端面を使
用時の温度範囲を越える高温状態で該スライダ(10)
の磁気記録媒体と対向する浮上面(10a)と略同一面
となるように平面加工したことを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッド。 - 【請求項2】 スライダ(10)の端面に薄膜電磁変
換素子を形成した薄膜磁気ヘッドにおいて、該薄膜電磁
変換素子の磁気ギャップ(19)が形成されてた端面に
、該磁気ギャップ(19)が覗出する開口窓(22)を
持つ非磁性かつ高剛性の変形防止部材(21)を形成し
たことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11184991A JP2919996B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11184991A JP2919996B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04339308A true JPH04339308A (ja) | 1992-11-26 |
JP2919996B2 JP2919996B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=14571708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11184991A Expired - Fee Related JP2919996B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2919996B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002037480A1 (fr) * | 2000-10-26 | 2002-05-10 | Hitachi, Ltd. | Curseur de tete magnetique et dispositif a disque magnetique |
US6679762B2 (en) | 2001-04-19 | 2004-01-20 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Recession control via thermal expansion coefficient differences in recording heads during lapping |
US7212380B2 (en) | 2004-04-26 | 2007-05-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic write head with recessed overcoat |
US7362533B2 (en) | 2004-07-30 | 2008-04-22 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk drive with slider burnishing-on-demand |
US7520048B2 (en) | 2004-05-28 | 2009-04-21 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method of fabricating a GMR head |
US8286334B2 (en) | 2006-07-14 | 2012-10-16 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Method of manufacturing pre-sliders for read write heads by annealing to saturation |
-
1991
- 1991-05-16 JP JP11184991A patent/JP2919996B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002037480A1 (fr) * | 2000-10-26 | 2002-05-10 | Hitachi, Ltd. | Curseur de tete magnetique et dispositif a disque magnetique |
US6963464B2 (en) | 2000-10-26 | 2005-11-08 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic head heating element in a disk drive |
US7474504B2 (en) | 2000-10-26 | 2009-01-06 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head heating element in a disk drive |
US6679762B2 (en) | 2001-04-19 | 2004-01-20 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Recession control via thermal expansion coefficient differences in recording heads during lapping |
US7212380B2 (en) | 2004-04-26 | 2007-05-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic write head with recessed overcoat |
US7520048B2 (en) | 2004-05-28 | 2009-04-21 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method of fabricating a GMR head |
US7362533B2 (en) | 2004-07-30 | 2008-04-22 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk drive with slider burnishing-on-demand |
US8286334B2 (en) | 2006-07-14 | 2012-10-16 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Method of manufacturing pre-sliders for read write heads by annealing to saturation |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2919996B2 (ja) | 1999-07-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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