JPH08273111A - 磁気ヘッドコアおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドコアおよびその製造方法Info
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- JPH08273111A JPH08273111A JP7211195A JP7211195A JPH08273111A JP H08273111 A JPH08273111 A JP H08273111A JP 7211195 A JP7211195 A JP 7211195A JP 7211195 A JP7211195 A JP 7211195A JP H08273111 A JPH08273111 A JP H08273111A
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 インダクタンスが小さく、チップ強度の大き
い磁気ヘッドコアおよびその製造方法を提供すること。 【構成】 磁性体フェライト１からなる巻線溝６を有す
る側のコアと、非磁性体フェライト２からなる巻線溝６
のない側のコアとを、２つのコアの接合面にそれぞれ磁
性膜３を付着させて、図示しない非磁性体を介在させ
て、接合ガラス７にて接合して構成されている。また、
このＭＩＧヘッドが磁気記録媒体に対向するＡＢＳ面５
は、該ＭＩＧヘッドが使用されるＨＤＤ所定の記録トラ
ック幅となるように、切り欠き面４４で斜めに切り落と
された構成となっている。
い磁気ヘッドコアおよびその製造方法を提供すること。 【構成】 磁性体フェライト１からなる巻線溝６を有す
る側のコアと、非磁性体フェライト２からなる巻線溝６
のない側のコアとを、２つのコアの接合面にそれぞれ磁
性膜３を付着させて、図示しない非磁性体を介在させ
て、接合ガラス７にて接合して構成されている。また、
このＭＩＧヘッドが磁気記録媒体に対向するＡＢＳ面５
は、該ＭＩＧヘッドが使用されるＨＤＤ所定の記録トラ
ック幅となるように、切り欠き面４４で斜めに切り落と
された構成となっている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッドに係り、特に
コア材料にフェライトを用い、ギャップ近傍に高Ｂｓ
（高飽和磁束密度）の金属薄膜材料を配した、高密度・
高帯域特性を有する複合型ヘッドである、ＭＩＧ（Meta
l-In-Gap）ヘッド及びその製造方法に関する。
コア材料にフェライトを用い、ギャップ近傍に高Ｂｓ
（高飽和磁束密度）の金属薄膜材料を配した、高密度・
高帯域特性を有する複合型ヘッドである、ＭＩＧ（Meta
l-In-Gap）ヘッド及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化がすすみ、コ
ンピュータ等の外部記憶装置として使用されるハードデ
ィスクドライブ（ＨＤＤ）などでは、記録トラック幅が
５μｍ以下のようなＨＤＤシステムが商品化されてい
る。磁気特性に優れるハードディスクの性能を引き出す
には、磁気ヘッドに、それなりの微細の寸法と、安定な
非接触走行を実現するための高い精度が要求される。従
来のＨＤＤにおける磁気ヘッドとしては、主に２種類有
り、１つは磁性フェライトで磁気回路を構成し、これに
巻線したバルクヘッドと、薄膜形成技術によりコアを形
成した、薄膜ヘッド（film head）とがある。以下に、
ＨＤＤにおける磁気ヘッドとして、最も一般的に使用さ
れている薄膜ヘッドについて簡単に説明する。
ンピュータ等の外部記憶装置として使用されるハードデ
ィスクドライブ（ＨＤＤ）などでは、記録トラック幅が
５μｍ以下のようなＨＤＤシステムが商品化されてい
る。磁気特性に優れるハードディスクの性能を引き出す
には、磁気ヘッドに、それなりの微細の寸法と、安定な
非接触走行を実現するための高い精度が要求される。従
来のＨＤＤにおける磁気ヘッドとしては、主に２種類有
り、１つは磁性フェライトで磁気回路を構成し、これに
巻線したバルクヘッドと、薄膜形成技術によりコアを形
成した、薄膜ヘッド（film head）とがある。以下に、
ＨＤＤにおける磁気ヘッドとして、最も一般的に使用さ
れている薄膜ヘッドについて簡単に説明する。
【０００３】図６は従来のハードディスクドライブにお
ける薄膜ヘッドおよびそれが取り付けられるスライダを
示した図である。
ける薄膜ヘッドおよびそれが取り付けられるスライダを
示した図である。
【０００４】図６に示すように、ハードディスクドライ
ブにおける薄膜ヘッド４０は、スライダ３８に付着され
たパーマロイ等の磁性体からなる下部コア３３上に、絶
縁層３９で覆われたコイル３５が配置され、さらにその
上に、前記下部コア３３と同様なパーマロイ等の磁性体
からなる上部コア３１が配置され、この上部コア３１と
前記下部コア３３が、図示しない非磁性体を介在してな
るギャップ３２および上部・下部コア接続点３６の間に
コイル３５をはさむように構成されている。また、トラ
ック幅３４は前記上部コア３１の形状により決定され、
図示しない磁気記録媒体への前記ギャップ３２からのリ
ード・ライトは、前記コイル３５のリード線３７，４５
を介して行われるようになっている。
ブにおける薄膜ヘッド４０は、スライダ３８に付着され
たパーマロイ等の磁性体からなる下部コア３３上に、絶
縁層３９で覆われたコイル３５が配置され、さらにその
上に、前記下部コア３３と同様なパーマロイ等の磁性体
からなる上部コア３１が配置され、この上部コア３１と
前記下部コア３３が、図示しない非磁性体を介在してな
るギャップ３２および上部・下部コア接続点３６の間に
コイル３５をはさむように構成されている。また、トラ
ック幅３４は前記上部コア３１の形状により決定され、
図示しない磁気記録媒体への前記ギャップ３２からのリ
ード・ライトは、前記コイル３５のリード線３７，４５
を介して行われるようになっている。
【０００５】以上のように構成された従来（一般）の薄
膜ヘッドでは、絶縁層に有機物が用いられるため、薄膜
磁気ヘッドのコアとしては低温プロセスが可能なＮｉＦ
ｅメッキコアが用いられている。ところが、前記ＮｉＦ
ｅメッキコアは、Ｂｓ（飽和磁束密度）が 0.8テスラ程
度と小さいために、あまり強い磁界を発生することがで
きない。そのため、Ｈｃ（抗磁力）が、２０００ Oe 以
上になる磁気記録媒体に前記薄膜磁気ヘッドが使用され
るた場合、オーバーライトが不十分になるという問題が
あった。
膜ヘッドでは、絶縁層に有機物が用いられるため、薄膜
磁気ヘッドのコアとしては低温プロセスが可能なＮｉＦ
ｅメッキコアが用いられている。ところが、前記ＮｉＦ
ｅメッキコアは、Ｂｓ（飽和磁束密度）が 0.8テスラ程
度と小さいために、あまり強い磁界を発生することがで
きない。そのため、Ｈｃ（抗磁力）が、２０００ Oe 以
上になる磁気記録媒体に前記薄膜磁気ヘッドが使用され
るた場合、オーバーライトが不十分になるという問題が
あった。
【０００６】また、一般に薄膜磁気ヘッドのポール厚４
６（図６参照）は、数μｍと小さいために、磁気記録媒
体からのデータリード時にポールエッジで取り込まれた
偽信号とギャップで取り込んだ主信号とが干渉（いわゆ
るコンター効果）を起こし、波形がゆがみＳ／Ｎ比を低
下させてしまうという問題があった。
６（図６参照）は、数μｍと小さいために、磁気記録媒
体からのデータリード時にポールエッジで取り込まれた
偽信号とギャップで取り込んだ主信号とが干渉（いわゆ
るコンター効果）を起こし、波形がゆがみＳ／Ｎ比を低
下させてしまうという問題があった。
【０００７】このような、薄膜磁気ヘッドの有する問題
を解決したものとして、コアにフェライトを用いギャッ
プの近傍にＦｅ系の微結晶膜を配置したバルク型の磁気
ヘッドがある。
を解決したものとして、コアにフェライトを用いギャッ
プの近傍にＦｅ系の微結晶膜を配置したバルク型の磁気
ヘッドがある。
【０００８】図７は従来のＭＩＧ磁気ヘッドを示す図で
ある。
ある。
【０００９】図７に示すＭＩＧ（Metal-In-Gap）磁気ヘ
ッド（以降ＭＩＧヘッドともいう）は、磁性体フェライ
ト１からなる巻線溝６を有する側のコアと、同じく磁性
体フェライト１からなる巻線溝６のない側のコアとを、
２つのコアの接合面にそれぞれ磁性膜３を付着させ、図
示しない非磁性体を介在させて接合ガラス７にて接合し
て構成されている。また、このＭＩＧヘッドが磁気記録
媒体に対向するＡＢＳ（エア・ヘ゛アリンク゛・サーフェイス）面５は、
該ＭＩＧヘッドが使用されるＨＤＤ所定の記録トラック
幅となるように、切り欠き面４４で斜めに切り落とされ
ている。
ッド（以降ＭＩＧヘッドともいう）は、磁性体フェライ
ト１からなる巻線溝６を有する側のコアと、同じく磁性
体フェライト１からなる巻線溝６のない側のコアとを、
２つのコアの接合面にそれぞれ磁性膜３を付着させ、図
示しない非磁性体を介在させて接合ガラス７にて接合し
て構成されている。また、このＭＩＧヘッドが磁気記録
媒体に対向するＡＢＳ（エア・ヘ゛アリンク゛・サーフェイス）面５は、
該ＭＩＧヘッドが使用されるＨＤＤ所定の記録トラック
幅となるように、切り欠き面４４で斜めに切り落とされ
ている。
【００１０】このヘッドに用いられている磁性膜３は、
前記したとおりＦｅ系の微結晶膜で構成されていて、該
磁性膜３の有する飽和磁束密度Ｂｓは 1.5テスラと大き
く、抗磁力Ｈｃが、２５００ Oe 程度の磁気記録媒体で
も十分オーバーライトが可能となっている。このＭＩＧ
ヘッドをＨＤＤのリード・ライト用に使用した例を以下
に示す。
前記したとおりＦｅ系の微結晶膜で構成されていて、該
磁性膜３の有する飽和磁束密度Ｂｓは 1.5テスラと大き
く、抗磁力Ｈｃが、２５００ Oe 程度の磁気記録媒体で
も十分オーバーライトが可能となっている。このＭＩＧ
ヘッドをＨＤＤのリード・ライト用に使用した例を以下
に示す。
【００１１】図８は従来のＭＩＧ磁気ヘッドチップをＨ
ＤＤスライダ用に加工した例を示した図である。
ＤＤスライダ用に加工した例を示した図である。
【００１２】一般にＨＤＤは、耐摩耗状の条件が過酷で
あるため、ヘッドと磁気記録媒体との非接触走行が装置
構成上の必須の条件となっている。周知のとおり、この
条件は、同図に示すスライダ３８と一体となった浮動ヘ
ッド（flying head）によって実現されている。浮動ヘ
ッドは、媒体走行（回転）に伴う空気流がスライダ３８
の浮上面４１と磁気記録媒体との間に形成されるくさび
状の隙間内に押し込まれるときに発生する圧力（動圧
力）により磁気記録媒体面上に浮上するようになってい
る。これは潤滑油を用いたすべり軸受けと同じ流体潤滑
の原理（流体の持つ粘性を利用した圧力発生）に基づく
軸受けの一種で、動圧空気軸受けと呼ばれている。これ
は、ベルヌーイの原理（流体の持つ慣性を利用した圧力
発生）に基づく航空機の飛行とは、浮上力発生のメカニ
ズムが基本的に異なることを示している。
あるため、ヘッドと磁気記録媒体との非接触走行が装置
構成上の必須の条件となっている。周知のとおり、この
条件は、同図に示すスライダ３８と一体となった浮動ヘ
ッド（flying head）によって実現されている。浮動ヘ
ッドは、媒体走行（回転）に伴う空気流がスライダ３８
の浮上面４１と磁気記録媒体との間に形成されるくさび
状の隙間内に押し込まれるときに発生する圧力（動圧
力）により磁気記録媒体面上に浮上するようになってい
る。これは潤滑油を用いたすべり軸受けと同じ流体潤滑
の原理（流体の持つ粘性を利用した圧力発生）に基づく
軸受けの一種で、動圧空気軸受けと呼ばれている。これ
は、ベルヌーイの原理（流体の持つ慣性を利用した圧力
発生）に基づく航空機の飛行とは、浮上力発生のメカニ
ズムが基本的に異なることを示している。
【００１３】また、ハードディスクにおける耐摩耗上必
須の隙間は、逆に記録密度を制限することになるため、
隙間を可能な限り小さくすることが必要であり、0.2 μ
ｍ程度の微小隙間が実現されている。
須の隙間は、逆に記録密度を制限することになるため、
隙間を可能な限り小さくすることが必要であり、0.2 μ
ｍ程度の微小隙間が実現されている。
【００１４】このように構成されたスライダ３８におい
て、ＭＩＧ磁気ヘッドチップ４２は図８（ａ）に示すよ
うに、前記スライダ３８の側面に配置されていて、ＭＩ
Ｇ磁気ヘッドチップ４２の磁気記録媒体に対向するＡＢ
Ｓ（エア・ヘ゛アリンク゛・サーフェイス）面５は、図８（ｂ）に示すよ
うに、該ＭＩＧヘッドが使用されるＨＤＤ所定の記録ト
ラック幅となるよう、切り欠き面４４で斜めに切り落と
されている。
て、ＭＩＧ磁気ヘッドチップ４２は図８（ａ）に示すよ
うに、前記スライダ３８の側面に配置されていて、ＭＩ
Ｇ磁気ヘッドチップ４２の磁気記録媒体に対向するＡＢ
Ｓ（エア・ヘ゛アリンク゛・サーフェイス）面５は、図８（ｂ）に示すよ
うに、該ＭＩＧヘッドが使用されるＨＤＤ所定の記録ト
ラック幅となるよう、切り欠き面４４で斜めに切り落と
されている。
【００１５】一方、この従来におけるＭＩＧヘッドは、
前記薄膜ヘッドに比べてインダクタンスが大きく、高周
波でのＳ／Ｎ比が低下するという問題があった。インダ
クタンスを小さくするには、前記ＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プ４２のコアの断面積を小さくすればよいことは知られ
ているが、断面積を小さくするとコアの強度が低下し
て、巻線４３を施す工程においてＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プ４２が破損してしまうという問題があった。
前記薄膜ヘッドに比べてインダクタンスが大きく、高周
波でのＳ／Ｎ比が低下するという問題があった。インダ
クタンスを小さくするには、前記ＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プ４２のコアの断面積を小さくすればよいことは知られ
ているが、断面積を小さくするとコアの強度が低下し
て、巻線４３を施す工程においてＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プ４２が破損してしまうという問題があった。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】上記の如く、ＨＤＤス
ライダに取り付けられる磁気ヘッドに、従来のＭＩＧ磁
気ヘッドチップを採用した場合、薄膜ヘッドに比べてイ
ンダクタンスが大きくなり、高周波でのＳ／Ｎ比が低下
するという問題があった。また、インダクタンスを小さ
くするために、前記ＭＩＧ磁気ヘッドチップのコアの断
面積を小さくすると、コアの強度が低下してしまうとい
う問題があった。
ライダに取り付けられる磁気ヘッドに、従来のＭＩＧ磁
気ヘッドチップを採用した場合、薄膜ヘッドに比べてイ
ンダクタンスが大きくなり、高周波でのＳ／Ｎ比が低下
するという問題があった。また、インダクタンスを小さ
くするために、前記ＭＩＧ磁気ヘッドチップのコアの断
面積を小さくすると、コアの強度が低下してしまうとい
う問題があった。
【００１７】そこで、本発明はこのような問題に鑑み
て、インダクタンスが小さく、チップ強度の大きい磁気
ヘッドコアおよびその製造方法を提供することを目的と
するものである。
て、インダクタンスが小さく、チップ強度の大きい磁気
ヘッドコアおよびその製造方法を提供することを目的と
するものである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明によ
る磁気ヘッドコアは、磁性フェライト等からなる第１の
コアと、非磁性フェライト等からなる第２のコアと、前
記第１あるいは第２のコアのいづれか一方又は両方に形
成された巻線溝と、前記第１のコアの接合面に均一に付
着した、高透磁率の第１の金属磁性膜と、前記第２のコ
アの接合面に均一に付着した、高透磁率の第２の金属磁
性膜と、前記第１および第２の金属磁性膜の接合面に均
一に付着して磁気ギャップ面を形成し、該磁気ギャップ
面に所定のギャップ長を形成する第１の非磁性体と、前
記第１および又は第２のコアが有する巻線溝に充填さ
れ、巻線を通すための穴の空いたガラス等からなる、前
記第１および第２のコアを接合する第２の非磁性体と、
前記第１および第２のコアを磁気記録媒体に対向するＡ
ＢＳ面から斜めに切り落とし形成された所定のトラック
幅を有するトラック面とを具備したことを特徴とする。
る磁気ヘッドコアは、磁性フェライト等からなる第１の
コアと、非磁性フェライト等からなる第２のコアと、前
記第１あるいは第２のコアのいづれか一方又は両方に形
成された巻線溝と、前記第１のコアの接合面に均一に付
着した、高透磁率の第１の金属磁性膜と、前記第２のコ
アの接合面に均一に付着した、高透磁率の第２の金属磁
性膜と、前記第１および第２の金属磁性膜の接合面に均
一に付着して磁気ギャップ面を形成し、該磁気ギャップ
面に所定のギャップ長を形成する第１の非磁性体と、前
記第１および又は第２のコアが有する巻線溝に充填さ
れ、巻線を通すための穴の空いたガラス等からなる、前
記第１および第２のコアを接合する第２の非磁性体と、
前記第１および第２のコアを磁気記録媒体に対向するＡ
ＢＳ面から斜めに切り落とし形成された所定のトラック
幅を有するトラック面とを具備したことを特徴とする。
【００１９】請求項２記載の発明による磁気ヘッドコア
は、請求項１記載の磁気ヘッドコアにおいて、前記第１
の金属磁性膜が磁気ギャップを形成する側の面と、その
反対側の前記第１の金属磁性膜と前記第１のコアとによ
り形成される付着面とは平行で、前記第２の金属磁性膜
が磁気ギャップを形成する側の面と、その反対側の前記
第２の金属磁性膜と前記第２のコアとにより形成される
付着面とは平行でないことを特徴とする。
は、請求項１記載の磁気ヘッドコアにおいて、前記第１
の金属磁性膜が磁気ギャップを形成する側の面と、その
反対側の前記第１の金属磁性膜と前記第１のコアとによ
り形成される付着面とは平行で、前記第２の金属磁性膜
が磁気ギャップを形成する側の面と、その反対側の前記
第２の金属磁性膜と前記第２のコアとにより形成される
付着面とは平行でないことを特徴とする。
【００２０】請求項３記載の発明による磁気ヘッドコア
は、請求項１記載の磁気ヘッドコアにおいて、前記第１
のコアは、非磁性フェライト等で構成され、前記第１の
金属磁性膜が磁気ギャップを形成する側の面と、その反
対側の前記第１の金属磁性膜と前記第１のコアとにより
形成される付着面とは平行でなく、かつ、前記第２の金
属磁性膜が磁気ギャップを形成する側の面と、その反対
側の前記第２の金属磁性膜と前記第２のコアとにより形
成される付着面とは平行でないことを特徴とする。
は、請求項１記載の磁気ヘッドコアにおいて、前記第１
のコアは、非磁性フェライト等で構成され、前記第１の
金属磁性膜が磁気ギャップを形成する側の面と、その反
対側の前記第１の金属磁性膜と前記第１のコアとにより
形成される付着面とは平行でなく、かつ、前記第２の金
属磁性膜が磁気ギャップを形成する側の面と、その反対
側の前記第２の金属磁性膜と前記第２のコアとにより形
成される付着面とは平行でないことを特徴とする。
【００２１】請求項４記載の発明による磁気ヘッドコア
は、請求項１，２または３記載の磁気ヘッドコアにおい
て、前記第１および又は第２のコアは、略一軸磁気異方
性を有し、その磁化容易軸の方向がほぼ磁気記録媒体面
と直交し、かつ、該磁気記録媒体面の摺動方向と直角で
あることを特徴とする。
は、請求項１，２または３記載の磁気ヘッドコアにおい
て、前記第１および又は第２のコアは、略一軸磁気異方
性を有し、その磁化容易軸の方向がほぼ磁気記録媒体面
と直交し、かつ、該磁気記録媒体面の摺動方向と直角で
あることを特徴とする。
【００２２】請求項５記載の発明による磁気ヘッドコア
の製造方法は、非磁性基板に該非磁性基板面と平行でな
い面を有する溝をエッチングや機械加工等により複数形
成して、前記溝の表面に磁性膜を１０μｍ程度の厚さに
なるように形成し、前記磁性膜の表面にガラスを充填
し、該ガラス面を研磨除去して前記溝底部に前記磁性膜
が残され前記溝上部にガラスが充填された状態の鏡面基
板を形成し、該鏡面基板の研磨面全面に、前記鏡面基板
の研磨面と平行でかつ前記複数の溝の垂直断面と平行な
方向が磁化容易軸となるように一軸磁気異方性を付与し
た磁性膜を形成してなる非磁性基板ブロックと、鏡面仕
上げのされた磁性基板表面に周期的に巻線溝をもうけ、
該巻線溝側の面に磁性膜を形成してなる磁性基板ブロッ
クとを、ギャップスペーサ膜を挟んでガラス接合し、列
分割を行った後スライスして、ＭＩＧ磁気ヘッドチップ
コアを得ることを特徴とする。
の製造方法は、非磁性基板に該非磁性基板面と平行でな
い面を有する溝をエッチングや機械加工等により複数形
成して、前記溝の表面に磁性膜を１０μｍ程度の厚さに
なるように形成し、前記磁性膜の表面にガラスを充填
し、該ガラス面を研磨除去して前記溝底部に前記磁性膜
が残され前記溝上部にガラスが充填された状態の鏡面基
板を形成し、該鏡面基板の研磨面全面に、前記鏡面基板
の研磨面と平行でかつ前記複数の溝の垂直断面と平行な
方向が磁化容易軸となるように一軸磁気異方性を付与し
た磁性膜を形成してなる非磁性基板ブロックと、鏡面仕
上げのされた磁性基板表面に周期的に巻線溝をもうけ、
該巻線溝側の面に磁性膜を形成してなる磁性基板ブロッ
クとを、ギャップスペーサ膜を挟んでガラス接合し、列
分割を行った後スライスして、ＭＩＧ磁気ヘッドチップ
コアを得ることを特徴とする。
【００２３】請求項６記載の発明による磁気ヘッドコア
の製造方法は、非磁性基板に該非磁性基板面と平行でな
い面を有する溝をエッチングや機械加工等により形成
し、前記溝の表面に磁性膜を１０μｍ程度の厚さになる
ように形成し、前記形成された磁性膜の下の、前記非磁
性基板が露出しない程度に磁性膜表面の研磨除去を行っ
て鏡面基板を形成し、該鏡面基板の研磨面全面に、前記
鏡面基板の研磨面と平行でかつ前記複数の溝の垂直断面
と平行な方向が磁化容易軸となるように一軸磁気異方性
を付与した磁性膜を形成してなる非磁性基板ブロック
と、鏡面仕上げのされた磁性基板表面に周期的に巻線溝
をもうけ、該巻線溝側の面に磁性膜を形成してなる磁性
基板ブロックとを、ギャップスペーサ膜を挟んでガラス
接合し、列分割を行った後スライスして、ＭＩＧ磁気ヘ
ッドチップコアを得ることを特徴とする。
の製造方法は、非磁性基板に該非磁性基板面と平行でな
い面を有する溝をエッチングや機械加工等により形成
し、前記溝の表面に磁性膜を１０μｍ程度の厚さになる
ように形成し、前記形成された磁性膜の下の、前記非磁
性基板が露出しない程度に磁性膜表面の研磨除去を行っ
て鏡面基板を形成し、該鏡面基板の研磨面全面に、前記
鏡面基板の研磨面と平行でかつ前記複数の溝の垂直断面
と平行な方向が磁化容易軸となるように一軸磁気異方性
を付与した磁性膜を形成してなる非磁性基板ブロック
と、鏡面仕上げのされた磁性基板表面に周期的に巻線溝
をもうけ、該巻線溝側の面に磁性膜を形成してなる磁性
基板ブロックとを、ギャップスペーサ膜を挟んでガラス
接合し、列分割を行った後スライスして、ＭＩＧ磁気ヘ
ッドチップコアを得ることを特徴とする。
【００２４】請求項７記載の発明による磁気ヘッドコア
の製造方法は、請求項５または６記載の磁気ヘッドコア
の製造方法において、前記磁性基板ブロックに対して施
される加工に加えて、前記非磁性基板ブロックに施され
る加工と同様な加工を施すことを特徴とする。
の製造方法は、請求項５または６記載の磁気ヘッドコア
の製造方法において、前記磁性基板ブロックに対して施
される加工に加えて、前記非磁性基板ブロックに施され
る加工と同様な加工を施すことを特徴とする。
【００２５】
【作用】請求項１記載の発明によれば、薄膜磁気ヘッド
のかわりに、一方のコアが非磁性体であるＭＩＧ磁気ヘ
ッドを用いるようにしたので、強い磁界を発生すること
ができ、抗磁力の比較的大きい磁気記録媒体であっても
十分オーバーライトが可能である。また、換算インダク
タンスを低下させて、薄膜ヘッド並の換算インダクタン
スとしたので、高周波でのＳ／Ｎ比の低下を防止するこ
とが可能となる。さらに、換算インダクタンスを上げる
ことなく高強度のＭＩＧ磁気ヘッドを作成することがで
きる。
のかわりに、一方のコアが非磁性体であるＭＩＧ磁気ヘ
ッドを用いるようにしたので、強い磁界を発生すること
ができ、抗磁力の比較的大きい磁気記録媒体であっても
十分オーバーライトが可能である。また、換算インダク
タンスを低下させて、薄膜ヘッド並の換算インダクタン
スとしたので、高周波でのＳ／Ｎ比の低下を防止するこ
とが可能となる。さらに、換算インダクタンスを上げる
ことなく高強度のＭＩＧ磁気ヘッドを作成することがで
きる。
【００２６】請求項２から７に記載の発明によれば、Ｍ
ＩＧ磁気ヘッドのギャップと、非磁性体コア側のポール
エッジとを非平行としたので、請求項１の有する作用に
加えて、ポールエッジで取り込まれた偽信号とギャップ
で取り込んだ主信号とが干渉（いわゆるコンター効果）
を起こすことが無くなり、波形のゆがみに起因するＳ／
Ｎ比の低下を防止することができる。
ＩＧ磁気ヘッドのギャップと、非磁性体コア側のポール
エッジとを非平行としたので、請求項１の有する作用に
加えて、ポールエッジで取り込まれた偽信号とギャップ
で取り込んだ主信号とが干渉（いわゆるコンター効果）
を起こすことが無くなり、波形のゆがみに起因するＳ／
Ｎ比の低下を防止することができる。
【００２７】
【実施例】実施例について図面を参照して説明する。図
１は本発明であるインダクタンスの小さいＭＩＧ磁気ヘ
ッドチップの一実施例を示す図である。
１は本発明であるインダクタンスの小さいＭＩＧ磁気ヘ
ッドチップの一実施例を示す図である。
【００２８】従来例として図８で説明した、従来のＭＩ
Ｇ磁気ヘッドチップ４２をＨＤＤスライダ３８用に加工
したものでは、巻線４３を施した部分のコア断面積を、
チップ強度が、巻線４３に耐えられる限界の ５０μｍ
×７０μｍ＝３５００μｍ2と小さくされていて、イン
ダクタンスを巻数の２乗で割った換算インダクタンスは
0.8 ｎＨ程度まで小さくなってはいるが、前記薄膜磁気
ヘッドと比べて遜色のない程度まで小さくしたい。ま
た、もっと強度的に余裕が欲しい。
Ｇ磁気ヘッドチップ４２をＨＤＤスライダ３８用に加工
したものでは、巻線４３を施した部分のコア断面積を、
チップ強度が、巻線４３に耐えられる限界の ５０μｍ
×７０μｍ＝３５００μｍ2と小さくされていて、イン
ダクタンスを巻数の２乗で割った換算インダクタンスは
0.8 ｎＨ程度まで小さくなってはいるが、前記薄膜磁気
ヘッドと比べて遜色のない程度まで小さくしたい。ま
た、もっと強度的に余裕が欲しい。
【００２９】図１（ａ）に示す本発明におけるＭＩＧ磁
気ヘッドチップは、磁性体フェライト１からなる巻線溝
６を有する側のコアと、非磁性体フェライト２からなる
巻線溝６のない側のコアとを、２つのコアの接合面にそ
れぞれ磁性膜３を付着させ、図示しない非磁性体を介在
させて、接合ガラス７にて接合して構成されている。ま
た、このＭＩＧヘッドが磁気記録媒体に対向するＡＢＳ
面５は、該ＭＩＧヘッドが使用されるＨＤＤ所定の記録
トラック幅８となるように、切り欠き面４４で斜めに切
り落とされた構成となっている。
気ヘッドチップは、磁性体フェライト１からなる巻線溝
６を有する側のコアと、非磁性体フェライト２からなる
巻線溝６のない側のコアとを、２つのコアの接合面にそ
れぞれ磁性膜３を付着させ、図示しない非磁性体を介在
させて、接合ガラス７にて接合して構成されている。ま
た、このＭＩＧヘッドが磁気記録媒体に対向するＡＢＳ
面５は、該ＭＩＧヘッドが使用されるＨＤＤ所定の記録
トラック幅８となるように、切り欠き面４４で斜めに切
り落とされた構成となっている。
【００３０】このような構成によれば、ＭＩＧ磁気ヘッ
ドチップコアの片側、即ち非磁性体フェライト２からな
る巻線溝６のない側のコアは、磁性膜３のみで磁気回路
が構成されることになり、図１（ｂ）に示すように、ス
ライダ１０に実装されたＭＩＧ磁気ヘッドチップコア
の、巻線を施した部分では、例えば磁性膜３の厚さを５
μｍ，磁性膜３の長さを１００μｍとすると、磁性体の
断面積は５００μｍとなり、この結果、換算インダクタ
ンスは 0.4ｎＨ程度まで低下することになる。これは、
前記薄膜ヘッドの有するインダクタンスと比べて、まっ
たく遜色の無い値である。
ドチップコアの片側、即ち非磁性体フェライト２からな
る巻線溝６のない側のコアは、磁性膜３のみで磁気回路
が構成されることになり、図１（ｂ）に示すように、ス
ライダ１０に実装されたＭＩＧ磁気ヘッドチップコア
の、巻線を施した部分では、例えば磁性膜３の厚さを５
μｍ，磁性膜３の長さを１００μｍとすると、磁性体の
断面積は５００μｍとなり、この結果、換算インダクタ
ンスは 0.4ｎＨ程度まで低下することになる。これは、
前記薄膜ヘッドの有するインダクタンスと比べて、まっ
たく遜色の無い値である。
【００３１】しかしながら、同図に示すとおり、ポール
エッジ４８が、磁気ギャップ４と平行であるため、前記
ポールエッジ４８で取り込まれた偽信号とギャップ４で
取り込んだ主信号とが干渉（いわゆるコンター効果）を
起こし、波形がゆがみＳ／Ｎ比を低下させる場合が発生
し得る。そこで、コンター効果の発生しないＭＩＧ磁気
ヘッドの実施例を以下に示す。
エッジ４８が、磁気ギャップ４と平行であるため、前記
ポールエッジ４８で取り込まれた偽信号とギャップ４で
取り込んだ主信号とが干渉（いわゆるコンター効果）を
起こし、波形がゆがみＳ／Ｎ比を低下させる場合が発生
し得る。そこで、コンター効果の発生しないＭＩＧ磁気
ヘッドの実施例を以下に示す。
【００３２】図２はギャップ４と、非磁性体フェライト
２からなる巻線溝６のない側のコアに付着された磁性膜
３との接合部（ポールエッジ）４８とが非平行に形成さ
れるように構成されたＭＩＧ磁気ヘッドチップの他の実
施例を示す図である。
２からなる巻線溝６のない側のコアに付着された磁性膜
３との接合部（ポールエッジ）４８とが非平行に形成さ
れるように構成されたＭＩＧ磁気ヘッドチップの他の実
施例を示す図である。
【００３３】図２（ａ）に示す、本発明におけるＭＩＧ
磁気ヘッドチップは、磁性体フェライト１からなる巻線
溝６を有する側のコアと、非磁性体フェライト２からな
る巻線溝６のない側のコアとを、２つのコアの接合面に
それぞれ磁性膜３を付着させて、図示しない非磁性体を
介在させて、接合ガラス７にて接合してできたギャップ
４と、前記非磁性体フェライト２からなる巻線溝６のな
い側のコアに付着された側の磁性膜３のポールエッジ４
８とが、非平行に形成されるように構成されている。ま
た、このＭＩＧヘッドが、磁気記録媒体に対向するＡＢ
Ｓ面５は、図２（ｂ）に示すように、該ＭＩＧヘッドが
使用されるＨＤＤ所定の記録トラック幅８となるよう
に、切り欠き面４４で斜めに切り落とされた構成となっ
ている。
磁気ヘッドチップは、磁性体フェライト１からなる巻線
溝６を有する側のコアと、非磁性体フェライト２からな
る巻線溝６のない側のコアとを、２つのコアの接合面に
それぞれ磁性膜３を付着させて、図示しない非磁性体を
介在させて、接合ガラス７にて接合してできたギャップ
４と、前記非磁性体フェライト２からなる巻線溝６のな
い側のコアに付着された側の磁性膜３のポールエッジ４
８とが、非平行に形成されるように構成されている。ま
た、このＭＩＧヘッドが、磁気記録媒体に対向するＡＢ
Ｓ面５は、図２（ｂ）に示すように、該ＭＩＧヘッドが
使用されるＨＤＤ所定の記録トラック幅８となるよう
に、切り欠き面４４で斜めに切り落とされた構成となっ
ている。
【００３４】以上のようにＭＩＧ磁気ヘッドチップを構
成することにより、前述のポールエッジ４８が、磁気ギ
ャップ４と非平行であるため、前記ポールエッジ４８で
取り込まれた偽信号と、ギャップ４で取り込んだ主信号
とが干渉（いわゆるコンター効果）を起こすことによ
る、波形がゆがみＳ／Ｎ比が低下する不具合を防止する
ことができる。
成することにより、前述のポールエッジ４８が、磁気ギ
ャップ４と非平行であるため、前記ポールエッジ４８で
取り込まれた偽信号と、ギャップ４で取り込んだ主信号
とが干渉（いわゆるコンター効果）を起こすことによ
る、波形がゆがみＳ／Ｎ比が低下する不具合を防止する
ことができる。
【００３５】次に、このような、ポールエッジ４８と磁
気ギャップ４とが非平行であるようなＭＩＧ磁気ヘッド
チップの製造法について説明を行う。図３および図４
は、ポールエッジ４８と磁気ギャップ４とが非平行であ
るようなＭＩＧ磁気ヘッドチップの製造方法の一例を示
した図である。
気ギャップ４とが非平行であるようなＭＩＧ磁気ヘッド
チップの製造法について説明を行う。図３および図４
は、ポールエッジ４８と磁気ギャップ４とが非平行であ
るようなＭＩＧ磁気ヘッドチップの製造方法の一例を示
した図である。
【００３６】先ず、図３（ａ）に示すような非磁性基板
（亜鉛フェライト，ＣａＴｉＯ3等のウエハ）２１を用
意し、図３（ｂ）に示すように、前記ウエハ面と平行で
ない面を有する溝４９を、エッチングや機械加工等によ
り前記加工前のウエハ面上に形成する。次に、図３
（ｃ）に示すように、前記溝４９の表面にＦｅＺｒＮや
ＦｅＴａＮ等の磁性膜２２を１０μｍ程度の厚さになる
ように形成し、図３（ｄ）に示すように、前記磁性膜２
２の表面（溝）にガラス２３を充填し、次に前記ガラス
面２３を研磨除去し、前記溝底部に前記磁性膜２２が残
され前記溝上部にガラスが充填された、図３（ｅ）に示
すような鏡面基板を形成する。尚、このとき、図３
（ｅ）に示す点線部まで研磨除去し、前記ガラス２３を
全て取り除いても良い。また、図３（ｄ）の工程を行わ
ず、図３（ｃ）の状態から研磨除去を行い、図３（ｅ）
のに示す点線部まで研磨除去された鏡面基板を形成する
ようにしても良い。
（亜鉛フェライト，ＣａＴｉＯ3等のウエハ）２１を用
意し、図３（ｂ）に示すように、前記ウエハ面と平行で
ない面を有する溝４９を、エッチングや機械加工等によ
り前記加工前のウエハ面上に形成する。次に、図３
（ｃ）に示すように、前記溝４９の表面にＦｅＺｒＮや
ＦｅＴａＮ等の磁性膜２２を１０μｍ程度の厚さになる
ように形成し、図３（ｄ）に示すように、前記磁性膜２
２の表面（溝）にガラス２３を充填し、次に前記ガラス
面２３を研磨除去し、前記溝底部に前記磁性膜２２が残
され前記溝上部にガラスが充填された、図３（ｅ）に示
すような鏡面基板を形成する。尚、このとき、図３
（ｅ）に示す点線部まで研磨除去し、前記ガラス２３を
全て取り除いても良い。また、図３（ｄ）の工程を行わ
ず、図３（ｃ）の状態から研磨除去を行い、図３（ｅ）
のに示す点線部まで研磨除去された鏡面基板を形成する
ようにしても良い。
【００３７】次に、図３（ｆ）に示すように、上記研磨
面５０全面に、磁性膜５１を形成する。このとき、磁性
膜５１に一軸磁気異方性を付与するように、即ち、前記
図２で、ＡＢＳ面５に対して平行で、かつ膜面に平行な
方位が磁化容易軸となるように、磁性膜５１に異方性を
付与することで、インダクタンスの虚数部分を少なくで
き、高周波でのノイズの少ないヘッドが得ることができ
る。
面５０全面に、磁性膜５１を形成する。このとき、磁性
膜５１に一軸磁気異方性を付与するように、即ち、前記
図２で、ＡＢＳ面５に対して平行で、かつ膜面に平行な
方位が磁化容易軸となるように、磁性膜５１に異方性を
付与することで、インダクタンスの虚数部分を少なくで
き、高周波でのノイズの少ないヘッドが得ることができ
る。
【００３８】一方、鏡面仕上げのされた磁性体フェライ
ト２４に図４（ｇ）に示すように、周期的に巻線溝５２
をもうけ、巻線溝５２側の面に磁性膜５３を形成する。
次に図４（ｈ）に示すように、加工された非磁性基板２
１のブロックと、同じく加工されたフェライト２４のブ
ロックを、図示しないギャップスペーサ膜を挟んでガラ
ス接合する。そして、図４（ｈ）の点線部に沿って列分
割を行い、図４（ｉ）に示すブロックを得る。続いて、
図４（ｉ）の点線部に沿って該ブロックをスライスし
て、ＭＩＧ磁気ヘッドチップ５４を得る。尚、本工程に
おけるブロックのスライス面は、ＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プ側面を研磨除去した後、図２に示すように、端面付近
の磁性膜厚が均一にならないように、即ち、ポールエッ
ジ４８と磁気ギャップ４とが平行にならないように（非
平行であるように）、前記スライス面の位置が調整され
ている。
ト２４に図４（ｇ）に示すように、周期的に巻線溝５２
をもうけ、巻線溝５２側の面に磁性膜５３を形成する。
次に図４（ｈ）に示すように、加工された非磁性基板２
１のブロックと、同じく加工されたフェライト２４のブ
ロックを、図示しないギャップスペーサ膜を挟んでガラ
ス接合する。そして、図４（ｈ）の点線部に沿って列分
割を行い、図４（ｉ）に示すブロックを得る。続いて、
図４（ｉ）の点線部に沿って該ブロックをスライスし
て、ＭＩＧ磁気ヘッドチップ５４を得る。尚、本工程に
おけるブロックのスライス面は、ＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プ側面を研磨除去した後、図２に示すように、端面付近
の磁性膜厚が均一にならないように、即ち、ポールエッ
ジ４８と磁気ギャップ４とが平行にならないように（非
平行であるように）、前記スライス面の位置が調整され
ている。
【００３９】このようにしてできたＭＩＧ磁気ヘッドチ
ップ５４を、例えば前記図２（ｂ）に示すようにＨＤＤ
スライダ１０の側面に張り付け、媒体面を仕上げた後、
ＡＢＳ面５に露出する部分のトラック幅８の加工を施す
ことで、磁性膜端面をギャップと非平行に（ポールエッ
ジ４８と磁気ギャップ４とが平行にならないように）し
たスライダ１０が得られる。
ップ５４を、例えば前記図２（ｂ）に示すようにＨＤＤ
スライダ１０の側面に張り付け、媒体面を仕上げた後、
ＡＢＳ面５に露出する部分のトラック幅８の加工を施す
ことで、磁性膜端面をギャップと非平行に（ポールエッ
ジ４８と磁気ギャップ４とが平行にならないように）し
たスライダ１０が得られる。
【００４０】以上のように作成された、ＭＩＧ磁気ヘッ
ドチップ５４の、換算インダクタンスは、0.5 ｎＨ程度
となり、図１で示したＭＩＧ磁気ヘッドチップの有する
換算インダクタンスと比べると若干大きいが、従来のＭ
ＩＧ磁気ヘッドチップよりははるかに小さく、前記薄膜
ヘッドの有する換算インダクタンスに匹敵する程度に小
さな値に仕上がっている。
ドチップ５４の、換算インダクタンスは、0.5 ｎＨ程度
となり、図１で示したＭＩＧ磁気ヘッドチップの有する
換算インダクタンスと比べると若干大きいが、従来のＭ
ＩＧ磁気ヘッドチップよりははるかに小さく、前記薄膜
ヘッドの有する換算インダクタンスに匹敵する程度に小
さな値に仕上がっている。
【００４１】以上の実施例では、ＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プの片側のコアに磁性フェライトを用いず、磁性膜のみ
で磁気回路を構成する例を取り上げたが、両側のコアと
も磁性フェライトを用いず、磁性膜のみで磁気回路を構
成する方法も考えられる。なお、この場合、第１のポー
ルエッジ（ポールエッジ４８）の他に第２のポールエッ
ジが生じるため、ギャップ４と前記第２のポールエッジ
との間にコンター効果が発生しないように、ギャップ４
と前記第２のポールエッジとが非平行に形成されるよう
に構成することが望ましい。
プの片側のコアに磁性フェライトを用いず、磁性膜のみ
で磁気回路を構成する例を取り上げたが、両側のコアと
も磁性フェライトを用いず、磁性膜のみで磁気回路を構
成する方法も考えられる。なお、この場合、第１のポー
ルエッジ（ポールエッジ４８）の他に第２のポールエッ
ジが生じるため、ギャップ４と前記第２のポールエッジ
との間にコンター効果が発生しないように、ギャップ４
と前記第２のポールエッジとが非平行に形成されるよう
に構成することが望ましい。
【００４２】図５はギャップ４と、非磁性体フェライト
２からなる巻線溝６のない側のコアに付着された磁性膜
３との接合部（ポールエッジ）４８および同じく非磁性
体フェライト２からなる巻線溝６を有する側のコアに付
着された磁性膜３との接合部（ポールエッジ）とが非平
行に形成されるように構成されたＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プの実施例を示す図である。
２からなる巻線溝６のない側のコアに付着された磁性膜
３との接合部（ポールエッジ）４８および同じく非磁性
体フェライト２からなる巻線溝６を有する側のコアに付
着された磁性膜３との接合部（ポールエッジ）とが非平
行に形成されるように構成されたＭＩＧ磁気ヘッドチッ
プの実施例を示す図である。
【００４３】図５に示す本発明におけるＭＩＧ磁気ヘッ
ドチップは、非磁性体フェライト２からなる巻線溝６を
有する側のコアと、同じく非磁性体フェライト２からな
る巻線溝６のない側のコアとを、２つのコアの接合面に
それぞれ磁性膜３を付着させて、図示しない非磁性体を
介在させて接合ガラス７にて接合してできたギャップ４
と、前記非磁性体フェライト２からなる巻線溝６のない
側のコアに付着された磁性膜３のポールエッジ４８およ
び同じく前記非磁性体フェライト２からなる巻線溝６を
有する側のコアに付着された磁性膜３のポールエッジ１
２とが非平行に形成されるように構成されている。ま
た、このＭＩＧヘッドが、磁気記録媒体に対向するＡＢ
Ｓ面５は、該ＭＩＧヘッドが使用される、ＨＤＤのトラ
ック幅が所定の記録トラック幅８となるように、切り欠
き面４４で斜めに切り落とされた構成となっている。
尚、前記図３および図４において、ポールエッジ４８と
磁気ギャップ４とが非平行であるようなＭＩＧ磁気ヘッ
ドチップの製造法について説明したが、この製造工程に
おいて、磁性フェライト２４に対して非磁性基板２１に
施したと同様の加工を行うことで、ポールエッジ４８お
よびポールエッジ１２と磁気ギャップ４とが非平行であ
るようなＭＩＧ磁気ヘッドチップの製造が可能である。
ドチップは、非磁性体フェライト２からなる巻線溝６を
有する側のコアと、同じく非磁性体フェライト２からな
る巻線溝６のない側のコアとを、２つのコアの接合面に
それぞれ磁性膜３を付着させて、図示しない非磁性体を
介在させて接合ガラス７にて接合してできたギャップ４
と、前記非磁性体フェライト２からなる巻線溝６のない
側のコアに付着された磁性膜３のポールエッジ４８およ
び同じく前記非磁性体フェライト２からなる巻線溝６を
有する側のコアに付着された磁性膜３のポールエッジ１
２とが非平行に形成されるように構成されている。ま
た、このＭＩＧヘッドが、磁気記録媒体に対向するＡＢ
Ｓ面５は、該ＭＩＧヘッドが使用される、ＨＤＤのトラ
ック幅が所定の記録トラック幅８となるように、切り欠
き面４４で斜めに切り落とされた構成となっている。
尚、前記図３および図４において、ポールエッジ４８と
磁気ギャップ４とが非平行であるようなＭＩＧ磁気ヘッ
ドチップの製造法について説明したが、この製造工程に
おいて、磁性フェライト２４に対して非磁性基板２１に
施したと同様の加工を行うことで、ポールエッジ４８お
よびポールエッジ１２と磁気ギャップ４とが非平行であ
るようなＭＩＧ磁気ヘッドチップの製造が可能である。
【００４４】以上のようにＭＩＧ磁気ヘッドチップを構
成することにより、前述のポールエッジ４８およびポー
ルエッジ１２が、磁気ギャップ４と非平行でとなり、前
記ポールエッジ４８およびポールエッジ１２で取り込ま
れた偽信号と、ギャップ４で取り込んだ主信号とが干渉
（いわゆるコンター効果）を起こすことによる、波形が
ゆがみＳ／Ｎ比が低下する不具合を防止することができ
る。尚、前記ポールエッジ４８とポールエッジ１２が平
行であっても良い（問題ない）。
成することにより、前述のポールエッジ４８およびポー
ルエッジ１２が、磁気ギャップ４と非平行でとなり、前
記ポールエッジ４８およびポールエッジ１２で取り込ま
れた偽信号と、ギャップ４で取り込んだ主信号とが干渉
（いわゆるコンター効果）を起こすことによる、波形が
ゆがみＳ／Ｎ比が低下する不具合を防止することができ
る。尚、前記ポールエッジ４８とポールエッジ１２が平
行であっても良い（問題ない）。
【００４５】尚、上記実施例では、ＭＩＧ磁気ヘッドチ
ップをＨＤＤスライダに取り付けてＨＤＤ用磁気ヘッド
として使用する場合について説明したが、本発明はこれ
に限定されず、磁気ヘッドにより、磁気記録媒体に対す
る読み出しまたは書き込みを行う機能を有するあらゆる
装置に応用することが可能である。
ップをＨＤＤスライダに取り付けてＨＤＤ用磁気ヘッド
として使用する場合について説明したが、本発明はこれ
に限定されず、磁気ヘッドにより、磁気記録媒体に対す
る読み出しまたは書き込みを行う機能を有するあらゆる
装置に応用することが可能である。
【００４６】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、従来
のＭＩＧヘッドよりインダクタンスの小さいバルクヘッ
ドが得られるので、高周波データのリード・ライトであ
っても波形のゆがみやＳ／Ｎ比の低下を生じることがな
い。
のＭＩＧヘッドよりインダクタンスの小さいバルクヘッ
ドが得られるので、高周波データのリード・ライトであ
っても波形のゆがみやＳ／Ｎ比の低下を生じることがな
い。
【図１】本発明であるインダクタンスの小さいＭＩＧ磁
気ヘッドチップの一実施例を示す図である。
気ヘッドチップの一実施例を示す図である。
【図２】ギャップと、非磁性体フェライトからなる巻線
溝のない側のコアに付着された磁性膜との接合部（ポー
ルエッジ）とが非平行に形成されるように構成されたＭ
ＩＧ磁気ヘッドチップの他の実施例を示す図である。
溝のない側のコアに付着された磁性膜との接合部（ポー
ルエッジ）とが非平行に形成されるように構成されたＭ
ＩＧ磁気ヘッドチップの他の実施例を示す図である。
【図３】ポールエッジと磁気ギャップとが非平行である
ようなＭＩＧ磁気ヘッドチップの製造方法の一例を示し
た図である。
ようなＭＩＧ磁気ヘッドチップの製造方法の一例を示し
た図である。
【図４】ポールエッジと磁気ギャップとが非平行である
ようなＭＩＧ磁気ヘッドチップの製造方法の一例を示し
た図である。
ようなＭＩＧ磁気ヘッドチップの製造方法の一例を示し
た図である。
【図５】ギャップと、非磁性体フェライトからなる巻線
溝のない側のコアに付着された磁性膜との接合部（ポー
ルエッジ）および同じく非磁性体フェライトからなる巻
線溝を有する側のコアに付着された磁性膜との接合部
（ポールエッジ）とが非平行に形成されるように構成さ
れたＭＩＧ磁気ヘッドチップの他の実施例を示す図であ
る。
溝のない側のコアに付着された磁性膜との接合部（ポー
ルエッジ）および同じく非磁性体フェライトからなる巻
線溝を有する側のコアに付着された磁性膜との接合部
（ポールエッジ）とが非平行に形成されるように構成さ
れたＭＩＧ磁気ヘッドチップの他の実施例を示す図であ
る。
【図６】従来のハードディスクドライブにおける薄膜ヘ
ッドおよびそれが取り付けられるスライダを示した図で
ある。
ッドおよびそれが取り付けられるスライダを示した図で
ある。
【図７】従来のＭＩＧ磁気ヘッドを示す図である。
【図８】従来のＭＩＧ磁気ヘッドチップをＨＤＤスライ
ダ用に加工した例を示した図である。
ダ用に加工した例を示した図である。
１…磁性フェライト ２…非磁性フェライト ３…磁性膜 ４…ギャップ ５…ＡＢＳ面 ６…巻線溝 ７…接合ガラス ８…トラック幅 ９…巻線 １０…スライダ ４４…切り欠き面 ４８…ポールエッジ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/60 Ｇ１１Ｂ 5/60 Ｃ (72)発明者 今村 力 東京都港区新橋３丁目３番９号 東芝エ ー・ブイ・イー株式会社内
Claims (7)
- 【請求項１】磁性フェライト等からなる第１のコアと、 非磁性フェライト等からなる第２のコアと、 前記第１あるいは第２のコアのいづれか一方又は両方に
形成された巻線溝と、 前記第１のコアの接合面に均一に付着した、高透磁率の
第１の金属磁性膜と、 前記第２のコアの接合面に均一に付着した、高透磁率の
第２の金属磁性膜と、 前記第１および第２の金属磁性膜の接合面に均一に付着
して磁気ギャップ面を形成し、該磁気ギャップ面に所定
のギャップ長を形成する第１の非磁性体と、 前記第１および又は第２のコアが有する巻線溝に充填さ
れ、巻線を通すための穴の空いたガラス等からなる、前
記第１および第２のコアを接合する第２の非磁性体と、 前記第１および第２のコアを磁気記録媒体に対向するＡ
ＢＳ面から斜めに切り落とし形成された所定のトラック
幅を有するトラック面とを具備したことを特徴とする磁
気ヘッドコア。 - 【請求項２】前記第１の金属磁性膜が磁気ギャップを形
成する側の面と、その反対側の前記第１の金属磁性膜と
前記第１のコアとにより形成される付着面とは平行で、
前記第２の金属磁性膜が磁気ギャップを形成する側の面
と、その反対側の前記第２の金属磁性膜と前記第２のコ
アとにより形成される付着面とは平行でないことを特徴
とする請求項１記載の磁気ヘッドコア。 - 【請求項３】前記第１のコアは非磁性フェライト等で構
成され、前記第１の金属磁性膜が磁気ギャップを形成す
る側の面と、その反対側の前記第１の金属磁性膜と前記
第１のコアとにより形成される付着面とは平行でなく、
かつ、前記第２の金属磁性膜が磁気ギャップを形成する
側の面と、その反対側の前記第２の金属磁性膜と前記第
２のコアとにより形成される付着面とは平行でないこと
を特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドコア。 - 【請求項４】前記第１および又は第２のコアは、略一軸
磁気異方性を有し、その磁化容易軸の方向がほぼ磁気記
録媒体面と直交し、かつ、該磁気記録媒体面の摺動方向
と直角であることを特徴とする請求項１，２または３記
載の磁気ヘッドコア。 - 【請求項５】非磁性基板に該非磁性基板面と平行でない
面を有する溝をエッチングや機械加工等により複数形成
し、前記溝の表面に磁性膜を１０μｍ程度の厚さになる
ように形成し、前記磁性膜の表面にガラスを充填し、該
ガラス面を研磨除去して前記溝底部に前記磁性膜が残さ
れ前記溝上部にガラスが充填された状態の鏡面基板を形
成し、該鏡面基板の研磨面全面に、前記鏡面基板の研磨
面と平行でかつ前記複数の溝の垂直断面と平行な方向が
磁化容易軸となるように一軸磁気異方性を付与した磁性
膜を形成してなる非磁性基板ブロックと、鏡面仕上げの
された磁性基板表面に周期的に巻線溝をもうけ、該巻線
溝側の面に磁性膜を形成してなる磁性基板ブロックと
を、ギャップスペーサ膜を挟んでガラス接合し、列分割
を行った後スライスして、ＭＩＧ磁気ヘッドチップコア
を得ることを特徴とする磁気ヘッドコアの製造方法。 - 【請求項６】非磁性基板に該非磁性基板面と平行でない
面を有する溝をエッチングや機械加工等により形成し、
前記溝の表面に磁性膜を１０μｍ程度の厚さになるよう
に形成し、前記形成された磁性膜の下の前記非磁性基板
が露出しない程度に磁性膜表面の研磨除去を行って鏡面
基板を形成し、該鏡面基板の研磨面全面に、前記鏡面基
板の研磨面と平行でかつ前記複数の溝の垂直断面と平行
な方向が磁化容易軸となるように一軸磁気異方性を付与
した磁性膜を形成してなる非磁性基板ブロックと、鏡面
仕上げのされた磁性基板表面に周期的に巻線溝をもう
け、該巻線溝側の面に磁性膜を形成してなる磁性基板ブ
ロックとを、ギャップスペーサ膜を挟んでガラス接合
し、列分割を行った後スライスして、ＭＩＧ磁気ヘッド
チップコアを得ることを特徴とする磁気ヘッドコアの製
造方法。 - 【請求項７】前記磁性基板ブロックに対して施される加
工に加えて、前記非磁性基板ブロックに施される加工と
同様な加工を施すことを特徴とする請求項５または６記
載の磁気ヘッドコアの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7211195A JPH08273111A (ja) | 1995-03-29 | 1995-03-29 | 磁気ヘッドコアおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7211195A JPH08273111A (ja) | 1995-03-29 | 1995-03-29 | 磁気ヘッドコアおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08273111A true JPH08273111A (ja) | 1996-10-18 |
Family
ID=13479952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7211195A Pending JPH08273111A (ja) | 1995-03-29 | 1995-03-29 | 磁気ヘッドコアおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08273111A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109212611A (zh) * | 2018-08-31 | 2019-01-15 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种基于井约束匹配追踪的砂砾岩有效储层预测方法 |
-
1995
- 1995-03-29 JP JP7211195A patent/JPH08273111A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109212611A (zh) * | 2018-08-31 | 2019-01-15 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种基于井约束匹配追踪的砂砾岩有效储层预测方法 |
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