JPH04353610A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドに関し
、スライダを磁性体によって構成すると共に、変換ギャ
ップを間に挟んで向き合う一対のポール部の少なくとも
一方の変換ギャップに隣接する面に、飽和磁束密度が大
きい磁性膜を設けることにより、磁界分布及び再生波形
を鋭化し、高密度記録対応を図ると共に、オーバライト
特性を向上させ、加工性、耐久性、摺動性にすぐれた低
コストの薄膜磁気ヘッドを提供できるようにしたもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気ディスク装置には、磁気
記録媒体の走行によって生じる動圧を利用して、磁気記
録媒体との間に微小な空気ベアリングによる間隙を保っ
て浮上する薄膜磁気ヘッドが用いられている。その基本
的な構成は、磁気記録媒体と対向する面側に空気ベアリ
ング面を有するスライダの媒体流出端部側に薄膜磁気変
換素子を備える構造となっている。図１１は米国特許第
４，８５６，１８１号明細書等で知られたこの種の薄膜
磁気ヘッドの基本的な構造を示し、セラミック構造体で
なるスライダ１の媒体対向面側に、間隔をおいて２本の
レール部１０１、１０２を突設し、レール部１０１、１
０２の表面を高度の平面度を有する空気ベアリング面１
０３、１０４とすると共に、レール部１０１、１０２の
媒体流出方向ａの端部のそれぞれに薄膜磁気変換素子２
を設けてある。

【０００３】図１２を参照すると、スライダ１は、Ａｌ
２Ｏ３　−ＴｉＣ　（以下アルティックと称する）等で
構成される基体部分１１０に、アルミナ等でなる絶縁膜
１２０をスパッタ等の手段によって付着させた構造とな
っていて、絶縁膜１２０の上に薄膜磁気変換素子２を設
けてある。 薄膜磁気変換素子２はＩＣ製造テクノロジと同様のプロ
セスにしたがって形成された薄膜素子である。２１はパ
ーマロイ等でなる下部磁性膜、２２はアルミナ等で形成
されたギャップ膜、２３はパーマロイ等でなる上部磁性
膜、２４はコイル、２５１〜２５３はフォトレジスト等
で形成された膜間絶縁膜、２６はアルミナ等の保護膜、
２７、２８はリード導体である。

【０００４】下部磁性膜２１及び上部磁性膜２３は、先
端部がギャップ膜２２を介して対向する下部ポール部２
１１及び上部ポール部２３１となっていて、下部ポール
部２１１、ギャップ膜２２及び上部ポール部２３１によ
り、変換ギャップを構成している。下部ポール部２１１
及び上部ポール部２３１にはヨーク部２１２、２３２が
連続しており、ヨーク部２１２、２３２は後方の結合部
２３３において磁気回路を完成するように互いに結合さ
れている。コイル２４は結合部２３３のまわりを渦巻状
にまわるように形成されている。コイル２４の両端はリ
ード導体２７、２８に接続されている。リード導体２７
、２８は取出電極４１、４２を形成する領域まで導出さ
れ、その端部に取出電極４１、４２が形成されている。 取出電極４１、４２の周りは薄膜磁気変換素子２の全体
を保護する保護膜２６によって覆われている。

【０００５】図１３は従来の薄膜磁気ヘッドの書き込み
時の磁界分布を示す図である。ａは媒体走行方向、Ｍは
磁気ディスク等の磁気記録媒体を示している。Ｌ２　は
書き込み時の磁界分布、Ｍ０　は磁化反転部、ｍ１　、
ｍ２　は磁化方向、Ｘ１　は磁化反転領域をそれぞれ示
している。 磁化反転領域Ｘ１　は、主として、媒体流出側のポール
部、即ち、媒体走行方向ａで見て後方に位置するポール
部（図示の場合上部ポール部２３１）側の磁界によって
決まる。

【０００６】図１４は従来の薄膜磁気ヘッドの再生波形
Ｌ１　を示す図である。再生波形Ｌ１は図１３に示した
磁界分布を有する薄膜磁気ヘッドを使用して磁気記録媒
体に記録した信号を、同じ薄膜磁気ヘッドで再生した場
合の波形であり、横軸に時間軸をとり、縦軸に瞬時値ｅ
と最大値Ｅｍとの比（ｅ／Ｅｍ）を百分率で表示してあ
る。Ｌ１１、Ｌ１２はアンダーシュートを示している。 ＰＷ５０は（ｅ／Ｅｍ）が５０％になるパルス幅を示し
ている。ＰＷ５０値は再生波形Ｌ１　の鋭化の程度を示
し、ＰＷ５０値が小さければ再生波形Ｌ１　は鋭くなり
、大きくなれば鈍化する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の薄膜磁気ヘッドには次のような問題がある。 （Ａ）高密度記録に対応するためには、再生波形Ｌ１　
を鋭化し、隣接パルスの相互干渉を防止する必要がある
。 再生波形Ｌ１　の鋭化の程度は、前述したようにＰＷ５
０値によって評価する。薄膜磁気ヘッドの磁界分布Ｌ２
は、主として、ポール部上部ポール部２３１及び下部ポ
ール部２１１の端面形状によって定まる。従来の薄膜磁
気ヘッドでは、上部ポール部２３１及び下部ポール部２
１１の端面の厚みＴＡ　、ＴＢ　によって定まる以上に
は、磁界分布Ｌ２　を鋭化することができない。また、
再生波形Ｌ１　は、磁界分布Ｌ２　の他に、磁気記録媒
体の磁性膜に不可避的に生じる保磁力Ｈｃの差（保磁力
分布）によっても鈍化する。このため、再生波形Ｌ２　
をより一層鋭化することが困難で、高密度記録を達成す
る上の一つの大きな障害になっていた。 （Ｂ）上部ポール部２３１及び下部ポール部２１１の厚
みＴＡ　、ＴＢ　（図１４参照）を小さくすれば、再生
波形を鋭化できる。しかしながら、上部ポール部２３１
及び下部ポール部２１１の厚みＴＡ　、ＴＢ　を小さく
すると磁気飽和が起こり、書き込み能力が低下し、オー
バライト特性が劣化する。 （Ｃ）図１４に示すように、再生波形は上部ポール部２
３１及び下部ポール部２１１の端縁に対応する位置でア
ンダーシュートＬ１１、Ｌ１２を生じる。アンダーシュ
ートＬ１１、Ｌ１２は、特にポール部厚みの薄い薄膜磁
気ヘッドにおいて、顕著に現われる。薄膜磁気ヘッドに
おいては、バルク型磁気ヘッドと異なって、磁気記録媒
体Ｍの走行方向ａで見た上部ポール部２３１及び下部ポ
ール部２１１の端部の厚みが薄く、有限であるため、パ
ルスの他に、上部ポール部２３１及び下部ポール部２１
１の各端部による疑似パルスが発生するためである。

【０００８】アンダーシュートＬ１１、Ｌ１２の存在は
、高密度記録の場合、ピークシフトを大きくするため、
読み出しのエラーマージンもしくは位相マージンに限界
を生じ、高密度記録の大きな障害となる。 （Ｄ）スライダ１がアルティック等の硬度の高い材料を
用いて構成されているため、磁気記録媒体に対するダメ
ージが大きくなること、スライダ１の加工に多大の労力
、時間を必要とし、コスト高になること等の難点がある
。 （Ｅ）アルティック等で構成されたスライダ１の基体部
分１１０に、アルミナ等でなる絶縁膜１２０を付着させ
た後、絶縁膜１２０の上に、ＩＣ製造テクノロジーと同
様のプロセスによって、下部ポール部２１１を有する下
部磁性膜２１を形成しなければならない。このため、工
程数が多くなる。 （Ｆ）下部磁性膜２１の下部ポール部２１１及び上部磁
性膜の上部ポール部２３１のトラック方向幅は、下部磁
性膜２１及び上部磁性膜２３をフォトリソグラフィによ
って形成する時のパターンニングによって決定されてし
まい、後で変更することができない。このため、トラッ
ク方向幅が所定の値に入っていない場合は、不良品とな
る等、歩留の低下を招く。

【０００９】そこで、本発明の課題は、上述する従来の
問題点を解決し、磁界分布及び再生波形を鋭化して高密
度記録対応を図ると共に、書き込み能力を向上させ、し
かも加工性、耐久性及び摺動性を向上させた低コストの
スライダを有する薄膜磁気ヘッドを提供することである
。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述した課題解決のため
、本発明は、スライダと、前記スライダの一端側に備え
られた薄膜磁気変換素子とを有する薄膜磁気ヘッドであ
って、前記スライダは、磁性体で構成されており、前記
薄膜磁気変換素子は、変換ギャップを間に挟んで向き合
う一対のポール部を有しており、前記一対のポール部の
一つは、前記スライダによって構成されており、前記一
対のポール部のうち、少なくとも一方は、前記変換ギャ
ップに隣接する面側に、他の部分よりも飽和磁束密度が
大きい磁性膜を有することを特徴とする。

【００１１】

【作用】変換ギャップを間に挟んで向き合う一対のポー
ル部のうち、少なくとも一方は、変換ギャップに隣接す
る面側に、他の部分よりも飽和磁束密度が大きい磁性膜
を有するから、変換ギャップに向う程、磁束が集中し易
くなる。このため、磁界分布及び再生波形が鋭化される
。従って、高密度記録再生が可能になる。特に媒体流出
端のポール部において、変換ギャップに隣接する面側に
、他の部分よりも飽和磁束密度が大きい磁性膜を有する
構造の場合、媒体上の磁化分布を決定する媒体流出端に
おける磁界強度の傾斜が急峻になり、好ましい磁気記録
が得られる。

【００１２】磁束の集中の程度は、変換ギャップ膜に隣
接する磁性膜または積層される他の磁性膜の磁気特性、
厚みを選択することによって制御できる。これにより、
使用周波数に合わせて、磁界分布及び再生波形を鋭化で
きる。

【００１３】ポール部端面としての全体の先端厚みは、
ポール部を構成する磁性膜の積層構造全体の厚みである
から、優れた書き込み能力を確保できる。

【００１４】スライダは、例えばフェライト等の磁性体
で構成されているから、摺動性が向上すると共に、磁気
記録媒体に与えるダメージが小さくなり、耐久性が上が
る。しかも、アルティック等に比べて加工の容易なフェ
ライトを使用できるので、加工コストが安価になる。

【００１５】下部ポール部は、磁性体でなるスライダ部
分によって構成されているから、従来と異なって、下部
ポール部を得るための下部磁性膜形成工程が不要でる。 このため、工程数が減少する。

【００１６】

【実施例】図１は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの斜視図
、図２は薄膜磁気変換素子部分の拡大斜視図、図３は同
じくその拡大断面図である。図において、図１１〜図１
４と同一の参照符号は同一性ある構成部分を示している
。５はスライダである。スライダ５は、その全体が例え
ばフェライト等の磁性体で構成されている。このため、
摺動性が向上すると共に、磁気記録媒体に与えるダメー
ジが小さくなり、耐久性が上がる。しかも、アルティッ
ク等に比べて加工の容易なフェライトを使用できるので
、加工コストが安価になる。図示のスライダ５は、従来
と同様に、媒体対向面側に、間隔をおいて２本のレール
部５１、５２を突設し、レール部５１、５２の表面を高
度の平面度を有する空気ベアリング面５３、５４とする
と共に、レール部５１、５２の媒体流出方向ａの端部の
それぞれに薄膜磁気変換素子２を設けてある。

【００１７】薄膜磁気変換素子２は、スライダ５による
下部磁性体と、下部磁性体と共に磁気回路を構成する上
部磁性膜２３と、下部磁性体及び上部磁性膜２３の一部
として、先端面が空気ベアリング面５３、５４に現われ
るように形成された下部ポール部５５及び上部ポール部
２３１と、下部ポール部５５及び上部ポール部２３１の
間に設けられたギャップ膜２２と、後方においてスライ
ダ５で構成された下部磁性体及び上部磁性膜２３を結合
する結合部２３３と、結合部２３３の周りに渦巻状に形
成されたコイル２４とを有している。

【００１８】図２を参照すると、スライダ５は、薄膜磁
気変換素子２を設けた一端側に、空気ベアリング面５３
、５４の媒体流出方向ａと交叉する方向に間隔Ｗ２を隔
てて設けられた２つの凹部による非磁性部分６１、６２
を有している。図示の非磁性部分６１、６２は、幅Ｗ１
　を有して媒体流出方向ａにほぼ平行に延びる凹溝とな
っている。下部ポール部５５はこの非磁性部分６１ー６
２間のスライダ部分によって形成されている。上述のよ
うに、下部ポール部５５は、磁性体でなるスライダ部分
によって構成されているから、従来と異なって、下部ポ
ール部を得るための下部磁性膜形成工程が不要でる。こ
のため、工程数が減少する。

【００１９】しかも、下部ポール部５５は、空気ベアリ
ング面５３、５４の媒体流出方向ａと交叉する方向に間
隔Ｗ２　を隔てて形成された２つの非磁性領域６１ー６
２間のスライダ部分によって構成されているから、非磁
性領域６１、６２の位置、幅等によって、下部ポール部
５５のトラック方向幅Ｗ２　を調整し、高密度記録に対
応するためのトラック方向幅の狭幅化等を容易に実現で
きる。

【００２０】非磁性領域６１、６２の深さｄ１　は０．
０２〜３μｍ以上であって、上部ポール部２３１のスロ
ートハイトとほぼ同じか、または、それよりも少し大き
くなるように設定する。このような非磁性領域６１、６
２は、マスク及びイオンミーリングの併用またはフォー
カスド・イオン・ビーム・ミーリング等の手段によって
形成できる。

【００２１】図示の非磁性領域６１、６２は、媒体流出
方向ａの外端面を構成する保護膜２６の表面２６１に達
している。かかる構造であると、媒体摺動時における非
磁性領域６１、６２の摺動ダスト排出が容易になる。

【００２２】下部ポール部５５は、ギャップ膜２２に隣
接するスライダ５の一面上に、スライダ５を構成するフ
ェライト等の磁性体よりも飽和磁束密度Ｂｓが大きい磁
性膜Ｐ２１を有する。磁性膜Ｐ２１はＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ
、アモルファス磁性体、Ｆｅ−Ｓｉ　、Ｆｅ−Ｃｏ等で
構成する。磁性膜Ｐ２１は単層であってもよいし、異な
る飽和磁束密度Ｂｓ、透磁率μを有する複数の磁性膜を
積層した構成してもよい。複数の磁性膜を積層した場合
、少なくとも１個所の磁性膜間に非磁性膜を介在させる
ことも可能である。

【００２３】上部磁性膜２３のポール部２３１は磁性膜
Ｐ１１及び磁性膜Ｐ１２を積層した構造となっている。 ギャップ膜２２に隣接する磁性膜Ｐ１１はＣｏ−Ｎｂ−
Ｚｒ、アモルファス磁性体、Ｆｅ−Ｓｉ　、Ｆｅ−Ｃｏ
等で構成され、磁性膜Ｐ１２はＮｉ−Ｆｅ　で構成され
ている。磁性膜Ｐ１１は単層であってもよいし、異なる
飽和磁束密度Ｂｓ及び透磁率μを有する複数の磁性膜を
積層した構成してもよい。複数の磁性積層膜の場合、磁
性膜間に非磁性膜を介在させることも可能である。

【００２４】ギャップ膜２２に隣接する磁性膜Ｐ１１は
、厚みが磁性膜Ｐ１２よりも薄くなっている。具体例と
して、磁性膜Ｐ１２をＮｉ−Ｆｅで構成し、磁性膜Ｐ１
１をＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒで構成した場合、厚みＴ１１、Ｔ
１２の比（Ｔ１２／Ｔ１１）は、 １＜Ｔ１２／Ｔ１１≦２５ の範囲が適当である。

【００２５】実施例では、ポール部５５、２３１の両者
に高飽和磁束密度の磁性膜Ｐ２１、Ｐ１１を設けた例を
示したが、何れか一方、好ましくは少なくとも媒体流出
端のポール部２３１に磁性膜Ｐ１１を設けることもでき
る。磁性膜Ｐ２１、Ｐ１１は上部磁性膜２３及びスライ
ダ５の一面の全体にわたって設けてもよいし、ポール部
５５、２３１の領域に限って設けてもよい。また、薄膜
磁気ヘッドを例にとって説明したが、例えばモノリシッ
ク型磁気ヘッドやコンポジット型磁気ヘッド等にも本発
明は同様に適用できる。

【００２６】上述のように、ギャップ膜２２を間に挟ん
で向き合う一対のポール部５５、２３１のうち、少なく
ともポール部２３１は、複数の磁性膜Ｐ１１、Ｐ１２を
積層して構成されており、複数の磁性膜Ｐ１１、Ｐ１２
のうち、ギャップ膜２２に隣接する磁性膜Ｐ１１は、他
の磁性膜Ｐ１２よりも飽和磁束密度が大きいから、ギャ
ップ膜２２に向う程、磁束が集中し易くなる。このため
、磁界分布Ｌ２　が鋭化されると共に、再生波形Ｌ１　
が図４に示すように鋭化され、ＰＷ５０値が小さくなる
。従って、高密度記録再生が可能になる。特に、媒体流
出端のポール部２３１を複数の磁性膜Ｐ１１、Ｐ１２を
積層して構成し、ギャップ膜２２に隣接する磁性膜Ｐ１
１を、磁性膜Ｐ１２よりも飽和磁束密度が大きく、かつ
、厚みが薄い構造とした場合、媒体Ｍ上の磁化分布を決
定する媒体流出端における磁界強度の傾斜が急峻になり
、好ましい磁気記録が得られる。

【００２７】しかも、ギャップ膜２２に隣接する磁性膜
Ｐ１１は、磁性膜Ｐ１２よりも厚みが薄いから、磁束の
集中が一層促進され、磁界分布Ｌ２　及び再生波形Ｌ１
　が一層鋭化される。

【００２８】ポール部２３１としての全体の先端厚みは
、ポール部Ｐ１１、Ｐ１２を構成する磁性膜Ｐ１１、Ｐ
１２の積層構造全体の厚み（Ｔ１１＋Ｔ１２）であるか
ら、優れた書き込み能力を確保できる。

【００２９】図５は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの更に
別の実施例における部分拡大斜視図である。この実施例
では、非磁性領域６１、６２が上部ポール２３１のトラ
ック幅方向の端部にかかるように形成されている。この
ような構造であると、非磁性領域６１、６２の位置、幅
等によって、下部ポール部５５及び上部ポール部２３１
のトラック方向幅を調整し、高密度記録に対応するため
のトラック方向幅の狭幅化等を容易に実現できる。

【００３０】図６は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの更に
別の実施例を示す部分拡大斜視図である。この実施例で
は、非磁性領域６１、６２は三方を開口させた段状に形
成されている。

【００３１】図７は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの更に
別の実施例における部分拡大斜視図を示している。この
実施例では、スライダスライダ５は、薄膜磁気変換素子
２を設けた一端側に、空気ベアリング面５３、５４の媒
体流出方向ａと交叉する方向に間隔を隔てて設けられた
磁性劣化部による非磁性領域６１、６２を有している。 非磁性領域６１、６２は機械加工による加工変質または
熱変質として形成できる、熱変質を生じさせる手段とし
ては、イオン・フォーカス・ビーム照射、エッチングま
たはイオン打込み等の手段がある。

【００３２】図８は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの更に
別の実施例における部分拡大斜視図であり、空気ベアリ
ング面５３、５４の媒体流出方向ａと交叉する方向に間
隔を隔てて設けられた磁性劣化部による非磁性領域６１
、６２を有している。非磁性領域６１、６２はレール部
５１、５２の両端側に立ちするように設けられている。

【００３３】図９は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの更に
別の実施例を示す斜視図である。磁性体で構成されたス
ライダ１は、媒体対向面側の空気ベアリング面５６がレ
ール部のない平面となっている。薄膜磁気変換素子２は
１個だけであり、この１個の薄膜磁気変換素子２に対し
て、非磁性領域６１、６２による下部ポール部５５が形
成されている。

【００３４】図１０は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの更
に別の実施例における斜視図を示している。薄膜磁気変
換素子２は磁性体でなるスライダ１の幅方向のほぼ中間
部に配置されている。また、取出電極２７、２８はスラ
イダ１の幅方向に横並びに配置されている。スライダ１
は薄膜磁気変換素子２を設けた一端側に、空気ベアリン
グ面５６の媒体流出方向ａと交叉する方向に間隔を隔て
て設けられた２つの非磁性領域６１、６２を有しており
、下部ポール部５５は非磁性領域６１ー６２間のスライ
ダ部分によって形成されている。

【００３５】図９及び図１０の実施例によれば高密度記
録、高速アクセスに適した小型の薄膜磁気ヘッドを実現
できる。

【００３６】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果が得られる。 （ａ）スライダは、フェライト等の磁性体で構成されて
いるから、加工性及び摺動性が高く、磁気記録媒体に与
えるダメージが小さくな、耐久性に優れた薄膜磁気ヘッ
ドを提供できる。 （ｂ）下部ポール部は磁性体でなるスライダ部分によっ
て構成されているから、下部ポール部を得るための下部
磁性膜形成工程が不要で、工程数が少なく、低コストの
製造の容易な薄膜磁気ヘッドを提供できる。 （ｃ）一対のポール部のうち、少なくとも一方は、前記
変換ギャップに隣接する面側に、他の部分よりも飽和磁
束密度が大きい磁性膜を有するから磁界分布及び再生波
形を鋭化し、高密度記録再生に適した薄膜磁気ヘッドを
提供できる。 （ｄ）変換ギャップ膜に隣接する磁性膜または積層され
る他の磁性膜の磁気特性、厚みを選択することにより、
使用周波数に合わせて、磁界分布及び再生波形を鋭化し
得る薄膜磁気ヘッドを提供できる。 （ｄ）ポール部磁界分布及び再生波形の鋭化と共に、書
き込み能力を確保し、オーバライト特性の優れた高密度
記録用薄膜磁気ヘッドを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの斜視図である。

【図２】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの薄膜磁気変換素
子部分の拡大斜視図である。

【図３】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの拡大断面図であ
る。

【図４】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの再生特性を説明
する図である。

【図５】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの他の実施例を示
す部分拡大斜視図である。

【図６】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例を示
す部分拡大斜視図である。

【図７】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例を示
す部分拡大斜視図である。

【図８】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例を示
す部分拡大斜視図である。

【図９】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例を示
す部分拡大斜視図である。

【図１０】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例を
示す部分拡大斜視図である。

【図１１】従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図である。

【図１２】従来の薄膜磁気ヘッドの薄膜磁気変換素子部
分の拡大断面図である。

【図１３】従来の薄膜磁気ヘッドの書き込み特性を示す
図である。

【図１４】従来の薄膜磁気ヘッドの再生特性を示す図で
ある。

【符号の説明】

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　スライダと、前記スライダの一端側に
   備えられた薄膜磁気変換素子とを有する薄膜磁気ヘッド
   であって、前記スライダは、磁性体で構成されており、
   前記薄膜磁気変換素子は、変換ギャップを間に挟んで向
   き合う一対のポール部を有しており、前記一対のポール
   部の一つは、前記スライダによって構成されており、前
   記一対のポール部のうち、少なくとも一方は、前記変換
   ギャップに隣接する面側に、他の部分よりも飽和磁束密
   度が大きい磁性膜を有することを特徴とする薄膜磁気ヘ
   ッド。
2. 【請求項２】　　前記磁性膜を有する前記ポール部は、
   媒体流出端側のポール部であることを特徴とする請求項
   １に記載の薄膜磁気ヘッド。
3. 【請求項３】　　前記スライダは、前記薄膜磁気変換素
   子を設けた一端側に空気ベアリング面の媒体流出方向と
   交叉する幅方向に間隔を隔てて設けられた非磁性領域を
   有しており、前記非磁性領域によってはさまれた部分は
   、前記ポール部の一つを構成していることを特徴とする
   請求項１に記載の薄膜磁気ヘッド。
4. 【請求項４】　　前記非磁性領域は、前記スライダに形
   成された磁性劣化層であることを特徴とする請求項３に
   記載の薄膜磁気ヘッド。
5. 【請求項５】　　前記非磁性領域は、前記スライダに形
   成された凹溝であることを特徴とする請求項３に記載の
   薄膜磁気ヘッド。
6. 【請求項６】　　前記薄膜磁気変換素子は、前記スライ
   ダによる下部磁性体と、前記下部磁性体と共に磁気回路
   を構成する上部磁性膜と、前記下部磁性体及び上部磁性
   膜の一部として、先端面が空気ベアリング面に現われる
   ように形成された下部ポール部及び上部ポール部と、前
   記下部ポール部及び前記上部ポール部の間に設けられた
   ギャップ膜と、後方において前記下部磁性体及び上部磁
   性膜を結合する結合部と、前記結合部の周りに渦巻状に
   形成されたコイルとを有することを特徴とする薄膜磁気
   ヘッド。