JPH04334342A - カルボニル基含有化合物の製造方法 - Google Patents

カルボニル基含有化合物の製造方法

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JPH04334342A
JPH04334342A JP3105858A JP10585891A JPH04334342A JP H04334342 A JPH04334342 A JP H04334342A JP 3105858 A JP3105858 A JP 3105858A JP 10585891 A JP10585891 A JP 10585891A JP H04334342 A JPH04334342 A JP H04334342A
Authority
JP
Japan
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group
reaction
compound
formula
methyl
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Withdrawn
Application number
JP3105858A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuaki Mukoyama
向 山 光 昭
Toshihiro Takai
高 井 敏 浩
Toru Yamada
山 田   徹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Mitsui Petrochemical Industries Ltd filed Critical Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Publication of JPH04334342A publication Critical patent/JPH04334342A/ja
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカルボニル基含有化合物
の製造方法に関し、特に、ニッケル化合物または鉄化合
物と四酸化オスミウム(OsO4 )とを用い、アルデ
ヒド化合物の共存下に行う新規な反応により、二重結合
含有化合物からα−ヒドロキシケトン、α−ヒドロキシ
カルボン酸エステル等のカルボニル基含有化合物を得る
ことができる方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、α−ヒドロキシケトンを製造する
方法として、オレフィンを、四酸化オスミウム(OsO
4 )を触媒として用い、過酸化水素を酸化剤として反
応させる方法やRuCl3 を触媒として過酢酸を酸化
剤として用いて反応させる方法などが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の方
法は、使用する酸化剤が効果かつ取扱が危険なものであ
るという問題があった。
【0004】そこで本発明の目的は、酸化剤として安価
で取扱が容易な分子状酸素を用いる新規な反応により、
α−ヒドロキシケトン、α−ヒドロキシカルボン酸エス
テル等のカルボニル基含有化合物を得ることができる方
法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために、一般式(a):
【0006】
【化5】 〔式中、R1 およびR2 は同一でも異なっていても
よく、水素原子、直鎖または分岐状のアルキル基もしく
はアリール基であり、置換基を有していてもよく、R3
 は水素原子、直鎖または分岐状のアルキル基、アリー
ル基もしくは式(a−1): −OR4                   (a
−1)(式中、R4 は直鎖または分岐状のアルキル基
もしくはアリール基である)で表される基であり、R1
 とR2 、またはR1 とR3 は相互に結合して環
を形成していてもよい〕で表される二重結合含有化合物
を、一般式(b):
【0007】
【化6】 〔式中、R5 およびR6 は同一でも異なっていても
よく、低級アルキル基、アリール基またはハロゲン化ア
ルキル基であり、R7 は水素原子、低級アルキル基、
アリール基またはハロゲン原子であり、R5 とR7 
は互いに結合して環を形成していてもよい〕で表される
ニッケル化合物、または一般式(c):
【0008】
【化7】 〔式中、R5 、R6 およびR7 は前記一般式(b
)で定義したとおりである〕で表される鉄化合物からな
る群から選ばれる少なくとも1種と、四酸化オスミウム
と、一般式(d): R8 CHO                   
   (d)〔式中、R8 は直鎖または分岐状のアル
キル基、シクロアルキル基もしくはアリール基を示す〕
で表されるアルデヒド化合物との共存下に、酸素含有ガ
スと反応させる工程を有する、一般式(e):
【0009】
【化8】 〔式中、R1 、R2 およびR3 は前記一般式(a
)で定義したとおりである〕で表されるカルボニル基含
有化合物の製造方法を提供するものである。
【0010】前記工程を、含窒素複素環化合物の共存下
に行うと、好ましい。
【0011】前記含窒素複素環化合物が、2,6−ルチ
ジン、ピリジンおよび1,10−フェナントロリンから
選ばれる少なくとも1種であると、好ましい。
【0012】また、前記工程を、テトラヒドロフラン溶
媒の存在下に行うと、好ましい。
【0013】以下、本発明のカルボニル基含有化合物の
製造方法について詳細に説明する。
【0014】本発明の方法における出発原料である二重
結合含有化合物を表す前記一般式(a)において、R1
 およびR2 は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、直鎖または分岐状のアルキル基もしくはアリール基
であり、置換基を有していてもよいものである。R1 
またはR2 の直鎖または分岐状のアルキル基としては
、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノ
ニル基、デシル基、ドデシル基、ウンデシル基、トリデ
シル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、
フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。ま
た、置換基を有するアルキル基もしくはアリール基とし
ては、例えば、フェニルエチル基、フェニルプロピル基
、フェニルブチル基、アセトキシメチル基、ベンゾイル
オキシメチル基等のアリール基、アルコキシ基、アリロ
キシ基等を置換基として有するものなどが挙げられる。
【0015】さらに、R3 は直鎖または分岐状のアル
キル基、アリール基もしくは下記式(a−1):−OR
4                        
     (a−1)で表される基である。R3 の直
鎖または分岐状のアルキル基またはアリール基としては
、前記R1 およびR2 について例示のものと同じも
のが挙げられる。また、式(a−1)において、R4 
は直鎖または分岐状のアルキル基もしくはアリール基で
ある。R4 の直鎖または分岐状のアルキル基としては
、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等が挙げられ、ま
た、アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル
基、ナフチル基等が挙げられる。
【0016】さらに、R1 とR2 、またはR1とR
3 は相互に結合して環を形成していてもよく、例えば
、相互に結合して、5、6、7、8員環やステロイド骨
格を形成していてもよい。
【0017】この一般式(a)で表される二重結合含有
化合物の代表例として、3−メチル−2−ブテニルベン
ゾエート、2−ブテニルベンゾエート、2−メチル−2
−ブテニルベンゾエート等のアリルエステル類;1−ウ
ンデセン、1−テトラデセン、4−フェニル−1−ブテ
ン等の末端オレフィン類;エトキシエチレン、ブトキシ
エチレン等のビニルエーテル類などが挙げられる。
【0018】本発明の方法は、前記一般式(b)で表さ
れるニッケル化合物または前記一般式(c)で表される
鉄化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を触媒
とし、四酸化オスミウムの存在下に行う方法である。
【0019】前記ニッケル化合物を表す前記一般式(b
)および鉄化合物を表す一般式(c)において、R5 
およびR6 は同一でも異なっていてもよく、低級アル
キル基、アリール基またはハロゲン化アルキル基である
。この低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、te
rt−ブチル基等が挙げられ、アリール基としては、例
えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。また、ハ
ロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメ
チル基を挙げることができる。R5 またはR6 のア
リール基は、置換基を有していてもよく、例えば、p−
メトキシ基、m−メトキシ基、o−メトキシ基等のアル
コキシ基、p,m,o−メチル基などを置換基として有
するものも挙げられる。
【0020】また、R7 は、水素原子、低級アルキル
基、アリール基またはハロゲン原子である。この低級ア
ルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル
基等が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニ
ル基等が挙げられ、またハロゲン原子としては、例えば
、フッ素、塩素等が挙げられる。
【0021】さらに、R5 とR7 は互いに結合して
環を形成していてもよく、例えば、5員環や6員環を形
成していてもよい。
【0022】この一般式(b)で表されるニッケル化合
物の代表例として、ビス(3−メチル−2,4−ペンタ
ンジオナト)ニッケル(II)、ビス〔1,3−ビス(
p−メトキシフェニル)−1,3−プロパンジオナト〕
ニッケル(II)などが挙げられる。
【0023】また、一般式(c)で表される鉄化合物の
代表例として、トリス(3−メチル−2,4−ペンタン
ジオナト)鉄、トリス〔1,3−ビス(p−メトキシフ
ェニル)−1,3−プロパンジオナト〕鉄などが挙げら
れる。
【0024】本発明の方法において、前記一般式(b)
で表されるニッケル化合物および前記一般式(c)で表
される鉄化合物は、1種単独でも2種以上を組み合わせ
ても用いられる。
【0025】また、このニッケル化合物または鉄化合物
は、いずれの方法によって得られたものでもよく、特に
限定されない。さらに、市販品を用いてもよい。
【0026】このニッケル化合物または鉄化合物は、例
えば、所望のニッケル化合物または鉄化合物に対応する
ジケトン化合物と、ニッケルまたは鉄の硫酸塩、塩酸塩
、酢酸塩とを用いて、脱塩法で製造することができる。 このようにして得られる生成物は、反応溶媒等を除去し
た後、乾燥してそのまま使用してもよい。さらに有機溶
媒で抽出した精製物として使用してもよいし、減圧下に
、昇華精製して使用してもよく、またこれらの精製法を
組み合わせて精製し使用に供してもよい。
【0027】本発明の方法において、前記一般式(b)
で表されるニッケル化合物および前記一般式(c)で表
される鉄化合物から選ばれる少なくとも1種の使用量、
ならびに四酸化オスミウムの使用量は、出発原料である
前記一般式(a)で表される二重結合含有化合物に対し
て、それぞれ0.01〜10mol%程度であり、特に
目的物である前記一般式(e)で表されるカルボニル基
含有化合物の収率が高い点で、(ニッケル化合物または
鉄化合物から選ばれる少なくとも1種)/四酸化オスミ
ウムのモル比で1/1〜5/1の割合を保ちながら、0
.1〜5mol%となる量とするのが、好ましい。
【0028】本発明の方法で用いられるアルデヒド化合
物を表す前記一般式(d)において、R8 は直鎖また
は分岐状のアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリ
ール基である。直鎖または分岐状のアルキル基としては
、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、
ウンデシル基、トリデシル基等が挙げられ、シクロアル
キル基としては、例えば、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。また、アリール基としては、例えば、フェニル基
、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。
【0029】この一般式(d)で表されるアルデヒド化
合物の代表例として、アセトアルデヒド、プロピオンア
ルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、
バレルアルデヒド、イソバレルアルデヒド、ヘキシルア
ルデヒド、オクチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、シ
クロヘキサンカルバルデヒド、ピバルアルデヒド等が挙
げられる。
【0030】本発明の方法において、前記一般式(d)
で表されるアルデヒド化合物は、1種単独でも2種以上
を組み合わせても用いられる。
【0031】このアルデヒド化合物の使用量は、出発原
料である前記一般式(a)で表される二重結合含有化合
物1molに対して、通常、1mol以上、好ましくは
1〜10molの割合にするのが一般的である。
【0032】また、本発明の方法において、前記反応に
おいて、含窒素複素環化合物を共存させると、目的物で
ある前記一般式(e)で表されるカルボニル基含有化合
物の収率が向上する点で、好ましい。用いられる含窒素
複素環化合物としては、例えば、2,6−ルチジン、2
,4−ルチジン、ピリジン、1,10−フェナントロリ
ン、2−ピコリン、4−ピコリン、キノリン、2,2−
ビピリジン等が挙げられる。本発明の方法において、含
窒素複素環化合物を用いる場合、1種単独でも2種以上
を組み合わせて用いてもよい。
【0033】本発明の方法において、前記含窒素複素環
化合物を使用する場合、その使用量は、通常、用いられ
る四酸化オスミウムに対して1〜10倍molとなる量
が好ましい。
【0034】本発明の方法においては、前記反応は溶媒
中で行われる。用いられる溶媒としては、例えば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;
1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン系溶媒;酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系
溶媒;THF、ジオキサン、イソプロピルエーテル等の
エーテル系溶媒などが挙げられる。これらは1種単独で
も2種以上を組み合わせても用いられる。これらの中で
も、特にTHF、アセトンが好ましい。
【0035】本発明の方法で用いられる酸素含有ガスは
、酸素ガスでもよいし、酸素含有窒素ガス(例えば、空
気)でもよい。この酸素含有ガス中の酸素の分圧は、好
ましくは0.1〜10kg/cm2 程度である。
【0036】また、反応温度は、通常、0〜100℃程
度、好ましくは10〜50℃程度である。
【0037】以上の反応によって得られる反応混合物は
、通常、副生物、未反応の出発原料、触媒としての前記
ニッケル化合物または鉄化合物等を含有するため、本発
明の目的物であるカルボニル基含有化合物は、この反応
混合物中から分離、精製して得ることができる。用いら
れる分離方法は、特に制限されず、例えば、蒸留、吸着
等による方法、抽出、再結晶等の公知の分離方法によれ
ばよい。
【0038】本発明の方法は、出発原料として前記一般
式(a)で表される二重結合含有化合物を適宜、選択す
ることにより、これに対応して前記一般式(e)で表さ
れるカルボニル基含有化合物を得ることができる。例え
ば、前記一般式(a)においてR3 が水素原子、直鎖
または分岐状のアルキル基もしくはアリール基、ならび
にこれらが置換基を有する場合、すなわち、二重結合化
合物としてオレフィン類を出発原料として使用すれば、
これに対応してα−ヒドロキシケトンを得ることができ
る。例えば、3−メチル−3−ヒドロキシ−2−オキソ
ブチルベンゾエート、1−ヒドロキシ−2−デカノン、
1−ヒドロキシ−2−テトラデカノン等を得ることがで
きる。
【0039】また、R3 が前記式(a−1)で表され
る基である場合、すなわち二重結合含有化合物としてビ
ニルエーテルを出発原料として使用すれば、これに対応
してα−ヒドロキシカルボン酸エステルを得ることがで
きる。例えば、2−ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロ
キシ酢酸ブチル等を得ることができる。
【0040】
【実施例】以下、本発明の実施例および比較例を挙げ、
本発明を具体的に説明する。
【0041】(実施例1)反応容器に、3−メチル−2
−ブテニルベンゾエート3.0mmol、イソブチルア
ルデヒド9.0mmol、ビス(3−メチル−2,4−
ペンタンジオナト)ニッケル(II)0.09mmol
(3.0mol%)、四酸化オスミウム0.03mmo
l(1.0mol%)およびアセトン5mlを仕込み、
純酸素雰囲気下、室温で14時間攪拌して反応させた。 反応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマト
グラフィーにかけて反応生成物を単離して同定したとこ
ろ、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベ
ンゾエートと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベン
ゾエートが、それぞれ62%と23%の収率で生成して
いることがわかった。
【0042】(実施例2)ビス(3−メチル−2,4−
ペンタンジオナト)ニッケル(II)の代わりにビス(
2,4−ペンタンジオナト)ニッケル(II)0.09
mmol(3.0mol%)を用いた以外は、実施例1
と同様にして反応を行った。反応終了後、得られた反応
混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけて反応生
成物を単離して同定したところ、3−ヒドロキシ−3−
メチル−2−オキソブチルベンゾエートと2,3−エポ
キシ−3−メチルブチルベンゾエートが、それぞれ45
%と25%の収率で生成していることがわかった。
【0043】(実施例3)ビス(3−メチル−2,4−
ペンタンジオナト)ニッケル(II)の代わりにビス(
1,1,1−トリフルオロ−2,4−ペンタンジオナト
)ニッケル(II)0.09mmol(3.0mol%
)を用いた以外は、実施例1と同様にして反応を行った
。反応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマ
トグラフィーにかけて反応生成物を単離して同定したと
ころ、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチル
ベンゾエートと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベ
ンゾエートが、それぞれ23%と18%の収率で生成し
ていることがわかった。
【0044】(実施例4)イソブチルアルデヒドの代わ
りにアセトアルデヒド9mmolを用いた以外は、実施
例1と同様にして反応を行った。反応終了後、得られた
反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけて反
応生成物を単離して同定したところ、3−ヒドロキシ−
3−メチル−2−オキソブチルベンゾエートと2,3−
エポキシ−3−メチルブチルベンゾエートが、それぞれ
60%と25%の収率で生成していることがわかった。
【0045】(実施例5)イソブチルアルデヒドの代わ
りにブチルアルデヒド9mmolを用いた以外は、実施
例1と同様にして反応を行った。反応終了後、得られた
反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけて反
応生成物を単離して同定したところ、3−ヒドロキシ−
3−メチル−2−オキソブチルベンゾエートと2,3−
エポキシ−3−メチルブチルベンゾエートが、それぞれ
52%と20%の収率で生成していることがわかった。
【0046】(実施例6)実施例1において、さらに、
2,6−ルチジン0.03mmol(1.0mol%)
を反応系に添加した以外は同様にして反応を行った。反
応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグ
ラフィーにかけて反応生成物を単離して同定したところ
、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベン
ゾエートと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾ
エートが、それぞれ67%と15%の収率で生成してい
ることがわかった。
【0047】(実施例7)実施例1において、さらに、
2,6−ルチジン0.06mmol(2.0mol%)
を反応系に添加した以外は同様にして反応を行った。反
応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグ
ラフィーにかけて反応生成物を単離して同定したところ
、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベン
ゾエートと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾ
エートが、それぞれ72%と12%の収率で生成してい
ることがわかった。
【0048】(実施例8)実施例1において、さらに、
2,6−ルチジン0.15mmol(5.0mol%)
を反応系に添加した以外は同様にして反応を行った。反
応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグ
ラフィーにかけて反応生成物を単離して同定したところ
、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベン
ゾエートと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾ
エートが、それぞれ69%と15%の収率で生成してい
ることがわかった。
【0049】(実施例9)実施例1において、さらに、
ピリジン0.03mmol(1.0mol%)を反応系
に添加した以外は同様にして反応を行った。反応終了後
、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィー
にかけて反応生成物を単離して同定したところ、3−ヒ
ドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベンゾエート
と2,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾエートが
、それぞれ64%と16%の収率で生成していることが
わかった。
【0050】(実施例10)実施例1において、さらに
、1,10−フェナントロリン0.03mmol(1.
0mol%)を反応系に添加した以外は同様にして反応
を行った。反応終了後、得られた反応混合物をシリカゲ
ルクロマトグラフィーにかけて反応生成物を単離して同
定したところ、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキ
ソブチルベンゾエートと2,3−エポキシ−3−メチル
ブチルベンゾエートが、それぞれ68%と14%の収率
で生成していることがわかった。
【0051】(実施例11)実施例1において、アセト
ンの代わりにTHFを用い、さらに、2,6−ルチジン
0.06mmol(2.0mol%)を反応系に添加し
た以外は同様にして反応を行った。反応終了後、得られ
た反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけて
反応生成物を単離して同定したところ、3−ヒドロキシ
−3−メチル−2−オキソブチルベンゾエートと2,3
−エポキシ−3−メチルブチルベンゾエートが、それぞ
れ82%と7%の収率で生成していることがわかった。
【0052】(実施例12)実施例1において、アセト
ンの代わりに酢酸エチルを用い、さらに、2,6−ルチ
ジン0.06mmol(2.0mol%)を反応系に添
加した以外は同様にして反応を行った。反応終了後、得
られた反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにか
けて反応生成物を単離して同定したところ、3−ヒドロ
キシ−3−メチル−2−オキソブチルベンゾエートが、
65%の収率で生成していることがわかった。
【0053】(実施例13)実施例1において、アセト
ンの代わりに1,2−ジクロルエタンを用い、さらに、
2,6−ルチジン0.06mmol(2.0mol%)
を反応系に添加した以外は同様にして反応を行った。反
応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグ
ラフィーにかけて反応生成物を単離して同定したところ
、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベン
ゾエートと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾ
エートが、それぞれ48%と22%の収率で生成してい
ることがわかった。
【0054】(実施例14)実施例1において、アセト
ンの代わりにイソプロピルエーテルを用い、さらに、2
,6−ルチジン0.06mmol(2.0mol%)を
反応系に添加した以外は同様にして反応を行った。反応
終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグラ
フィーにかけて反応生成物を単離して同定したところ、
3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベンゾ
エートと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾエ
ートが、それぞれ58%と18%の収率で生成している
ことがわかった。
【0055】(実施例15)実施例1において、アセト
ンの代わりにジオキサンを用い、さらに、2,6−ルチ
ジン0.06mmol(2.0mol%)を反応系に添
加した以外は同様にして反応を行った。反応終了後、得
られた反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにか
けて反応生成物を単離して同定したところ、3−ヒドロ
キシ−3−メチル−2−オキソブチルベンゾエートと2
,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾエートが、そ
れぞれ59%と18%の収率で生成していることがわか
った。
【0056】(実施例16)実施例1において、アセト
ンの代わりにジメトキシエタンを用い、さらに、2,6
−ルチジン0.06mmol(2.0mol%)を反応
系に添加した以外は同様にして反応を行った。反応終了
後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにかけて反応生成物を単離して同定したところ、3−
ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベンゾエー
トと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾエート
が、それぞれ29%と19%の収率で生成していること
がわかった。
【0057】(実施例17〜22)出発原料として、3
−メチル−2−ブテニルベンゾエートの代わりに表1に
示す化合物を使用し、アセトンの代わりにTHFを用い
、さらに、2,6−ルチジン0.06mmol(2.0
mol%)を反応系に添加した以外は、実施例1と同様
にして反応を行った。反応終了後、得られた反応混合物
をシリカゲルクロマトグラフィーにかけて出発原料に対
応するα−ヒドロキシケトンを単離して同定し、その収
率を測定した。結果を表1に示す。
【0058】
【表1】
【0059】(実施例23,24)出発原料として、3
−メチル−2−ブテニルベンゾエートの代わりに表2に
示す化合物を使用し、アセトンの代わりにTHFを用い
、さらに、2,6−ルチジン0.06mmol(2.0
mol%)を反応系に添加した以外は、実施例1と同様
にして反応を行った。反応終了後、得られた反応混合物
をシリカゲルクロマトグラフィーにかけて出発原料に対
応するα−ヒドロキシカルボン酸エステルを単離して同
定し、その収率を測定した。結果を表2に示す。
【0060】
【表2】
【0061】(実施例26)ビス(3−メチル−2,4
−ペンタンジオナト)ニッケル(II)の代わりに、ト
リス(3−メチル−2,4−ペンタンジオナト)鉄(I
II )0.09mmol(3.0mol%)を用いた
以外は、実施例1と同様にして反応を行った。反応終了
後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにかけて反応生成物を単離して同定したところ、3−
ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソブチルベンゾエー
トと2,3−エポキシ−3−メチルブチルベンゾエート
が、それぞれ52%と25%の収率で生成していること
がわかった。
【0062】(比較例1)反応容器に、3−メチル−2
−ブテニルベンゾエート3.0mmol、イソブチルア
ルデヒド9.0mmol、ビス(3−メチル−2,4−
ペンタンジオナト)ニッケル(II)0.09mmol
(3.0mol%)およびアセトン5mlを仕込み、純
酸素雰囲気下、室温で14時間攪拌して反応させた。反
応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロマトグ
ラフィーにかけて反応生成物を単離して同定したところ
、目的とする3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキソ
ブチルベンゾエートの生成は認められず、2,3−エポ
キシ−3−メチルブチルベンゾエートのみが75%の収
率で生成していることがわかった。
【0063】(比較例2)反応容器に、3−メチル−2
−ブテニルベンゾエート3.0mmol、イソブチルア
ルデヒド9.0mmol、四酸化オスミウム0.03m
mol(1.0mol%)およびアセトン5mlを仕込
み、純酸素雰囲気下、室温で14時間攪拌して反応させ
た。反応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルクロ
マトグラフィーにかけて分析したところ、出発原料の消
費はほとんど見られず、目的とする3−ヒドロキシ−3
−メチル−2−オキソブチルベンゾエートは殆ど生成せ
ず痕跡量程度であった。
【0064】(比較例3)3−メチル−2−ブテニルベ
ンゾエートの代わりに、2,3−エポキシ−3−メチル
ブチルベンゾエート3.0mmolを用いた以外は、実
施例1と同様にして反応を行った。反応終了後、得られ
た反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけて
分析したところ、出発原料の消費はほとんど見られず、
また目的とする3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オキ
ソブチルベンゾエートが生成していなかった。
【0065】(比較例4)3−メチル−2−ブテニルベ
ンゾエートの代わりに、2,3−ジヒドロキシ−3−メ
チルブチルベンゾエート3.0mmolを用いた以外は
、実施例1同様にして反応を行った。反応終了後、得ら
れた反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ
て分析したところ、出発原料の消費はほとんど見られず
、また目的とする3−ヒドロキシ−3−メチル−2−オ
キソブチルベンゾエートが生成していなかった。
【0066】
【発明の効果】本発明の方法によれば、ニッケル化合物
または鉄化合物と四酸化オスミウム(OsO4 )とを
用い、アルデヒド化合物の共存下に行う新規な反応によ
り、二重結合含有化合物からα−ヒドロキシケトン、α
−ヒドロキシカルボン酸エステル等のカルボニル基含有
化合物を得ることができる。得られるα−ヒドロキシケ
トン、α−ヒドロキシカルボン酸エステルは、糖類や種
々の生理活性物質の合成中間体として有機合成において
有用な化合物である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一般式(a): 【化1】 〔式中、R1 およびR2 は同一でも異なっていても
    よく、水素原子、直鎖または分岐状のアルキル基もしく
    はアリール基であり、置換基を有していてもよく、R3
     は水素原子、直鎖または分岐状のアルキル基、アリー
    ル基もしくは式(a−1): −OR4                   (a
    −1)(式中、R4 は直鎖または分岐状のアルキル基
    もしくはアリール基である)で表される基であり、R1
     とR2 、またはR1 とR3 は相互に結合して環
    を形成していてもよい〕で表される二重結合含有化合物
    を、一般式(b): 【化2】 〔式中、R5 およびR6 は同一でも異なっていても
    よく、低級アルキル基、アリール基またはハロゲン化ア
    ルキル基であり、R7 は水素原子、低級アルキル基、
    アリール基またはハロゲン原子であり、R5 とR7 
    は互いに結合して環を形成していてもよい〕で表される
    ニッケル化合物、または一般式(c): 【化3】 〔式中、R5 、R6 およびR7 は前記一般式(b
    )で定義したとおりである〕で表される鉄化合物からな
    る群から選ばれる少なくとも1種と、四酸化オスミウム
    と、一般式(d): R8 CHO                   
       (d)〔式中、R8 は直鎖または分岐状のアル
    キル基、シクロアルキル基もしくはアリール基を示す〕
    で表されるアルデヒド化合物との共存下に、酸素含有ガ
    スと反応させる工程を有する、一般式(e): 【化4】 〔式中、R1 、R2 およびR3 は前記一般式(a
    )で定義したとおりである〕で表されるカルボニル基含
    有化合物の製造方法。
  2. 【請求項2】  前記工程を、含窒素複素環化合物の共
    存下に行うことを特徴とする請求項1に記載のカルボニ
    ル基含有化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】  前記含窒素複素環化合物が、2,6−
    ルチジン、ピリジンおよび1,10−フェナントロリン
    から選ばれる少なくとも1種である請求項2に記載のカ
    ルボニル基含有化合物の製造方法。
  4. 【請求項4】  前記工程を、テトラヒドロフラン溶媒
    の存在下に行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれ
    かに記載のカルボニル基含有化合物の製造方法。
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