JPH04330019A - （４ｅ−シクロヘキシル−３−ブテニル）アリール誘導体及びその使用 - Google Patents

（４ｅ−シクロヘキシル−３−ブテニル）アリール誘導体及びその使用

Info

Publication number
JPH04330019A
JPH04330019A JP3031389A JP3138991A JPH04330019A JP H04330019 A JPH04330019 A JP H04330019A JP 3031389 A JP3031389 A JP 3031389A JP 3138991 A JP3138991 A JP 3138991A JP H04330019 A JPH04330019 A JP H04330019A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
trans
diyl
butenyl
cyano
halogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3031389A
Other languages
English (en)
Inventor
Stephen Kelly
ステファン・ケリー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
F Hoffmann La Roche AG
Original Assignee
F Hoffmann La Roche AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by F Hoffmann La Roche AG filed Critical F Hoffmann La Roche AG
Publication of JPH04330019A publication Critical patent/JPH04330019A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/62—Halogen-containing esters
    • C07C69/65—Halogen-containing esters of unsaturated acids
    • C07C69/653—Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters; Haloacrylic acid esters; Halomethacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
    • C07C43/02—Ethers
    • C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C43/215—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring having unsaturation outside the six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C13/00—Cyclic hydrocarbons containing rings other than, or in addition to, six-membered aromatic rings
    • C07C13/28—Polycyclic hydrocarbons or acyclic hydrocarbon derivatives thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C25/24—Halogenated aromatic hydrocarbons with unsaturated side chains
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/49—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C255/50—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
    • C07C43/02—Ethers
    • C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C43/225—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/017—Esters of hydroxy compounds having the esterified hydroxy group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/84—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of monocyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/92—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of monocyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of a six-membered aromatic ring with etherified hydroxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D319/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D319/04—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes
    • C07D319/06—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes not condensed with other rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001—Cyclohexane rings
    • C09K19/3048—Cyclohexane rings in which at least two rings are linked by a carbon chain containing carbon to carbon double bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001—Cyclohexane rings
    • C09K19/3066—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001—Cyclohexane rings
    • C09K19/3066—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers
    • C09K19/3068—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers chain containing -COO- or -OCO- groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
    • C09K19/321—Compounds containing a bicyclo [2,2,2] octane ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
    • C09K19/322—Compounds containing a naphthalene ring or a completely or partially hydrogenated naphthalene ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3441—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
    • C09K19/322—Compounds containing a naphthalene ring or a completely or partially hydrogenated naphthalene ring
    • C09K2019/325—Compounds containing a naphthalene ring or a completely or partially hydrogenated naphthalene ring containing a tetrahydronaphthalene, e.g. -2,6-diyl (tetralin)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
    • C09K19/322—Compounds containing a naphthalene ring or a completely or partially hydrogenated naphthalene ring
    • C09K2019/326—Compounds containing a naphthalene ring or a completely or partially hydrogenated naphthalene ring containing a decahydronaphthalene, e.g. -2,6-diyl (decalin)

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、新規な（４Ｅ−シクロヘキシル
−３−ブテニル）アリール誘導体、このような化合物を
含有する液晶混合物及び電気光学目的に対するこのよう
な化合物の使用に関するものである。
【０００２】液晶は、このような物質の光学的性質が、
かけられた電圧により影響され得るので、主に表示装置
における誘電体として使用される。液晶を基にした電気
光学装置は、当該技術に精通した者によく知られており
、種々な作用に基づくことができる。このような装置の
例は、動的散乱を有するセル、ＤＡＰ（配向相変形）セ
ル、ゲスト／ホストセル、ねじれネマチック構造を有す
るＴＮ（ねじれネマチック）セル及びＳＴＮ（超ねじれ
ネマチック）セル、ＳＢＥ（超複屈折効果）セル、コレ
ステリック−ネマチック相転移を有する相変化セル及び
ＯＭＩ（光学モード干渉）セルである。もっとも普通の
表示装置は、シャド−ヘルフリッヒ効果（Ｓｃｈａｄｔ
−Ｈｅｌｆｒｉｃｈ　ｅｆｆｅｃｔ）に基づくものであ
り、ねじれマネチック構造を有する。
【０００３】さらに、キラルなチルト（傾斜）スメクチ
ック液晶に基づく電気光学装置は、Ａｐｐｌ．　Ｐｈｙ
ｓ．　Ｌｅｔｔ．　３６，　８９９　（１９８０）及び
Ｒｅｃｅｎｔ　Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ　ｉｎ　Ｃｏ
ｎｄｅｎｓｅｄ　Ｍａｔｔｅｒ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　４，
　３０９　（１９８１）　に提案されている。この場合
においては、これらの物質の強誘電性質が利用される。 チルトスメクチック相として、例えばスメクチックＣ、
Ｆ、Ｇ、Ｈ、Ｉ及びＫ相が適している。特に高い応答速
度を可能にするスメクチックＣ相が一般に好ましい。キ
ラルなチルト相は、通常、ＳＣ＊、ＳＦ＊など（＊はキ
ラルティーを表す）によって表される。
【０００４】液晶物質は、良好な化学的及び熱的安定性
ならびに電場及び電磁放射に対する高い安定性を有して
いなければならない。さらに、液晶物質は、低粘度を有
していなければならず、そしてセルにおいて短応答時間
、低しきい電位及び高コントラストを与えなければなら
ない。さらに、普通の操作温度において、液晶は、適当
な中間相、例えばネマチック、コレステリック又はキラ
ルなチルトスメクチック相を有していなければならない
。さらに電導度、誘電異方性及び光学異方性のような性
質は、セルの型及び適用フィールドに依存する種々な必
要条件を満たさなければならない。例えば、ねじれネマ
チック構造を有するセルに対する物質は、正の誘電異方
性及び可能な限り低い電導度を有していなければならな
い。高い光学異方性を有する液晶物質における一般的な
重要性のほかに、最近、特に盛んに要望されている液晶
表示器に対する低い光学異方性を有する物質、例えばテ
レビジョンセットにおけるＴＦＴ（薄膜トランジスター
）適用の場合において重要性が増大している。他方、キ
ラルなチルトスメクチック液晶は、十分に高い自発分極
を有していなければならない。
【０００５】性質を最適にするために、液晶は、一般に
、いくつかの成分の混合物として使用される。それ故に
、成分が相互に良好な混和性を有するということが重要
である。コレステリック混合物は、好ましくは、１種又
は２種以上の光学的に活性なドーピング物質及びネマチ
ック液晶物質からなることができ、そして強誘電液晶は
、好ましくは、１種又は２種以上の光学的に活性なドー
ピング物質及びチルトスメクチック相を有する液晶物質
からなることができる。
【０００６】本発明は、一般式
【０００７】
【化４】
【０００８】［式中、ｎは０又は１の数を表し；Ｒ１　
は基Ｒ３　又はＲ３　−Ａ３　−Ｚ２　を表し、Ｒ２　
は基Ｒ４　又はＲ４　−Ａ４　−Ｚ３　−を表し；環Ａ
１　は、非置換又はハロゲン、シアノ及び／又はメチル
で置換された１，４−フェニレン（場合によっては１個
のＣＨ基又は２個のＣＨ基は窒素によって置換されてい
てもよい）を表し；Ａ３　、Ａ４　及び環Ａ２　はそれ
ぞれ独立して、非置換又はハロゲン、シアノ及び／又は
メチルで置換された１，４−フェニレン（場合によって
は１個のＣＨ基又は２個のＣＨ基は窒素によって置換さ
れていてもよい）；又はトランス−１，４−シクロヘキ
シレン、トランス−１，３−ジオキサン−２，５−ジイ
ル、１−シアノ−トランス−１，４−シクロヘキシレン
、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、
ナフタレン−２，６−ジイル、テトラリン−２，６−ジ
イルもしくはトランス−デカリン−２，６−ジイルを表
し；Ｚ１　、Ｚ２　及びＺ３　はそれぞれ独立して、共
有単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＨ２　Ｏ−、
−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−Ｃ≡Ｃ−、−
（ＣＨ２）３　Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３　−、−（ＣＨ
２）４　−又はトランス形の−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２　Ｃ
Ｈ２　−、−ＣＨ２　ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＨ２　Ｏもしくは−ＯＣＨ２　−ＣＨ＝ＣＨ−
を表し；Ｒ３　及びＲ４　はそれぞれ独立してハロゲン
、シアノ、−ＮＣＳ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３　又はアル
キル（場合によっては、１個の＞ＣＨ−ＣＨ＜は＞Ｃ＝
Ｃ＜によって置換されていてもよく、及び／又は場合に
よっては、１個のメチレン基又は２個の非隣接のメチレ
ン基は−Ｏ−、−ＣＯＯ−及び／又は−ＯＯＣ−によっ
て置換されていてもよく、及び／又は場合によっては１
個のメチレン基は−ＣＨＸ−によって置換されていても
よい）を表し；そしてＸはハロゲン、シアノ又はメチル
を表す］で示される化合物を提供することである。
【０００９】驚くことに、式Ｉの化合物は、シクロヘキ
サン環と芳香族環Ａ１　の間にブテン架橋基を有してい
るが、架橋基の高い柔軟性にもかかわらず、液晶相を形
成する顕著な傾向を有していることが判明した。式Ｉの
光学的に不活性な化合物は、たいてい、ネマチック、ス
メクチックＡ及び／又はチルトスメクチック（主として
ＳＣ）相を有し、式Ｉの光学的に活性な化合物は、たい
てい、コレステリック、スメクチックＡ及び／又はキラ
ルなチルトスメクチック（主としてＳＣ＊）相を有する
。これらの中間相型は、特に、液晶混合物中のネマチッ
ク、コレステリック又はキラルなチルトスメクチック相
を増大するのに適している。しかし高い秩序性のスメク
チック相を有する式Ｉの化合物、たとえばスメクチック
Ｂ相はまた、通常の液晶物質がもつ良好な混和性を有す
る。 したがって、本発明は、液晶物質のさらなる最適化と変
性のための広範囲な新規な成分及び混合物を提供する。
【００１０】式Ｉの化合物は、高い化学的安定性及び電
場及び磁場に対する高い安定性を有している。式Ｉの化
合物は、無色であり、容易に製造することができ、そし
て相互の及び既知の液晶物質への非常に良好な溶解性を
有している。さらに、式Ｉの化合物は、低い粘度を有し
、表示装置において短い応答時間を与える。
【００１１】式Ｉの化合物の性質は、環及び置換基の数
及び定義により広範囲に変化することができる。例えば
、芳香族環は、高い値の光学異方性を与え、飽和環は低
い値の光学異方性を与える。澄明点の増大は、例えば、
１個又は２個以上の追加的な環の導入により達成するこ
とができる。シアノ、ハロゲン、−ＮＣＳ、−ＣＦ３又
は−ＯＣＦ３　のような極性末端基、及びピリミジン−
２，５−ジイル、トランス−１，３−ジオキサン−２，
５−ジイルなどのような環は、誘電異方性を増大し、ピ
リダジン−３，６−ジイル、１−シアノ−トランス−１
，４−シクロヘキシレン、２，３−ジシアノ−１，４−
フェニレンなどのような環は、誘電異方性を減少し、分
子の軸線に平行であるのみでなく垂直である、誘電率に
寄与する側ハロゲン及びシアノ置換基は、置換パターン
によって、誘電異方性を増大又は減少するために使用す
ることができる。さらに、１個又は２個以上の環上の側
置換基によって、中間相の範囲を変えることができ、高
い秩序性をもつスメクチック相を形成することが可能な
傾向を非常に抑制することができ、そしてまたしばしば
溶解度を改善することができる。さらに、側鎖中のＣ＝
Ｃ二重結合によって、弾性、しきい電位、応答時間、中
間相などを変えることができる。
【００１２】本発明による化合物は、それ故に、望まれ
る性質に従う液晶混合物の最適化及び広い範囲の電気光
学性質の変性を可能にする。
【００１３】“ハロゲン”なる用語は、本発明の範囲に
おいては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素、特にフッ素
又は塩素を表す。
【００１４】“非置換又はハロゲン、シアノ及び／又は
メチルで置換された１，４−フェニレン（場合によって
は、１個のＣＨ基又は２個のＣＨ基は窒素によって置換
されていてもよい）”なる用語は、１，４−フェニレン
、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフル
オロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−１，４−フェ
ニレン、２−ブロモ−１，４−フェニレン、２−シアノ
−１，４−フェニレン、２，３−ジシアノ−１，４−フ
ェニレン、２−メチル−１，４−フェニレン、ピリジン
−２，５−ジイル、ピラジン−２，５−ジイル、ピリミ
ジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルな
どのような基を包含する。好ましい基は、１，４−フェ
ニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−
ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−
ジイル、ピラジン−２，５−ジイル及びピリミジン−２
，５−ジイルである。
【００１５】“テトラリン−２，６−ジイル”なる用語
は、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６
−ジイルを表す。“トランス−デカリン−２，６−ジイ
ル”なる用語は、トランス−デカヒドロナフタレンから
誘導された２，６−ジ置換基、特に（４ａαＨ，８ａβ
Ｈ）−デカヒドロナフタレン−２α，６β−ジイルを包
含する。
【００１６】“アルキル（場合によっては、１個の＞Ｃ
Ｈ−ＣＨ＜は＞Ｃ＝Ｃ＜によって置換されていてもよく
、及び／又は、１個のメチレン基又は２個の非隣接のメ
チレン基は−Ｏ−、−ＣＯＯ−及び／又は−ＯＯＣ−に
よって置換されていてもよく、及び／又は場合によって
は１個のメチレン基は−ＣＨＸ−によって置換されてい
てもよい）”なる用語は、アルキル、１Ｅ−アルケニル
、３Ｅ−アルケニル、４−アルケニル、末端二重結合を
有するアルケニル、アルコキシ、２Ｅ−アルケニルオキ
シ、３−アルケニルオキシ、末端二重結合を有するアル
ケニルオキシ、アルコキシアルキル、アルケニルオキシ
アルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニ
ルアルコキシ、アルカノイルオキシ、１−ハロアルキル
、２−ハロアルキル、２−ハロアルコキシ、２−ハロア
ルコキシカルボニル、１−シアノアルキル、２−シアノ
アルキル、２−シアノアルコキシ、２−シアノアルコキ
シカルボニル、１−メチルアルキル、２−メチルアルキ
ル、１−メチルアルコキシ、２−メチルアルコキシ、２
−メチルアルコキシカルボニルなどのような直鎖状及び
分枝鎖状（場合によってはキラル）残基を包含する。 好ましい残基の例は、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル
、デシル、ウンデシル、ドデシル、１−メチルプロピル
、１−メチルヘプチル、２−メチルブチル、３−メチル
ペンチル、ビニル、１Ｅ−プロペニル、１Ｅ−ブテニル
、１Ｅ−ペンテニル、１Ｅ−ヘキセニル、１Ｅ−ヘプテ
ニル、３−ブテニル、３Ｅ−ペンテニル、３Ｅ−ヘキセ
ニル、３Ｅ−ヘプテニル、４−ペンテニル、４Ｚ−ヘキ
セニル、４Ｚ−ヘプテニル、５−ヘキセニル、６−ヘプ
テニル、７−オクテニル、８−ノネニル、９−デセニル
、１０−ウンデセニル、１１−ドデセニル、メトキシ、
エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオ
キシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキ
シ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、
ドデシルオキシ、１−メチルプロピルオキシ、１−メチ
ルヘプチルオキシ、２−メチルブチルオキシ、３−メチ
ルペンチルオキシ、アリルオキシ、２Ｅ−ブテニルオキ
シ、２Ｅ−ペンテニルオキシ、２Ｅ−ヘキセニルオキシ
、２Ｅ−ヘプテニルオキシ、３−ブテニルオキシ、３Ｚ
−ペンテニルオキシ、３Ｚ−ヘキセニルオキシ、３Ｚ−
ヘプテニルオキシ、４−ペンテニルオキシ、５−ヘキセ
ニルオキシ、６−ヘプテニルオキシ、７−オクテニルオ
キシ、８−ノネニルオキシ、９−デセニルオキシ、１０
−ウンデセニルオキシ、１１−ドデセニルオキシ、メト
キシメチル、エトキシメチル、プロピルオキシメチル、
アリルオキシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロピルオキシカルボニル、１−メチルプロ
ピルオキシカルボニル、１−（メトキシカルボニル）エ
トキシ、１−（エトキシカルボニル）エトキシ、アセト
キシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、１−フル
オロプロピル、１−フルオロペンチル、１−クロロプロ
ピル、２−フルオロプロピル、２−フルオロペンチル、
２−クロロプロピル、２−フルオロプロピルオキシ、２
−フルオロブチルオキシ、２−フルオロペンチルオキシ
、２−フルオロヘキシルオキシ、２−クロロプロピルオ
キシ、２−フルオロブチルオキシ、２−フルオロプロピ
ルオキシカルボニル、２−フルオロブチルオキシカルボ
ニル、２−フルオロペンチルオキシカルボニル、２−フ
ルオロ−３−メチルブチルオキシカルボニル、２−フル
オロ−４−メチルペンチルオキシカルボニル、２−クロ
ロプロピルオキシカルボニル、１−シアノプロピル、１
−シアノペンチル、２−シアノプロピル、２−シアノペ
ンチル、２−シアノプロピルオキシ、２−シアノブチル
オキシ、２−シアノペンチルオキシ、２−シアノヘキシ
ルオキシ、２−シアノプロピルオキシカルボニル、２−
シアノブチルオキシカルボニル、２−シアノ−３−メチ
ルブチルオキシカルボニル、２−シアノ−４−メチルペ
ンチルオキシカルボニルなどである。
【００１７】式Ｉの好ましい化合物は、一般式
【００１
８】
【化５】
【００１９】
【化６】 （式中、ｎ、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｚ１　及び環Ａ２　は前
記の定義を有し、Ｘ１　及びＸ２はそれぞれ独立して水
素、ハロゲン、シアノ又はメチルを表す）で示される化
合物である。
【００２０】上記式Ｉ及びＩ−１からＩ−６において、
環Ａ２　は好ましくは非置換の１，４−フェニレン又は
ハロゲン、シアノ及び／又はメチルによって一置換又は
２，３−二置換された１，４−フェニレン；又はトラン
ス−１，４−シクロヘキシレン、トランス−１，３−ジ
オキサン−２，５−ジイル、１−シアノ−トランス−１
，４−シクロヘキシレン、ビシクロ［２．２．２］オク
タン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、
テトラリン−２，６−ジイル、トランス−デカリン−２
，６−ジイルを表し、又は式Ｉ及びＩ−１はまたピリジ
ン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル又は
ピリミジン−２，５−ジイルを表す。
【００２１】好ましくはＡ３　及びＡ４　それぞれ独立
してトランス−１，４−シクロヘキシレン又は非置換又
はハロゲン、シアノ及び／又はメチルで置換された１，
４−フェニレンを表し、特にトランス−１，４−シクロ
ヘキシレンを表す。
【００２２】好ましくはＺ１　、Ｚ２　及びＺ３はそれ
ぞれ共有単結合を表し、又はＺ１　、Ｚ２及びＺ３　の
基のうちの１個（好ましくはＺ１）はまた−ＣＯＯ−、
−ＯＯＣ−、−ＣＨ２　Ｏ−、−ＯＣＨ２　−、−ＣＨ
２　ＣＨ２　−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）３　Ｏ−、
−Ｏ（ＣＨ２）３　−、−（ＣＨ２）４　−又はトラン
ス形の−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−ＣＨ２　
ＣＨ２　−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２　Ｏ−
もしくは−ＯＣＨ２　−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
【００２３】式Ｉ及びＩ−１からＩ−６の二環式及び三
環式化合物は、好ましい液晶混合物の基礎物質である。 二環式化合物においてｎは０の数を表し、Ｒ１　はＲ３
　を表し、Ｒ２　はＲ４　を表す。三環式化合物におい
て、ｎは１の数を表し、Ｒ１　はＲ３　を表し、Ｒ２　
はＲ４　を表し；又はｎは０の数を表し、Ｒ１　はＲ３
　−Ａ３　−Ｚ２　−を表し、Ｒ２　はＲ４　を表し；
又はｎは０の数を表し、Ｒ１　はＲ３　を表し、Ｒ２　
はＲ４　−Ａ４　−Ｚ３　−を表す。しかし４個又は５
個の環を有する化合物は、高い澄明点が望まれる場合（
たとえば、澄明点の増大のためのドーピング物質として
の使用、又はガスクロマトグラフィーの固定相としての
使用）に好ましい。
【００２４】式Ｉの化合物の特に好ましい下位化合物群
の例は、一般式
【００２５】
【化７】
【００２６】
【化８】
【００２７】
【化９】
【００２８】［式中Ｒ３　及びＲ４　は前記の定義を有
し；Ｘ１　、Ｘ２　、Ｘ３　及びＸ４　はそれぞれ独立
して水素、ハロゲン、シアノ又はメチルを表し；Ｚ４は
、共有単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、又は−Ｃ≡Ｃ
−を表し；Ｚ５　は、共有単結合、−ＯＯＣ−、−ＯＣ
Ｈ２　−、−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−Ｃ≡Ｃ−、−（Ｃ
Ｈ２）３　−、−（ＣＨ２）４　−、又はトランス形の
−ＣＨ２　ＣＨ２　−ＣＨ＝ＣＨ−もしくは−ＯＣＨ２
　−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；環Ａ５　はピリジン−２，５
−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピラジン−２
，５−ジイル、トランス−１，３−ジオキサン−２，５
−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−
ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラリン−２
，６−ジイル又はトランス−デカリン−２，６−ジイル
を表す］で示される化合物である。
【００２９】一般に、側置換基を有さない、又は側フッ
素置換基（好ましくは最大１個又は２個の側フッ素置換
基）を有する式Ｉの化合物が好ましい。すなわち、前述
の式Ｉ−１、Ｉ−７からＩ−１１、Ｉ−１３及びＩ−１
５において、置換基Ｘ１　、Ｘ２　、Ｘ３　及びＸ４　
は好ましくは水素又はフッ素を表し、特に水素であるか
、置換基Ｘ１　、Ｘ２　、Ｘ３　及びＸ４　のうちの１
個又は２個はフッ素を表す。しかしながらフッ素のかわ
りに、他のハロゲン置換基、特に塩素もまた使用でき得
ること、そして側メチル置換によってしばしば溶解度が
改善でき、シアノ置換基によって強い側双極子モーメン
トが得られることは、当該技術に精通した者に明らかで
あろう。
【００３０】式Ｉ−１１において、場合によってはピリ
ジン環、ピリミジン環、ピラジン環又は１，３−ジオキ
サン環がベンゼン環の２−位又は５−位に結合して存在
してもよい。
【００３１】好ましくは残基Ｒ３　及びＲ４　のうちの
最大１個（好ましくはＲ４）はハロゲン、シアノ、−Ｎ
ＣＳ、−ＣＦ３　又は−ＯＣＦ３　を表す。すなわち、
好ましくはＲ３及びＲ４　はそれぞれ独立して、アルキ
ル（場合によっては、１個の＞ＣＨ−ＣＨ＜は＞Ｃ＝Ｃ
＜によって置換されていてもよく、及び／又は場合によ
っては１個のメチレン基又は２個の非隣接のメチレン基
は−Ｏ−、−ＣＯＯ−及び／又は−ＯＯＣ−によって置
換されていてもよく、及び／又は場合によっては１個の
メチレン基は−ＣＨＸ−によって置換されていてもよい
）であるか、又は残基Ｒ３　及びＲ４　のうちの１つ（
好ましくはＲ４）はまたハロゲン、シアノ、−ＮＣＳ、
−ＣＦ３　又はＯＣＦ３　を表す。末端ハロゲン残基及
び−ＮＣＳ基は好ましくは芳香族環、特にベンゼン、ピ
リジン、ピリミジン又はピラジン環に結合して存在する
。
【００３２】前記式Ｉ及びＩ−１からＩ−１６における
Ｒ３　及びＲ４　はそれぞれ好ましくは最大約１８、特
に最大１２の炭素原子を有する。
【００３３】ネマチック及びコレステリック液晶として
の用途には、一般に、短い残基Ｒ３及びＲ４（例えば、
最高１２個、好ましくは最高７個の炭素原子の基）が好
ましく、そして好ましくは、これらの残基の１個は、ま
た、ハロゲン、シアノ、−ＮＣＳ、−ＣＦ３　又は−Ｏ
ＣＦ３　を表すことができる。スメクチック液晶（特に
、チルトスメクチック相）としての用途には、一般に、
Ｒ３　及びＲ４　が、それぞれ独立して、アルキル（場
合によっては、１個の＞ＣＨ−ＣＨ＜は＞Ｃ＝Ｃ＜によ
って置換されていてもよく、及び／又は場合によっては
、１個のメチレン基又は２個の非隣接のメチレン基は−
Ｏ−、−ＣＯＯ−及び／又は−ＯＯＣ−によって置換さ
れていてもよく、及び／又は場合によっては、１個のメ
チレン基は−ＣＨＸ−によって置換されていてもよい）
を表し、Ｒ３　及びＲ４　中の炭素原子の総数が少なく
とも１０個、好ましくは少なくとも１２個である化合物
が好ましい。
【００３４】好ましい基Ｒ３　は、アルキル、アルケニ
ル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルコキシカルボ
ニル、アルケニルオキシカルボニル、アルカノイルオキ
シ及びアルケノイルオキシであり、特にアルキル及びア
ルケニルである。一般に、１２個までの炭素原子を有す
る残基Ｒ３　が特に好ましい。好ましい残基Ｒ４　は、
アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシ
、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル
、アルカノイルオキシ及びアルケノイルオキシ（特に、
アルキル、アルケニル、アルコキシ及びアルケニルオキ
シ）ならびにハロゲン（特に、フッ素及び塩素）、シア
ノ、−ＮＣＳ、−ＣＦ３　及び−ＯＣＦ３　である。一
般に、１２個までの炭素原子を有する残基Ｒ４　が特に
好ましい。
【００３５】それぞれ、直鎖状の基Ｒ３　及びＲ４　が
一般に好ましい。しかしながら、例えば、コレステリッ
ク液晶又はキラルなチルトスメクチック液晶に対するキ
ラルなドーピング物質を得るためには、残基Ｒ３　及び
Ｒ４　の一方また両方は、好ましくは、分枝鎖キラルで
あることができ、及び／又は１個のメチレンの代りに基
−ＣＨＸ−（式中、Ｘはハロゲン（好ましくは、フッ素
又は塩素）、シアノ又はメチルである）を有することが
できる。キラルなチルトスメクチック液晶としての用途
で高い自発分極を得るためには、キラリティーの中心（
すなわち、鎖の枝分れ又はハロゲン又はシアノ置換基）
は、好ましくは環系に接近していなければならない。例
えば残基Ｒ３　又はＲ４　の１−又は２−位に存在せね
ばならない。さらに、液晶相を形成する傾向は、基本的
に、１個のメチレン基又は２個の非隣接のメチレン基が
とりわけ、天然の光学活性な酸やアルコールなどからの
キラル残基（たとえば乳酸からの２−アルコキシカルボ
ニルエトキシのような）の製造に使用され得る、−Ｏ−
、−ＣＯＯ及び／又は−ＯＯＣ−によって置き換えられ
る場合に残留する。
【００３６】中間相の範囲、しきい電位、応答速度、透
過曲線の立上り勾配などは、また、アルケニル、アルケ
ニルオキシなどのような不飽和基中のＣ＝Ｃ二重結合の
位置を選択することによって変えることができる。効果
は、基本的に、たとえばＭｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．　Ｌｉｑ
．　Ｃｒｙｓｔ．　１２２，　２４１　（１９８５），
　１３１，　１０９　（１９８５）及び１４８，　１２
３　（１９８７）から知られている。１Ｅ−アルケニル
、３Ｅ−アルケニル、４Ｚ−アルケニル、２Ｅ−アルケ
ニルオキシ、３Ｚ−アルケニルオキシなどのようなどん
な異種原子を包含する鎖でも、１−位（特にＥ−異性体
）、３−位（特にＥ−異性体）又は４−位（特にＺ−異
性体）に二重結合を有する残基が好ましい。さらに二重
結合はまた、特にスメクチック液晶に用いる化合物の場
合には、好ましくは末端位置にあることができる。６−
ヘプテニル、７−オクテニル、８−ノネニル、９−デセ
ニル、１０−ウンデセニル、１１−ドデセニル、５−ヘ
キセニルオキシ、６−ヘプテニルオキシ、７−オクテニ
ルオキシ、８−ノネニルオキシ、９−デセニルオキシ、
１０−ウンデセニルオキシ、１１−ドデセニルオキシな
どは、末端位置に二重結合を有する好ましい残基の例で
ある。
【００３７】式Ｉの化合物の製造は、それ自体既知の方
法で行うことができる。好ましい方法を以下の図式１〜
４をもとに説明する。図式１〜４においてＲ１　、Ｒ２
　、Ｚ１、ｎ及び環Ａ１　及びＡ２　は前記の定義を有
し；−Ｏ−ＴＨＰはテトラヒドロ−２−ピラニルオキシ
を表し；Ｒ５　は、１個のアルキル基［場合によっては
、１個の＞ＣＨ−ＣＨ＜は＞Ｃ＝Ｃ＜によって置換され
ていてもよく、及び／又は、場合によっては１−位に存
在するのではないメチレン基は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は
−ＯＯＣ−によって置換されていてもよく、及び／又は
場合によっては１個のメチレン基は−ＣＨＸ−（Ｘは前
記の定義を有する）によって置換されていてもよい］を
意味している。
【００３８】
【化１０】
【００３９】
【化１１】
【００４０】
【化１２】
【００４１】
【化１３】
【００４２】図式中、各式ＩＩ、ＩＩＩ　、ＶＩＩＩ、
ＩＸ、Ｘ、ＸＩＩＩ及びＸＶＩＩＩ　に示す出発物質は
、既知の化合物であるか、又はその類縁体であって、既
知の方法により製造することができる。このような化合
物はすでに液晶又はその中間体として記載されている。 式ＶＩＩ　に示すグリニャール試薬や、対応する臭化物
からの式ＬＩＩ　に示すホスホニウム塩の製造はまた、
この分野の技術に詳しい者によく知られている。
【００４３】図式２に示された方法の代替法としてまた
式Ｘに示すプロピオンアルデヒドを（図式４に示される
ように）ウィッティヒ反応により式ＬＩＩ　のホスホニ
ウム塩と反応させ、その結果として得られたシス−トラ
ンス混合物をベンゼンスルフィン酸によって異性化して
、式Ｉの化合物を得ることができる。
【００４４】図式１及び２に示した方法もまた、Ｒ１　
、Ｚ１　、環Ａ２　及び／又はＲ２　の代わりに適当な
官能基を有する式Ｉの化合物の中間体の製造に使用する
ことができる。その結果として得られた、ブテン架橋基
を有する中間体を、ついで、それ自体既知の方法により
式Ｉの化合物へと変化することができる。特に、１個又
は２個以上のエステル基を有する式Ｉの化合物を得るエ
ステル化反応は、ブテン架橋基を形成した後にのみ、有
利に進めることができる。もちろん、例えばアルケニル
残基、エーテル残基、複素環のような他の基もまた、ブ
テン架橋基形成後にのみ形成することができる。このよ
うな方法の例を図式３及び４に示す。
【００４５】式Ｖの化合物は、たとえば４−（ジメチル
アミノ）ピリジン及びＮ，Ｎ´−ジシクロヘキシルカル
ボジイミドの存在下にピバリン酸により、又はピリジン
の存在下において塩化ピバロイルによって、それ自体既
知の方法でエステル化を進めることができる。
【００４６】式ＩＸのアルデヒドを反応させて式Ｘの同
族体アルデヒドを得るのは、通常の方法により行うこと
ができる。たとえばメチレン基は、アルデヒドをウィッ
ティヒ反応によりメトキシメチル−トリフェニルホスホ
ニウム塩と反応させ、得られたエノールエステルを、つ
いで加水分解して（たとえば希塩化水素酸を使用して）
得ることができる。容易に加水分解できる基が分子中に
存在しない場合、２個のメチレン基による直接鎖長延長
反応は、図式４に示された方法により達成することがで
きる。
【００４７】上記の方法により、アルデヒドは、基本的
にいかなる長さに延長された鎖を有する同族体のアルデ
ヒドにも変換することができ、この同族体アルデヒドは
、広い範囲にわたり様々な誘導体を製造するのに使用す
ることができる。例えば式ＬＩＶ　のアルデヒドは、（
場合によっては適当な同族体のアルデヒドに変換した後
）ウィッティヒ反応によってアルケニル誘導体、又はさ
らにブテン架橋基を有する化合物に変換するか、もしく
は２−Ｒ２　−１，３−プロパンジオールと反応するこ
とによって、ジオキサン環が直接又は−（ＣＨ２）２　
−もしくは−（ＣＨ２）４　−を通して環Ａに結合して
いるジオキサン誘導体に変換することができる。また水
素化ホウ素を使用してアルデヒドを還元するか、又はク
ロム酸を使用してアルデヒドを酸化し、それ自体既知の
方法によりエーテル化又はエステル化して、式Ｉの化合
物を得ることが可能な同族体のアルコール又はカルボン
酸を得ることができる。適当なエーテル化及びエステル
化を可能にする例は、図式３及び４中に式ＸＶＩＩ及び
ＬＶの化合物として示している。
【００４８】さらなる方法、特に鎖長延長反応及びアル
ケニル置換基、様々な架橋基及び複素環を導入する方法
は、基本的には、たとえばヨーロッパ公開特許０１２２
３８９、ヨーロッパ公開特許０　　１６９　　３２７、
ヨーロッパ公開特許０１７２　　３６０、ヨーロッパ公
開特許０　　１６７　　９１２、ヨーロッパ公開特許０
１６８　　６８３、ヨーロッパ公開特許０　　２４２　
　７１６及びヨーロッパ公開特許０　　３４４　　５５
７により、当該技術に精通した者に知られている。
【００４９】式Ｉの化合物は、相互の混合物及び／又は
他の液晶成分との混合物の形態で使用することができる
。好適な液晶成分は、例えばＤ．　Ｄｅｍｕｓ等：　Ｆ
ｌｕｓｉｇｅ　Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ　ｉｎ　Ｔａｂｅｌ
ｌｅｎ，　ＶＥＢ　Ｄｅｕｔｓｃｈｅｒ　Ｖｅｒｌａｇ
　ｆｕｒ　Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，
　Ｌｅｉｐｚｉｇ，　Ｖｏｌｕｍｅｓ　Ｉ及びＩＩによ
って当該技術に精通した者に多数のものが知られており
、その多くは商業的に入手することができる。
【００５０】したがって、本発明はまた、少なくとも１
種の成分が式Ｉの化合物（特に、好ましいとして言及さ
れた化合物の１種）であることを特徴とする少なくとも
２種の成分を有する液晶混合物に関するものである。
【００５１】良好な溶解度と、一方では大幅な性質の変
化及び適用フィールドを有することに関しては、本発明
による混合物中の式Ｉの化合物の量は、広い範囲に変化
することができ、約０．１〜１００重量％の量にするこ
とができる。例えば、混合物は、式Ｉの化合物からなる
ことができる。他方、例えばキラルなドーピング物質が
、しばしば比較的少量、例えば約０．１〜１０重量％で
用いられる。しかしながら、一般に本発明による混合物
中の式Ｉの化合物の量は約１〜６０重量％である。一般
に、約５〜３０重量％の範囲が好ましい。
【００５２】ネマチック又はコレステリック液晶として
の用途に用いる本発明の混合物は、好ましくは、式Ｉの
１種又は２種以上の化合物のほかに、次の一般式の化合
物の群からの１種又は２種以上の化合物を含有する。
【００５３】
【化１４】
【００５４】
【化１５】
【００５５】
【化１６】
【００５６】上記の各式において、Ｒ６　はアルキル、
３Ｅ−アルケニル又は４−アルケニルを表し；Ｒ７　は
シアノ又はフッ素を表し；Ｒ８　及びＲ９　はアルキル
又はアルコキシを表し；Ｒ１０及びＲ１７は、それぞれ
独立してアルキル、１Ｅ−アルケニル、３Ｅ−アルケニ
ル又は４−アルケニルを表し；Ｒ１１はシアノ、−ＮＣ
Ｓ、アルキル、３Ｅ−アルケニル、４−アルケニル、ア
ルコキシ、２Ｅ−アルケニルオキシ又は３−アルケニル
オキシを表し；Ｒ１２はアルコキシ、２Ｅ−アルケニル
オキシ又は３−アルケニルオキシを表し；ｐは０又は１
の数を表し；Ｚ６　は共有単結合又は−ＣＨ２　ＣＨ２
　−を表し；Ｒ１３はシアノ、アルキル、１Ｅ−アルケ
ニル、３Ｅ−アルケニル又は４−アルケニルを表し；Ｒ
１４はアルキル、１Ｅ−アルケニル、３Ｅ−アルケニル
又は４−アルケニルを表し；Ｒ１５はアルコキシ、２Ｅ
−アルケニルオキシ、３−アルケニルオキシ、アルコキ
シメチル又は（２−アルケニル）オキシメチルを表し；
Ｒ１６はシアノ、アルキル、３Ｅ−アルケニル、４−ア
ルケニル、アルコキシ、２Ｅ−アルケニルオキシ又は３
−アルケニルオキシを表し；Ｘ５　はフッ素又は塩素を
表し；Ｘ６　は水素、フッ素又は塩素を表し；Ｒ１８は
アルキル、３Ｅ−アルケニル、４−アルケニル、アルコ
キシ、２Ｅ−アルケニルオキシ又は３−アルケニルオキ
シを表し；基Ｙ１　及びＹ２の一方は、共有単結合、−
ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−ＣＨ
２　Ｏ−又は−ＯＣＨ２　−を表し；基Ｙ１　及びＹ２
　の他方は共有単結合を表し；環Ａ７　及びＡ８　は、
それぞれ独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレ
ン（場合によっては、２個の非隣接のメチレン基は酸素
によって置換されていてもよい）又は１，４−フェニレ
ン（場合によっては、１個のＣＨ基又は２個のＣＨ基は
窒素によって置換されていてもよい）を表す。
【００５７】好ましくは、残基Ｒ６　及びＲ８　〜Ｒ１
８は、それぞれの場合において最高１２個まで、特にそ
れぞれの場合において最高７個までの炭素原子を有する
。直鎖状残基が一般的に好ましい。
【００５８】スメクチック液晶（特に、チルトスメクチ
ック又はキラルなチルトスメクチック相）としての用途
に用いる本発明による混合物は、好ましくは、式Ｉの１
種又は２種以上の化合物のほかに、次の一般式の化合物
の群からの１種又は２種以上の化合物を含有する。
【００５９】
【化１７】
【００６０】
【化１８】
【００６１】上記の各式において、Ｒ１９及びＲ２０は
、１８個までの炭素原子を有するアルキル、アルコキシ
、アルケニルオキシ、アルカノイルオキシ又はアルコキ
シカルボニルを表し；ｒ及びｓは、それぞれ独立して１
又は２を表し；Ｒ２１及びＲ２２は、１８個までの炭素
原子を有するアルキル、アルコキシ又はアルケニルオキ
シを表し；環Ｂは非置換又はハロゲン及び／又はメチル
基で置換された１，４−フェニレンを表し；環Ｃはトラ
ンス−１，４−シクロヘキシレンあるいは非置換又はハ
ロゲン及び／又はメチルで置換された１，４−フェニレ
ンを表し；ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０又は１の
数を表し；Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立して、非
置換又はハロゲンで置換されたＣ１　〜Ｃ１８−アルキ
ルもしくはＣ２　〜Ｃ１８−アルケニル（場合によって
は、１個のメチレン基又は２個の非隣接のメチレン基は
−Ｏ−、−ＣＯＯ−及び／又は−ＯＯＣ−によって置換
されていてもよい）を表し；環Ｄ１　、Ｄ２　及びＤ３
　は、それぞれ独立して、非置換又はシアノ、ハロゲン
又は低級アルキルで置換された１，４−フェニレンを表
し；Ｚ９　は共有単結合、−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−Ｏ
ＣＨ２　−、−ＣＯＯ−又は−ＯＯＣ−を表し、Ｒ２５
及びＲ２６は、それぞれ独立して、非置換又はハロゲン
で置換されたＣ１　〜Ｃ１８−アルキル又はＣ２　〜Ｃ
１８−アルケニル（場合によっては、１個のメチレン基
又は２個の非隣接のメチレン基は酸素によって置換され
ていてもよい）を表し；環Ｄ４　はトランス−１，４−
シクロヘキシレンあるいは非置換又はシアノ、ハロゲン
又は低級アルキルで置換された１，４−フェニレンを表
し；Ｚ１０、Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、
共有単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＨ２　ＣＨ
２　−、−ＯＣＨ２　−又は−ＣＨ２　Ｏ−を表し；Ｒ
２７及びＲ２９は、それぞれ独立して、Ｃ１　〜Ｃ１５
−アルキル又はＣ２　〜Ｃ１５−アルケニル（場合によ
っては、１個のメチレン基は酸素によって置換されてい
てもよい）を表し；Ｒ２８は非置換又はハロゲン原子で
置換されたＣ１　〜Ｃ１５−アルキル又はＣ２　〜Ｃ１
５−アルケニル（場合によっては、１個のメチレン基は
酸素によって置換されていてもよく、及び／又は場合に
よっては、１個のメチレン基はエステル基−ＣＯＯ−又
は−ＯＯＣ−によって置換されていてもよい）を表し；
環Ｅ１　及びＥ２　は、それぞれ独立して、非置換又は
ハロゲン、シアノ及び／又はメチルで置換された１，４
−フェニレン（場合によっては、１個のＣＨ基又は２個
のＣＨ基は窒素によって置換されていてもよい）を表し
；そしてＣ＊　は、キラルな炭素原子を表す。
【００６２】液晶混合物及び電気光学装置の製造は、そ
れ自体既知の方法で行うことができる。
【００６３】本発明を、さらにくわしく以下の例によっ
て説明する。キラルな化合物の光学的対掌体は、それぞ
れの場合において同じ相転移温度と、符号が逆で絶対値
が同じねじれ値を有している。相転移を特徴づけるため
に使用される略号は、次の定義を有する。Ｃは、結晶を
表し、Ｓは、スメクチックを表し、ＳＡ　、ＳＢ　、Ｓ
Ｃ　などは、スメクチックＡ、Ｂ、Ｃなどを表し、ＳＣ
＊、ＳＦ＊などは、キラルなスククチックＣ、Ｆなどを
表し、Ｎは、ネマチックを表し、Ｎ＊　は、コレステリ
ックを表し、Ｉは等方性を表す。 例１
【００６４】マグネシウムの削り片０．１２ｇ　に窒素
ガスを通しながら無水のジエチルエーテル５ｍｌで覆い
、ヨウ素の結晶を加えた後、臭化−４−（トリフルオロ
メトキシ）ベンジル１．３ｇ　をジエチルエーテル２５
ｍｌに溶かした溶液で覆った。混合物を添加し終った後
、加熱し、さらに３０分間還流した。反応混合物を滴下
漏斗に移した後、０℃において窒素ガスを通しながら３
Ｅ−［トランス−４−（トランス−４−［１Ｅ−プロペ
ニル］シクロヘキシル）シクロヘキシル］ピバリン酸ア
リル０．９ｇ　、塩化銅（Ｉ）０．０３ｇ　及び無水の
ジエチルエーテル２５ｍｌの溶液に滴下した。滴下完了
後、反応混合物を室温でさらに３０分撹はんした後、２
５％塩化水素酸２０ｍｌを加え、有機相を分離した。水
相をジエチルエーテル５０ｍｌずつで３回抽出した。合
した有機相を水５００ｍｌ、炭酸カリウム濃縮溶液２５
０ｍｌ及び再び水５００ｍｌで続けて洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、ろ過した後、濃縮した。残留物を
シリカゲル上でヘキサンを使用してクロマトグラフィー
処理をして精製した。アセトンから再結晶させて、融点
（Ｃ−Ｎ）６３℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１４９℃の純粋な
１−トリフルオロメトキシ−４−［４Ｅ−（トランス−
４−（トランス−４−［１Ｅ−プロペニル］シクロヘキ
シル）−シクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン０
．５ｇ　を得た。
【００６５】出発物質として使用したピバリン酸−３Ｅ
−［トランス−４−（トランス−４−［１Ｅ−プロペニ
ル］シクロヘキシル）−シクロヘキシル］アリルは次の
ようにして製造した。
【００６６】（ａ）トランス−４−（トランス−４−［
１Ｅ−プロペニル］シクロヘキシル）シクロヘキサンカ
ルボニトリル２５ｇ　をトルエン５０ｍｌに溶かした溶
液に、−７８℃で窒素ガスを通しながら、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムの２０％（重量／容量比）トルエン
溶液１５０ｍｌを滴下した。反応混合物を室温で一夜撹
はんした後、水５００ｍｌを加え、ついでジクロロメタ
ン２００ｍｌずつで４回抽出した。合した有機相を水５
００ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、
ろ過した後、濃縮を行った。トランス−４−（トランス
−４−［１Ｅ−プロペニル］シクロヘキシル）シクロヘ
キサンカルボキシアルデヒド２０ｇ　を得た。
【００６７】（ｂ）（トランス−４−［１Ｅ−プロペニ
ル］シクロヘキシル）シクロヘキサンカルボキシアルデ
ヒド１０ｇ　、ジエチルホスホノ酢酸エチル（Ｃ２　Ｈ
５　Ｏ）２ＰＯ−ＣＨ２　ＣＯＯＣ２　Ｈ５　１２．５
ｇ　、水酸化カリウム４．８ｇ　及びテトラヒドロフラ
ン１００ｍｌの混合物を３時間撹はんした後、水５００
ｍｌを加え、ついでジエチルエーテル１００ｍｌずつで
３回抽出した。合した有機相を水５００ｍｌずつで２回
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過した後、濃
縮を行った。残留物をシリカゲル上でトルエンを使用し
てクロマトグラフィー処理して精製した。ヘキサンから
再結晶させて、融点（Ｃ−Ｎ）４０℃、澄明点（Ｎ−Ｉ
）９４℃の純粋な３Ｅ−［トランス−４−（トランス−
４−［１Ｅ−プロペニル］シクロヘキシル）シクロヘキ
シル］アクリル酸エチル１２ｇ　を得た。
【００６８】（ｃ）３Ｅ−［トランス−４−（トランス
−４−［１Ｅ−プロペニル］シクロヘキシル）シクロヘ
キシル］アクリル酸エチル５ｇ　をトルエン１００ｍｌ
に溶かした溶液に、０℃で窒素ガスを通しながら水素化
ジイソブチルアルミニウムのトルエン２０％溶液５０ｍ
ｌを滴下した。滴下完了後、薄黄色の溶液をさらに５時
間撹はんした後、２５％塩化水素酸５０ｍｌを慎重に加
えた。反応混合物を水１００ｍｌへ注加して有機相を分
離した。水相をトルエン１００ｍｌずつで２回逆抽出し
た。合した有機相を水５００ｍｌ、炭酸水素カリウム濃
縮溶液５００ｍｌ及び再び水５００ｍｌで洗浄した後、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過して濃縮した。ヘキ
サンから残留物を再結晶させて、融点（Ｃ−ＳＢ）５６
℃、ＳＢ　−Ｎ９５℃及び澄明点（Ｎ−Ｉ）１１３℃の
３Ｅ−［トランス−４−（トランス−４−［１Ｅ−プロ
ペニル］−シクロヘキシル）シクロヘキシル］アリルア
ルコール４．２ｇ　を得た。
【００６９】ｄ）ピバリン酸０．４ｇ　、３Ｅ−［トラ
ンス−４−（トランス−４−［１Ｅ−プロペニル］シク
ロヘキシル）シクロヘキシル］アリルアルコール１．０
ｇ　及び４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．１ｇ　を
ジクロロメタン５０ｍｌに溶解し、撹はんしながら溶液
にＮ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド０．９ｇ
　を少しずつ１０分かけて加えた。混合物を室温で一夜
撹はんし、ろ過した。ろ液をジクロロメタンで希釈し、
飽和炭酸溶液５０ｍｌずつで２回洗浄し、ついで水で洗
浄して硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過した後、濃縮
した。残留物をシリカゲル上でトルエンを使用してクロ
マトグラフィー処理し、３Ｅ−［トランス−４−（トラ
ンス−４−［１Ｅ−プロペニル］シクロヘキシル］−ピ
バリン酸アリル１．３ｇ　を得た。
【００７０】以下の化合物を、同様の方法で製造するこ
とができた。 １−フルオロ−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ
−Ｉ）−６℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）−１３℃；１−クロル
−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−ブロモ−４−［４
Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−
ブテニル］ベンゼン；１−ヨード−４−［４Ｅ−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］
ベンゼン；１，２−ジフルオロ−４−［４Ｅ−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベ
ンゼン、融点（Ｃ−Ｉ）−１１℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）−
３３℃；１−メチル−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１
−（トリフルオロメトキシ）−４−［４Ｅ−（トランス
−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベン
ゼン、融点（Ｃ−Ｉ）５℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）−１７℃
； １−フルオロ−４−［４Ｅ−（トランス−４−［トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−
３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）３３℃、Ｓ
Ｂ　−Ｎ７４℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１３５℃；１，２−
ジフルオロ−４−［４Ｅ−（トランス−４−［トランス
−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−３
−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）２７℃、ＳＢ
　−Ｎ５０℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１１９℃；１−メチル
−４−（４Ｅ−（トランス−４−［トランス−４−プロ
ピルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−３−ブテニル
］ベンゼン； １−（トリフルオロメチル）−４−［４Ｅ−（トランス
−４−［トランス−４−プロピルシクロヘキシル］シク
ロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−（トリフ
ルオロメトキシ）−４−［４Ｅ−（トランス−４−［ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル］シクロヘキシル
）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）４１℃
、ＳＢ　−Ｎ８３℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１２８℃； １−フルオロ−４−［４Ｅ−（トランス−４−］トラン
ス−４−（１Ｅ−プロペニル）シクロヘキシル］シクロ
ヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−Ｎ）
５２℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１５９℃； １，２−ジフルオロ−４−［４Ｅ−（トランス−４−［
トランス−４−（１Ｅ−プロペニル）シクロヘキシル］
シクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ
−Ｎ）６０℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１４０℃；１−エトキ
シ−２，３−ジフルオロ−４−［４Ｅ−（トランス−４
−［トランス−４−［プロピルシクロヘキシル］シクロ
ヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−フルオロ−
４−［４Ｅ−（トランス−４−］トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−３−ブテニル］
ベンゼン； １，２−ジフルオロ−４−［４Ｅ−（トランス−４−］
トランス−４−ペンチルシクロヘキシル］シクロヘキシ
ル）−３−ブテニル］ベンゼン； １−メチル−４−［４Ｅ−（トランス−４−］トランス
−４−ペンチルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−３
−ブテニル］ベンゼン； １−（トリフルオロメチル）−４−［４Ｅ−（トランス
−４−［トランス−４−ペンチルシクロヘキシル］シク
ロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−（トリフ
ルオロメトキシ）−４−［４Ｅ−（トランス−４−［ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル］シクロヘキシル
）−３−ブテニル］ベンゼン；１−エトキシ−２，３−
ジフルオロ−４−［４Ｅ−（トランス−４−［トランス
−４−ペンチルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−３
−ブテニル］ベンゼン；１−（トランス−４−プロピル
シクロヘキシル）−４−［４Ｅ−（トランス−４−プロ
ピルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン； １−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−
［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
３−ブテニル］ベンゼン； １−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−
［４Ｅ−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−
３−ブテニル］ベンゼン； ４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４′
−［４Ｅ−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］ビフェニル； ４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４′
−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］ビフェニル； ４−［２（Ｓ）−メチルブチルオキシ］−４′−［４Ｅ
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブ
テニル］ビフェニル； １−［２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−１−エチル］−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；２−（
４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］フェニル）−５−プロピルピリジン
； ２−（４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−ブテニル］フェニル）−５−ブテニルピ
リジン； ２−（４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−ブテニル］フェニル）−５−ペンチルピ
リジン； ２−（４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−ブテニル］フェニル）−５−ヘキシルピ
リジン； ２−（４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−ブテニル］フェニル）−５−ヘプチルピ
リジン； ２−（４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−ブテニル］フェニル）−５−オクチルピ
リジン； ２−（４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−ブテニル］フェニル）−５−ノニルピリ
ジン； ２−（４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−ブテニル］フェニル）−５−デシルピリ
ジン； ５−ペンチル−２−［４−（４Ｅ−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェニル］ピ
リミジン； ５−ヘキシル−２−［４−（４Ｅ−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェニル］ピ
リミジン； ５−ヘプチル−２−［４−（４Ｅ−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェニル］ピ
リミジン； ５−オクチル−２−［４−（４Ｅ−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェニル］ピ
リミジン； ５−ノニル−２−［４−（４Ｅ−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェニル］ピリ
ミジン； ５−デシル−２−［４−（４Ｅ−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェニル］ピリ
ミジン； ５−ウンデシル−２−［４−（４Ｅ−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェニル］
ピリミジン； １−（４−［４Ｅ−［トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−３−ブテニル］フェニル）−４−ペンチルビ
シクロ［２．２．２］オクタン； （４ａαＨ，８ａβＨ）−デカヒドロ−２α−（４−［
４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３
−ブテニル］フェニル）−６β−ペンチルナフタリン。 例２
【００７１】４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルヘ
キシル）−３−ブテニル］フェノール０．３ｇ　、ヨウ
化メチル０．１４ｇ　、炭酸カリウム０．６ｇ　及び無
水ブタノン５０ｍｌの混合物を一夜加熱還流した。つい
で、冷却した反応混合物を水に注加し、ジエチルエーテ
ル５０ｍｌずつで３回抽出した。合した有機相を水５０
０ｍｌで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し
た後、濃縮を行った。トルエンを使用して、残留物をシ
リカゲル上でクロマトグラフィー処理し、エタノールか
ら再結晶させて、融点（Ｃ−Ｎ）２５℃、澄明点（Ｎ−
Ｉ）３４℃の純粋な１−メトキシ−４−［４Ｅ−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］
ベンゼンを得た。
【００７２】出発物質として使用した４−［４Ｅ−（ト
ランス−４−ペンチルヘキシル）−３−ブテニル］フェ
ノールは、次のようにして製造した。
【００７３】（ａ）３−（４−ヒドロキシフェニル）−
１−プロパノール１０ｇ　、トリフェニルホスフィン１
９ｇ　及びジクロロメタン２００ｍｌの混合物に、−１
８℃で、テトラブロモメタン２４ｇ　をジクロロメタン
１００ｍｌに溶かした溶液を滴下した。反応混合物を室
温で一夜撹はんした後、濃縮した。トルエン／酢酸エチ
ル（容量比４：１）を使用して、残留物をシリカゲル上
でクロマトグラフィー処理して精製した。臭化３−（４
−ヒドロキシフェニル）−１−プロピルを得た。
【００７４】（ｂ）臭化−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−プロピル５．０ｇ　、２，３−ジヒドロ−２
Ｈ−ピラン２．３ｇ　、硫酸ビス（トリメチルシリル）
０．１ｇ及び無水ジクロロメタン１００ｍｌを用意し、
室温で１時間撹はんし、反応混合物に無水ピリジン０．
５ｍｌを加えた後、濃縮した。トルエンを使用して液体
残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィー処理して精
製した。 臭化３−（４−［テトラヒドロ−２−ピラニルオキシ］
フェニル）−１−プロピル４．５ｇ　を得た。
【００７５】（ｃ）臭化３−（４−［テトラヒドロ−２
−ピラニルオキシ］フェニル−１−プロピル３．０ｇ　
、トリフェニルホスフィン３．２ｇ　、無水Ｎ，Ｎ′−
ジメチルホルムアミド５ｍｌの混合物を、窒素ガスを通
しながら微還流下で一夜加熱した。形成された沈澱をろ
過し、冷却したろ液に酢酸エチル１０ｍｌを加えて、０
℃で３０分置いた後、再びろ過した。合した固体を真空
下で乾燥した。融点２２４〜２２６℃の臭化［３−（４
−［テトラヒドロ−２−ピラニルオキシ］フェニル）−
１−プロピル］トリフェニルホスホニウム４．４ｇ　を
得た。
【００７６】（ｄ）臭化［３−（４−［テトラヒドロ−
２−ピラニルオキシ］フェニル）−１−プロピル］トリ
フェニルホスホニウム４．０ｇ　、トランス−４−ペン
チルシクロヘキサンカルボキシアルデヒド１．３ｇ及び
無水テトラヒドロフラン５０ｍｌの混合物に固体カリウ
ム−ｔｅｒｔ−ブチラート０．８ｇ　を少しずつ加えた
。添加完了後、反応混合物をさらに２時間撹はんし、水
５００ｍｌに注加してジエチルエーテル１００ｍｌずつ
で３回抽出した。有機相を濃縮した塩化ナトリウム溶液
５００ｍｌずつで２回洗浄して硫酸マグネシウム上で乾
燥し、ろ過した後、濃縮した。残留物をシリカゲル上で
トルエンを使用してクロマトグラフィー処理して１−［
テトラヒドロ−２−ピラニルオキシ］−４−［４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル
］ベンゼン（シス／トランス混合物）１．０ｇ　を得た
。
【００７７】（ｅ）１−［テトラヒドロ−２−ピラニル
オキシ］−４−［４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン１．０ｇ、硫酸ビ
ス（トリメチルシリル）０．０２ｇ　及びメタノール２
５ｍｌの溶液を２時間撹はんした。ついで、反応混合物
にピリジン０．１ｍｌを加えた後濃縮した。液体残留物
をシリカゲル上でトルエンを使用してクロマトグラフィ
ー処理をし精製した。４−［４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェノール（シ
ス／トランス混合物）０．９ｇ　を得た。
【００７８】（ｆ）４−［４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェノール０．９
ｇ　をエタノール５０ｍｌに溶かした溶液に、ベンゼン
スルフィン酸ナトリウム０．２ｇ　を水１ｍｌに溶かし
た溶液及び濃塩酸２滴を加えた。反応混合物を６５℃に
一夜加熱した後、水１００ｍｌを加え、ジエチルエーテ
ル５０ｍｌずつで３回抽出した。合した有機相を濃塩化
ナトリウム溶液２５０ｍｌずつで２回洗浄し、ろ過した
後、濃縮した。 残留物をヘキサンから再結晶させて、融点８９〜９０℃
の４−［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］フェノール０．７ｇ　を得た。
【００７９】以下の化合物を、同様の方法で製造するこ
とができた。 １−エトキシ−４−［４Ｅ−（トランス−４−プロピル
シクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−プロ
ピルオキシ−４−［４Ｅ−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−ペンチ
ルオキシ−４−［４Ｅ−（トランス−４−プロピルシク
ロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−ヘキシル
オキシ−４−［４Ｅ−（トランス−４−プロピルシクロ
ヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−Ｎ）
２８℃、ＳＢ　−Ｎ３６℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）４０℃； １−ヘプチルオキシ−４−［４Ｅ−（トランス−４−プ
ロピルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１
−オクチルオキシ−４−［４Ｅ−（トランス−４−プロ
ピルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−
エトキシ−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−Ｎ
）３４℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）５１℃；１−プロピルオキ
シ−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）３
２℃、澄明点（ＳＢ　−Ｉ）４２℃；１−ブチルオキシ
−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）２４
℃、澄明点（ＳＢ　−Ｉ）５８℃；１−ペンチルオキシ
−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）２８
℃、澄明点（ＳＢ　−Ｉ）５２℃；１−ヘキシルオキシ
−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）３２
℃、澄明点（ＳＢ　−Ｉ）５６℃；１−ヘプチルオキシ
−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３−ブテニル］ベンゼン；１−オクチルオキシ−
４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］ベンゼン；１−［（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）メトキシ］−４−［４Ｅ−（
トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニ
ル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）４８℃、澄明点（ＳＢ
　−Ｉ）１２５℃；１−［３−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−１−プロピルオキシ］−４−［４
Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−
ブテニル］ベンゼン、融点（Ｃ−ＳＢ）１１０℃、ＳＢ
　−Ｎ　　１１４℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１２２℃； １−［３Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）アリルオキシ］−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゼン、融点
（Ｃ−ＳＺ）７８℃、ＳＺ　−ＳＢ　１００℃、ＳＢ　
−Ｎ　　１１９℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１１６℃。 例３
【００８０】２，３−ジフルオロ−４−ドデシルオキシ
安息香酸１．７ｇ　、４−［４Ｅ−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フェノール１
．５ｇ及び４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．１ｇ　
をジクロロメタン２５０ｍｌに溶解し、溶液を撹はんし
ながら、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド１
／２ｇを少しずつ１０分かけて加えた。混合物を室温で
一夜撹はんし、ろ過した。ろ液をジクロロメタンで希釈
し、飽和炭酸ナトリウム５０ｍｌずつで２回洗浄し、つ
いで水１００ｍｌで洗浄して硫酸マグネシム上で乾燥し
、ろ過した後、濃縮した。残留物をシリカゲル上でトル
エンを使用してクロマトグラフィー処理し、エタノール
から再結晶させて、融点（Ｃ−ＳＣ）５１℃、ＳＣ　−
Ｎ　　１１５℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１３３℃の２，３−
ジフルオロ−４−ドデシルオキシ安息香酸−４−［４Ｅ
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブ
テニル］フェニルエステル２ｇ　を得た。
【００８１】以下の化合物を、同様の方法で製造するこ
とができた。 ２，３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシ安息香酸−４
−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］フェニルエステル、融点（Ｃ−ＳＣ）
５５℃、ＳＣ　−Ｎ７７℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１４０℃
；２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシ安息香酸−
４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］フェニルエステル、融点（Ｃ−ＳＣ
）７５℃、ＳＣ　−Ｎ８８℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１４０
℃；２，３−ジフルオロ−４−ノニルオキシ安息香酸−
４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］フェニルエステル、融点（Ｃ−ＳＣ
）７７℃、ＳＣ　−Ｎ９９℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１３７
℃；２，３−ジフルオロ−４−デシルオキシ安息香酸−
４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］フェニルエステル、融点（Ｃ−ＳＣ
）７２℃、ＳＣ　−Ｎ　　１０６℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）
１３６℃；２，３−ジフルオロ−４−ウンデシルオキシ
安息香酸−４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−３−ブテニル］フェニルエステル、融点
（Ｃ−ＳＣ）６０℃、ＳＣ　−Ｎ　　１１１℃、澄明点
（Ｎ−Ｉ）１３４℃； トランス−４−プロピルシクロヘキサンカルボン酸−４
−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］フェニルエステル； トランス−４−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸−４
−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］フェニルエステル； トランス−４−ヘプチルシクロヘキサンカルボン酸−４
−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］フェニルエステル； 例４
【００８２】３−（４−シアノフェニル）プロピオンア
ルデヒド１４ｇ　、臭化（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）メチルトリフェニルホスホニウム５４ｇ　
、カリウム−ｔｅｒｔ−ブチラート１１ｇ　及び無水テ
トラヒドロフラン５００ｍｌの混合物を、例２（ｄ）と
同様の方法で反応させた。シス／トランス混合物として
４−［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］ベンゾニトリル１６ｇ　を得た。
【００８３】４−［４−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゾニトリル）（シス
／トランス混合物）１６ｇ　、エタノール５０ｍｌ及び
ベンゼンスルフィン酸（水１３ｍｌ、ベンゼンスルフィ
ンナトリウム２．０ｇ　及び濃塩酸５滴から新たに製造
したもの）５滴の混合物を例２（ｆ）と同様の方法で反
応させた。４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゾニトリル１１ｇ　
；融点（Ｃ−Ｎ）４０℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）４５℃を得
た。
【００８４】出発物質として使用した３−（４−シアノ
フェニル）プロピオンアルデヒドは、次のようにして製
造した。
【００８５】（ａ）４−シアノベンズアルデヒド２０ｇ
　、臭化−１，３−ジオキソラン−２−イル）メチルト
リフェニルホスホニウム７９ｇ　、カリウム−ｔｅｒｔ
−ブチラート１９ｇ　及び無水テトラヒドロフラン５０
０ｍｌを、例２（ｄ）と同様の方法で反応させた。シス
／トランス混合物として４−［２−（１，３−ジオキソ
ラン−２−イル）ビニル］ベンゾニトリル２０ｇ　を得
た。
【００８６】（ｂ）４−［２−（１，３−ジオキソラン
−２−イル）ビニル］ベンゾニトリル（シス／トランス
混合物）２０ｇ　、無水トルエン２００ｍｌ及び無水酢
酸エチル１００ｍｌの混合物にパラジウム／炭素（１０
％）２ｇ　を加え、反応が完了するまで常圧室温で水素
化した。 無機物質をろ過し、ろ液を濃縮した。残留物をシリカゲ
ル上でトルエン／酢酸エチル（容量比４：１）を使用し
てクロマトグラフィー処理して精製した。４−［３−（
１，３−ジオキソラン−２−イル）エチル］ベンゾニト
リル１９ｇ　を得た。
【００８７】（ｃ）４−［３−（１，３−ジオキソラン
−２−イル）エチル］ベンゾニトリル１９ｇ　、ギ酸１
０ｍｌ及び無水トルエン１００ｍｌを室温で一夜撹はん
した。 反応混合物を水２００ｍｌ、ついで炭酸ナトリウム飽和
溶液７５ｍｌで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、
ろ過して濃縮した。３−（４−シアノ−フェニル）プロ
ピオンアルデヒド１４ｇ　を得た。
【００８８】以下の化合物を、同様の方法で製造するこ
とができた。 ４−［４Ｅ−（トランス−４−メチルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］ベンゾニトリル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）
−３−ブテニル］ベンゾニトリル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］ベンゾニトリル；４−［４Ｅ−（ト
ランス−４−ブチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］
ベンゾニトリル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］ベンゾニトリル；４−［４Ｅ−（ト
ランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−３−ブテニル
］ベンゾニトリル；４−［４Ｅ−（トランス−４−オク
チルシクロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゾニトリル
；４−［４Ｅ−（トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル）−３−ブテニル］−４′−シアノビフェニル；４−
［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
３−ブテニル］−４′−シアノビフェニル；４−［４Ｅ
−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−３−ブ
テニル］−４′−シアノビフェニル。例５
【００８９】
４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］ベンズアルデヒド３ｇ　及び２−ペ
ンチル−１，３−プロパンジオール１．７ｇ　をトルエ
ン５０ｍｌに溶かした溶液に、１０％（容量）の硫酸２
滴を加えた。混合液を２時間加熱沸騰させ、それによっ
て得られた水を同時に留去した。さらに、トリエチルア
ミン４滴を反応混合液に加えた。冷却後、混合物を１Ｎ
炭酸ナトリウム溶液５０ｍｌ及び水５０ｍｌずつで２回
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過した後、濃
縮した。残留物をシリカゲル上でトルエンを使用してク
ロマトグラフィー処理し、アセトンから再結晶させてト
ランス−５−ペンチル−２−（４−［４Ｅ−（トランス
−４−ペンチル−シクロヘキシル）−３−ブテニル］フ
ェニル−１，３−ジオキサン１．２ｇ　を得た。
【００９０】出発物質として使用した４−［４Ｅ−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル
］ベンズアルデヒドは、次のようにして製造した。
【００９１】４−［４Ｅ−トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−３−ブテニル］ベンゾニトリル１０ｇ　
を無水ジクロロメタン２００ｍｌに溶かした溶液に、−
７８℃で窒素ガスを通しながら、水素化ジイソブチルア
ルミニウムをヘキサン（容量比２０％）に溶かした溶液
５０ｍｌを加えた。添加完了後、反応混合物を室温でさ
らに８時間撹はんし、ジクロロメタン１００ｍｌずつで
３回抽出した。合した有機相を水５００ｍｌずつで２回
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過して濃縮し
た。４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）−３−ブテニル］ベンズアルデヒド７．５ｇ　を
得た。
【００９２】以下の化合物を同様の方法で製造すること
ができた。 トランス−５−プロピル−２−（４−［４Ｅ−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フ
ェニル）−１，３−ジオキサン； トランス−５−プロピル−２−（４−［４Ｅ−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フ
ェニル）−１，３−ジオキサン； トランス−５−ペンチル−２−（４−［４Ｅ−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）−３−ブテニル］フ
ェニル）−１，３−ジオキサン； 例６
【００９３】４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシ
クロヘキシル−３−ブテニル］安息香酸２ｇ　、４−フ
ルオロフェノール０．７ｇ　、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキ
シルカルボジイミド１．５ｇ　、４−（ジメチルアミノ
）ピリジン０．１ｇ　及びジクロロメタン１００ｍｌを
、例３と同様の方法で反応させた。４−［４Ｅ−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル］
安息香酸−４−フルオロフェニルエステル１．８ｇ　を
得た。
【００９４】出発物質として使用した４−［４Ｅ−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−ブテニル
］安息香酸は、次のようにして製造した。
【００９５】４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシ
クロヘキシル）−３−ブテニル］ベンズアルデヒド（例
５により製造）４ｇ　をアセトン１００ｍｌに溶かした
溶液に、ジョンズ試薬１０ｍｌを滴下した。混合物を室
温で１時間撹はんした後、水１００ｍｌに注加した。こ
れにより得た沈澱をろ過し、水で少しずつ洗浄し、真空
中で乾燥した。粗生成物をエタノールから再結晶させて
、純粋な４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−３−ブテニル］安息香酸２．５ｇ　を得た
。
【００９６】以下の混合物を同様の方法で製造すること
ができた。 ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−４−シクロフェニルエス
テル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−４−ブロモフェニルエス
テル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−４−ヨードフェニルエス
テル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−４−シアノフェニルエス
テル、融点（Ｃ−Ｎ）７６℃、澄明点（Ｎ−Ｉ）１７１
℃； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−２−フルオロ−４−シア
ノフェニルエステル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−３−フルオロ−４−シア
ノフェニルエステル、融点（Ｃ−Ｎ）６３℃、澄明点（
Ｎ−Ｉ）１４９℃； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−３，４−ジフルオロフェ
ニルエステル、融点（Ｃ−Ｎ）４０℃、澄明点（Ｎ−Ｉ
）１０４℃； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−４−トリフルオロメトキ
シフェニルエステル、融点（Ｃ−Ｎ）７０℃、澄明点（
Ｎ−Ｉ）１２８℃； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−２，３−ジフルオロ−４
−エトキシフェニルエステル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−２，３−ジシアノ−４−
ペンチルフェニルエステル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−４−メチルフェニルフェ
ニルエステル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−４−プロピルフェニルエ
ステル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−４−ペンチルフェニルエ
ステル； ４−［４Ｅ−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−３−ブテニル］安息香酸−トランス−４−プロピル
シクロヘキシルエステル。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　一般式 【化１】 ［式中、ｎは０又は１の数を表し；Ｒ１　は基Ｒ３　又
    はＲ３　−Ａ３　−Ｚ２　を表し、Ｒ２　は基Ｒ４　又
    はＲ４　−Ａ４　−Ｚ３　−を表し；環Ａ１　は、非置
    換又はハロゲン、シアノ及び／又はメチルで置換された
    １，４−フェニレン（場合によっては１個のＣＨ基又は
    ２個のＣＨ基は窒素によって置換されていてもよい）を
    表し；Ａ３　、Ａ４　及び環Ａ２　はそれぞれ独立して
    、非置換又はハロゲン、シアノ及び／又はメチルで置換
    された１，４−フェニレン（場合によっては１個のＣＨ
    基又は２個のＣＨ基は窒素によって置換されていてもよ
    い）；又はトランス−１，４−シクロヘキシレン、トラ
    ンス−１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１−シア
    ノ−トランス−１，４−シクロヘキシレン、ビシクロ［
    ２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、ナフタレン−
    ２，６−ジイル、テトラリン−２，６−ジイルもしくは
    トランス−デカリン−２，６−ジイルを表し；Ｚ１　、
    Ｚ２　及びＺ３　はそれぞれ独立して、共有単結合、−
    ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＨ２　Ｏ−、−ＯＣＨ２−
    、−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）３
    　Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３　−、−（ＣＨ２）４　−又
    はトランス形の−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−
    ＣＨ２　ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２
    　Ｏもしくは−ＯＣＨ２　−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；Ｒ３
    　及びＲ４　はそれぞれ独立してハロゲン、シアノ、−
    ＮＣＳ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３　又はアルキル（場合に
    よっては、１個の＞ＣＨ−ＣＨ＜は＞Ｃ＝Ｃ＜によって
    置換されていてもよく、及び／又は場合によっては、１
    個のメチレン基又は２個の非隣接のメチレン基は−Ｏ−
    、−ＣＯＯ−及び／又は−ＯＯＣ−によって置換されて
    いてもよく、及び／又は場合によっては１個のメチレン
    基は−ＣＨＸ−によって置換されていてもよい）を表し
    ；そしてＸはハロゲン、シアノ又はメチルを表す］で示
    される化合物。
  2. 【請求項２】　　一般式 【化２】 （式中、ｎ、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｚ１　及び環Ａ２　は請
    求項１に記載した定義を表し、Ｘ１　及びＸ２　は、そ
    れぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ又はメチルを
    表す）で示される請求項１に記載の化合物。
  3. 【請求項３】　　Ａ３　及びＡ４　がそれぞれ独立して
    トランス−１，４−シクロヘキシレン又は非置換又はハ
    ロゲン、シアノ及び／又はメチルで置換された１，４−
    フェニレンを表す、請求項１又は２に記載の化合物。
  4. 【請求項４】　　環Ａ２　が非置換の１，４−フェニレ
    ン、ハロゲン、シアノ及び／又はメチルで一置換又は２
    ，３−二置換されている１，４−フェニレン、あるいは
    トランス−１，４−シクロヘキシレン、トランス−１，
    ３−ジオキサン−２，５−ジイル、１−シアノ−トラン
    ス−１，４−シクロヘキシレン、ビシクロ［２．２．２
    ］オクタン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジ
    イル、テトラリン−２，６−ジイル、トランス−デカリ
    ン−２，６−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピリ
    ミジン−２，５−ジイル又はピラジン−２，５−ジイル
    を表す請求項１〜３の何れか１項に記載の化合物。
  5. 【請求項５】　　Ｚ１　、Ｚ２　及びＺ３　が、それぞ
    れ、共有単結合を表し、又は基Ｚ１　、Ｚ２　及びＺ３
    　の１個が、また、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＨ２
    　Ｏ−、−ＯＣＨ２　−、−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−Ｃ
    ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）３　Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３　−
    、−（ＣＨ２）４　−又はトランス形の−ＣＨ＝ＣＨ−
    ＣＨ２　ＣＨ２　−、−ＣＨ２　ＣＨ２　−ＣＨ＝ＣＨ
    −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２　Ｏ−もしくは−ＯＣＨ２　
    −ＣＨ＝ＣＨ−である請求項１〜４の何れか１項に記載
    の化合物。
  6. 【請求項６】　　一般式 【化３】 （式中、Ｒ３　及びＲ４　は請求項１に記載した定義を
    表し；Ｘ１　、Ｘ２　、Ｘ３　及びＸ４　はそれぞれ独
    立して、水素、ハロゲン、シアノ又はメチルを表し；Ｚ
    ４　は共有単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−又は−Ｃ≡
    Ｃ−を表し；Ｚ５　は共有単結合、−ＯＯＣ−、−ＯＣ
    Ｈ２　−、−ＣＨ２　ＣＨ２　−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ（
    ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）４　−又はトランス形の−
    ＣＨ２　ＣＨ２　−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＯＣＨ２　−Ｃ
    Ｈ＝ＣＨ−を表し；及び環Ａ５　がピリジン−２，５−
    ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピラジン−２，
    ５−ジイル、トランス−１，３−ジオキサン−２，５−
    ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジ
    イル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラリン−２，
    ６−ジイル又はトランス−デカリン−２，６−ジイルを
    表す）で示される請求項１〜５の何れか１項に記載の化
    合物。
  7. 【請求項７】　　Ｘ１　、Ｘ２　、Ｘ３　及びＸ４　が
    それぞれ独立して水素又はフッ素を表す請求項２又は６
    に記載の化合物。
  8. 【請求項８】　　Ｒ３　及びＲ４　がそれぞれ独立して
    アルキル（場合によっては１個の＞ＣＨ−ＣＨ＜は＞Ｃ
    ＝Ｃ＜によって置換されていてもよく、及び／又は場合
    によっては１個のメチレン基又は２個の非隣接のメチレ
    ン基は−Ｏ−、−ＣＯＯ−及び／又は−ＯＯＣ−によっ
    て置換されていてもよく、及び／又は場合によっては１
    個のメチレン基は−ＣＨＸ−によって置換されていても
    よい）を表し、又はＲ４　はまたハロゲン、シアノ、−
    ＮＣＳ、−ＣＦ３　又は−ＯＣＦ３　を表す請求項１〜
    ７の何れか１項に記載の化合物。
  9. 【請求項９】　　Ｒ３　及びＲ４　がそれぞれ最大１８
    、好ましくは最大１２の炭素原子を有する請求項１〜８
    の何れか１項に記載の化合物。
  10. 【請求項１０】　　Ｒ３　がアルキル、アルケニル、ア
    ルコキシ、アルケニルオキシ、アルコキシカルボニル、
    アルケニルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ又は
    アルケノイルオキシ、好ましくはアルキル又はアルケニ
    ルを表す請求項１〜９の何れか１項に記載の化合物。
  11. 【請求項１１】　　Ｒ４　がアルキル、アルケニル、ア
    ルコキシ、アルケニルオキシ、アルコキシカルボニル、
    アルケニルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、ア
    ルケノイルオキシ、ハロゲン、シアノ、−ＮＣＳ、−Ｃ
    Ｆ３　又は−ＯＣＦ３　を表す請求項１〜１０の何れか
    １項に記載の化合物。
  12. 【請求項１２】　　少なくとも１種の成分が請求項１記
    載の式Ｉの化合物である少なくとも２種の成分を有する
    液晶混合物。
  13. 【請求項１３】　　電気光学目的に対する請求項１記載
    の式Ｉの化合物の使用。
JP3031389A 1990-02-01 1991-02-01 （４ｅ−シクロヘキシル−３−ブテニル）アリール誘導体及びその使用 Pending JPH04330019A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH326/90-4 1990-02-01
CH32690 1990-02-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04330019A true JPH04330019A (ja) 1992-11-18

Family

ID=4184468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3031389A Pending JPH04330019A (ja) 1990-02-01 1991-02-01 （４ｅ−シクロヘキシル−３−ブテニル）アリール誘導体及びその使用

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5204018A (ja)
EP (1) EP0442306B1 (ja)
JP (1) JPH04330019A (ja)
KR (1) KR910021362A (ja)
DE (1) DE59105136D1 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997000233A1 (fr) * 1995-06-15 1997-01-03 Chisso Corporation Composes presentant des groupes alcenylene a substitution alkyle et composition de cristaux liquides
WO1997030966A1 (fr) * 1996-02-23 1997-08-28 Chisso Corporation Composes du type vinylene et composition a cristaux liquides
KR20020054611A (ko) * 2000-12-28 2002-07-08 구본준, 론 위라하디락사 액정 표시 장치
JP2012106966A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Agc Seimi Chemical Co Ltd 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子
JP2012106969A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Agc Seimi Chemical Co Ltd 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子
US8580146B2 (en) 2011-01-31 2013-11-12 Jnc Corporation Liquid crystal compound, liquid crystal composition and liquid crystal display device
JP2016037480A (ja) * 2014-08-08 2016-03-22 Jnc株式会社 ブテン結合基を有する液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子
JP2016065149A (ja) * 2014-09-25 2016-04-28 Jnc株式会社 液晶組成物および液晶表示素子

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3134473B2 (ja) * 1992-04-03 2001-02-13 チッソ株式会社 シス−１，４−置換２−ブテン誘導体
EP0727406B1 (de) * 1995-02-16 2001-09-05 MERCK PATENT GmbH Vinylenverbindungen und flüssigkristallines Medium
JP2004256791A (ja) * 2003-02-03 2004-09-16 Chisso Corp 液晶組成物および液晶表示素子
WO2015184624A1 (en) * 2014-06-05 2015-12-10 East China University Of Science And Technology Photo-tunable liquid crystal compositions and methods for their fabrication and use
EP3246330A1 (en) 2016-05-18 2017-11-22 Istituto Europeo di Oncologia S.r.l. Imidazoles as histone demethylase inhibitors
US10980777B2 (en) 2017-08-18 2021-04-20 Istituto Europeo Di Oncologia S.R.L. Indole derivatives as histone demethylase inhibitors
CN113717735B (zh) * 2021-08-12 2023-08-08 烟台显华科技集团股份有限公司 正介电各向异性液晶化合物、液晶组合物及液晶显示器件

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1551043A (en) * 1975-04-22 1979-08-22 Secr Defence Biphenyl compounds containing a cyano group and liquid crystal materials and devices containing such compounds
DE3225290A1 (de) * 1982-07-07 1984-01-12 Merck Patent Gmbh Ringverbindungen
JPS60118789A (ja) * 1983-11-30 1985-06-26 Canon Inc 液晶素子
DE3509170C2 (de) * 1985-03-14 1995-01-05 Merck Patent Gmbh trans-Ethenylenverbindungen
DE3632410A1 (de) * 1986-09-24 1988-03-31 Merck Patent Gmbh Verfahren zur herstellung von alkylen- bzw. ringverknuepften verbindungen
FR2612182B1 (fr) * 1987-03-12 1989-06-23 Centre Nat Rech Scient Esters phenyliques substitues utilisables comme cristaux liquides ferroelectriques, leur preparation et leur utilisation dans un dispositif de visualisation electro-optique
US5238600A (en) * 1988-06-01 1993-08-24 Hoffmann-La Roche Inc. Ibimethylenoxy containing liquid crystal compounds
JP2696557B2 (ja) * 1989-03-07 1998-01-14 チッソ株式会社 トリフルオロベンゼン誘導体
ATE119871T1 (de) * 1989-09-06 1995-04-15 Merck Patent Gmbh Fluorbenzolderivate und flüssigkristallines medium.

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997000233A1 (fr) * 1995-06-15 1997-01-03 Chisso Corporation Composes presentant des groupes alcenylene a substitution alkyle et composition de cristaux liquides
WO1997030966A1 (fr) * 1996-02-23 1997-08-28 Chisso Corporation Composes du type vinylene et composition a cristaux liquides
US6337034B1 (en) 1996-02-23 2002-01-08 Chisso Corporation Vinylene compounds and liquid-crystal composition
KR20020054611A (ko) * 2000-12-28 2002-07-08 구본준, 론 위라하디락사 액정 표시 장치
JP2012106966A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Agc Seimi Chemical Co Ltd 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子
JP2012106969A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Agc Seimi Chemical Co Ltd 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子
US8580146B2 (en) 2011-01-31 2013-11-12 Jnc Corporation Liquid crystal compound, liquid crystal composition and liquid crystal display device
JP2016037480A (ja) * 2014-08-08 2016-03-22 Jnc株式会社 ブテン結合基を有する液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子
US10047293B2 (en) 2014-08-08 2018-08-14 Jnc Corporation Liquid crystal compound having butene-bonding group, liquid crystal composition and liquid crystal display device
JP2016065149A (ja) * 2014-09-25 2016-04-28 Jnc株式会社 液晶組成物および液晶表示素子

Also Published As

Publication number Publication date
US5204018A (en) 1993-04-20
DE59105136D1 (de) 1995-05-18
EP0442306B1 (de) 1995-04-12
KR910021362A (ko) 1991-12-20
EP0442306A2 (de) 1991-08-21
EP0442306A3 (en) 1992-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2693525B2 (ja) アルケニルビシクロヘキサン
JP2002509900A (ja) ビニレンおよびエチル化合物
US5204018A (en) Liquid crystals
JP3059814B2 (ja) アセチレン類
US5238600A (en) Ibimethylenoxy containing liquid crystal compounds
JP2960975B2 (ja) 新規なドーピング物質及びその使用
JP2537511B2 (ja) ピリジン誘導体
US5102578A (en) Liquid crystalline mixtures and method of making same
JPS63502505A (ja) カイラル化合物
KR100268740B1 (ko) 아세틸렌 유도체
US5346647A (en) Cyclohexane compounds used in liquid crystalline mixtures
JP2927577B2 (ja) 液晶用化合物及びその混合物
WO1993007234A1 (en) Halovinyl-derivatives
JPH0710787A (ja) ハロゲン化アルケニル化合物
JP3058980B2 (ja) 四環化合物
JPH0366632A (ja) （４―アリールブチル）シクロヘキサン誘導体
US5360577A (en) Oxaxoline derivatives
US5032312A (en) 3E-cyclohexylalkoxy derivatives
JP2807678B2 (ja) α―フルオロカルボン酸シクロヘキシルエステル類
KR100257416B1 (ko) 시클로헥실알케노에이트
JP3429816B2 (ja) クロロジフルオロメトキシフェニル誘導体
JP2960983B2 (ja) 新規なドーピング物質及びその使用
KR100215372B1 (ko) 알킬 옥시프로페닐 유도체
KR0151547B1 (ko) 페닐피리딘 및 이의 제조방법
JP3229883B2 (ja) フルオロベンゾニトリル類