JPH0431252Y2 - - Google Patents

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JPH0431252Y2
JPH0431252Y2 JP1990094106U JP9410690U JPH0431252Y2 JP H0431252 Y2 JPH0431252 Y2 JP H0431252Y2 JP 1990094106 U JP1990094106 U JP 1990094106U JP 9410690 U JP9410690 U JP 9410690U JP H0431252 Y2 JPH0431252 Y2 JP H0431252Y2
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tank
rinsing
liquid
plating
deflecting means
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/02Tanks; Installations therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/08Rinsing

Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は、化学的あるいは電気化学的処理にお
いて化学液即ち流出液を回収することができる電
気めつき装置に関するものである。
[従来の技術] 加工物あるいは部品は、通常、電気めつき槽即
ち処理槽で電気めつき即ち処理してから、三段階
カスケード向流リンス処理装置(three stage
cascading counterflow rinse system)でリン
ス処理する。めつき槽には、電解液即ちめつき液
と、めつきしようとする金属からなる陽極と、め
つき槽に浸漬される加工物に対して電気的に接続
されるようになつている陰極構造体と、めつき液
を高温に保持するためのヒータとが入つている。
めつき液の水は、特に高温になつていると、速い
速度で蒸発する。めつき液のレベルを実質上一定
に保つために、フロートのような機械的なレベル
検出器をめつき槽に入れて、液面が下がると水の
バルブを作動させて水を添加するようにしてい
る。
三段階カスケード向流リンス処理装置は、第
1、第2及び第3の相互に接続されたリンス槽を
備えていて、水があるリンス槽から隣りのリンス
槽に流れ落ちるようになつている。電気めつき槽
から取出した加工物は、第1、第2及び第3のリ
ンス槽へ次々に浸漬して、めつき液をすすぎ落
す。リンス水を第3のリンス槽に入れて第3のリ
ンス槽の液面を高めるとともに、第3のリンス槽
の液体が流出せき(overflow weir)を介して第
2のリンス槽へ流れ落ちるようにしている。これ
により、第2のリンス槽の液面が上昇して、液体
が別の流出せきを介して第1のリンス槽に流れ落
ちる。そして、第1のリンス槽の液面が上昇し、
液体は廃棄用の排出管を介して流出する。これに
より、第1のリンス槽のめつき液は濃度が最も高
くなり、第3のリンス槽のめつき液は濃度が最も
低くなる。
[考案が解決しようとする課題] 第1のリンス槽の液体を排出管に流出させる
と、有意量の電気めつき用化学物質が流出するこ
とになるが、これは環境上及び経済上の双方の理
由から望ましくない。電解液を第1のリンス槽か
ら回収するために、別の流出せきを配設してリン
ス液を第1のリンス槽からめつき槽に落下する方
法が提案されている。しかしながら、かかる方法
を採用すると、リンス槽からの流量とめつき槽か
らの蒸発量とをバランスさせなければならないと
いう問題が生ずる。リンス槽からの流量が多すぎ
ると、めつき槽の装填量が多すぎてオーバフロー
を起し、比較的多量のめつき用化学物質が損失す
ることになる。一方、リンス槽からの流量が少な
すぎると、めつき槽のめつき液の量が少なすぎ
て、加工物を充分にめつきすることができなくな
る。リンス槽からの流量と蒸発量とのバランスを
とるために、めつき槽内に機械的なレベル検出器
を設けて、第3リンス槽への水の流量を制御する
方法が提案されている。しかしながら、かかる機
械的制御は機能障害を起すので、めつき槽のめつ
き液がオーバフローしたりあるいは量が少なくな
つたりすることがある。
これらの問題は、高度のリンス処理を必要とす
る規格品を製造する場合には一層複雑になる。第
3のリンス槽のリンス液を高度のリンス処理仕様
に合うように充分希薄した状態に保持するために
は、水の添加速度を蒸発速度よりも大きくするこ
とがしばしば必要となる。充分なリンス処理を行
なうのに、第3のリンス槽を他のリンス槽から独
立させるとともに、第2のリンス槽へ新しい水を
直接添加する操作を機械的なレベル検出器により
制御する方法が提案されている。しかしながら、
かかる方法は、上記したような機械制御に特有な
問題を生ずるだけでなく、第3のリンス槽からの
めつき用化学物質の回収が不可能となるという欠
点がある。
[課題を解決するための手段] 本考案は、従来技術が有する上記した問題点及
びその他の問題点を除去することができる新規か
つ改良された化学物質回収装置を提案するもので
ある。本考案は、リンス液の流量と蒸発量とのバ
ランスを正しく保持するとともに、最後のリンス
槽のリンス液を充分に希釈することができ、しか
も何らの機械的制御を必要としないように構成さ
れている。
実施例に見られるように本考案は、めつき槽A
と、めつき槽Aに続いて順次隣接して配置された
2以上のリンス槽Bと、隣接する後の槽と前の槽
とを相互に接続する細長い流路Cと、すすぎ落さ
れためつき用化学物質を後の槽から前の槽へ(槽
22→槽24→槽20→槽A)戻すように最後の
リンス槽22のリンス液を所定の液面レベルに保
持するために最後のリンス槽22に配設されたレ
ベル保持手段Dとを具備する電気めつき装置を対
象とする。
本考案では、レベル保持手段Dが、最後のリン
ス槽22の液面レベルの位置に配設された流出口
70と蒸発速度よりも速い速度で水を最後のリン
ス槽22に供給する導入口72とを備え、最後の
リンス槽22のリンス液が後の槽から前の槽に流
れてこれらの槽の液体を所定の液面レベルに保持
するとともに過剰のリンス液を流出口70を通し
て流すようにしている。また細長い流路Cを、隣
接する後の槽と前の槽との間に配置されたせきと
該せきの内部に配置されて流路を通つて液が無抵
抗に流れないようにする複数のそらせ手段36,
40とから構成する。そしてせきは、後の槽の所
定の液面レベルよりも低い位置に設けられた入口
と前の槽に設けられた出口とを有しており、複数
のそらせ手段36,40はせきを略横切るように
配設され且つ該複数のそらせ手段はそれぞれ該そ
らせ手段を通る液体通路38,40を備えてい
る。
[実施例] 以下、本考案を添付図面に示す好ましい実施例
に基づいて説明するが、図面及び以下の説明は本
考案の好ましい実施例を単に例示するものであつ
て、本考案を限定するものではない。
第1図は本考案の一実施例に係る蒸発が起ると
作動する向流リンス処理装置(電気めつき装置)
の概略断面図であり、第2図は第1図の2−2線
断面図である。本考案の装置は、めつき液即ち処
理液で満たされるようになつているめつき槽即ち
処理槽Aと、リンス液で満たされ且つめつき槽A
に続いて順次隣接して配置された複数のリンス槽
Bとを備えている。めつき液とリンス液とを同じ
レベルに保持するように、複数の流路Cガリンス
槽Bとめつき槽Aとの間に設けられている。液面
即ちレベル保持手段Dがリンス槽Bのうちの1つ
の槽の液面を所定のレベルに保持している。細長
い流路を構成する流路Cはめつき槽Aとリンス槽
Bとを相互に連通しているので、全ての槽A,B
の液面が液面保持手段Dにより同じれべるに保持
される。
めつき槽Aには、電極、即ち、めつきしようと
する金属からなる陽極及びめつきされるべき加工
物と電気的に接続される陰極手段と、めつき槽A
及びその内容物を約82乃至104℃(180乃至220〓)
の範囲内の高温度に保持するための加熱手段とが
設けられている。めつき液(電解液)は、めつき
しようとする金属のイオン、めつき浴添加剤(化
学物質)及び水を含んでいる。めつき液は高温に
なつているので、水は相当の速度で蒸発する。蒸
発量及び蒸発速度は、めつき槽Aの上方の温度、
めつき槽Aの上方の相対的な空気の動き、めつき
液の濃度、周囲の空気の温度及び相対湿度をはじ
めとする大気状態などによつて変わる。
リンス槽Bには最初のリンス槽20と最後のリ
ンス槽22とがある。必要に応じて、1つ又は複
数の中間リンス槽24を最初と最後のリンス槽2
0,22の間に設けることができる。加工物をめ
つき槽Aから取出した後、最初のリンス槽20、
中間リンス槽24及び最後のリンス槽22に連続
的に浸漬し、表面張力などにより加工物に付着し
ているめつき液をすすぎ落す。各リンス槽20,
24,22には、水と加工物からすすぎ落された
めつき用化学物質とを含むリンス液が入つてい
る。最初のリンス槽20は希釈されていないめつ
き液を加工物からすすぎ落すので、このリンス槽
20のリンス液に含まれるめつき用化学物質の濃
度はめつき槽Aのめつき液のめつき用化学物質の
濃度よりも低いが、他のリンス槽24,22のリ
ンス液に含まれるめつき用化学物質の濃度よりも
高くなつている。中間リンス槽24は既に一度リ
ンス処理された加工物をリンス処理するから、中
間リンス槽24のリンス液に含まれるめつき用化
学物質の濃度は、最初のリンス槽20よりも低
く、一層希釈されている。そして、最後のリンス
槽22のリンス液に含まれるめつき用化学物質の
濃度は最も低く、希釈度が最も大きくなつてい
る。
蒸発によりめつき液から失われた水を補充し、
かつ、加工物によりめつき槽Aから持ち運ばれた
めつき用化学物質を回収するため、第1の液体流
路30がめつき槽Aと最初のリンス槽20とを接
続している。リンス液は重力によつて最初のリン
ス槽20からめつき槽Aに流れる。第1の流路3
0は、めつき用化学物質濃度の高いめつき槽Aの
めつき液からめつき用化学物質濃度の低い最初の
リンス槽20のリンス液へのめつき用化学物質の
移動を、最初のリンス槽20からめつき槽Aへ流
れる蒸発分を補充する液体の流れによつて相殺す
るように細長くかつ曲がりくねつている。これに
より、流路30はめつき槽Aのめつき液が希釈さ
れるのを防止するとともに最初のリンス槽20の
リンス液のめつき用化学物質の濃度が高まるのを
防止する。第1の流路30は、最初のリンス槽2
0と流体を通すように連通している入口開口32
及びめつき槽Aと流体を通すように連通している
出口開口34を有する流出せきを備えている。せ
きの入口開口32は所定のレベルよりも下方の槽
の底部付近に配設されている。蒸発が起つて、め
つき槽Aの液面が最初のリンス槽20の液面より
も下がると、重力下において液面に差が生じ、双
方の槽A,20の液面が実質上同じ高さになるま
で液が入口開口32から出口開口34へ流れる。
めつき槽Aからの蒸発は連続して行われるので、
液体は最初のリンス槽20からめつき槽Aへ実質
連続して流れる。
第1図及び第2図に示すように、そらせ手段を
構成する複数のそらせ板がせきを横切つて配設さ
れている。一端部付近に小孔38を有する底部そ
らせ板36がせきの前壁、後壁及び側壁と接続し
ていて、せきを通る流体の流れが第1の孔38を
通るように制限している。小孔42が一端部に設
けられている第2のそらせ板40がせきの前壁、
後壁及び側壁と接続するように配設されていて、
せきを介して流れる液体の全てが孔42を通つて
流れるようになつている。同様に、端部付近に小
孔を有する別のそらせ板が上方に向けて順次配設
されていて、これらのそらせ板もせきの前壁、後
壁及び側壁と接続している。そして、そらせ板の
孔38,42は、全体が互い違いになるように各
そらせ板36,40に配設されていて、液体がせ
きを介して略S字状に流れるようにしている。液
体は第2図に示される実線及び破線の矢印のよう
に流路30内を流れる。孔38,42をそれぞれ
有するそらせ板36,40は第1の流路30を画
定するとともに、めつき用化学物質がめつき槽A
からリンス槽Bへ移動するのを実質上なくすのに
充分なだけ流路30を細長くするとともに曲折さ
せている。本考案の好ましい実施例においては、
6枚のそらせ板が設けられており、各そらせ板は
水平面に対し約45°の角度をなして配設されてい
るとともに、隣接するそらせ板に対して約90°の
角度をなしている。あるいは、そらせ板又は槽を
なすスクリーンを水平に配置したり、平行に配置
したり、または別の態様に配置して、細長いある
いは曲りくねつた通路を形成するようにしてもよ
い。
めつき槽Aを再充填する場合に、最初のリンス
槽20が失つた量に相当する量の液は、最後のリ
ンス槽22及び任意に設けられた中間リンス槽2
4からの液で補充される。参照番号50は第2の
液体流路であつて、第2の流路50は最初のリン
ス槽22の所定のレベルよりも下方の位置に入口
開口52を有するとともに、最初のリンス槽20
と流体を通すように連通している出口開口54を
有している。中間リンス槽24を設けない場合に
は、出口開口54は最初のリンス槽20に配置さ
れる。最初のリンス槽20と最後のリンス槽22
との間に1つ以上の中間リンス槽24を設ける場
合には、中間液体流路60を設けて、該中間流路
と中間リンス槽24とによつて出口開口54と最
初のリンス槽20とを液体を通すように連通す
る。第2の流路50は、めつき用化学物質の濃度
が高いリンス液を含むリンス槽20,24から濃
度が低いリンス液を含む最後のリンス槽22へめ
つき用化学物質が移動するのを防止するように充
分細長くかつ曲りくねつている。第2の流路50
は、第1の流路30と同様に構成された第2のせ
きと複数の第2のそらせ板とを有している。全体
が互い違いになるように形成された小孔を有する
複数の第2のそらせ板は、上記した第1のそらせ
板と同様に第2の流路50に配設されている。即
ち、第2のそらせ板は、めつき槽Aでの蒸発によ
り別のリンス槽から最初のリンス槽20へ向けて
流れる液体の流速が、めつき用化学物質の濃度が
高い液を含む槽から濃度の低い液を含む槽へめつ
き用化学物質が移動する速度よりも大きくなるよ
うに配設されている。
第1図に示すように、最初のリンス槽20と最
後のリンス槽22は、中間リンス槽24と第3の
即ち中間液体流路60により接続されている。第
3の液体流路60は、第1及び第2の流路30及
び50の場合と略同様に構成された、複数の第3
のそらせ板を有する第3のせきを備えている。第
3のせきは、中間リンス槽24の所定のレベルよ
りも下方の部分に設けられた入口開口62と最初
のリンス槽20に伸びる出口開口64とを有して
いる。そらせ板と該そらせ板に形成された孔は、
めつき用化学物質の濃度の高い液を含む最初のリ
ンス槽20から濃度の低い液を含む中間リンス槽
24へめつき用化学物質が移動するのを妨げるよ
うに充分細長くかつ曲りくねつた第3の流路60
を形成するように配置されている。即ち、かかる
めつき用化学物質の移動は、めつき槽Aでの蒸発
を補充する液体の流れにより相殺されるように構
成されている。
レベル保持手段Dは最後のリンス槽22と関連
して作動する。レベル保持手段Dは、最後のリン
ス槽22の側壁の所定のレベルの位置に配置され
ている流出口70と新しい水即ちリンス液を最後
のリンス槽22に導くように配設された水即ちリ
ンス液導入口72とを備えている。導入口72は
予想される蒸発速度を越える速度で水を連続的に
導入するようになつている。最後のリンス槽22
の液体のレベルを所定のレベルよりも高める水
は、流出口70から流出する。これにより、最後
のリンス槽22の液面は所定のレベルに保持され
る。導入口72は、めつき用化学物質の濃度が最
後のリンス槽22の液よりも低い水導水系あるい
は他の水源系と接続することができる。
水がめつき槽Aから蒸発すると、めつき槽Aの
液面は所定のレベルよりも下がる。すると、重力
の影響を受けて、液が最初のリンス槽20から第
1の流路30を介してめつき槽Aに流れ、蒸発に
より失われた水を補充する。これにより、蒸発水
が補充されるだけでなく、リンス槽B内のめつき
用化学物質の回収分がめつき槽Aに戻されること
になる。蒸発分を補う液が最初のリンス槽20か
らめつき槽Aへ移動すると、最初のリンス槽20
の液面は所定のレベルよりも下がる。すると、こ
こでも重力の影響を受けて、同じく蒸発分を補う
水がめつき用化学物質を伴つて中間リンス槽24
から第3の流路60を介して最初のリンス槽20
へ流れる。これにより、中間リンス槽24の液面
が所定のレベルよりも下がるが、ここでも重力の
影響を受けて、減少分を補うリンス水がめつき用
化学物質の回収分を伴つて最後のリンス槽22か
ら第2の流路50を通つて中間リンス槽24に流
れる。リンス水導入口72は最後のリンス槽22
の液面を所定のレベルに保持する。最後のリンス
槽22にあるめつき用化学物質の一部は蒸発分を
補う液の流れにより回収され、一部は流出口70
から失われる。しかしながら、めつき用化学物質
の大部分は最初のリンス槽20と中間リンス槽2
4とで回収されるので、流出口70から失われる
めつき用化学物質は少量である。そして、重力の
影響を受けて実質上連続的に流れる蒸発分を補充
する液は、めつき用化学物質の回収を伴つて、リ
ンス槽Bからめつき槽Aへ流れる。
水導入口72の流量は、最後のリンス槽22の
めつき用化学物質を所定の濃度にし、あるいは、
希釈するように流量制御弁74により手動調節さ
れる。加工物をより一層完全にリンス処理しよう
とするときは、導入口72からの水量を制御弁7
4により多くする。新しい水を最後のリンス槽2
2へ導入する量を多くすると、このリンス槽22
のリンス液はより一層希釈される。製造仕様が許
容する場合には、導入水の量を少なくして、流出
口70を介して失われるめつき液の量を少なくす
ることができる。しかしながら、導入水の流量
は、常に、予想蒸発量に合わせるか、これよりも
多くするようにすべきである。好ましくは、導入
水の流量は予想蒸発量よりも少なくとも50%程度
多くして、蒸発量が予想よりも多い場合でも、め
つき槽Aのめつき液のレベルが所定のレベル以下
に下がらないように安全率を確保すべきである。
めつき及びリンス処理は次のようにして行われ
る。めつきしようとする加工物又は部品を、陰極
に接続されたワイヤ製のバスケツト(加工物支持
構造体)に入れ、めつき槽Aの液に浸漬する。通
常行われているように、めつき液を介して陽極か
ら陰極に電流を通して、加工物に金属の層を電着
する。所望の暑さの金属層を電着した後、電流を
切つて、バスケツトをめつき槽Aから取り出し、
加工物に被着しているめつき液をめつき槽Aに落
す。しかしながら、表面張力その他の物理的要因
により、幾分かのめつき液は、ドラツグ・アウト
(drag−out)として知られているように、バス
ケツト内の加工物に付着する。次に、加工物が入
つているバスケツトを最初のリンス槽20に浸漬
して、バスケツト内の加工物に付着しているめつ
き液をすすぎ落す。加工物のバスケツトを幾つか
リンス処理すると、最初のリンス槽20内のめつ
き液の濃度は比較的高くなる。加工物を入れてあ
るバスケツトを最初のリンス槽20から取り出す
と、加工物に付着しためつき液は希釈されたもの
となる。めつき液をより完全に除去するために、
加工物を中間リンス槽24に浸漬する。加工物の
バスケツトを中間リンス槽24から取り出すと、
加工物に付着しためつき液は一層希釈される。加
工物をより一層完全にリンス処理するために、加
工物のバスケツトを最後のリンス槽22に浸漬す
る。加工物を別のリンス槽に浸漬して、更にリン
ス処理を行なつてもよい。リンス処理の仕上がり
具合は、最後のリンス槽22のめつき用化学物質
の濃度と反比例とする。加工物を最後のリンス槽
22から取り出した後、リンス処理即ち洗浄操作
を更に含んでいてもよい処理・製造操作に加工物
を供する。
加工物の入つているバスケツトをめつき槽A又
はリンス槽Bの一つに浸漬すると、加工物及びバ
スケツトにより槽の液面が変位して、液面が上昇
する。液面が上昇すると、バスケツト及び加工物
が浸漬されている槽から隣りの槽に向けて液が流
れようとする。同様に、バスケツト及び加工物を
取り出すと液面が下がり、液を隣りの槽から引戻
そうとする。更に、バスケツトと加工物の浸漬及
び取り出しにより、乱流を生じる傾向がある。し
かしながら、濃度の高い液が濃度の低い液の槽へ
流れるのを防止するように、各流路は、バスケツ
トと加工物によつて変位する液体の体積よりの大
きい容積を有している。これを具体的にめつき槽
Aと最初のリンス槽20とを例にして言い替える
と、加工物とバスケツトとがめつき槽Aに浸漬さ
れたときに置き換えられる液体の体積が、第1の
流路30の容積よりも小さくなるように加工物と
バスケツトが選択されていることを意味する。従
つて、変位する液は全体として流路内に収容され
るので、液がより濃度の低い槽へ流れることはな
い。加工物を入れてあるバスケツトを槽から取り
出すと、変位した液は隣りの流路から再び戻つて
くる。更に、流路は、バスケツトと加工物の浸漬
と取り出しにより生ずる乱流が消滅して、隣り合
う槽の液が混ざり合うのを防止することができる
ように内部にはそらせ板36,…,40,…が配
置され且つ充分曲りくねつている。
このように、本考案によれば、リンス槽Bから
めつき用化学物質を有効且つ確実に回収すること
ができるとともに、最後のリンス槽22のめつき
用化学物質の濃度を充分に希釈することができ、
しかもこれらの作用効果を何らの機械的制御手段
を必要をすることなく達成することができるので
ある。
以上、本考案を、電気めつき装置におけるリン
ス槽からの電解めつき用化学物質の回収に関連し
て説明してきたが、本考案は、例えば、未だ消費
されていない化学物質が加工物からリンス槽へ洗
い落される化学処理操作における化学物質の回収
をはじめとする種々の分野に利用することができ
るものである。このように、本明細書の記載から
種々の修正と変更を行なうことができるのは明ら
かである。従つて、かかる修正と変更が実用新案
登録請求の範囲の記載に含まれる限りは、このよ
うな修正と変更は本考案の範囲に含まれるもので
ある。
[考案の効果] 以上の通り、本考案の電気めつき装置によれ
ば、めつき槽及び2以上のリンス槽を接続する細
長い流路をせきと複数のそらせ手段とから構成し
て、該流路を通つて液が抵抗無く直接的に流れな
いようにしているため、加工物及び加工物支持構
造体を各槽に出し入れしたときでも細長い流路内
に乱流が生じるのを防止することができ、隣り合
う槽の液が細長い流路内で混ざりあつて、めつき
用化学物質が細長い流路を通つて濃度の低い槽に
流れるのを有効に阻止できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例に係る蒸発が起ると
作動する向流リンス処理装置の概略断面図、第2
図は第1図の2−2線断面図である。 A……めつき槽、処理槽、B……リンス槽、C
……流路、D……レベル保持手段、20……最初
のリンス槽、22……最後のリンス槽、24……
中間リンス槽、30……第1の流路、32……入
口開口、34……出口開口、36,40……そら
せ板、38,42……小孔、50……第2の流
路、52……入口開口、54……出口開口、60
……第3の流路、62……入口開口、64……出
口開口、70……流出口、72……リンス液導入
口、74……流量制御弁。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) めつき槽と、 前記めつき槽に続いて順次隣接して配置され
    た2以上のリンス槽と、 隣接する後の槽と前の槽とを相互に接続する
    細長い流路と、 すすぎ落されためつき用化学物質を後の槽か
    ら前の槽へ戻すように最後のリンス槽のリンス
    液を所定の液面レベルに保持するために最後の
    前記リンス槽に配設されたレベル保持手段とを
    具備する電気めつき装置において、 前記レベル保持手段は、前記最後のリンス槽
    の前記所定の液面レベルの位置に配設された流
    出口と蒸発速度よりも速い速度で水を前記最後
    のリンス槽に供給する導入口とを備え、前記最
    後のリンス槽のリンス液が前記後の槽から前記
    前の槽に流れてこれらの槽の液体を前記所定の
    液面レベルに保持するとともに過剰のリンス液
    を前記流出口を通して流すようになつており、 前記細長い流路は、前記隣接する後の槽と前
    の槽との間に配置されたせきと前記せきの内部
    に配置されて前記流路を通つて液が無抵抗に流
    れないようにする複数のそらせ手段とからな
    り、 前記せきは、前記後の槽の前記所定の液面レ
    ベルよりも低い位置に設けられた入口と前記前
    の槽に設けられた出口とを有し、前記複数のそ
    らせ手段は前記せきを略横切るように配設され
    且つ該複数のそらせ手段はそれぞれ該そらせ手
    段を通る液体通路を備えていることを特徴とす
    る電気めつき装置。 (2) 前記そらせ手段にそれぞれ形成される液体通
    路は、該そらせ手段を貫通する小孔であること
    を特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項に
    記載の電気めつき装置。 (3) 互いに隣接する複数の前記そらせ手段によつ
    て形成される複数の液体通路は、両側端部をそ
    れぞれ近接させて配設されていることを特徴と
    する実用新案登録請求の範囲第1項に記載の電
    気めつき装置。 (4) 前記そらせ手段は水平方向に沿つて少なくと
    も1つの他のそらせ手段と接続されていること
    を特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項に
    記載の電気めつき装置。 (5) 接続される前記そらせ手段は、互いに略直交
    するように配設されていることを特徴とする実
    用新案登録請求の範囲第4項に記載の電気めつ
    き装置。
JP1990094106U 1981-01-16 1990-09-10 Expired JPH0431252Y2 (ja)

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