JPH06280099A - めっき液の循環装置 - Google Patents
めっき液の循環装置Info
- Publication number
- JPH06280099A JPH06280099A JP8785393A JP8785393A JPH06280099A JP H06280099 A JPH06280099 A JP H06280099A JP 8785393 A JP8785393 A JP 8785393A JP 8785393 A JP8785393 A JP 8785393A JP H06280099 A JPH06280099 A JP H06280099A
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- Japan
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- plating solution
- partition plate
- plating
- circulating
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電気めっき装置において循環するめっき液が
巻き込んだ空気を効率よく除去する為の装置を提案す
る。 【構成】 電気めっき液の循環装置であって、電解槽の
近隣に、電解液の流れを遮るように、開口部のある仕切
り板を少なくとも一枚設けた構造である。
巻き込んだ空気を効率よく除去する為の装置を提案す
る。 【構成】 電気めっき液の循環装置であって、電解槽の
近隣に、電解液の流れを遮るように、開口部のある仕切
り板を少なくとも一枚設けた構造である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ストリップ材に電気め
っきにより金属を析出させる製造装置に関するものであ
る。
っきにより金属を析出させる製造装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ストリップ材に銅などの電気めっきを施
す装置は、従来は例えば図３に示す通りストリップ材７
に通電するコンダクターローラー８、陽極９、ストリッ
プ材を反転させるためのデフレクトローラー１０からな
るめっき処理槽１１に下方からめっき液を供給し、その
上方からオーバーフローされためっき液を貯槽１で受け
溜たのち、ポンプ１２にて再びめっき処理槽に供給し循
環させる電気めっき装置が、一般的に広く利用されてい
る。
す装置は、従来は例えば図３に示す通りストリップ材７
に通電するコンダクターローラー８、陽極９、ストリッ
プ材を反転させるためのデフレクトローラー１０からな
るめっき処理槽１１に下方からめっき液を供給し、その
上方からオーバーフローされためっき液を貯槽１で受け
溜たのち、ポンプ１２にて再びめっき処理槽に供給し循
環させる電気めっき装置が、一般的に広く利用されてい
る。
【０００３】この様にめっき液を循環させる目的は、ス
トリップ材表面への金属イオンの拡散を十分に行なわせ
析出状態を良好にするため、めっき処理槽内を攪拌し金
属イオンを均一にするためである。
トリップ材表面への金属イオンの拡散を十分に行なわせ
析出状態を良好にするため、めっき処理槽内を攪拌し金
属イオンを均一にするためである。
【０００４】この場合、めっき条件である陰極電流密度
を大きくし効率良くめっきを行うためには、めっき液の
循環量を増やす必要があるが、図３に示した装置ではめ
っき液がオーバーフローした後に貯槽に戻る際に気泡を
巻き込み、その気泡を含んだまま循環されることによ
り、外観不良等のめっき品質の低下が原因となる。ま
た、巻き込まれた気泡によりめっき液流量の変動が生じ
配管が振動したり、循環ポンプがキャビテーションを起
こし装置トラブルの原因ともなる。
を大きくし効率良くめっきを行うためには、めっき液の
循環量を増やす必要があるが、図３に示した装置ではめ
っき液がオーバーフローした後に貯槽に戻る際に気泡を
巻き込み、その気泡を含んだまま循環されることによ
り、外観不良等のめっき品質の低下が原因となる。ま
た、巻き込まれた気泡によりめっき液流量の変動が生じ
配管が振動したり、循環ポンプがキャビテーションを起
こし装置トラブルの原因ともなる。
【０００５】一般的に電気めっき液中に電着させる金属
の塩を多量（硫酸銅約１００〜２５０ｇ／ｌ、硫酸約５
０〜１５０ｇ／ｌ）に含み、かつ電着状況を良くする為
に界面活性剤等の添加剤をｎ×１０ｇ／ｌ含み、この為
に液中に発生する気泡は１〜２ｍｍ程度と小さく、かつ
液から抜けにくいといった特性がある。
の塩を多量（硫酸銅約１００〜２５０ｇ／ｌ、硫酸約５
０〜１５０ｇ／ｌ）に含み、かつ電着状況を良くする為
に界面活性剤等の添加剤をｎ×１０ｇ／ｌ含み、この為
に液中に発生する気泡は１〜２ｍｍ程度と小さく、かつ
液から抜けにくいといった特性がある。
【０００６】特に樹脂フィルム等のストリップ材に銅め
っきして電子機器用部材とする場合には、図３の様な縦
長の深い電解槽（深さ約２０００ｍｍ、巾約６００ｍ
ｍ）で電解するので電解槽の底部から入れた液中の気泡
はなおさら抜け難くストリップ材表面に付着して電着状
況を悪化してしまい、また、巾広の（約５００ｍｍ）長
尺な（１ロール２００ｍ）ストリップ材に均一な厚さに
（厚さ５〜３５μｍ、厚さバラツキ±１０％）、しかも
電流密度を高くして効率良く電着させようとすると循環
液量も約３００リットル／分と多大であり、この様な多
量の液を循環しようとすると装置も大きくなり、電解槽
からオーバーフローする高さも約３００ｍｍと高くな
り、なおさら空気をめっき液中に巻き込んでしまう可能
性が高い。
っきして電子機器用部材とする場合には、図３の様な縦
長の深い電解槽（深さ約２０００ｍｍ、巾約６００ｍ
ｍ）で電解するので電解槽の底部から入れた液中の気泡
はなおさら抜け難くストリップ材表面に付着して電着状
況を悪化してしまい、また、巾広の（約５００ｍｍ）長
尺な（１ロール２００ｍ）ストリップ材に均一な厚さに
（厚さ５〜３５μｍ、厚さバラツキ±１０％）、しかも
電流密度を高くして効率良く電着させようとすると循環
液量も約３００リットル／分と多大であり、この様な多
量の液を循環しようとすると装置も大きくなり、電解槽
からオーバーフローする高さも約３００ｍｍと高くな
り、なおさら空気をめっき液中に巻き込んでしまう可能
性が高い。
【０００７】その対策としてめっき液の貯槽を大きくし
て電解槽から離れた所に設置するなどの方法がとられる
が、その場合は配管等にも液が溜り、液量が多大となる
ので液の電着金属イオン濃度、ｐＨ、添加剤量等の調節
やその他の液管理が迅速かつ精密に出来難く、液処理
（浄液）が面倒になるといった問題があった。従って、
図３の様にめっき液の貯槽を電解槽の下や隣近の場所に
設置する場合が多く、この様な場所には前記の様な液管
理の為の調整装置等が多く設置されており、大きなめっ
き液の貯槽を設置出来ず、前記の液の循環時に巻き込ま
れた微細な気泡を液から除去し難く、電着状況を悪化し
てしまうという問題点があった。
て電解槽から離れた所に設置するなどの方法がとられる
が、その場合は配管等にも液が溜り、液量が多大となる
ので液の電着金属イオン濃度、ｐＨ、添加剤量等の調節
やその他の液管理が迅速かつ精密に出来難く、液処理
（浄液）が面倒になるといった問題があった。従って、
図３の様にめっき液の貯槽を電解槽の下や隣近の場所に
設置する場合が多く、この様な場所には前記の様な液管
理の為の調整装置等が多く設置されており、大きなめっ
き液の貯槽を設置出来ず、前記の液の循環時に巻き込ま
れた微細な気泡を液から除去し難く、電着状況を悪化し
てしまうという問題点があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電気めっき
装置において循環するめっき液が巻き込んだ空気を効率
よく除去する装置を提案するものである。
装置において循環するめっき液が巻き込んだ空気を効率
よく除去する装置を提案するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明のめっき液の循環装置は、ストリップ材用電気めっき
装置の電解槽からオーバーフローしためっき液を貯蔵し
電解槽へ再び循環するめっき液の循環装置であって、電
解槽の近隣に設置され、かつ電解液の流れを遮るよう
に、下辺一端部に開口部を設けた仕切り板を少なくとも
一枚設けた点に特徴がある。
明のめっき液の循環装置は、ストリップ材用電気めっき
装置の電解槽からオーバーフローしためっき液を貯蔵し
電解槽へ再び循環するめっき液の循環装置であって、電
解槽の近隣に設置され、かつ電解液の流れを遮るよう
に、下辺一端部に開口部を設けた仕切り板を少なくとも
一枚設けた点に特徴がある。
【００１０】また本発明は、前記のめっき液の循環装置
であって、戻り配管から送液配管までの最短距離をＸと
し、仕切り板間を流れるめっき液の流速をＶa とし、貯
槽内のめっき液の深さをＤとし、めっき液中の気泡の脱
気速度をＶb として、式：Ｘ／Ｖa ＞Ｄ／Ｖb を満足す
る点に特徴がある。
であって、戻り配管から送液配管までの最短距離をＸと
し、仕切り板間を流れるめっき液の流速をＶa とし、貯
槽内のめっき液の深さをＤとし、めっき液中の気泡の脱
気速度をＶb として、式：Ｘ／Ｖa ＞Ｄ／Ｖb を満足す
る点に特徴がある。
【００１１】
【作用】以下、本発明を図面により詳細に説明する。図
１において１は貯槽であり、２、３、４は貯槽内に取り
付けられた仕切り板であり、５はめっき処理槽からオー
バーフローしためっき液を貯槽に戻す配管であり、６は
貯槽内に溜っためっき液を循環ポンプに抜き取る配管で
ある。又、図２は仕切り板の詳細図である。ここで仕切
り板２には配管５の位置と反対側の下端一部に開口が開
けられており、仕切り板３には仕切り板２と反対側、仕
切り板４には仕切り板２と同じ側の下端一部に開口が開
けられている。めっき処理槽からオーバーフローしため
っき液は配管５により貯槽に戻される際に多量の気泡を
巻き込み、その後、仕切り板２の開口のある側へ流れ、
さらに仕切り板３、４の開口を通り配管６から抜き取ら
れる。
１において１は貯槽であり、２、３、４は貯槽内に取り
付けられた仕切り板であり、５はめっき処理槽からオー
バーフローしためっき液を貯槽に戻す配管であり、６は
貯槽内に溜っためっき液を循環ポンプに抜き取る配管で
ある。又、図２は仕切り板の詳細図である。ここで仕切
り板２には配管５の位置と反対側の下端一部に開口が開
けられており、仕切り板３には仕切り板２と反対側、仕
切り板４には仕切り板２と同じ側の下端一部に開口が開
けられている。めっき処理槽からオーバーフローしため
っき液は配管５により貯槽に戻される際に多量の気泡を
巻き込み、その後、仕切り板２の開口のある側へ流れ、
さらに仕切り板３、４の開口を通り配管６から抜き取ら
れる。
【００１２】すなわち、貯槽内に仕切り板を取り付け、
その下端の一部に循環流量に見合う開口を交互に開ける
ことにより、オーバーフローし貯槽に戻されためっき液
はそれぞれの仕切り板の間を順次流れて行き、循環ポン
プへ送られる配管に至るまでの時間を長く取ることがで
きる。そのため、めっき液中に巻き込まれた気泡を液面
より脱気することが可能となる。
その下端の一部に循環流量に見合う開口を交互に開ける
ことにより、オーバーフローし貯槽に戻されためっき液
はそれぞれの仕切り板の間を順次流れて行き、循環ポン
プへ送られる配管に至るまでの時間を長く取ることがで
きる。そのため、めっき液中に巻き込まれた気泡を液面
より脱気することが可能となる。
【００１３】種々の試験の結果、巻き込まれた気泡を確
実に除去する為には、戻り配管から送液配管までの最短
距離をＸとし、仕切り板間を流れるめっき液の流速をＶ
a とし、貯槽内のめっき液の深さをＤとし、めっき液中
の気泡の脱気速度をＶb として、式：Ｘ／Ｖa ＞Ｄ／Ｖ
b を満足することが必要であることが判明した。
実に除去する為には、戻り配管から送液配管までの最短
距離をＸとし、仕切り板間を流れるめっき液の流速をＶ
a とし、貯槽内のめっき液の深さをＤとし、めっき液中
の気泡の脱気速度をＶb として、式：Ｘ／Ｖa ＞Ｄ／Ｖ
b を満足することが必要であることが判明した。
【００１４】仕切り板開口部は、気泡の通過防止の為に
仕切り板の下部に設置するのが望ましく、また、あまり
液面と仕切り板の開口部上部との位置が近いと仕切り板
間の流速に比べて開口部の流速が早いので液面付近に溜
った気泡を吸い込む危険があるので、貯槽内のめっき液
は、少なくとも仕切り板開口の高さの１．５倍以上の深
さにすることが望ましい。
仕切り板の下部に設置するのが望ましく、また、あまり
液面と仕切り板の開口部上部との位置が近いと仕切り板
間の流速に比べて開口部の流速が早いので液面付近に溜
った気泡を吸い込む危険があるので、貯槽内のめっき液
は、少なくとも仕切り板開口の高さの１．５倍以上の深
さにすることが望ましい。
【００１５】
【実施例】図１に示した、巾８００ｍｍ、長さ１２００
ｍｍ、深さ１０００ｍｍのめっき液の循環装置を用いて
実地した。ここで、仕切り板の下端に開けた開口の大き
さは１５ｃｍ×１５ｃｍであり、戻り配管５から送り配
管６までの最短距離は２．３ｍであり、めっき液の深さ
は３０ｃｍであり、仕切り板間のめっき液の流速は３．
３ｍ／分である。
ｍｍ、深さ１０００ｍｍのめっき液の循環装置を用いて
実地した。ここで、仕切り板の下端に開けた開口の大き
さは１５ｃｍ×１５ｃｍであり、戻り配管５から送り配
管６までの最短距離は２．３ｍであり、めっき液の深さ
は３０ｃｍであり、仕切り板間のめっき液の流速は３．
３ｍ／分である。
【００１６】循環液中に内蔵されていた微細な気泡は目
視で皆無の状態であり、図３に示しためっき処理装置で
の電着状況も良好であった。
視で皆無の状態であり、図３に示しためっき処理装置で
の電着状況も良好であった。
【００１７】
【発明の効果】以上示したように、本発明によれば貯槽
内に簡単な構造の仕切り板を取り付けることにより、循
環液中に巻き込まれた気泡を除去でき外観不良等のめっ
き品質の低下を防止できる。また、保有するめっき液量
を比較的少なくできるため、めっき添加剤などの使用量
を低減できるとともに管理が容易になる。
内に簡単な構造の仕切り板を取り付けることにより、循
環液中に巻き込まれた気泡を除去でき外観不良等のめっ
き品質の低下を防止できる。また、保有するめっき液量
を比較的少なくできるため、めっき添加剤などの使用量
を低減できるとともに管理が容易になる。
【図１】（ａ）は本発明の一実施例を示す装置の概略平
面図、（ｂ）は概略断面図である。
面図、（ｂ）は概略断面図である。
【図２】仕切り板２、３、４の拡大図である。
【図３】従来例に係わる装置の全体を示す概略断面図で
ある。
ある。
１ 貯槽 ２ 仕切り板 ３ 仕切り板 ４ 仕切り板 ５ 戻り配管 ６ 送液配管 ７ ストリップ材 ８ コンダクターローラー ９ 陽極 １０ デフレクトローラー １１ めっき処理槽 １２ めっき液循環ポンプ
Claims (2)
- 【請求項１】 ストリップ材用電気めっき装置の電解槽
からオーバーフローしためっき液を貯蔵し電解槽へ再び
循環するめっき液の循環装置であって、電解槽の近隣に
設置され、かつ電解液の流れを遮るように、下辺一端部
に開口部を設けた仕切り板を少なくとも１枚設けたこと
を特徴とするめっき液の循環装置。 - 【請求項２】 戻り配管から送液配管までの最短距離を
Ｘとし、仕切り板間を流れるめっき液の流速をＶa と
し、貯槽内のめっき液の深さをＤとし、めっき液中の気
泡の脱気速度をＶb として、式：Ｘ／Ｖa ＞Ｄ／Ｖb を
満足する請求項１記載のめっき液の循環装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8785393A JPH06280099A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | めっき液の循環装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8785393A JPH06280099A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | めっき液の循環装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06280099A true JPH06280099A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=13926450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8785393A Pending JPH06280099A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | めっき液の循環装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06280099A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003010359A1 (fr) * | 2001-07-25 | 2003-02-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mecanisme d'elimination de corps etrangers, equipement de traitement en coulee et procede d'elimination de corps etrangers |
| CN103924282A (zh) * | 2013-01-15 | 2014-07-16 | 深南电路有限公司 | 一种电镀缸 |
| CN113713437A (zh) * | 2021-08-06 | 2021-11-30 | 安捷利美维电子(厦门)有限责任公司 | 改善气泡型填孔不良的装置及方法 |
-
1993
- 1993-03-24 JP JP8785393A patent/JPH06280099A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003010359A1 (fr) * | 2001-07-25 | 2003-02-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mecanisme d'elimination de corps etrangers, equipement de traitement en coulee et procede d'elimination de corps etrangers |
| US7364664B2 (en) | 2001-07-25 | 2008-04-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Foreign matter removing mechanism, fluid flow processing equipment, and foreign matter removing method |
| CN103924282A (zh) * | 2013-01-15 | 2014-07-16 | 深南电路有限公司 | 一种电镀缸 |
| CN113713437A (zh) * | 2021-08-06 | 2021-11-30 | 安捷利美维电子(厦门)有限责任公司 | 改善气泡型填孔不良的装置及方法 |
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