JPH0345970U - - Google Patents
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- JPH0345970U JPH0345970U JP1990094106U JP9410690U JPH0345970U JP H0345970 U JPH0345970 U JP H0345970U JP 1990094106 U JP1990094106 U JP 1990094106U JP 9410690 U JP9410690 U JP 9410690U JP H0345970 U JPH0345970 U JP H0345970U
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- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 24
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/02—Tanks; Installations therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/08—Rinsing
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Description
第１図は本考案の一実施例に係る蒸発が起ると
作動する向流リンス処理装置の概略断面図、第２
図は第１図の２−２線断面図である。 Ａ……めつき槽、処理槽、Ｂ……リンス槽、Ｃ
……流路、Ｄ……レベル保持手段、２０……最初
のリンス槽、２２……最後のリンス槽、２４……
中間リンス槽、３０……第１の流路、３２……入
口開口、３４……出口開口、３６，４０……そら
せ板、３８，４２……小孔、５０……第２の流路
、５２……入口開口、５４……出口開口、６０…
…第３の流路、６２……入口開口、６４……出口
開口、７０……流出口、７２……リンス液導入口
、７４……流量制御弁。
作動する向流リンス処理装置の概略断面図、第２
図は第１図の２−２線断面図である。 Ａ……めつき槽、処理槽、Ｂ……リンス槽、Ｃ
……流路、Ｄ……レベル保持手段、２０……最初
のリンス槽、２２……最後のリンス槽、２４……
中間リンス槽、３０……第１の流路、３２……入
口開口、３４……出口開口、３６，４０……そら
せ板、３８，４２……小孔、５０……第２の流路
、５２……入口開口、５４……出口開口、６０…
…第３の流路、６２……入口開口、６４……出口
開口、７０……流出口、７２……リンス液導入口
、７４……流量制御弁。
補正 平２．１０．１２
考案の名称を次のように補正する。
考案の名称 電気めつき装置
実用新案登録請求の範囲、図面の簡単な説明を
次のように補正する。 【実用新案登録請求の範囲】 (1) めつき槽と、 前記めつき槽に続いて順次隣接して配置された
２以上のリンス槽と、 隣接する後の槽と前の槽とを相互に接続する細
長い流路と、 すすぎ落されためつき用化学物質を後の槽から
前の槽へ戻すように最後のリンス槽のリンス液を
所定の液面レベルに保持するために最後の前記リ
ンス槽に配設されたレベル保持手段とを具備する
電気めつき装置において、 前記細長い流路は、前記隣接する後の槽と前の
槽との間に配置されたせきと前記せきの内部に配
置されて前記流路を通つて液が無抵抗に流れない
ようにする複数のそらせ手段とからなることを特
徴とする電気めつき装置。 (2) 前記細長い流路は曲がりくねつていること
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項に記
載の電気めつき装置。(3) 前記せきは、前記後の槽の前記所定の液体
レベルよりも低い位置に設けられた入口と前記前
の槽に設けられた出口とを有することを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第１項に記載の電気め
つき装置。(4) 前記そらせ板は前記せきを略横切るように
配設されておりかつ該そらせ板はそれぞれ該そら
せ板を通る液体通路を備えていることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第３項に記載の電気め
つき装置。(5) 前記そらせ板にそれぞれ形成される液体通
路は、該そらせ板を貫通する小孔であることを特
徴とする実用新案登録請求の範囲第４項に記載の
電気めつき装置。(6) 互いに隣接する複数の前記そらせ板によつ
て形成される複数の液体通路は、両側端部をそれ
ぞれ近接させて配設されていることを特徴とする
実用新案登録請求の範囲第４項に記載の電気めつ
き装置。(7) 前記そらせ板は水平方向に沿つて少なくと
も１つの他のそらせ板と接続されていることを特
徴とする実用新案登録請求の範囲第４項に記載の
電気めつき装置。(8) 接続される前記そらせ板は、互いに略直交
するように配設されていることを特徴とする実用
新案登録請求の範囲第７項に記載の電気めつき装
置。(9) 前記レベル保持手段は前記最後のリンス槽
の実質上前記所定の液体レベルの位置に配設され
た流出口と蒸発速度よりも早い速度で水を前記最
後のリンス槽に供給する導入口とを備えることに
より、前記最後のリンス槽のリンス液が前記後の
槽から前記前の槽に流れてこれらの槽の液体を前
記所定の液体レベルに保持するとともに過剰のリ
ンス液を前記流出口を介して流すようになつてい
ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１
項に記載の電気めつき装置。 【図面の簡単な説明】 第１図は本考案の一実施例に係る蒸発が起ると
作動する向流リンス処理装置の概略断面図、第２
図は第１図の２−２線断面図である。 Ａ……めつき槽、処理槽、Ｂ……リンス槽、Ｃ
……流路、Ｄ……レベル保持手段、２０……最初
のリンス槽、２２……最後のリンス槽、２４……
中間リンス槽、３０……第１の流路、３２……入
口開口、３４……出口開口、３６，４０……そら
せ板、３８，４２……小孔、５０……第２の流路
、５２……入口開口、５４……出口開口、６０…
…第３の流路、６２……入口開口、６４……出口
開口、７０……流出口、７２……リンス液導入口
、７４……流量制御弁。
次のように補正する。 【実用新案登録請求の範囲】 (1) めつき槽と、 前記めつき槽に続いて順次隣接して配置された
２以上のリンス槽と、 隣接する後の槽と前の槽とを相互に接続する細
長い流路と、 すすぎ落されためつき用化学物質を後の槽から
前の槽へ戻すように最後のリンス槽のリンス液を
所定の液面レベルに保持するために最後の前記リ
ンス槽に配設されたレベル保持手段とを具備する
電気めつき装置において、 前記細長い流路は、前記隣接する後の槽と前の
槽との間に配置されたせきと前記せきの内部に配
置されて前記流路を通つて液が無抵抗に流れない
ようにする複数のそらせ手段とからなることを特
徴とする電気めつき装置。 (2) 前記細長い流路は曲がりくねつていること
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項に記
載の電気めつき装置。(3) 前記せきは、前記後の槽の前記所定の液体
レベルよりも低い位置に設けられた入口と前記前
の槽に設けられた出口とを有することを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第１項に記載の電気め
つき装置。(4) 前記そらせ板は前記せきを略横切るように
配設されておりかつ該そらせ板はそれぞれ該そら
せ板を通る液体通路を備えていることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第３項に記載の電気め
つき装置。(5) 前記そらせ板にそれぞれ形成される液体通
路は、該そらせ板を貫通する小孔であることを特
徴とする実用新案登録請求の範囲第４項に記載の
電気めつき装置。(6) 互いに隣接する複数の前記そらせ板によつ
て形成される複数の液体通路は、両側端部をそれ
ぞれ近接させて配設されていることを特徴とする
実用新案登録請求の範囲第４項に記載の電気めつ
き装置。(7) 前記そらせ板は水平方向に沿つて少なくと
も１つの他のそらせ板と接続されていることを特
徴とする実用新案登録請求の範囲第４項に記載の
電気めつき装置。(8) 接続される前記そらせ板は、互いに略直交
するように配設されていることを特徴とする実用
新案登録請求の範囲第７項に記載の電気めつき装
置。(9) 前記レベル保持手段は前記最後のリンス槽
の実質上前記所定の液体レベルの位置に配設され
た流出口と蒸発速度よりも早い速度で水を前記最
後のリンス槽に供給する導入口とを備えることに
より、前記最後のリンス槽のリンス液が前記後の
槽から前記前の槽に流れてこれらの槽の液体を前
記所定の液体レベルに保持するとともに過剰のリ
ンス液を前記流出口を介して流すようになつてい
ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１
項に記載の電気めつき装置。 【図面の簡単な説明】 第１図は本考案の一実施例に係る蒸発が起ると
作動する向流リンス処理装置の概略断面図、第２
図は第１図の２−２線断面図である。 Ａ……めつき槽、処理槽、Ｂ……リンス槽、Ｃ
……流路、Ｄ……レベル保持手段、２０……最初
のリンス槽、２２……最後のリンス槽、２４……
中間リンス槽、３０……第１の流路、３２……入
口開口、３４……出口開口、３６，４０……そら
せ板、３８，４２……小孔、５０……第２の流路
、５２……入口開口、５４……出口開口、６０…
…第３の流路、６２……入口開口、６４……出口
開口、７０……流出口、７２……リンス液導入口
、７４……流量制御弁。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) めつき用化学物質と水とを含み、加工物支
持構造体で支持した所定数の加工物を浸漬してめ
つきするとともに液面が蒸発により低下するめつ
き液を所定の液体レベルまで収容するめつき槽と
、 水とめつきされた前記加工物からすすぎ落され
ためつき用化学物質とを含んでなるリンス液を前
記所定の液体レベルまで収容する２以上のリンス
槽と、 隣接する２つの槽を相互接続する細長い流路と
、 前記リンス槽及び前記めつき槽内の溶液を前記
所定の液体レベルに保持するとともに前記すすぎ
落されためつき用化学物質を後の槽から前の槽へ
戻すように最後のリンス槽のリンス液を前記所定
の液体レベルに保持するために前記最後のリンス
槽に配設されたレベル保持手段とを具備し、 前記めつき槽と前記２以上のリンス槽の各槽が
、めつきされた前記加工物を順次すすぐために前
記リンス槽内のリンス液に浸漬できるように隣の
槽に十分隣接して配置され、 前記細長い流路のそれぞれが、液が後の槽から
前の槽へ重力により流れるように前記所定の液体
レベル以下に配設されてなる電気めつき装置にお
いて、 前記細長い流路は、該流路を通つて液が抵抗無
く直接内に流れないようにする複数のそらせ手段
を内部に備えていることを特徴とする電気めつき
装置。 (2) 前記細長い流路は曲がりくねつていること
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項に記
載の電気めつき装置。 (3) 前記細長い流路は前記後の槽を前記前の槽
と相互接続するせきと前記そらせ手段として前記
せきに設けられた複数のそらせ板とを備えている
ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項
に記載の電気めつき装置。 (4) 前記せきは、前記後の槽の前記所定の液体
レベルよりも低い位置に設けられた入口と前記前
の槽に設けられた出口とを有することを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第３項に記載の電気め
つき装置。 (5) 前記そらせ板は前記せきを略横切るように
配設されておりかつ該そらせ板はそれぞれ該そら
せ板を通る液体通路を備えていることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第４項に記載の電気め
つき装置。 (6) 前記そらせ板にそれぞれ形成される液体通
路は、該そらせ板を貫通する小孔であることを特
徴とする実用新案登録請求の範囲第５項に記載の
電気めつき装置。 (7) 互いに隣接する複数の前記そらせ板によつ
て形成される複数の液体通路は、両側端部をそれ
ぞれ近接させて配設されていることを特徴とする
実用新案登録請求の範囲第５項に記載の電気めつ
き装置。 (8) 前記そらせ板は水平方向に沿つて少なくと
も１つの他のそらせ板と接続されていることを特
徴とする実用新案登録請求の範囲第５項に記載の
電気めつき装置。 (9) 接続される前記そらせ板は、互いに略直交
するように配設されていることを特徴とする実用
新案登録請求の範囲第８項に記載の電気めつき装
置。 (10) 前記レベル保持手段は前記最後のリンス槽
の実質上前記所定の液体レベルの位置に配設され
た流出口と蒸発速度よりも早い速度で水を前記最
後のリン槽に供給する導入口とを備えることによ
り、前記最後のリンス槽のリンス液が前記後の槽
から前記前の槽に流れてこれらの槽の液体を前記
所定の液体レベルに保持するとともに過剰のリン
ス液を前記流出口を介して流すようになつている
ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項
に記載の電気めつき装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/225,709 US4379031A (en) | 1981-01-16 | 1981-01-16 | Evaporation driven counterflow rinse system and method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0345970U true JPH0345970U (ja) | 1991-04-26 |
| JPH0431252Y2 JPH0431252Y2 (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=22845913
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57003516A Pending JPS57137495A (en) | 1981-01-16 | 1982-01-14 | Electroplating method and apparatus |
| JP1990094106U Expired JPH0431252Y2 (ja) | 1981-01-16 | 1990-09-10 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57003516A Pending JPS57137495A (en) | 1981-01-16 | 1982-01-14 | Electroplating method and apparatus |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4379031A (ja) |
| JP (2) | JPS57137495A (ja) |
| KR (1) | KR880002018B1 (ja) |
| AU (1) | AU7787581A (ja) |
| BR (1) | BR8200223A (ja) |
| CA (1) | CA1165275A (ja) |
| DE (1) | DE3201129A1 (ja) |
| FR (1) | FR2498210A1 (ja) |
| GB (1) | GB2091296B (ja) |
| IN (1) | IN156465B (ja) |
| MX (1) | MX163767B (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4654089A (en) * | 1985-05-31 | 1987-03-31 | Singelyn Daniel D | Counterflow spray rinse process |
| MY118065A (en) * | 1989-10-26 | 2004-08-30 | Toshiba Silicone | Cleaning compositions |
| DE3938755A1 (de) * | 1989-11-23 | 1991-05-29 | Henkel Kgaa | Verfahren zur kontinuierlichen maschinellen reinigung von gebrauchsgeschirr |
| US5194095A (en) * | 1990-05-21 | 1993-03-16 | William Yates | Environmental waste-control process for spray rinsing chemically treated articles |
| US5500976A (en) * | 1993-09-08 | 1996-03-26 | Cyclone Surface Cleaning, Inc. | Mobile cyclonic power wash system with water reclamation and rotary union |
| US5932109A (en) * | 1994-06-02 | 1999-08-03 | Griffin Chemical Company | Plating rinse water treatment |
| US5601659A (en) * | 1995-03-13 | 1997-02-11 | Cyclone Surface Cleaning, Inc. | Mobile power wash system with water reclamation and hydrocarbon removal method |
| US5853556A (en) * | 1996-03-14 | 1998-12-29 | Enthone-Omi, Inc. | Use of hydroxy carboxylic acids as ductilizers for electroplating nickel-tungsten alloys |
| US6443167B1 (en) * | 1999-10-05 | 2002-09-03 | Texas Instruments Incorporated | Gradient dragout system in a continuous plating line |
| US7534297B2 (en) * | 2005-04-19 | 2009-05-19 | The Boeing Company | Single item workflow manufacturing system and method |
| CN110965114B (zh) * | 2018-09-29 | 2021-12-14 | 上海梅山钢铁股份有限公司 | 一种甲基磺酸锡系电镀液的回收装置及方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2721562A (en) * | 1952-11-07 | 1955-10-25 | Belle Fons Chemical Corp | Pickling and pickling agent regeneration apparatus |
| US2845936A (en) * | 1955-05-09 | 1958-08-05 | Hercules Powder Co Ltd | Countercurrent contacting apparatus |
| DE1093160B (de) * | 1958-10-29 | 1960-11-17 | Pfaudler Permutit Inc | Verfahren und Vorrichtung zur elektrolytischen Behandlung, insbesondere zum Galvanisieren von Metallgegenstaenden |
| DE1139345B (de) * | 1960-11-10 | 1962-11-08 | W Kampschulte & Cie Dr | Einrichtung zum Konstanthalten des Badspiegels in einem galvanischen Bad und diesem nachgeschalteten Spuelbaedern |
| US3542651A (en) * | 1966-10-18 | 1970-11-24 | Aisaburo Yagishita | Unit for recovery of plating solution |
| US3681212A (en) * | 1970-07-06 | 1972-08-01 | American Standard Inc | Recovery of electro-chemical plating solutions |
| IT1017643B (it) * | 1973-11-15 | 1977-08-10 | Ebara Udylite Kk | Metodo e apparecchio per tratta re soluzioni per il trattamento superficiale di metalli e liqui di di lavaggio |
| JPS50121133A (ja) * | 1974-03-12 | 1975-09-22 | ||
| JPS5177539A (ja) * | 1974-12-28 | 1976-07-05 | Maewa Kogyo Kk | Metsukyokunochoseihoho |
| JPS53149827A (en) * | 1978-03-02 | 1978-12-27 | Okubo Katsuhiro | Continuous circulation system electrolytic treatment device of plating wash water |
| DD155182A1 (de) * | 1980-12-12 | 1982-05-19 | Harry Stein | Verfahren und vorrichtung zur aufrechterhaltung des badspiegels und konzentration in galvanischen baedern |
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- 1981-01-16 US US06/225,709 patent/US4379031A/en not_active Expired - Fee Related
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-
1982
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- 1982-01-15 BR BR8200223A patent/BR8200223A/pt not_active IP Right Cessation
- 1982-01-15 CA CA000394288A patent/CA1165275A/en not_active Expired
- 1982-01-15 DE DE19823201129 patent/DE3201129A1/de active Granted
- 1982-01-15 MX MX190992A patent/MX163767B/es unknown
- 1982-01-16 KR KR8200178A patent/KR880002018B1/ko active
-
1990
- 1990-09-10 JP JP1990094106U patent/JPH0431252Y2/ja not_active Expired
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| KR830009271A (ko) | 1983-12-19 |
| JPS57137495A (en) | 1982-08-25 |
| GB2091296A (en) | 1982-07-28 |
| JPH0431252Y2 (ja) | 1992-07-28 |
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| IN156465B (ja) | 1985-08-10 |
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| AU7787581A (en) | 1982-07-22 |
| DE3201129C2 (ja) | 1992-05-27 |
| GB2091296B (en) | 1984-02-01 |
| CA1165275A (en) | 1984-04-10 |
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| US4379031A (en) | 1983-04-05 |
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