JPH04291021A - 磁気カード及びその判別方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、銀行カ−ド、クレジッ
トカ−ド、プリペイドカ−ド、乗車券等購入カ−ド等と
して利用される磁気カ−ド及びその判別方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録は、記録・再生・消去が容易で
あるという利点があるために、この磁気記録を利用する
磁気カ−ドは急速に普及しており、ますます利用分野が
拡大している。磁気カ−ドは、銀行カ−ド、クレジット
カ−ド、プリペイドカ−ド、乗車券等購入カ−ドとして
、現金に関係の深い用途に使用されるために、偽造、複
製して不正使用された場合には大きな損害をもたらす危
険性が懸念される。

【０００３】一般に磁気カ−ド等の磁気記録情報を複製
する方法としては、二つの方法がある。一つは一般によ
く知られている磁気ヘッドによる記録・再生を利用する
方法であるが、記録方式・電子回路等に関するかなり詳
細な専門的知識を要求されるために、実際にこの方法で
磁気カ−ドを複製することは容易ではない。もう一つの
方法は磁気転写方式であり、これはさらに熱磁気転写と
接触磁気転写方式に分かれる。

【０００４】最近の磁気カ−ドでは外部磁界耐性を強化
するために、磁気カ−ドの高保磁力化が進行しており、
現在保磁力　３，０００Ｏｅのものが出現しており、さ
らに高保磁力化が推進される傾向にある。前記の複製方
法のうち、接触磁気転写方式は、複製しようとする磁気
カ−ド（以下、マスタ−と呼ぶ。）と複製のために用意
した磁気カ−ド（以下、スレ−ブと呼ぶ。）を単に磁性
面同志対向させてスレ−ブの保磁力よりも若干大きい交
流減衰磁界を印加してスレ−ブにマスタ−の磁化を転写
する方法であり、通常この方式で磁気転写する場合、マ
スタ−の保磁力はスレ−ブの保磁力の２．５倍以上必要
とされている。前記のような磁気カ−ドの高保磁力化が
進むにしたがって、接触磁気転写による複製がしやすく
なり、非常に簡単に複製カ−ドができてしまうという問
題点がある。

【０００５】この対策として、特公平２−５０５２８号
公報に開示されているように、非磁性支持体上に、高保
磁力磁性層、高透磁率磁性層、低保磁力磁性層を順次積
層して、接触磁気転写によって複製された場合には、高
透磁率磁性層が磁気的に飽和して低保磁力磁性層の真正
デ−タに高保磁力磁性層の偽造デ−タが重畳し、読取り
不能になる磁気カ−ドが示されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気シ
−ルド材料として適切なＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金などの高
透磁率磁性材料を粉粒体にして塗料化して塗工する場合
、各製造工程で材料が化学的変質を受けにくいように注
意する必要があり、また、この種の高透磁率磁性材料は
、磁気記録層を構成する材料であるＢａフェライトやコ
バルト被着型酸化鉄などに比較して、非常に高価であり
、更に、三層に積層しなければならず塗工工程が複雑で
あるという問題点を有している。

【０００７】本発明が解決しようとする課題は、安価な
材料を用い、しかも簡単な磁性層構成でありながら、接
触磁気転写によって磁気カ−ドが複製されて使用された
場合に、容易に複製の事実を検出することが可能な磁気
カ−ド及びその判別方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、本発明を完
成するに至った。

【０００９】即ち、本発明は上記課題を解決するために
、非磁性支持体上に磁性層を有する磁気カ−ドにおいて
、磁性層が非磁性支持体側から下部磁性層及び上部磁性
層から成り、上部磁性層の保磁力が下部磁性層の保磁力
よりも小さく、かつ、上部磁性層と下部磁性層の磁化方
向が同方向であることを特徴とする磁気カ−ドを提供す
る。

【００１０】以下、図面を用いて本発明を詳細に説明す
る。

【００１１】第１図に本発明の磁気カ−ドの長手方向の
断面図を示した。非磁性支持体１は、シ−ト状あるいは
板状を呈しており、この支持体１の材料としては、例え
ば、ナイロン、セルロ−スジアセテ−ト、セルロ−スト
リアセテ−ト、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリエチ
レンテレフタレ−ト、ポリプロピレン、ポリエステル、
ポリビニルクロライド、ポリイミド、ポリカ−ボネ−ト
等のプラスチック類；銅、アルミニウム等の金属類；紙
、含侵紙等を挙げることができ、これらの材料は、単独
、あるいは、組み合わせて複合体として用いることがで
きる。なお、支持体１の厚さは、０．００５〜５ｍｍの
範囲が好ましい。

【００１２】磁性層２及び磁性層３は、例えば、γ−Ｆ
ｅ２Ｏ３、Ｃｏ被着Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ４
、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−
Ｎｉ、ＭｎＡｌ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライトなど
の公知の磁性粉を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中
に分散してなる磁性塗料を塗布・硬化させて形成される
。

【００１３】非磁性支持体１上に高保磁力の下部磁性層
２及び低保磁力の上部磁性層３を形成する方法としては
、前記磁性塗料をグラビア方式、リバ−ス方式、ナイフ
エッジ方式等の公知の塗工方法によって適切な磁場強度
で配向処理を行いながら塗工して形成することができる
。配向磁場強度は、磁性層の保磁力の１．０〜５．０倍
の範囲が好ましく、１．５〜４．０倍の範囲が特に好ま
しい。また、磁場配向に使用する配向器については、永
久磁石又は電磁石が使用できる。

【００１４】両磁性層の磁化方向を同方向にする方法と
しては、配向器として永久磁石を使用する場合、例えば
、磁性層２を塗工しＮ−Ｎ対向型磁石で配向を行い乾燥
させて、次に磁性層３を磁性層２の上に塗工する工程で
は、前記配向方向と逆方向に磁性層２を配向器に入れて
、Ｓ−Ｓ対向型磁石で磁場配向して形成する方法（Ｎ−
Ｎ対向型磁石とＳ−Ｓ対向型磁石の組み合わせは逆でも
良い）；磁性層２を塗工し、Ｎ−Ｎ対向型磁石で磁場配
向して乾燥させて、次にその上に連続して磁性層３を塗
工して、Ｎ−Ｎ対向型磁石で磁場配向して乾燥させて形
成する方法など（Ｓ−Ｓ対向型磁石でも良い）が挙げら
れる。電磁石を使用する場合には、例えば、磁性層２を
塗工して、ある極性磁場で配向して乾燥させて、次に磁
性層３を磁性層２の上に塗工する工程では、磁性層２を
前記配向方向と逆方向に配向器に入れて前記方向と逆極
性の磁場で配向して乾燥させて形成する方法；磁性層２
を塗工してある極性磁場で配向して乾燥させて、次に連
続して磁性層２の上に磁性層３を塗工して同極性の磁場
で配向して乾燥させて形成する方法などが挙げられる。

【００１５】これまで述べたのは、支持体１の全面に両
磁性層を形成する方法であるが、ストライプ状に形成す
る場合には、例えば、配向磁場を印加しながら印刷によ
って形成する方法などが挙げられる。

【００１６】保護層４は、磁気層の保護、外観の向上等
のために付加するもので形成してもしなくても良い。保
護層４は必要に応じて、有機顔料、無機顔料、体質顔料
等公知の顔料微粒子を適当な樹脂あるいはインキビヒク
ル中に分散してなる塗料をグラビア方式、リバ−ス方式
、ナイフエッジ方式等の公知の塗工方法によって磁性層
３の上に形成することができる。

【００１７】本発明の磁気カ−ドの高保磁力の下部磁性
層の保磁力は、現行の磁性層の種類や磁気ヘッドの性能
等を鑑みて、１，０００〜４，５００Ｏｅの範囲が好ま
しく、１，０００〜４，０００Ｏｅの範囲が特に好まし
い。また、低保磁力の上部磁性層に関しては、磁性材料
の保磁力のバラツキや配向処理時の磁化強度の設定を考
慮して磁性層２の保磁力の５０％以下にすることが好ま
しい。

【００１８】さらに、本発明は、磁気カ−ドの長手方向
の端部の再生出力（以下これをエッジパルス出力と呼ぶ
）を検出後、保磁力の小さい上部磁性層の磁化方向を反
転させるように直流磁化して、エッジパルス出力を検出
し、反転前後のエッジパルス出力を比較することを特徴
とする磁気カ−ドの判別方法を提供する。

【００１９】

【作用】以下に本発明の磁気カ−ドの作用を図面を用い
て具体的に説明する。

【００２０】本発明の磁気カ−ドでは、両磁性層の磁化
方向が同方向であるので、カ−ドが磁気カ−ドリ−ダ−
ライタ−の再生ヘッドを通過するとエッジパルス出力が
検出される。第２図にこの磁気カ−ドの長手方向の断面
図及び配向処理による磁化方向及び長手方向の端部の再
生出力波形を示す。５は、磁気ヘッドと磁気カ−ドの相
対移動方向を示している。下部磁性層と上部磁性層の磁
化方向が同方向であるために、磁気カ−ドの長手方向の
端部の漏れ磁束は、両磁性層からの漏れ磁束の和として
検出されることになるので、大きなエッジパルス出力６
及び７が得られる。次に、上部磁性層の磁化方向を反転
させるように直流磁化した場合のこの磁気カ−ドの長手
方向の断面図及び配向処理による磁化方向及び長手方向
の端部の再生出力波形を第３図に示した。このように端
部では磁化方向が逆になるために漏れ磁束が打ち消し合
い、両磁性層の磁束の差だけが磁気カ−ド表面に現れる
ためにエッジパルス出力８及び９は非常に小さくなる。 なお、この磁化反転のための直流磁化は、磁気カ−ドリ
−ダ−ライタ−の消去ヘッドで磁性層２の残留磁化には
影響を与えずに磁性層３の磁化を反転するのに十分な直
流磁場を発生させて行う。さらに、磁気情報は、磁性層
２及び磁性層３を飽和磁化できる大きさの磁場を記録ヘ
ッドで発生させて行う。

【００２１】

【実施例】以下に本発明を実施例を用いて更に詳細に説
明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるもの
ではない。実施例中「％」及び「部」は、各々「重量％
」及び「重量部」を表わす。

【００２２】［磁性塗料の作製］ （製造例１） Ｂａフェライト粉（保磁力３，０００Ｏｅ）　　　１０
０部塩酢ビ樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１５部ポリウレタン樹脂　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５部メチルエ
チルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０
０部トルエン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１００部シクロヘキサノン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０部上記各組
成をボ−ルミルを用いて２０時間混練して磁性塗料を作
製した。

【００２３】（製造例２）製造例１において、Ｂａフェ
ライト粉（保磁力　３，０００Ｏｅ）に代えて、Ｂａフ
ェライト粉（保磁力　１，２００Ｏｅ）１００部を用い
た以外は、製造例１と同様にして磁性塗料を作製した。

【００２４】（製造例３）製造例１において、Ｂａフェ
ライト粉（保磁力　３，０００Ｏｅ）に代えて、Ｃｏ被
着γ酸化鉄（保磁力　６５０Ｏｅ）１００部を用いた以
外は、製造例１と同様にして磁性塗料を作製した。

【００２５】（製造例４）製造例１において、Ｂａフェ
ライト粉（保磁力　３，０００Ｏｅ）に代えて、γ酸化
鉄（保磁力　３００Ｏｅ）１００部を用いた以外は、製
造例１と同様にして磁性塗料を作製した。

【００２６】（実施例１〜３）厚さ　１８８μｍのポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム上に、製造例１の磁性
塗料　１００部及びポリイソシアネ−ト３部からなる塗
料をリバ−ス方式で３０ｍ／分の塗工速度にて磁場強度
　５，０００ＯｅのＮ−Ｎ対向型磁石で磁場配向して、
乾燥膜厚が６μｍとなるように塗工・乾燥させた後、４
０℃の恒温槽に４８時間放置して、下部磁性層を形成し
た。

【００２７】次に、製造例２の磁性塗料　１００部及び
ポリイソシアネ−ト３部からなる塗料をリバ−ス方式で
、３０ｍ／分の塗工速度にて下部磁性層上に、乾燥膜厚
が４μｍ（実施例１）、６μｍ（実施例２）、８μｍ（
実施例３）となるように、塗工・乾燥させて上部磁性層
を形成した。この時、下部磁性層を前記配向方向と逆方
向に磁場強度　２，５００ＯｅのＳ−Ｓ対向型磁石に入
れた。こうして得られた磁性層を８５ｍｍ×５４ｍｍの
大きさに打ち抜いて磁気カ−ドを作製した。

【００２８】次に、得られた磁気カ−ドの電磁変換特性
の評価を行った。まず、磁気カ−ドリ−ダ−ライタ−で
初期のエッジパルス出力、上部磁性層の磁化反転後のエ
ッジパルス出力及び磁気情報を記録密度２００ＦＣＩで
記録した時の再生出力の測定を行ない、その結果を第１
表に示した。この時、磁気カ−ドは長手方向端部の磁極
がＮ極である方向から磁気カ−ドリ−ダ−ライタ−の走
行系に投入し、長手方向の先端のエッジパルス出力の検
出を行った。なお、この磁気カ−ドリ−ダ−ライタ−は
、２トラックになっており、初期のエッジパルス検出・
磁化反転・磁化反転後のエッジパルス出力検出と磁気情
報の記録再生は別のトラックで行った。また、上部磁性
層の磁化反転のための磁気カ−ドリ−ダ−ライタ−の直
流消去電流は、９０ｍＡ、磁気情報の記録電流は、６０
０ｍＡであった。

【００２９】さらに、両磁性層それぞれ単独の磁気特性
を振動試料型磁力計で測定し、その結果を第２表に示し
た。なお、下部磁性層は印加磁場１０，０００Ｏｅ、上
部磁性層は印加磁場　３，０００Ｏｅで測定を行った。

【００３０】（比較例１〜３）実施例１〜３で得た各磁
気カ−ドを接触磁気転写によって複製するために、厚さ
　１８８μｍのポリエチレンテレフタレ−ト支持体上全
面に磁性層が形成され、保磁力３００Ｏｅ、残留磁束１
．４Ｍｘ／ｃｍの磁気カ−ドを所定枚数用意して両磁気
カ−ドの磁性面同志対向させて、最大磁界強度５００Ｏ
ｅ、２５０Ｈｚの交流減衰磁界を印加した。この場合、
低保磁力の上部磁性層の保磁力がスレ−ブの保磁力の４
倍程度であるので、上層磁性層の残留磁化が転写される
。このようにして上部磁性層の膜厚４μｍの磁気カ−ド
の複製カ−ド（比較例１）、前記膜厚６μｍの磁気カ−
ドの複製カ−ド（比較例２）、前記膜厚８μｍの磁気カ
−ドの複製カ−ド（比較例３）を作製した。さらに、実
施例１〜３と同様な測定条件でエッジパルス出力、磁気
情報の再生出力の測定を行ない、その結果を第１表に示
した。なお、接触磁気転写するとマスタ−の磁化方向と
スレ−ブの磁化方向は反対方向になる。従って、その点
に注意して磁気カ−ドの長手方向の端部の磁極がＮ極で
ある方向から磁気カ−ドリ−ダ−ライタ−の走行系に投
入した。

【００３１】（実施例４〜６）厚さ　１８８μｍのポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム上に、製造例１の磁性
塗料　１００部及びポリイソシアネ−ト３部から成る塗
料をリバ−ス方式で３０ｍ／分の塗工速度にて磁場強度
　５，０００ＯｅのＮ−Ｎ対向型磁石で磁場配向して、
乾燥膜厚が６μｍとなるように塗工・乾燥させた後、４
０℃の恒温槽に４８時間放置して下部磁性層を形成した
。

【００３２】次に、製造例３の磁性塗料　１００部及び
ポリイソシアネ−ト３部からなる塗料をリバ−ス方式で
、３０ｍ／分の塗工速度にて下部磁性層上に乾燥膜厚が
４μｍ（実施例４）、６μｍ（実施例５）、８μｍ（実
施例６）となるように塗工・乾燥させて上部磁性層を形
成した。この時、下部磁性層を前記配向方向と逆方向に
磁場強度　１，５００ＯｅのＳ−Ｓ対向型磁石に入れた
。こうして得られた磁性層を８５ｍｍ×５４ｍｍの大き
さに打ち抜いて磁気カ−ドを作製した。

【００３３】次に、実施例１〜３と同様にして電磁変換
特性の測定を行ない、その結果を第１表及び第２表に示
した。なお、この時の磁気カ−ドリ−ダ−ライタ−の上
部磁性層の磁化反転のための直流消去電流は５０ｍＡ、
磁気情報の記録電流は　６００ｍＡであった。また、磁
気特性測定条件は、下部磁性層は印加磁場１０，０００
Ｏｅ、上部磁性層は印加磁場２，０００Ｏｅで測定した
。

【００３４】（比較例４〜６）実施例４〜６で得た各磁
気カ−ドを接触磁気転写によって複製するために、厚さ
　１８８μｍのポリエチレンテレフタレ−ト支持体上全
面に磁性層が形成され、保磁力３００Ｏｅ、残留磁束１
．４Ｍｘ／ｃｍの磁気カ−ドを所定枚数用意し、両磁気
カ−ドの磁性面同志を対向させて、最大磁界　８００Ｏ
ｅ、　２５０Ｈｚの交流減衰磁界を印加した。この交流
減衰磁界の強度は、上部磁性層を磁気的に初期化して下
部磁性層の残留磁化が上部磁性層及びスレ−ブに転写す
るように、上部磁性層の保磁力よりも大きい磁場に設定
した。このようにして上部磁性層の膜厚４μｍの磁気カ
−ドの複製カ−ド（比較例４）、前記膜厚６μｍの磁気
カ−ドの複製カ−ド（比較例５）、前記膜厚８μｍの磁
気カ−ドの複製カ−ド（比較例６）を作製した。さらに
、実施例４〜６と同様にしてエッジパルス出力、磁気情
報の再生出力の測定を行ない、その結果を第１表に示し
た。

【００３５】（実施例７〜９）厚さ　１８８μｍのポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム上に、製造例１の磁性
塗料　１００部及びポリイソシアネ−ト３部からなる塗
料をリバ−ス方式で３０ｍ／分の塗工速度にて、磁場強
度５，０００ＯｅのＮ−Ｎ対向型磁石で磁場配向して、
乾燥膜厚が６μｍとなるように塗工・乾燥させた後、４
０℃の恒温槽に４８時間放置して、下部磁性層を形成し
た。

【００３６】次に、製造例４の磁性塗料　１００部及び
ポリイソシアネ−ト３部からなる塗料を、リバ−ス方式
で３０ｍ／分の塗工速度にて、下部磁性層上に乾燥膜厚
が４μｍ（実施例７）、６μｍ（実施例８）、８μｍ（
実施例９）の上部磁性層を塗工・乾燥させて上部磁性層
を形成した。この時、下部磁性層を前記塗工方向と逆方
向に磁場強度　１，０００ＯｅのＳ−Ｓ対向型磁石に入
れることになる。こうして得られた磁性層を８５ｍｍ×
５４ｍｍの大きさに打ち抜いて磁気カ−ドを作製した。

【００３７】次に、実施例１〜３と同様にして電磁変換
特性の測定を行ない、その結果を第１表及び第２表に示
した。なお、この時の磁気カ−ドリ−ダ−ライタ−の磁
化反転のための直流消去電流は、２５ｍＡ、磁気情報の
記録電流は、　６００ｍＡであった。また、磁気特性測
定条件は、下部磁性層は印加磁場１０，０００Ｏｅ、上
部磁性層は印加磁場　１，０００Ｏｅであった。

【００３８】（比較例７〜９）実施例７〜９で得た各磁
気カ−ドを接触磁気転写によって複製するために、厚さ
　１８８μｍのポリエチレンテレフタレ−ト支持体上全
面に磁性層が形成され、保磁力３００Ｏｅ、残留磁束１
．４Ｍｘ／ｃｍの磁気カ−ドを所定枚数用意して両磁気
カ−ドの磁性面同志対向させて、最大磁界　５００Ｏｅ
、２５０Ｈｚ　の交流減衰磁界を印加した。この交流減
衰磁界の強度は、上部磁性層を磁気的に初期化して下部
磁性層の残留磁化が上部磁性層及びスレ−ブに転写する
ように上部磁性層の保磁力より大きい磁場に設定した。 このようにして上部磁性層の膜厚４μｍの磁気カ−ドの
複製カ−ド（比較例７）、前記膜厚６μｍの磁気カ−ド
の複製カ−ド（比較例８）、前記膜厚８μｍの磁気カ−
ドの複製カ−ド（比較例９）を作製した。さらに、実施
例７〜９と同様にしてエッジパルス出力、磁気情報の再
生出力の測定を行ない、その結果を第１表に示した。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【表２】

【００４１】第１表及び第２表に示した実施例の測定結
果から、本発明の磁気カ−ドでは、エッジパルス出力は
、初期は正方向の大きな出力になり、反転後は非常に小
さな出力になることが理解できる。しかしながら、比較
例の測定結果から、本発明の磁気カ−ドが接触磁気転写
され複製された場合には、初期のエッジパルス出力は同
じく検出されるが、磁化反転後は、大きな負方向の再生
出力が検出されてしまうことが理解できる。これらの事
実から、初期及び磁化反転後のエッジパルス出力を比較
する本発明の磁気カ−ドの判別方法によって、本発明の
磁気カ−ドが接触磁気転写され複製された場合に、その
事実が容易に判別可能であることが理解できるであろう
。

【００４２】また、本発明の磁気カ−ド及び判別方法を
実際に使用する場合、初期及び磁化反転後のエッジパル
ス出力レベルは、両磁性層の残留磁束のバランスによっ
て決定され、かつ、上部磁性層の磁化反転のための直流
磁化強度も上部磁性層の保磁力によって設定されること
になるから、両磁性層の保磁力及び残留磁束のバランス
、直流磁化強度が判明しないかぎり接触磁気転写されて
も複製として使用することができないことも明らかであ
る。

【００４３】更に、磁気カ−ドを磁気カ−ドリ−ダ−ラ
イタ−から排出する前に、上部磁性層を再度磁化反転し
てエッジパルス出力検出部のあるトラック方向の磁化方
向を同方向にするように消去ヘッドで直流磁化すること
により、使用前と同じ磁化状態に戻すことができる。ま
た、本実施例では、磁気カ−ドの長手方向の先端のエッ
ジパルス出力の検出を行ったが、後端又は両端のエッジ
パルス出力の検出を行なう方法も用いることができる。 また、本実施例では上部磁性層の磁化反転のための直流
磁化を磁気ヘッドで行っていたが、永久磁石で行なうこ
ともできる。さらに、この実施例ではエッジパルス検出
部と磁気情報記録部が別のトラックになっているが、同
じトラックに形成することもできる。

【００４４】

【発明の効果】本発明の磁気カ−ド及びその判別方法に
よれば、磁気カ−ドの高保磁力化が急速に進行しても、
安価な磁性材料を使用し、簡単な磁気カードの構成及び
判別方法でありながら、接触磁気転写によって複製され
た場合に、正確に複製であると判断できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１図は本発明の磁気カ−ドの長手方向の断面
図である。

【図２】第２図は本発明の磁気カ−ドの初期の磁化方向
を示す長手方向の断面図及びエッジパルス出力波形を示
す図表である。

【図３】第３図は本発明の磁気カ−ドの上部磁性層の磁
化反転後の磁化方向を示す長手方向の断面図及びエッジ
パルス出力波形を示す図表である。

【符号の説明】

１　　非磁性支持体 ２　　下部磁性層 ３　　上部磁性層 ４　　保護層 ５　　磁気ヘッドと磁気カ−ドの相対移動方向６　　エ
ッジパルス出力波形 ７　　エッジパルス出力波形 ８　　エッジパルス出力波形 ９　　エッジパルス出力波形

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　非磁性支持体上に磁性層を有する磁気
   カ−ドにおいて、磁性層が非磁性支持体側から下部磁性
   層及び上部磁性層から成り、上部磁性層の保磁力が下部
   磁性層の保磁力よりも小さく、かつ、上部磁性層と下部
   磁性層の磁化方向が同方向であることを特徴とする磁気
   カ−ド。
2. 【請求項２】　　下部磁性層の保磁力が１，０００〜４
   ，０００Ｏｅの範囲にある請求項１記載の磁気カ−ド。
3. 【請求項３】　　磁気カ−ドの長手方向の端部の再生出
   力を検出した後、上部磁性層の磁化方向を反転するよう
   に直流磁化し、前記端部の再生出力の検出を行うことを
   特徴とする請求項１記載の磁気カ−ドの判別方法