JP4068762B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体、特に偽造、変造が困難な磁気記録媒体と、その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基材の片面あるいは両面の全域またはストライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレジットカード、会員カード等のカード類、磁気ラベル等として幅広く使用されている。従来、このような磁気記録媒体は、磁気記録層に高い記録密度でディジタルデータを書込み、外部から簡単には記録情報を読み出せないようにしている。
【０００３】
しかし、磁気記録層の特性上、記録されたディジタルデータの書換え、消去が自在であるため、偽造、変造が可能であり、近年、大きな社会問題としてクローズアップされている。特に、現在は磁気ストライプの入手が容易であるため、類似のカードを製造することも可能であり、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の表面に磁気記録層が露出している場合、ディジタルデータを読み取ったり、磁気転写技術によりディジタルデータを他の磁気記録層に移すことが容易にできてしまうという問題もある。
【０００４】
このような磁気記録情報の可逆性という本質的な欠点に基づく問題を解決するために、磁気記録情報の書き換えを困難にする種々の方法が提案されている。例えば、ＢａフェライトやＳｒフェライト等の高保磁力磁性材料、高保磁力低キュリー点（高Hc低Tc）の磁性材料、ＭｎＢｉを含有する磁性材料等を用いることにより、磁気情報を消去されにくくした磁気記録媒体等が開発されている。
【０００５】
また、磁気的な書き換えを不可能とするために、磁性層に物理的変化を与えることにより磁気記録情報をもたせた磁気記録媒体も開発されており、例えば、印刷により磁気バーコードを設けた磁気記録媒体、磁性層にレーザー等によりマーキングを施した磁気記録媒体等が挙げられる。
【０００６】
さらに、基材上に比較的低い保磁力の磁性材料を含む第１磁性層を形成し、この第１磁性層に磁気記録を行った後、高保磁力の磁性材料を含む第２磁性層を塗布形成して積層した磁気記録媒体も開発されている。この磁気記録媒体では、第１磁性層の磁気記録パターンが第２磁性層にコピー（いわゆる磁気転写）されているので、偽造、変造を目的とした磁気ヘッドによる書き換えが困難である。
【０００７】
また、磁気記録情報として、ディジタルデータではなく、アナログデータを故意に用いることにより、不正使用を防止するシステムも提案されている（特開平８−３１５３５５号）。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような単に高保磁力磁性材料を用いた磁気記録媒体は、外部磁場の影響による磁気記録情報の消去を防ぐことは可能であるが、これは逆に磁気ヘッドで情報を書き込む際には磁化されにくく、書き込み装置に制限ができるという新たな問題を生じている。
【０００９】
また、高Hc低Tc磁性材料やＭｎＢｉ含有磁性材料を有する磁気記録媒体では、温度による保磁力の急激な低下を利用し、その条件下で磁気書き込みを行うことも可能であるが、常温において磁気記録情報の消去や書き込みができないため、装置が大掛かりになるという問題がある。
【００１０】
さらに、磁気バーコードのように磁性層に物理的変化を与えた磁気記録媒体では、磁気記録情報の消去と、新たな情報の書き込みが不可能であるとともに、情報の存在を容易に認識することができ、偽造等の防止上、不充分であった。
【００１１】
また、第２磁性層に磁気転写された磁気記録情報を備える磁気記録媒体は、非常に強い磁界が加わると、磁気転写により記録された第２磁性層の磁気記録が消去されてしまうという問題があり、さらに、高保磁力磁性材料を含む第２磁性層に磁気転写を効率良く行うことが困難なため、読み取りに必要な磁気出力が第２磁性層から得られないという問題もあった。
【００１２】
さらに、上記の特開平８−３１５３５５号に開示のシステムは、磁気記録媒体中にランダムに分散された磁気繊維から得られるアナログデータを用いて不正使用を防止するものであるが、この情報自体を変化させることはできないので、複雑な情報の運用が困難であり、また、磁気記録媒体の製造が簡便ではないという問題があった。
【００１３】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、磁気ヘッドによる読み取りにおいて出力レベルおよび波形が、通常のディジタルの磁気情報からは得られないような多様に変化可能な情報をもち、他の磁気記録媒体との判別が確実に行え、かつ、偽造や改ざん等の不正行為を防止できる磁気記録媒体と、この磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体は、基材と、該基材上に設けられた磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層、第２磁性層、第３磁性層が積層されたものであり、該第１磁性層に含有される磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であり、前記第２磁性層は磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、前記第３磁性層は磁性材料を前記第２磁性層の疎密パターンの半分あるいは２倍の密度からなるパターンで含有し、前記第２磁性層の残留磁化と前記第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内にあるような構成とした。
【００１５】
また、本発明の磁気記録媒体は、第２磁性層に含有される磁性材料および第３磁性層に含有される磁性材料の少なくとも一方の保磁力が、第１磁性層に含有される磁性材料の保磁力以上であるような構成とした。
【００１７】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基材上に、含有する磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であるような第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に第２磁性層用の磁性塗料を塗布し、磁性塗膜に所定方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し、次いで、第３磁性層用の磁性塗料を前記第２磁性層上に塗布し、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥することにより、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層を形成し、前記第２磁性層と第３磁性層の形成は、第２磁性層の残留磁化と第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内となるように行い、前記第１磁性層、前記第２磁性層および前記第３磁性層からなる磁気記録層を形成するような構成とした。
【００１８】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基材上に、含有する磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であるような第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に第２磁性層用の磁性塗料を塗布し、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し、次いで、第３磁性層用の磁性塗料を前記第２磁性層上に塗布し、磁性塗膜に所定方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層を形成し、前記第２磁性層と第３磁性層の形成は、第２磁性層の残留磁化と第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内となるように行い、前記第１磁性層、前記第２磁性層および前記第３磁性層からなる磁気記録層を形成するような構成とした。
【００１９】
上記のような本発明では、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンと、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの記録密度が異なり、これらの疎密パターンからなる固定情報を有する磁気記録層を磁気ヘッドで読み取るときの出力波形は、各固定情報が重畳したアナログ波形となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
【００２１】
図１は本発明の磁気記録媒体の実施形態の一例を示す斜視図であり、図２は図１のＡ−Ａ線矢視における部分拡大断面図である。図１および図２において、本発明の磁気記録媒体１は、基材２と、この基材２上に設けられた磁気記録層３を備えており、磁気記録層３は第１磁性層３ａと第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃとが積層されて構成されている。そして、磁気記録層３には、ストライプ状に記録領域４が設定されている。
【００２２】
本発明の磁気記録媒体１を構成する基材２は、基材として要求される耐熱性、強度、剛性等を考慮して、ＰＥＴ、ＰＥＴ−Ｇ、ＰＥＮ等のポリエステル、塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ乳酸等の樹脂、生分解性樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙、合成紙等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組み合わせた複合体により構成することができる。このような基材２の厚さは、１００μｍ〜１ｍｍ、好ましくは１５０〜２５０μｍ程度とすることができる。
【００２３】
上記の磁気記録層３を構成する第１磁性層３ａは、保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を含有する。この磁性材料の保磁力が３００Ｏｅ未満であると、第２磁性層あるいは第３磁性層の形成時に印加される配向磁界に対する耐性が不十分であり、６０００Ｏｅを超えると、磁気ヘッドによる安定した記録が難しくなり好ましくない。尚、磁気ヘッドによる記録が安定して行えるならば、保磁力が６０００Ｏｅを超える磁性材料を使用することは可能である。
【００２４】
第１磁性層３ａを構成する上記のような保磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料としては、例えば、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の磁性微粒子が挙げられる。
【００２５】
この第１磁性層３ａは、上記の磁性微粒子を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成することができる。第１磁性層３ａの厚さは、例えば、塗布方法により形成される場合、乾燥後の膜厚で１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度とすることができる。
【００２６】
また、上記の磁気記録層３を構成する第２磁性層３ｂは、磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、第３磁性層３ｃも磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、それぞれ固定情報を保持するものである。そして、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度と、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度は、相互に半分あるいは２倍となる関係にある。図３は、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度の半分である例を示す概略断面図である。また、図４は、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度の２倍である例を示す概略断面図である。
【００２７】
また、第２磁性層３ｂに含有される磁性材料と、第３磁性層３ｃに含有される磁性材料の少なくとも一方は、その保磁力が第１磁性層３ａに含有される磁性材料の保磁力と同等もしくは大きいものとすることができる。これにより、第１磁性層３ａに記録されている可変情報のみを変造目的等で読み取るために、第２磁性層３ｂおよび第３磁性層３ｃに記録された固定情報に対して交流消去を行った場合、第１磁性層３ａの磁気情報も消去されてしまい、読み取りは不可能となる。
【００２８】
このような第２磁性層３ｂや第３磁性層３ｃを構成する磁性材料としては、例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｆｅ等からなる磁性合金材料、パーマロイ、センダスト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｃｏ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のフェライト、γ―Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ被着γ―Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4等の鉄酸化物、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、ＣｒＯ2、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の保磁力が１〜１００００Ｏｅの範囲の磁性材料を挙げることができ、これらの磁性材料の中から１種を使用、または２種以上の磁性材料の組み合わせを適宜選択して使用することができる。
【００２９】
第２磁性層３ｂは、上記の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録を行った第１磁性層３ａ上にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し、所定のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。そして、第３磁性層３ｃは、上記の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、既に磁性材料の疎密パターンからなる固定情報をもつ第２磁性層３ｂ上にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。
【００３０】
また、第２磁性層３ｂを、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥して形成し、第３磁性層３ｃは、所定のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。
【００３１】
尚、配向処理に用いる配向装置としては、ソレノイド型の電磁石配向装置が好ましい。
【００３２】
このような第２磁性層３ｂおよび第３磁性層３ｃの厚さは、１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度であり、第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃとを合わせた厚さは、２〜１００μｍ、好ましくは６〜４０μｍ程度とすることができる。
【００３３】
このような構成である本発明の磁気記録媒体１では、磁気記録層３の記録領域４を磁気ヘッドで読み取る際の、第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃの着磁の状態、バイアス磁界の有無、または、その向きによって、得られる磁気出力レベルおよび波形が変化する。例えば、第１磁性層３ａが含有する磁性材料、第２磁性層３ｂが含有する磁性材料、および、第３磁性層３ｃが含有する磁性材料のうち、最も高保磁力の磁性材料を充分着磁することができる磁界強度で着磁して一様に磁化した後、バイアス磁界を印加しない通常の無バイアス読み取りを行うと、第２磁性層３ｂの疎密パターンから得られる出力波形と、第３磁性層３ｃから得られる出力波形とが合成されたアナログ波形が検出される。このアナログ波形は、通常の磁気記録媒体では表現できない出力波形である。
【００３４】
また、第１磁性層３ａに所望の磁気情報を記録した後に、無バイアス読み取りを行うと、第１磁性層３ａから得られる出力波形と、第２磁性層３ｂの疎密パターンから得られる出力波形および第３磁性層３ｃの疎密パターンから得られる出力波形と、が重畳されたアナログ波形が検出される。その後、第１磁性層３ａに同じ磁気情報をオーバーライトしても、第２磁性層３ｂから得られる固定情報と第３磁性層３ｃから得られる固定情報に対して完全に同じ位置に磁気情報を書き込むことができないので、得られるアナログ波形は、オーバーライト前のアナログ波形と異なるものとなる。したがって、本発明の磁気記録媒体から得られるアナログ波形の情報は可変であるが、不可逆であり、例えば、残度数データ等の記録に用いるには最適である。
【００３５】
本発明では、図３に示されるように、第２磁性層３ｂの疎密パターン密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターン密度の半分であるような場合、第３磁性層３ｃに高透磁率材料（シールド材料）を用いることにより、磁気記録媒体に対してシールド効果を付与することも可能である。
【００３６】
また、本発明では、第２磁性層３ｂの残留磁化と第３磁性層３ｃの残留磁化の比が０．５〜２の範囲内にあることが好ましい。残留磁化がこのような範囲内にあることにより、上述の第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃの着磁の状態、バイアス磁界の有無、または、その向きによる、磁気出力レベルおよび波形の変化が明確なものとなる。
【００３７】
さらに、本発明では、第２磁性層３ｂの磁性材料の密部分や第３磁性層３ｃの磁性材料の密部分に任意の可変磁気情報を記録することができ、また、磁気記録層３の記録領域４外の領域において、任意の可変磁気情報を記録することができる。
【００３８】
尚、上記の本発明の磁気記録媒体では、磁気記録層３が基材の一方の面の全面に形成された構成であるが、基材２の一部にストライプ状に磁気記録層３を形成した構成であってもよい。
また、本発明の磁気記録媒体は、第１磁性層の情報を消磁しないで用いることもできる。
【００３９】
本発明では、磁気記録媒体１の磁気記録層３上に、保護、隠蔽、装飾効果をもたせるための保護層、着色層や絵柄を設けてもよい。
【００４０】
保護層、着色層や絵柄はエチルセルロース、硝酸セルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単独あるいは共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーに、着色すべき色に応じて各種の顔料を添加し、必要に応じて磁気ヘッドのクリーニング効果をもたせるよう、酸化チタン、アルミナ粉末、マイクロシリカ等を添加し、さらに必要に応じて、可塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキを用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法、オフセット法等の塗布方法あるいは印刷方法により、所望部分に形成できる。
【００４１】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態について、図５を参照しながら説明する。
まず、基材２に第１磁性層３ａを形成し、この第１磁性層３ａに所望の磁気記録を行う（図５（Ａ））。これにより、第１磁性層３ａに磁化方向が相違する磁気パターンが形成される。この第１磁性層３ａの形成は、上述の保磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成することができる。樹脂あるいはインキビヒクルとしては、ブチラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂等が用いられ、必要に応じてニトリルゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマー等が添加される。また、耐熱性を考慮して、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン等のガラス転移温度（Ｔｇ）の高い樹脂、あるいは硬化反応によりＴｇが上昇する系を用いることができる。上記のような樹脂あるいはインキビヒクル中に磁性材料が分散されてなる磁性塗料中に、必要に応じて分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を適宜含有させてもよい。
【００４２】
次に、第２磁性層３ｂを形成する。まず、磁性材料を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散した磁性塗料を、所望の磁気記録が行われた第１磁性層３ａ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布する。その後、バイアス磁界を印加することなく乾燥することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層３ｂを形成する（図５（Ｂ））。未乾燥の磁性塗膜中では、第１磁性層３ａから発生する磁力線が密となる磁化方向の境界部位に磁性材料が移動して集まり、磁性塗膜中に磁性材料が密な部分が生じて、上記の疎密パターンが形成される。
【００４３】
磁性塗料に使用する樹脂あるいはインキビヒクルは、上述の第１磁性層３ａの形成で挙げたものを使用することができ、また、必要に応じて分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を磁性塗料に適宜含有させてもよい。
【００４４】
次いで、第３磁性層３ｃを形成する。ここでは、磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、磁性材料の疎密パターンからなる第２磁性層３ｂ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗膜３′ｃを形成し、次いで、バイアス磁界を一定方向に加えて磁気配向処理を施す（図５（Ｃ））。バイアス磁界の印加により、第１磁性層３ａから発生する磁力線によって磁性塗膜３′ｃ中に存在する磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致する部位に、磁性材料が移動して集まり、未乾燥の磁性塗膜３′ｃ中に磁性材料が密な部分が形成される。印加するバイアス磁界は１５０〜３０００Ｇの範囲で、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されないように、使用する磁性材料に応じて適宜設定することができる。
【００４５】
その後、磁性塗膜３′ｃを乾燥（上記のバイアス磁界を印加しながらでもよい）することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層３ｃを形成する（図５（Ｄ））。次に、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁性層３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層３ｂの固定情報と第３磁性層３ｃの固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１とする。この磁気記録媒体１は、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度の２倍となっている。
【００４６】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の実施形態について、図６を参照しながら説明する。
まず、基材２に第１磁性層３ａを形成し、この第１磁性層３ａに所望の磁気記録を行って磁化方向が相違する磁気パターンを設ける（図６（Ａ））。この第１磁性層３ａの形成は、上述の製造方法と同様に行うことができる。
【００４７】
次に、第２磁性層３ｂを形成する。まず、磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録が行われた第１磁性層３ａ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗膜３′ｂを形成し、次いで、バイアス磁界を一定方向に加えて磁気配向処理を施す（図６（Ｂ））。これにより、第１磁性層３ａから発生する磁力線によって磁性塗膜３′ｂ中に存在する磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致する部位に、磁性材料が移動して集まり、未乾燥の磁性塗膜３′ｂ中に磁性材料が密な部分が形成される。印加するバイアス磁界は１５０〜３０００Ｇの範囲で、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されないように、使用する磁性材料に応じて適宜設定することができる。
【００４８】
その後、磁性塗膜３′ｂを乾燥（上記のバイアス磁界を印加しながらでもよい）することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層３ｂを形成する（図６（Ｃ））。
【００４９】
次いで、第３磁性層３ｃを形成する。ここでは、磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、磁性材料の疎密パターンからなる第２磁性層３ｂ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して磁性塗膜を形成し、バイアス磁界を印加することなく乾燥することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層３ｃを形成する（図６（Ｄ））。未乾燥の磁性塗膜中では、第１磁性層３ａから発生する磁力線が密となる磁化方向の境界部位に磁性材料が移動して集まり、磁性塗膜中に磁性材料が密な部分が生じて疎密パターンが形成される。
【００５０】
次に、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁性層３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層３ｂの固定情報と第３磁性層３ｃの固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１とする。この磁気記録媒体１は、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度の半分となっている。
【００５１】
このように製造される本発明の磁気記録媒体１では、磁気記録層３の第２磁性層３ｂにおける固定情報、および、第３磁性層３ｃにおける固定情報は、未乾燥状態の磁性塗膜中を磁性材料が移動して形成された疎密パターンからなるので、強磁界が加わっても消去されることがない。そして、磁気ヘッドで読み取ったときの磁気出力波形は、第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃの着磁の状態、バイアス磁界の有無、または、その向きによって変化する。例えば、第２磁性層３ｂに含有された磁性材料と第３磁性層３ｃに含有された磁性材料とが一様に着磁された状態で、バイアス磁界を印加しない通常の無バイアス読み取りを行うと、第２磁性層３ｂの疎密パターンから得られる出力波形と、第３磁性層３ｃから得られる出力波形とが合成されたアナログ波形が検出される。
【００５２】
本発明では、上記の第２磁性層３ｂにおける固定情報、および、第３磁性層３ｃにおける固定情報は、第１磁性層３ａへの磁気記録によって磁気記録媒体個々に任意に設定することができるので、他の磁気記録媒体との判別が可能となる。
【００５３】
尚、基材としてポリエチレンテレフタレートフィルムのような樹脂フィルムを使用し、上述のような製造方法で基材上に第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層を順に積層して磁気記録層を設けることにより磁気テープを作製し、この磁気テープをカード基材等の全面、あるいは、一部に貼合して磁気記録媒体を製造してもよい。
【００５４】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
【００５５】
（実施例１）
まず、基材として、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有する第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布し乾燥して、厚み１０μｍの第１磁性層を形成した。
【００５６】
（第１磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝２０００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００５７】
次に、この第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。
【００５８】
次いで、この第１磁性層上に、下記の組成を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００５９】
（第２磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝５０００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００６０】
次に、上記の磁性塗膜に１２００Ｇのソレノイドによる直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚み５μｍの第２磁性層を形成した。この第２磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するものであった。
【００６１】
次いで、この第２磁性層上に、下記の組成を有する第３磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００６２】
（第３磁性層形成用の塗工液）
・γ−Ｆｅ2 Ｏ3（保磁力＝３００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００６３】
次に、上記の磁性塗膜を乾燥することにより厚みが４μｍの第３磁性層を形成した。この第３磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″を有するものであった。
【００６４】
これにより、第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成した。形成された磁気記録層は、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンの密度が、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの密度の半分のものであった。
【００６５】
上記のように磁気記録層を形成した基材を８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。
【００６６】
次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１５０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００６７】
この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″とが重畳したアナログ出力波形が得られた。
【００６８】
このことから、本発明の磁気記録媒体の第２磁性層の固定情報および第３磁性層の固定情報は、磁気的に消去できない磁気情報として利用できること、および、この固定情報の重畳したアナログ磁気出力は、通常の磁気記録媒体では表現できないものであることが確認された。
【００６９】
（実施例２）
実施例１と同様にして、第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成し、８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて、本発明の磁気記録媒体を得た。
【００７０】
次いで、上記の磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１５０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００７１】
次に、同一トラック上の第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで別の磁気記録ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″、および、磁気記録ｄとが重畳したアナログ出力波形Ａが得られた。
【００７２】
次に、再び同一トラック上の第１磁性層に上記と同じ条件で磁気記録ｄを行った。この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″、および、磁気記録ｄとが重畳したアナログ出力波形Ａ′が得られたが、これは上記のアナログ出力波形Ａとは異なるものであった。
【００７３】
このことから、本発明の磁気記録媒体から得られるアナログ波形の情報は可変であるが、不可逆であり、例えば、残度数データ等の記録に用いるには最適であることが確認された。
【００７４】
（実施例３）
まず、基材として、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有する第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布し乾燥して、厚み１０μｍの第１磁性層を形成した。
【００７５】
（第１磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝２０００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００７６】
次に、この第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。
【００７７】
次いで、この第１磁性層上に、下記の組成を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００７８】
（第２磁性層形成用の塗工液）
・γ−Ｆｅ2 Ｏ3（保磁力＝３００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００７９】
次に、上記の磁性塗膜を乾燥することにより厚みが５μｍの第２磁性層を形成した。この第２磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するものであった。
【００８０】
次いで、この第２磁性層上に、下記の組成を有する第３磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００８１】
（第３磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝５０００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００８２】
次に、上記の磁性塗膜に１２００Ｇのソレノイドによる直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚みが４μｍの第３磁性層を形成した。この第３磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″を有するものであった。
【００８３】
これにより、第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成した。形成された磁気記録層は、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンの密度が、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの密度の２倍のものであった。
【００８４】
上記のように磁気記録層を形成した基材を８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。
【００８５】
次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１５０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００８６】
この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″とが重畳したアナログ出力波形が得られた。
【００８７】
このことから、本発明の磁気記録媒体の第２磁性層の固定情報および第３磁性層の固定情報は、磁気的に消去できない磁気情報として利用できること、および、この固定情報の重畳したアナログ磁気出力は、通常の磁気記録媒体では表現できないものであることが確認された。
【００８８】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば基材に設けられた磁気記録層が第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層とをこの順に基材上に積層したものであり、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンと、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンは、一方の密度が他方の２倍であるため、これらの疎密パターンからなる固定情報を有する磁気記録層を磁気ヘッドで読み取って得られる磁気出力の波形は、各固定情報が重畳したアナログ波形となり、これにより、他の磁気記録媒体との判別が可能となり、磁気記録媒体の真偽判定が確実に行える。また、第１磁性層や、第２磁性層の密部位、第３磁性層の密部位に可変情報を記録することにより、この可変情報と上記の各固定情報が重畳したアナログ波形が出力波形として得られ、この場合の出力波形は、可変情報のオーバーライトを行うと再現不可能な不可逆的なものであり、残度数データ等の記録に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の実施形態の一例を示す斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線矢視における部分拡大断面図である。
【図３】本発明の磁気記録媒体の第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の磁気記録媒体の第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施形態の一例を示す工程図である。
【図６】本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施形態の他の例を示す工程図である。
【符号の説明】
１…磁気記録媒体
２…基材
３…磁気記録層
３ａ…第１磁性層
３ｂ…第２磁性層
３ｃ…第３磁性層
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体、特に偽造、変造が困難な磁気記録媒体と、その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基材の片面あるいは両面の全域またはストライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレジットカード、会員カード等のカード類、磁気ラベル等として幅広く使用されている。従来、このような磁気記録媒体は、磁気記録層に高い記録密度でディジタルデータを書込み、外部から簡単には記録情報を読み出せないようにしている。
【０００３】
しかし、磁気記録層の特性上、記録されたディジタルデータの書換え、消去が自在であるため、偽造、変造が可能であり、近年、大きな社会問題としてクローズアップされている。特に、現在は磁気ストライプの入手が容易であるため、類似のカードを製造することも可能であり、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の表面に磁気記録層が露出している場合、ディジタルデータを読み取ったり、磁気転写技術によりディジタルデータを他の磁気記録層に移すことが容易にできてしまうという問題もある。
【０００４】
このような磁気記録情報の可逆性という本質的な欠点に基づく問題を解決するために、磁気記録情報の書き換えを困難にする種々の方法が提案されている。例えば、ＢａフェライトやＳｒフェライト等の高保磁力磁性材料、高保磁力低キュリー点（高Hc低Tc）の磁性材料、ＭｎＢｉを含有する磁性材料等を用いることにより、磁気情報を消去されにくくした磁気記録媒体等が開発されている。
【０００５】
また、磁気的な書き換えを不可能とするために、磁性層に物理的変化を与えることにより磁気記録情報をもたせた磁気記録媒体も開発されており、例えば、印刷により磁気バーコードを設けた磁気記録媒体、磁性層にレーザー等によりマーキングを施した磁気記録媒体等が挙げられる。
【０００６】
さらに、基材上に比較的低い保磁力の磁性材料を含む第１磁性層を形成し、この第１磁性層に磁気記録を行った後、高保磁力の磁性材料を含む第２磁性層を塗布形成して積層した磁気記録媒体も開発されている。この磁気記録媒体では、第１磁性層の磁気記録パターンが第２磁性層にコピー（いわゆる磁気転写）されているので、偽造、変造を目的とした磁気ヘッドによる書き換えが困難である。
【０００７】
また、磁気記録情報として、ディジタルデータではなく、アナログデータを故意に用いることにより、不正使用を防止するシステムも提案されている（特開平８−３１５３５５号）。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような単に高保磁力磁性材料を用いた磁気記録媒体は、外部磁場の影響による磁気記録情報の消去を防ぐことは可能であるが、これは逆に磁気ヘッドで情報を書き込む際には磁化されにくく、書き込み装置に制限ができるという新たな問題を生じている。
【０００９】
また、高Hc低Tc磁性材料やＭｎＢｉ含有磁性材料を有する磁気記録媒体では、温度による保磁力の急激な低下を利用し、その条件下で磁気書き込みを行うことも可能であるが、常温において磁気記録情報の消去や書き込みができないため、装置が大掛かりになるという問題がある。
【００１０】
さらに、磁気バーコードのように磁性層に物理的変化を与えた磁気記録媒体では、磁気記録情報の消去と、新たな情報の書き込みが不可能であるとともに、情報の存在を容易に認識することができ、偽造等の防止上、不充分であった。
【００１１】
また、第２磁性層に磁気転写された磁気記録情報を備える磁気記録媒体は、非常に強い磁界が加わると、磁気転写により記録された第２磁性層の磁気記録が消去されてしまうという問題があり、さらに、高保磁力磁性材料を含む第２磁性層に磁気転写を効率良く行うことが困難なため、読み取りに必要な磁気出力が第２磁性層から得られないという問題もあった。
【００１２】
さらに、上記の特開平８−３１５３５５号に開示のシステムは、磁気記録媒体中にランダムに分散された磁気繊維から得られるアナログデータを用いて不正使用を防止するものであるが、この情報自体を変化させることはできないので、複雑な情報の運用が困難であり、また、磁気記録媒体の製造が簡便ではないという問題があった。
【００１３】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、磁気ヘッドによる読み取りにおいて出力レベルおよび波形が、通常のディジタルの磁気情報からは得られないような多様に変化可能な情報をもち、他の磁気記録媒体との判別が確実に行え、かつ、偽造や改ざん等の不正行為を防止できる磁気記録媒体と、この磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体は、基材と、該基材上に設けられた磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層、第２磁性層、第３磁性層が積層されたものであり、該第１磁性層に含有される磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であり、前記第２磁性層は磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、前記第３磁性層は磁性材料を前記第２磁性層の疎密パターンの半分あるいは２倍の密度からなるパターンで含有し、前記第２磁性層の残留磁化と前記第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内にあるような構成とした。
【００１５】
また、本発明の磁気記録媒体は、第２磁性層に含有される磁性材料および第３磁性層に含有される磁性材料の少なくとも一方の保磁力が、第１磁性層に含有される磁性材料の保磁力以上であるような構成とした。
【００１７】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基材上に、含有する磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であるような第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に第２磁性層用の磁性塗料を塗布し、磁性塗膜に所定方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し、次いで、第３磁性層用の磁性塗料を前記第２磁性層上に塗布し、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥することにより、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層を形成し、前記第２磁性層と第３磁性層の形成は、第２磁性層の残留磁化と第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内となるように行い、前記第１磁性層、前記第２磁性層および前記第３磁性層からなる磁気記録層を形成するような構成とした。
【００１８】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基材上に、含有する磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であるような第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に第２磁性層用の磁性塗料を塗布し、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し、次いで、第３磁性層用の磁性塗料を前記第２磁性層上に塗布し、磁性塗膜に所定方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層を形成し、前記第２磁性層と第３磁性層の形成は、第２磁性層の残留磁化と第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内となるように行い、前記第１磁性層、前記第２磁性層および前記第３磁性層からなる磁気記録層を形成するような構成とした。
【００１９】
上記のような本発明では、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンと、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの記録密度が異なり、これらの疎密パターンからなる固定情報を有する磁気記録層を磁気ヘッドで読み取るときの出力波形は、各固定情報が重畳したアナログ波形となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
【００２１】
図１は本発明の磁気記録媒体の実施形態の一例を示す斜視図であり、図２は図１のＡ−Ａ線矢視における部分拡大断面図である。図１および図２において、本発明の磁気記録媒体１は、基材２と、この基材２上に設けられた磁気記録層３を備えており、磁気記録層３は第１磁性層３ａと第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃとが積層されて構成されている。そして、磁気記録層３には、ストライプ状に記録領域４が設定されている。
【００２２】
本発明の磁気記録媒体１を構成する基材２は、基材として要求される耐熱性、強度、剛性等を考慮して、ＰＥＴ、ＰＥＴ−Ｇ、ＰＥＮ等のポリエステル、塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ乳酸等の樹脂、生分解性樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙、合成紙等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組み合わせた複合体により構成することができる。このような基材２の厚さは、１００μｍ〜１ｍｍ、好ましくは１５０〜２５０μｍ程度とすることができる。
【００２３】
上記の磁気記録層３を構成する第１磁性層３ａは、保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を含有する。この磁性材料の保磁力が３００Ｏｅ未満であると、第２磁性層あるいは第３磁性層の形成時に印加される配向磁界に対する耐性が不十分であり、６０００Ｏｅを超えると、磁気ヘッドによる安定した記録が難しくなり好ましくない。尚、磁気ヘッドによる記録が安定して行えるならば、保磁力が６０００Ｏｅを超える磁性材料を使用することは可能である。
【００２４】
第１磁性層３ａを構成する上記のような保磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料としては、例えば、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の磁性微粒子が挙げられる。
【００２５】
この第１磁性層３ａは、上記の磁性微粒子を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成することができる。第１磁性層３ａの厚さは、例えば、塗布方法により形成される場合、乾燥後の膜厚で１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度とすることができる。
【００２６】
また、上記の磁気記録層３を構成する第２磁性層３ｂは、磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、第３磁性層３ｃも磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、それぞれ固定情報を保持するものである。そして、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度と、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度は、相互に半分あるいは２倍となる関係にある。図３は、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度の半分である例を示す概略断面図である。また、図４は、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度の２倍である例を示す概略断面図である。
【００２７】
また、第２磁性層３ｂに含有される磁性材料と、第３磁性層３ｃに含有される磁性材料の少なくとも一方は、その保磁力が第１磁性層３ａに含有される磁性材料の保磁力と同等もしくは大きいものとすることができる。これにより、第１磁性層３ａに記録されている可変情報のみを変造目的等で読み取るために、第２磁性層３ｂおよび第３磁性層３ｃに記録された固定情報に対して交流消去を行った場合、第１磁性層３ａの磁気情報も消去されてしまい、読み取りは不可能となる。
【００２８】
このような第２磁性層３ｂや第３磁性層３ｃを構成する磁性材料としては、例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｆｅ等からなる磁性合金材料、パーマロイ、センダスト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｃｏ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のフェライト、γ―Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ被着γ―Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4等の鉄酸化物、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、ＣｒＯ2、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の保磁力が１〜１００００Ｏｅの範囲の磁性材料を挙げることができ、これらの磁性材料の中から１種を使用、または２種以上の磁性材料の組み合わせを適宜選択して使用することができる。
【００２９】
第２磁性層３ｂは、上記の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録を行った第１磁性層３ａ上にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し、所定のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。そして、第３磁性層３ｃは、上記の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、既に磁性材料の疎密パターンからなる固定情報をもつ第２磁性層３ｂ上にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。
【００３０】
また、第２磁性層３ｂを、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥して形成し、第３磁性層３ｃは、所定のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。
【００３１】
尚、配向処理に用いる配向装置としては、ソレノイド型の電磁石配向装置が好ましい。
【００３２】
このような第２磁性層３ｂおよび第３磁性層３ｃの厚さは、１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度であり、第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃとを合わせた厚さは、２〜１００μｍ、好ましくは６〜４０μｍ程度とすることができる。
【００３３】
このような構成である本発明の磁気記録媒体１では、磁気記録層３の記録領域４を磁気ヘッドで読み取る際の、第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃの着磁の状態、バイアス磁界の有無、または、その向きによって、得られる磁気出力レベルおよび波形が変化する。例えば、第１磁性層３ａが含有する磁性材料、第２磁性層３ｂが含有する磁性材料、および、第３磁性層３ｃが含有する磁性材料のうち、最も高保磁力の磁性材料を充分着磁することができる磁界強度で着磁して一様に磁化した後、バイアス磁界を印加しない通常の無バイアス読み取りを行うと、第２磁性層３ｂの疎密パターンから得られる出力波形と、第３磁性層３ｃから得られる出力波形とが合成されたアナログ波形が検出される。このアナログ波形は、通常の磁気記録媒体では表現できない出力波形である。
【００３４】
また、第１磁性層３ａに所望の磁気情報を記録した後に、無バイアス読み取りを行うと、第１磁性層３ａから得られる出力波形と、第２磁性層３ｂの疎密パターンから得られる出力波形および第３磁性層３ｃの疎密パターンから得られる出力波形と、が重畳されたアナログ波形が検出される。その後、第１磁性層３ａに同じ磁気情報をオーバーライトしても、第２磁性層３ｂから得られる固定情報と第３磁性層３ｃから得られる固定情報に対して完全に同じ位置に磁気情報を書き込むことができないので、得られるアナログ波形は、オーバーライト前のアナログ波形と異なるものとなる。したがって、本発明の磁気記録媒体から得られるアナログ波形の情報は可変であるが、不可逆であり、例えば、残度数データ等の記録に用いるには最適である。
【００３５】
本発明では、図３に示されるように、第２磁性層３ｂの疎密パターン密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターン密度の半分であるような場合、第３磁性層３ｃに高透磁率材料（シールド材料）を用いることにより、磁気記録媒体に対してシールド効果を付与することも可能である。
【００３６】
また、本発明では、第２磁性層３ｂの残留磁化と第３磁性層３ｃの残留磁化の比が０．５〜２の範囲内にあることが好ましい。残留磁化がこのような範囲内にあることにより、上述の第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃの着磁の状態、バイアス磁界の有無、または、その向きによる、磁気出力レベルおよび波形の変化が明確なものとなる。
【００３７】
さらに、本発明では、第２磁性層３ｂの磁性材料の密部分や第３磁性層３ｃの磁性材料の密部分に任意の可変磁気情報を記録することができ、また、磁気記録層３の記録領域４外の領域において、任意の可変磁気情報を記録することができる。
【００３８】
尚、上記の本発明の磁気記録媒体では、磁気記録層３が基材の一方の面の全面に形成された構成であるが、基材２の一部にストライプ状に磁気記録層３を形成した構成であってもよい。
また、本発明の磁気記録媒体は、第１磁性層の情報を消磁しないで用いることもできる。
【００３９】
本発明では、磁気記録媒体１の磁気記録層３上に、保護、隠蔽、装飾効果をもたせるための保護層、着色層や絵柄を設けてもよい。
【００４０】
保護層、着色層や絵柄はエチルセルロース、硝酸セルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単独あるいは共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーに、着色すべき色に応じて各種の顔料を添加し、必要に応じて磁気ヘッドのクリーニング効果をもたせるよう、酸化チタン、アルミナ粉末、マイクロシリカ等を添加し、さらに必要に応じて、可塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキを用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法、オフセット法等の塗布方法あるいは印刷方法により、所望部分に形成できる。
【００４１】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態について、図５を参照しながら説明する。
まず、基材２に第１磁性層３ａを形成し、この第１磁性層３ａに所望の磁気記録を行う（図５（Ａ））。これにより、第１磁性層３ａに磁化方向が相違する磁気パターンが形成される。この第１磁性層３ａの形成は、上述の保磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成することができる。樹脂あるいはインキビヒクルとしては、ブチラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂等が用いられ、必要に応じてニトリルゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマー等が添加される。また、耐熱性を考慮して、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン等のガラス転移温度（Ｔｇ）の高い樹脂、あるいは硬化反応によりＴｇが上昇する系を用いることができる。上記のような樹脂あるいはインキビヒクル中に磁性材料が分散されてなる磁性塗料中に、必要に応じて分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を適宜含有させてもよい。
【００４２】
次に、第２磁性層３ｂを形成する。まず、磁性材料を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散した磁性塗料を、所望の磁気記録が行われた第１磁性層３ａ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布する。その後、バイアス磁界を印加することなく乾燥することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層３ｂを形成する（図５（Ｂ））。未乾燥の磁性塗膜中では、第１磁性層３ａから発生する磁力線が密となる磁化方向の境界部位に磁性材料が移動して集まり、磁性塗膜中に磁性材料が密な部分が生じて、上記の疎密パターンが形成される。
【００４３】
磁性塗料に使用する樹脂あるいはインキビヒクルは、上述の第１磁性層３ａの形成で挙げたものを使用することができ、また、必要に応じて分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を磁性塗料に適宜含有させてもよい。
【００４４】
次いで、第３磁性層３ｃを形成する。ここでは、磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、磁性材料の疎密パターンからなる第２磁性層３ｂ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗膜３′ｃを形成し、次いで、バイアス磁界を一定方向に加えて磁気配向処理を施す（図５（Ｃ））。バイアス磁界の印加により、第１磁性層３ａから発生する磁力線によって磁性塗膜３′ｃ中に存在する磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致する部位に、磁性材料が移動して集まり、未乾燥の磁性塗膜３′ｃ中に磁性材料が密な部分が形成される。印加するバイアス磁界は１５０〜３０００Ｇの範囲で、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されないように、使用する磁性材料に応じて適宜設定することができる。
【００４５】
その後、磁性塗膜３′ｃを乾燥（上記のバイアス磁界を印加しながらでもよい）することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層３ｃを形成する（図５（Ｄ））。次に、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁性層３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層３ｂの固定情報と第３磁性層３ｃの固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１とする。この磁気記録媒体１は、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度の２倍となっている。
【００４６】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の実施形態について、図６を参照しながら説明する。
まず、基材２に第１磁性層３ａを形成し、この第１磁性層３ａに所望の磁気記録を行って磁化方向が相違する磁気パターンを設ける（図６（Ａ））。この第１磁性層３ａの形成は、上述の製造方法と同様に行うことができる。
【００４７】
次に、第２磁性層３ｂを形成する。まず、磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録が行われた第１磁性層３ａ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗膜３′ｂを形成し、次いで、バイアス磁界を一定方向に加えて磁気配向処理を施す（図６（Ｂ））。これにより、第１磁性層３ａから発生する磁力線によって磁性塗膜３′ｂ中に存在する磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致する部位に、磁性材料が移動して集まり、未乾燥の磁性塗膜３′ｂ中に磁性材料が密な部分が形成される。印加するバイアス磁界は１５０〜３０００Ｇの範囲で、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されないように、使用する磁性材料に応じて適宜設定することができる。
【００４８】
その後、磁性塗膜３′ｂを乾燥（上記のバイアス磁界を印加しながらでもよい）することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層３ｂを形成する（図６（Ｃ））。
【００４９】
次いで、第３磁性層３ｃを形成する。ここでは、磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、磁性材料の疎密パターンからなる第２磁性層３ｂ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して磁性塗膜を形成し、バイアス磁界を印加することなく乾燥することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層３ｃを形成する（図６（Ｄ））。未乾燥の磁性塗膜中では、第１磁性層３ａから発生する磁力線が密となる磁化方向の境界部位に磁性材料が移動して集まり、磁性塗膜中に磁性材料が密な部分が生じて疎密パターンが形成される。
【００５０】
次に、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁性層３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層３ｂの固定情報と第３磁性層３ｃの固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１とする。この磁気記録媒体１は、第２磁性層３ｂの疎密パターンの密度が、第３磁性層３ｃの疎密パターンの密度の半分となっている。
【００５１】
このように製造される本発明の磁気記録媒体１では、磁気記録層３の第２磁性層３ｂにおける固定情報、および、第３磁性層３ｃにおける固定情報は、未乾燥状態の磁性塗膜中を磁性材料が移動して形成された疎密パターンからなるので、強磁界が加わっても消去されることがない。そして、磁気ヘッドで読み取ったときの磁気出力波形は、第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃの着磁の状態、バイアス磁界の有無、または、その向きによって変化する。例えば、第２磁性層３ｂに含有された磁性材料と第３磁性層３ｃに含有された磁性材料とが一様に着磁された状態で、バイアス磁界を印加しない通常の無バイアス読み取りを行うと、第２磁性層３ｂの疎密パターンから得られる出力波形と、第３磁性層３ｃから得られる出力波形とが合成されたアナログ波形が検出される。
【００５２】
本発明では、上記の第２磁性層３ｂにおける固定情報、および、第３磁性層３ｃにおける固定情報は、第１磁性層３ａへの磁気記録によって磁気記録媒体個々に任意に設定することができるので、他の磁気記録媒体との判別が可能となる。
【００５３】
尚、基材としてポリエチレンテレフタレートフィルムのような樹脂フィルムを使用し、上述のような製造方法で基材上に第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層を順に積層して磁気記録層を設けることにより磁気テープを作製し、この磁気テープをカード基材等の全面、あるいは、一部に貼合して磁気記録媒体を製造してもよい。
【００５４】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
【００５５】
（実施例１）
まず、基材として、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有する第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布し乾燥して、厚み１０μｍの第１磁性層を形成した。
【００５６】
（第１磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝２０００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００５７】
次に、この第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。
【００５８】
次いで、この第１磁性層上に、下記の組成を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００５９】
（第２磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝５０００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００６０】
次に、上記の磁性塗膜に１２００Ｇのソレノイドによる直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚み５μｍの第２磁性層を形成した。この第２磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するものであった。
【００６１】
次いで、この第２磁性層上に、下記の組成を有する第３磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００６２】
（第３磁性層形成用の塗工液）
・γ−Ｆｅ2 Ｏ3（保磁力＝３００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００６３】
次に、上記の磁性塗膜を乾燥することにより厚みが４μｍの第３磁性層を形成した。この第３磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″を有するものであった。
【００６４】
これにより、第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成した。形成された磁気記録層は、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンの密度が、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの密度の半分のものであった。
【００６５】
上記のように磁気記録層を形成した基材を８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。
【００６６】
次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１５０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００６７】
この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″とが重畳したアナログ出力波形が得られた。
【００６８】
このことから、本発明の磁気記録媒体の第２磁性層の固定情報および第３磁性層の固定情報は、磁気的に消去できない磁気情報として利用できること、および、この固定情報の重畳したアナログ磁気出力は、通常の磁気記録媒体では表現できないものであることが確認された。
【００６９】
（実施例２）
実施例１と同様にして、第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成し、８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて、本発明の磁気記録媒体を得た。
【００７０】
次いで、上記の磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１５０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００７１】
次に、同一トラック上の第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで別の磁気記録ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″、および、磁気記録ｄとが重畳したアナログ出力波形Ａが得られた。
【００７２】
次に、再び同一トラック上の第１磁性層に上記と同じ条件で磁気記録ｄを行った。この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″、および、磁気記録ｄとが重畳したアナログ出力波形Ａ′が得られたが、これは上記のアナログ出力波形Ａとは異なるものであった。
【００７３】
このことから、本発明の磁気記録媒体から得られるアナログ波形の情報は可変であるが、不可逆であり、例えば、残度数データ等の記録に用いるには最適であることが確認された。
【００７４】
（実施例３）
まず、基材として、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有する第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布し乾燥して、厚み１０μｍの第１磁性層を形成した。
【００７５】
（第１磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝２０００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００７６】
次に、この第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。
【００７７】
次いで、この第１磁性層上に、下記の組成を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００７８】
（第２磁性層形成用の塗工液）
・γ−Ｆｅ2 Ｏ3（保磁力＝３００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００７９】
次に、上記の磁性塗膜を乾燥することにより厚みが５μｍの第２磁性層を形成した。この第２磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するものであった。
【００８０】
次いで、この第２磁性層上に、下記の組成を有する第３磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００８１】
（第３磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝５０００Ｏｅ） … ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部
・ウレタン樹脂 … １０重量部
・メチルエチルケトン … ５０重量部
・トルエン … ５０重量部
・メチルイソブチルケトン … ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部
【００８２】
次に、上記の磁性塗膜に１２００Ｇのソレノイドによる直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚みが４μｍの第３磁性層を形成した。この第３磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″を有するものであった。
【００８３】
これにより、第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成した。形成された磁気記録層は、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンの密度が、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの密度の２倍のものであった。
【００８４】
上記のように磁気記録層を形成した基材を８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。
【００８５】
次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１５０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００８６】
この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″とが重畳したアナログ出力波形が得られた。
【００８７】
このことから、本発明の磁気記録媒体の第２磁性層の固定情報および第３磁性層の固定情報は、磁気的に消去できない磁気情報として利用できること、および、この固定情報の重畳したアナログ磁気出力は、通常の磁気記録媒体では表現できないものであることが確認された。
【００８８】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば基材に設けられた磁気記録層が第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層とをこの順に基材上に積層したものであり、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンと、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンは、一方の密度が他方の２倍であるため、これらの疎密パターンからなる固定情報を有する磁気記録層を磁気ヘッドで読み取って得られる磁気出力の波形は、各固定情報が重畳したアナログ波形となり、これにより、他の磁気記録媒体との判別が可能となり、磁気記録媒体の真偽判定が確実に行える。また、第１磁性層や、第２磁性層の密部位、第３磁性層の密部位に可変情報を記録することにより、この可変情報と上記の各固定情報が重畳したアナログ波形が出力波形として得られ、この場合の出力波形は、可変情報のオーバーライトを行うと再現不可能な不可逆的なものであり、残度数データ等の記録に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の実施形態の一例を示す斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線矢視における部分拡大断面図である。
【図３】本発明の磁気記録媒体の第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の磁気記録媒体の第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の疎密パターンの他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施形態の一例を示す工程図である。
【図６】本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施形態の他の例を示す工程図である。
【符号の説明】
１…磁気記録媒体
２…基材
３…磁気記録層
３ａ…第１磁性層
３ｂ…第２磁性層
３ｃ…第３磁性層
Claims (4)
- 基材と、該基材上に設けられた磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層、第２磁性層、第３磁性層が積層されたものであり、該第１磁性層に含有される磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であり、前記第２磁性層は磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、前記第３磁性層は磁性材料を前記第２磁性層の疎密パターンの半分あるいは２倍の密度からなるパターンで含有し、前記第２磁性層の残留磁化と前記第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内にあることを特徴とする磁気記録媒体。
- 第２磁性層に含有される磁性材料および第３磁性層に含有される磁性材料の少なくとも一方の保磁力は、第１磁性層に含有される磁性材料の保磁力以上であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
- 基材上に、含有する磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であるような第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に第２磁性層用の磁性塗料を塗布し、磁性塗膜に所定方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し、次いで、第３磁性層用の磁性塗料を前記第２磁性層上に塗布し、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥することにより、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層を形成し、前記第２磁性層と第３磁性層の形成は、第２磁性層の残留磁化と第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内となるように行い、前記第１磁性層、前記第２磁性層および前記第３磁性層からなる磁気記録層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 基材上に、含有する磁性材料の保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲内であるような第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に第２磁性層用の磁性塗料を塗布し、磁気配向処理を施すことなく磁性塗膜を乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し、次いで、第３磁性層用の磁性塗料を前記第２磁性層上に塗布し、磁性塗膜に所定方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層を形成し、前記第２磁性層と第３磁性層の形成は、第２磁性層の残留磁化と第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内となるように行い、前記第１磁性層、前記第２磁性層および前記第３磁性層からなる磁気記録層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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