JP2000268345A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気ヘッドによる読み取り可能な所望の固定
情報をもつとともに、この固定情報に高出力部分と低出
力部分とからなるパターンによるバーコード状の情報を
付加することができる磁気記録媒体と、この磁気記録媒
体の製造方法を提供する。 【解決手段】 磁気記録媒体を、第１磁性層と、所定方
向に沿って磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、こ
の疎密パターンは磁性材料の含有密度が異なる少なくと
も２種の密部分を有する第２磁性層とが、この順に基材
上に積層された磁気記録層を有するものとし、このよう
な磁気記録媒体は、基材上に第１磁性層を形成し、この
第１磁性層に所定方向に沿って所望の磁気記録を行った
後、第１磁性層上に磁性塗料を塗布して形成した磁性塗
膜に、上記の所定方向に沿ってバイアス磁界を間欠的に
印加して磁気配向処理を施し、その後、前記磁性塗膜を
乾燥して、磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を
有する第２磁性層を形成し、第１磁性層および前記第２
磁性層からなる磁気記録層を形成して製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体、特
に偽造、変造が困難な磁気記録媒体と、その製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】基材の片面あるいは両面の全域またはス
トライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、
例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、
車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の
金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレ
ジットカード、会員カード等のカード類、磁気ラベル等
として幅広く使用されている。従来、このような磁気記
録媒体は、磁気記録層に高い記録密度で情報を書込み、
外部から簡単には記録情報を読み出せないようにしてい
る。

【０００３】しかし、磁気記録層の特性上、記録された
情報の書換え、消去が自在であるため、偽造、変造が可
能であり、近年、大きな社会問題としてクローズアップ
されている。特に、現在は磁気ストライプの入手が容易
であるため、類似のカードを製造することも可能であ
り、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の表面
に磁気記録層が露出している場合、磁気記録情報を読み
取ったり、磁気転写技術により磁気記録情報を他の磁気
記録層に移すことが容易にできてしまうという問題もあ
る。

【０００４】このような磁気記録情報の可逆性という本
質的な欠点に基づく問題を解決するために、磁気記録情
報の書き換えを困難にする種々の方法が提案されてい
る。例えば、ＢａフェライトやＳｒフェライト等の高保
磁力磁性材料、高保磁力低キュリー点（高Hc低Tc）の磁
性材料、ＭｎＢｉを含有する磁性材料等を用いることに
より、磁気情報を消去されにくくした磁気記録媒体等が
開発されている。

【０００５】また、磁気的な書き換えが不可能となるよ
うに、磁性層に物理的変化を与えることにより磁気記録
情報をもたせた磁気記録媒体も開発されている。例え
ば、印刷により磁気バーコードを設けた磁気記録媒体、
磁性層にレーザー等によりマーキングを施した磁気記録
媒体等が挙げられる。

【０００６】さらに、基材上に比較的低い保磁力の磁性
材料を含む第１磁性層を形成し、この第１磁性層に磁気
記録を行った後、高保磁力の磁性材料を含む第２磁性層
を塗布形成して積層した磁気記録媒体も開発されてい
る。この磁気記録媒体では、第１磁性層の磁気記録パタ
ーンが第２磁性層にコピー（磁気転写）されているの
で、偽造、変造を目的とした磁気ヘッドによる書き換え
が困難である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような単に高保磁力磁性材料を用いた磁気記録媒体は、
外部磁場の影響による磁気記録情報の消去を防ぐことは
可能であるが、これは逆に磁気ヘッドで情報を書き込む
際には磁化されにくく、書き込み装置に制限ができると
いう新たな問題を生じている。

【０００８】また、高Hc低Tc磁性材料やＭｎＢｉ含有磁
性材料を有する磁気記録媒体では、温度による保磁力の
急激な低下を利用し、その条件下で磁気書き込みを行う
ことも可能であるが、常温において磁気記録情報の消去
や書き込みができないため、装置が大掛かりになるとい
う問題がある。さらに、磁気バーコードのように磁性層
に物理的変化を与えた磁気記録媒体では、磁気記録情報
の消去と、新たな情報の書き込みが不可能である。

【０００９】また、第２磁性層に磁気転写された磁気記
録情報を備える磁気記録媒体は、非常に強い磁界が加わ
ると、磁気転写による第２磁性層の磁気記録が消去され
てしまうという問題があり、さらに、高保磁力磁性材料
を含む第２磁性層に磁気転写を効率良く行うことが困難
なため、読み取りに必要な磁気出力が第２磁性層から得
られないという問題もあった。

【００１０】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、磁気ヘッドにより読み取り可能な所望の
固定情報をもつとともに、この固定情報に高出力部分と
低出力部分とからなるパターンによるバーコード状の情
報を付加することができる磁気記録媒体と、この磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の磁気記録媒体は、基材と、該基材上
に磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側から順に
第１磁性層と第２磁性層とが積層されたものであり、該
第２磁性層は所定方向に沿って磁性材料を所定の疎密パ
ターンで含有し、該疎密パターンは磁性材料の含有密度
が異なる少なくとも２種の密部分を有するような構成と
した。

【００１２】また、本発明の磁気記録媒体は、基材と、
該基材上に磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側
から順に第１磁性層と第２磁性層とが積層されたもので
あり、該第２磁性層は磁性材料を所定の疎密パターンで
含有する部位が所望の間隔で所定方向に沿って配列して
いるような構成とした。

【００１３】さらに、本発明の磁気記録媒体は、前記疎
密パターンにおいて、磁性材料の密部分の間隔が２種以
上存在するような構成、第１磁性層と第２磁性層との間
に磁気シールド層を備えるような構成とした。

【００１４】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基材
上に第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所定方向に沿
って所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に磁
性塗料を塗布し、該磁性塗膜に前記所定方向に沿ってバ
イアス磁界を間欠的に印加して磁気配向処理を施した
後、前記磁性塗膜を乾燥して、前記第１磁性層の磁気記
録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる
固定情報を有する第２磁性層を形成して、前記第１磁性
層および前記第２磁性層からなる磁気記録層を形成する
ような構成とした。

【００１５】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、基材上に第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所定
方向に沿って間欠的に所望の磁気記録を行った後、前記
第１磁性層上に磁性塗料を塗布し、該磁性塗膜に前記所
定方向に沿ってバイアス磁界を印加して磁気配向処理を
施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後、前記
磁性塗膜を乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パター
ンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報
を有する第２磁性層を形成して、前記第１磁性層および
前記第２磁性層からなる磁気記録層を形成するような構
成とした。

【００１６】さらに、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、前記第１磁性層への磁気記録において、書き込み密
度を変化させるような構成、前記第１磁性層上に磁気シ
ールド層を形成した後、前記第２磁性層を形成するよう
な構成とした。

【００１７】上記のような本発明では、磁性材料の疎密
パターンからなる固定情報が第２磁性層に記録され、こ
の固定情報は疎密パターンによるディジタルデータに加
え、疎密パターンの密部分における磁性材料の含有密度
の違いによるコード化、あるいは、複数の疎密パターン
部位によるコード化が可能であり、バーコード状の情報
付加ができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しながら説明する。磁気記録媒体 図１は本発明の磁気記録媒体の一実施形態を説明するた
めにカード形状の磁気記録媒体の斜視図であり、図２は
図１のＡ−Ａ断面矢視図である。

【００１９】図１および図２において、本発明の磁気記
録媒体１は、基材２と、この基材２の一方の面に設けら
れた磁気記録層３を備えており、磁気記録層３は第１磁
性層３ａと第２磁性層３ｂとが積層されて構成されてい
る。磁気記録層３には、磁気ヘッドによる読み取り方向
（図１の矢印ａ方向）に沿ってストライプ状に固定情報
領域４が設定されている。そして、第２磁性層３ｂは、
上記の固定情報領域４に磁性材料の疎密パターンからな
る固定情報を有するものである。

【００２０】本発明の磁気記録媒体１を構成する基材２
は、基材として要求される耐熱性、強度、剛性等を考慮
して、ＰＥＴ、ＰＥＴ−Ｇ、ＰＥＮ等のポリエステル、
塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、ポリ乳酸等の樹脂、生分解性
樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙、合成紙
等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組み
合わせた複合体により構成することができる。このよう
な基材２の厚さは、１００μｍ〜１ｍｍ、好ましくは１
５０〜２５０μｍ程度とすることができる。

【００２１】上記の磁気記録層３を構成する第１磁性層
３ａは、保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁
性材料を含有する。この磁性材料の保磁力が３００Ｏｅ
未満であると、外部磁界に対する耐性が不十分であり、
６０００Ｏｅを超えると、磁気ヘッドによる安定した記
録が難しくなり好ましくない。尚、磁気ヘッドによる記
録が安定して行えるならば、６０００Ｏｅを超える磁性
材料を用いることもできる。

【００２２】第１磁性層３ａを構成する上記のような保
磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料として
は、例えば、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ
₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、ＣｒＯ₂ 、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−
Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｂａフェライト、Ｓｒ
フェライト等の磁性微粒子が挙げられる。

【００２３】この第１磁性層３ａは、上記の磁性微粒子
を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる
磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等
の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形
成することができる。また、上記の磁性材料を用いて、
真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法等により第１
磁性層３ａを形成することもできる。

【００２４】また、第１磁性層３ａの厚さは、塗布方法
により形成される場合、乾燥後の膜厚で１〜５０μｍ、
好ましくは３〜２０μｍ程度である。この第１磁性層３
ａには、第２磁性層３ｂの形成前に、矢印ａ方向に沿っ
て所望の磁気情報が記録される。

【００２５】上記の磁気記録層３を構成する第２磁性層
３ｂに含有される磁性材料としては、例えば、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｆｅ等からなる磁性合金材料、パーマロイ、センダ
スト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｃｏ−Ｚｎフェライト、
Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のフェライト、γ−Ｆｅ₂ Ｏ
₃ 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 等の鉄酸化
物、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ
−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、ＣｒＯ₂ 、Ｂａフェ
ライト、Ｓｒフェライト等の保磁力が１〜１００００Ｏ
ｅの範囲の磁性材料を挙げることができるが、保磁力１
００００Ｏｅを超える磁性材料を用いることもできる。

【００２６】この第２磁性層３ｂは、上記の磁性材料が
適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる
磁性塗料を、所望の磁気記録を行った第１磁性層３ａ上
にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗
布方法に従って塗布し、磁性塗膜に矢印ａ方向に沿って
バイアス磁界を間欠的に印加して磁気配向処理を施した
後、磁性塗膜を乾燥することにより形成することができ
る。この第２磁性層３ｂの厚さは、乾燥後の膜厚で１〜
５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度である。尚、配
向処理には磁気ヘッドを用いることが好ましい。

【００２７】このような第２磁性層３ｂは、上記の固定
情報領域４において、矢印ａ方向に沿って磁性材料を所
定の疎密パターンで含有する。この疎密パターンは、磁
性材料の含有密度が異なる２種の密部分を有するもので
ある。図３は、このような疎密パターンの一例を示す図
である。図３において、疎密パターンの密部分は、磁性
材料の含有密度が高い密部分５ａと、磁性材料の含有密
度が低い密部分５ｂとから構成され、各密部分は疎部分
６を介してそれぞれ所定の数連続して存在するようなパ
ターンで配列している。この磁性材料の含有密度が高い
密部分５ａが連続する部位は、上述の間欠的な磁気配向
処理において、バイアス磁界が印加された部位に相当す
る。尚、図示では、密部分５ａの形成密度は、密部分５
ｂの半分となっている。

【００２８】このような構成である本発明の磁気記録媒
体１では、磁気記録層３の固定情報領域４上を矢印ａ方
向に磁気ヘッドで再生すると、図４（Ａ）に示すよう
に、再生出力の高い部分と低い部分とが交互に現れるよ
うな出力波形が得られる。図４（Ｂ）は、図４（Ａ）の
出力波形の一部を拡大したものであり、磁性材料の含有
密度が高い密部分５ａが連続する部位で出力が高く、磁
性材料の含有密度が低い密部分５ｂが連続する部位で出
力が低くなっている。本発明では、第２磁性層の形成時
のバイアス磁界の間欠印加を調整することにより、上記
の出力波形において、再生出力の高い部分の長さと低い
部分の長さによるコード化が可能である。これにより、
この固定情報は、疎密パターンによるディジタルデータ
に加え、バーコード状の情報付加が可能となる。しか
も、上記の第２磁性層３ｂにおける固定情報は、第１磁
性層３ａへの磁気記録によって、あるいは、バイアス磁
界の間欠印加の制御によって、磁気記録媒体個々に任意
に設定することができる。尚、上記の本発明の磁気記録
媒体１では、基材２の全面に磁気記録層３が形成された
構成となっているが、一部にストライプ状に磁気記録層
３を形成した構成であってもよい。

【００２９】また、上記の本発明の磁気記録媒体１の他
の態様として、以下のものが可能である。上記の磁気記
録媒体１の例では、固定情報領域４内で疎密パターンが
連続しているが、これに限定されるものではなく、図５
に示されるように、固定情報領域４内に疎密パターンが
存在しない部位７（出力が得られない部位）があっても
よい。さらに、上記の磁気記録媒体１の例では、磁性材
料の含有密度が高い密部分５ａが連続する部位、磁性材
料の含有密度が低い密部分５ｂが連続する部位におい
て、それぞれ記録密度が一定であるが、図６に示される
ように、記録密度に変化がある（磁性材料の密部分の間
隔が２種以上存在する）ような態様でもよい。このよう
な態様は、いずれも、後述する本発明の製造方法におい
て、第１磁性層３ａへの磁気記録の有無、記録密度の変
化により可能となる。

【００３０】また、本発明の磁気記録媒体は、上記の第
１磁性層３ａと第２磁性層３ｂとの間に磁気シールド層
が設けられたものでもよい。この磁気シールド層は、磁
性材料として、センダストやパーマロイ等の高透磁率の
磁性材料を用いて、上述の塗布方法、真空成膜方法等に
より形成することができる。磁気シールド層の厚みは、
塗布方法による場合、３〜２０μｍ程度とすることがで
きる。

【００３１】このように磁気シールド層を設けると、磁
性材料の疎密パターンにおいて、上述の磁性材料の含有
密度が低い密部分５ｂが連続する部位は存在せず、磁性
材料の含有密度が高い密部分５ａが連続する部位のみが
存在する。そして、図７に示されるように、磁気ヘッド
による再生出力において、出力が得られない部位が現れ
る。これは、第２磁性層３ｂの形成時にバイアス磁界が
印加されない部位では、磁気シールド層の存在により第
１磁性層３ａの磁化の影響が第２磁性層３ｂに及ばず、
磁性材料の含有密度が低い密部分５ｂが形成されないた
めである。

【００３２】また、本発明では、磁気記録媒体１の磁気
記録層３上に、保護、隠蔽、装飾効果をもたせるための
保護層、着色層や絵柄を設けてもよい。保護層、着色層
や絵柄はエチルセルロース、硝酸セルロース、エチルヒ
ドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロ
ピオネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポ
リスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹
脂、あるいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メ
チル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチ
ル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタ
クリル樹脂の単独あるいは共重合樹脂、ロジン、ロジン
変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合
ロジン等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂
等のバインダーに、着色すべき色に応じて各種の顔料を
添加し、必要に応じて磁気ヘッドのクリーニング効果を
もたせるよう、酸化チタン、アルミナ粉末、マイクロシ
リカ等を添加し、さらに必要に応じて、可塑剤、安定
剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助剤、硬化
剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるいは希釈剤
で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキを用い
て、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法、オ
フセット法等の塗布方法あるいは印刷方法により、所望
部分に形成できる。

【００３３】次に、本発明の磁気記録媒体の他の実施形
態について説明する。図８は本発明の磁気記録媒体の他
の実施形態を説明するためにカード形状の磁気記録媒体
の斜視図であり、図９は図８のＢ−Ｂ断面矢視図であ
る。

【００３４】図８および図９において、本発明の磁気記
録媒体１１は、基材１２と、この基材１２上にストライ
プ状に設けられた磁気記録層１３を備えており、磁気記
録層１３は第１磁性層１３ａと第２磁性層１３ｂとが積
層されて構成されている。そして、磁気記録層１３の第
２磁性層１３ｂは、磁気ヘッドによる読み取り方向（図
８の矢印ａ方向）に沿って磁性材料の疎密パターンから
なる固定情報を有している。

【００３５】本発明の磁気記録媒体１１を構成する基材
１２は、上述の磁気記録媒体１を構成する基材２と同様
とすることができ、ここでの説明は省略する。

【００３６】また、上記の磁気記録層１３を構成する第
１磁性層１３ａは、上述の磁気記録層３を構成する第１
磁性層３ａと同様とすることができ、この第１磁性層１
３ａには、第２磁性層１３ｂの形成前に矢印ａ方向に沿
って間欠的に所望の磁気情報が記録される。

【００３７】上記の磁気記録層１３を構成する第２磁性
層１３ｂは、上述の磁気記録層３を構成する第２磁性層
３ｂと同様とすることができる。ただし、この第２磁性
層１３ｂは、間欠的な所望の磁気記録を行った第１磁性
層１３ａ上に、上述の磁性材料が適当な樹脂あるいはイ
ンキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を塗布し、こ
の磁性塗膜に矢印ａ方向に沿ってバイアス磁界を一様に
印加して磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配
向処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成
する。このような第２磁性層１３ｂは、矢印ａ方向に沿
って磁性材料を所定の疎密パターンで含有する。そし
て、この疎密パターンは、上述の磁気記録媒体１とは異
なり、磁性材料を所定の疎密パターンで含有する部位
が、所望の間隔で矢印ａ方向に沿って配列しているもの
である。図１０は、このような疎密パターンの一例を示
す図である。図１０において、複数の密部分１５と疎部
分１６とからなる疎密パターン部位１４が、所望の間隔
を設けて複数配列している。この疎密パターン部位１４
は、第１磁性層において磁気記録が行なわれた部位に相
当する。尚、各疎密パターン部位１４を構成する密部分
１５の数および密度は、一定でもよく、また、個々の疎
密パターン部位１４ごとに異なってもよい。

【００３８】このような構成である本発明の磁気記録媒
体１１では、磁気記録層１３上を矢印ａ方向に磁気ヘッ
ドで再生すると、図１１（Ａ）に示すように、再生出力
のある部分とない部分とが交互に現れるような出力波形
が得られる。図１１（Ｂ）は、図１１（Ａ）の出力波形
の一部を拡大したものであり、磁性材料の疎密パターン
部位１４が存在する個所で出力が得られている。本発明
では、第１磁性層１３ａへの磁気記録時の間欠記録を調
整することにより、再生出力を生じる疎密パターン部位
によるコード化が可能である。これにより、この固定情
報は、疎密パターンによるディジタルデータに加え、バ
ーコード状の情報付加が可能となる。しかも、上記の第
２磁性層１３ｂにおける固定情報は、第１磁性層１３ａ
への磁気記録の間欠制御によって、磁気記録媒体個々に
任意に設定することができる。

【００３９】尚、上記の本発明の磁気記録媒体１１で
は、基材１２上にストライプ状の磁気記録層１３が形成
された構成となっているが、基材１２の全面に磁気記録
層１３を形成した構成であってもよい。

【００４０】また、上記の本発明の磁気記録媒体１１の
他の態様として、以下のものが可能である。上記の磁気
記録媒体１１の例では、磁性材料の疎密パターン部位１
４における密部分１５の記録密度が一定であるが、図１
２に示されるように、記録密度に変化がある（磁性材料
の密部分の間隔が２種以上存在する）ような態様でもよ
い。このような態様は、後述する本発明の製造方法にお
いて、第１磁性層１３ａへの記録密度の変化により可能
となる。

【００４１】また、本発明の磁気記録媒体１１において
も、上述のような磁気シールド層を第１磁性層１３ａと
第２磁性層１３ｂとの間に設けてもよい。さらに、磁気
記録媒体１１の磁気記録層１３を覆うように、全面に保
護、隠蔽、装飾効果をもたせるための保護層、着色層や
絵柄を設けてもよい。

【００４２】磁気記録媒体の製造方法 次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態に
ついて、上述の磁気記録媒体１を例として図１３を参照
しながら説明する。まず、基材２に第１磁性層３ａを形
成し、この第１磁性層３ａに所望の磁気記録を行う（図
１３（Ａ））。これにより、磁化方向が相違する磁気パ
ターンが第１磁性層３ａの所定方向全域に亘って形成さ
れる。

【００４３】この第１磁性層３ａの形成は、上述の保磁
力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を適当な
樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料
を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の
塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成するこ
とができる。樹脂あるいはインキビヒクルとしては、ブ
チラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、
ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ア
クリル樹脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂等が用
いられ、必要に応じてニトリルゴム等のゴム系樹脂ある
いはウレタンエラストマー等が添加される。また、耐熱
性を考慮して、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル
サルホン等のガラス転移温度（Ｔｇ）の高い樹脂、ある
いは硬化反応によりＴｇが上昇する系を用いることがで
きる。上記のような樹脂あるいはインキビヒクル中に磁
性材料が分散されてなる磁性塗料中に、必要に応じて分
散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を適宜含有
させてもよい。また、第１磁性層３ａは、上記の磁性材
料を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法
等により形成することもできる。

【００４４】次に、第２磁性層３ｂを形成する。まず、
上述の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中
に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録が行われ
た第１磁性層３ａ上に、グラビア法、ロール法、ナイフ
エッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗
膜３´ｂを形成する。そして、第１磁性層３ａの記録方
向と同一方向に沿ってバイアス磁界を間欠的に印加し
て、磁性塗膜３´ｂに磁気配向処理を施す（図３
（Ｂ））。磁性塗料に使用する樹脂あるいはインキビヒ
クルは、上述の第１磁性層３ａの形成で挙げたものを使
用することができ、また、必要に応じて分散剤、可塑
剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を磁性塗料に適宜含有
させてもよい。

【００４５】上記の磁気配向処理は、基材２の裏面側か
ら磁気ヘッドにより行うことができる。この磁気配向処
理により、バイアス磁界が印加された部分では、第１磁
性層３ａから発生する磁力線によって磁性塗膜３′ｂ中
に存在する磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致す
る部位に、磁性材料が移動して集まり、未乾燥の磁性塗
膜３´ｂ中に磁性材料が極めて密な部分が形成される。
また、バイアス磁界が印加されない部分では、第１磁性
層３ａから発生する磁力線のみによる磁性材料の弱い移
動が生じて、磁性材料がやや多く存在する密部分が形成
される。印加するバイアス磁界は１５０〜３０００Ｇの
範囲で、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されないよう
に、使用する磁性材料に応じて適宜設定することができ
る。その後、磁性塗膜３´ｂを乾燥することにより、第
１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した磁性材料の
疎密パターン（磁性材料の含有密度が高い密部分５ａ
と、含有密度が低い密部分５ｂとをもつ）からなる固定
情報を有する第２磁性層３ｂを形成する（図１３
（Ｃ））。

【００４６】次に、第１磁性層３ａの磁気記録が消去さ
れるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁性
層３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層３ｂ
の上記固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１とする
（図１３（Ｄ））。尚、このバイアス磁界の向きは、上
記の磁気配向処理におけるバイアス磁界の向きと同じ、
逆、いずれでもよい。

【００４７】このように製造される本発明の磁気記録媒
体１では、磁気記録層３の第２磁性層３ｂにおける固定
情報は、磁性材料が未乾燥状態の磁性塗膜中を移動して
形成された疎密パターンからなるので、強磁界が加わっ
ても消去されることがない。そして、磁気ヘッドで読み
取ったときの磁気出力波形は、再生出力の高い部分と低
い部分とが交互に現れるような出力波形となる。この出
力波形は、第２磁性層３ｂの形成時のバイアス磁界の間
欠印加を調整することにより、再生出力の高い部分の長
さと低い部分の長さの制御が可能である。また、上記の
第２磁性層３ｂにおける固定情報は、第１磁性層３ａへ
の磁気記録によって磁気記録媒体個々に任意に設定する
ことができる。

【００４８】尚、基材としてポリエチレンテレフタレー
トフィルムのような樹脂フィルムを使用し、上述のよう
な製造方法で基材上に第１磁性層と第２磁性層とを順に
積層して磁気記録層を設けることにより磁気テープを作
製し、この磁気テープをカード基材等の全面、あるい
は、一部に貼合して磁気記録媒体を製造してもよい。

【００４９】次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の
他の実施形態について、上述の磁気記録媒体１１を例と
して図１４を参照しながら説明する。まず、基材１２に
ストライプ状の第１磁性層１３ａを形成し、この第１磁
性層１３ａに所望の磁気記録を間欠的に行う（図１４
（Ａ））。これにより、磁化方向が相違する磁気パター
ンが第１磁性層１３ａに間欠的に形成される。

【００５０】この第１磁性層１３ａの形成は、上述の保
磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を適当
な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗
料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知
の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成する
ことができる。樹脂あるいはインキビヒクルとしては、
上述の製造方法で挙げた材料を使用することができる。
また、第１磁性層１３ａは、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、メッキ法等により形成することもできる。

【００５１】次に、第２磁性層１３ｂを形成する。ま
ず、上述の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒク
ル中に分散されてなる磁性塗料を、間欠的な所望の磁気
記録が行われた第１磁性層１３ａ上に、グラビア法、ロ
ール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗
布して、磁性塗膜１３´ｂを形成する。そして、第１磁
性層１３ａの記録方向と同一方向に沿ってバイアス磁界
を一様に印加して、磁性塗膜１３´ｂに磁気配向処理を
施す（図１３（Ｂ））。磁性塗料に使用する樹脂あるい
はインキビヒクルは、上述の第１磁性層１３ａの形成で
挙げたものを使用することができ、また、必要に応じて
分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を磁性塗
料に適宜含有させてもよい。

【００５２】上記の磁気配向処理は、基材１２の裏面側
から磁気ヘッドにより行うことができ、また、ソレノイ
ド型の電磁石配向装置を用いてもよい。この磁気配向処
理により、第１磁性層１３ａの磁気記録がなされた部分
では、第１磁性層１３ａから発生する磁力線によって磁
性塗膜１３′ｂ中に存在する磁化方向と、バイアス磁界
の方向とが一致する部位に、磁性材料が移動して集ま
り、未乾燥の磁性塗膜１３´ｂ中に磁性材料が密な部分
が形成される。

【００５３】印加するバイアス磁界は１５０〜３０００
Ｇの範囲で、第１磁性層１３ａの磁気記録が消去されな
いように、使用する磁性材料に応じて適宜設定すること
ができる。

【００５４】上記の磁気配向処理を施しながら、あるい
は、磁気配向処理を施した後、磁性塗膜１３´ｂを乾燥
することにより、第１磁性層１３ａの磁気記録パターン
に対応した磁性材料の疎密パターン（密部分１５と疎部
分１６とをもつ）からなる固定情報を有する第２磁性層
１３ｂを形成する（図１４（Ｃ））。

【００５５】次に、第１磁性層１３ａの磁気記録が消去
されるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁
性層１３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層
１３ｂの上記固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１１
とする（図１４（Ｄ））。尚、このバイアス磁界の向き
は、上記の磁気配向処理におけるバイアス磁界の向きと
同じ、逆、いずれでもよい。

【００５６】このように製造される本発明の磁気記録媒
体１１では、磁気記録層１３の第２磁性層１３ｂにおけ
る固定情報は、磁性材料が未乾燥状態の磁性塗膜中を移
動して形成された疎密パターンからなるので、強磁界が
加わっても消去されることがない。そして、磁気ヘッド
で読み取ったときの磁気出力波形は、再生出力のある部
分とない部分とが交互に現れるような出力波形となる。
この出力波形は、第１磁性層１３ａへの磁気記録時の間
欠記録を調整することに制御可能であり、このような再
生出力を生じる疎密パターン部位によるコード化が可能
となる。また、上記の第２磁性層１３ｂにおける固定情
報は、第１磁性層１３ａへの磁気記録の間欠制御によっ
て、磁気記録媒体個々に任意に設定することができる。

【００５７】尚、基材としてポリエチレンテレフタレー
トフィルムのような樹脂フィルムを使用し、上述のよう
な製造方法で基材上に第１磁性層と第２磁性層とを順に
積層して磁気記録層を設けることにより磁気テープを作
製し、この磁気テープをカード基材等の全面、あるい
は、一部に貼合して磁気記録媒体を製造してもよい。

【００５８】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。

【００５９】（実施例１）まず、基材として、厚さ１８
８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ
−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有す
る第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法によ
り塗布し乾燥して、厚み１５μｍの第１磁性層を形成し
た。

【００６０】 （第１磁性層形成用の磁性塗料） ・Ｂａフェライト（保磁力＝４０００Ｏｅ） … ８０重量部 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部 ・ウレタン樹脂 … １０重量部 ・メチルエチルケトン … ５０重量部 ・トルエン … ５０重量部 ・メチルイソブチルケトン … ５０重量部 ・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部

【００６１】次に、この第１磁性層に書込み電流１００
０ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２
００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。

【００６２】次いで、この第１磁性層上に、下記の組成
を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート
法により塗布して磁性塗膜を形成した。

【００６３】 （第２磁性層形成用の磁性塗料） ・Ｂａフェライト（保磁力＝１０００Ｏｅ） … ８０重量部 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部 ・ウレタン樹脂 … １０重量部 ・メチルエチルケトン … ５０重量部 ・トルエン … ５０重量部 ・メチルイソブチルケトン … ５０重量部 ・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部

【００６４】次に、基材の裏面に磁気ヘッドを走査させ
て２０００Ｇの磁界を間欠的に磁性塗膜に加えて磁気配
向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することによ
り厚み１０μｍの第２磁性層を形成した。この第２磁性
層の上記２０００Ｇの磁界が印加された部分は、第１磁
性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンか
らなる固定情報Ｄ′１を有するものであった。また、第
２磁性層の上記２０００Ｇの磁界が印加されなかった部
分は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎
密パターンからなる固定情報Ｄ′２を有するものであっ
た。この固定情報Ｄ′２の記録密度は、固定情報Ｄ′１
の記録密度の２倍であった。これにより、第１磁性層と
第２磁性層との積層体からなる磁気記録層を基材上に形
成した。上記のように磁気記録層を形成した基材を８６
ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明
の磁気記録媒体を得た。

【００６５】次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層に
ソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第
１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁
性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁
性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′１、Ｄ′２
に着磁を行った。

【００６６】この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカ
ードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′１
に対応した再生出力の高い部分と、固定情報Ｄ′２に対
応した再生出力の低い部分とが交互に現れる図４に示す
ような出力波形が得られ、高出力部は低出力部の約５倍
の出力を示した。また、各高出力部、低出力部では、上
記の疎密パターンに対応したディジタルデータが得られ
た。

【００６７】（実施例２）まず、実施例１と同様にし
て、基材上に厚み１５μｍの第１磁性層を形成し、この
第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行
った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）
とした。

【００６８】次いで、この第１磁性層上に、下記の組成
を有する磁気シールド層用の磁性塗料をグラビアコート
法により塗布し乾燥して、磁気シールド層（厚み約１０
μｍ）を形成した。

【００６９】 （磁気シールド層形成用の磁性塗料） ・パーマロイ（保磁力＝１０Ｏｅ） … ８０重量部 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部 ・ウレタン樹脂 … １０重量部 ・メチルエチルケトン … ５０重量部 ・トルエン … ５０重量部 ・メチルイソブチルケトン … ５０重量部 ・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部

【００７０】次に、この磁気シールド層上に、実施例１
と同様にして、第２磁性層用の磁性塗料を塗布して磁性
塗膜を形成した。その後、基材の裏面に磁気ヘッドを走
査させて２０００Ｇの磁界を間欠的に磁性塗膜に加えて
磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥するこ
とにより厚み１０μｍの第２磁性層を形成した。この第
２磁性層の上記２０００Ｇの磁界が印加された部分は、
第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パタ
ーンからなる固定情報Ｄ′を有するものであった。ま
た、第２磁性層の上記２０００Ｇの磁界が印加されなか
った部分では、固定情報の記録はなされなかった。これ
により、第１磁性層と第２磁性層との積層体からなる磁
気記録層を基材上に形成した。上記のように磁気記録層
を形成した基材を８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード
状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。

【００７１】次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層に
ソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第
１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁
性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁
性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′に着磁を行
った。

【００７２】この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカ
ードリーダーを用いて読み取った結果、再生出力が所定
の間隔をおいて現れる図７に示すような出力波形が得ら
れた。また、各出力部では、上記の疎密パターンに対応
したディジタルデータが得られた。

【００７３】（実施例３）まず、実施例１と同様にし
て、基材上に厚み１５μｍの第１磁性層を形成した。そ
して、この第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気
記録Ｄを間欠的に行った。このときの記録密度は、書き
込みがある部分で２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。

【００７４】次いで、この第１磁性層上に、実施例１と
同様にして、第２磁性層用の磁性塗料を塗布して磁性塗
膜を形成した。その後、２０００Ｇのバイアス磁界を一
定方向に加えて磁性塗膜に磁気配向処理を施した。その
後、磁性塗膜を乾燥することにより厚み１０μｍの第２
磁性層を形成した。この第２磁性層の内、第１磁性層に
磁気記録がなされた部分は、第１磁性層の磁気記録Ｄに
対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′
を有するものであった。また、第２磁性層の内、第１磁
性層に磁気記録がなされなかった部分は、固定情報の記
録はなされなかった。これにより、第１磁性層と第２磁
性層との積層体からなる磁気記録層を基材上に形成し
た。上記のように磁気記録層を形成した基材を８６ｍｍ
×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明の磁
気記録媒体を得た。

【００７５】次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層に
ソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第
１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁
性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁
性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′に着磁を行
った。

【００７６】この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカ
ードリーダーを用いて読み取った結果、再生出力が所定
の間隔をおいて現れる図１１に示すような出力波形が得
られた。また、各出力部では、上記の疎密パターンに対
応したディジタルデータが得られた。

【００７７】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば基
材に設けられた磁気記録層が第１磁性層と第２磁性層と
をこの順に基材上に積層したものであり、第２磁性層は
磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有し、この
固定情報は疎密パターンによるディジタルデータに加
え、疎密パターンの密部分における磁性材料の含有密度
の違いによるコード化、あるいは、複数の疎密パターン
によるコード化が可能であり、固定情報として、高出力
部分と低出力部分とからなるパターンによるバーコード
状の情報を付加することができ、これにより、変造の困
難な磁気記録媒体が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施形態を説明する
ためのカード形状の磁気記録媒体の斜視図である。

【図２】図１に示される磁気記録媒体のＡ−Ａ断面矢視
図である。

【図３】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの一例を
示す図である。

【図４】本発明の磁気記録媒体の再生出力波形の一例を
示す図であり、（Ｂ）は（Ａ）の一部を拡大したもので
ある。

【図５】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの他の例
を示す図である。

【図６】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの他の例
を示す図である。

【図７】本発明の磁気記録媒体の再生出力波形の他の例
を示す図である。

【図８】本発明の磁気記録媒体の他の実施形態を説明す
るためのカード形状の磁気記録媒体の斜視図である。

【図９】図８に示される磁気記録媒体のＢ−Ｂ断面矢視
図である。

【図１０】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの他の
例を示す図である。

【図１１】本発明の磁気記録媒体の再生出力波形の他の
例を示す図であり、（Ｂ）は（Ａ）の一部を拡大したも
のである。

【図１２】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの他の
例を示す図である。

【図１３】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を示
す工程図である。

【図１４】本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の例を
示す工程図である。

【符号の説明】

１，１１…磁気記録媒体 ２，１２…基材 ３，１３…磁気記録層 ３ａ，１３ａ…第１磁性層 ３ｂ，１３ｂ…第２磁性層 ４…固定情報領域 ５ａ…磁性材料の含有密度の高い密部分 ５ｂ…磁性材料の含有密度の低い密部分 １４…疎密パターン部位 １５…密部分

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/845 Ｇ１１Ｂ 5/845 Ｚ (72)発明者 若松 伸明 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 山口 博之 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2C005 HA02 HB04 HB05 HB09 HB10 HB11 HB13 JA03 JB23 KA19 LA05 LA18 LA25 LB18 5D006 BA19 BA20 CA05 DA01 FA00 5D112 AA05 AA06 AA11 AA28 CC19 DD04 DD08

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材と、該基材上に磁気記録層とを有
   し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層と第２磁
   性層とが積層されたものであり、該第２磁性層は所定方
   向に沿って磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、該
   疎密パターンは磁性材料の含有密度が異なる少なくとも
   ２種の密部分を有することを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 基材と、該基材上に磁気記録層とを有
   し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層と第２磁
   性層とが積層されたものであり、該第２磁性層は磁性材
   料を所定の疎密パターンで含有する部位が所望の間隔で
   所定方向に沿って配列していることを特徴とする磁気記
   録媒体。
3. 【請求項３】 前記疎密パターンにおいて、磁性材料の
   密部分の間隔が２種以上存在することを特徴とする請求
   項１または請求項２に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 第１磁性層と第２磁性層との間に磁気シ
   ールド層を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項
   ３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 基材上に第１磁性層を形成し、該第１磁
   性層に所定方向に沿って所望の磁気記録を行った後、前
   記第１磁性層上に磁性塗料を塗布し、該磁性塗膜に前記
   所定方向に沿ってバイアス磁界を間欠的に印加して磁気
   配向処理を施した後、前記磁性塗膜を乾燥して、前記第
   １磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密
   パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し
   て、前記第１磁性層および前記第２磁性層からなる磁気
   記録層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。
6. 【請求項６】 基材上に第１磁性層を形成し、該第１磁
   性層に所定方向に沿って間欠的に所望の磁気記録を行っ
   た後、前記第１磁性層上に磁性塗料を塗布し、該磁性塗
   膜に前記所定方向に沿ってバイアス磁界を印加して磁気
   配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施し
   た後、前記磁性塗膜を乾燥して、前記第１磁性層の磁気
   記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからな
   る固定情報を有する第２磁性層を形成して、前記第１磁
   性層および前記第２磁性層からなる磁気記録層を形成す
   ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 前記第１磁性層への磁気記録において、
   書き込み密度を変化させることを特徴とする請求項５ま
   たは請求項６に記載の磁気記録媒体の製造方法。
8. 【請求項８】 前記第１磁性層上に磁気シールド層を形
   成した後、前記第２磁性層を形成することを特徴とする
   請求項５乃至請求項７に記載の磁気記録媒体の製造方
   法。