JPH04290840A - ビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法 - Google Patents
ビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法Info
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- JPH04290840A JPH04290840A JP3052587A JP5258791A JPH04290840A JP H04290840 A JPH04290840 A JP H04290840A JP 3052587 A JP3052587 A JP 3052587A JP 5258791 A JP5258791 A JP 5258791A JP H04290840 A JPH04290840 A JP H04290840A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は各種のメチルエーテル誘
導体の合成中間体として有用なビス(アリールオキシメ
チル)エーテル類の製造方法に関する。
導体の合成中間体として有用なビス(アリールオキシメ
チル)エーテル類の製造方法に関する。
【0002】
【発明の背景】従来、種々の化合物、例えばゼラチンの
硬膜剤や現像促進剤、化学増感剤等の合成に用いられる
メチルエーテル誘導体を製造する方法としては、ビス(
クロルメチル)エーテルを原料とし、アルコール類、メ
ルカプタン類、アミン類、芳香族炭化水素類、フェノー
ル類等の有機化合物を反応させることによって種々のメ
チルエーテル誘導体を製造する方法が一般的であった。
硬膜剤や現像促進剤、化学増感剤等の合成に用いられる
メチルエーテル誘導体を製造する方法としては、ビス(
クロルメチル)エーテルを原料とし、アルコール類、メ
ルカプタン類、アミン類、芳香族炭化水素類、フェノー
ル類等の有機化合物を反応させることによって種々のメ
チルエーテル誘導体を製造する方法が一般的であった。
【0003】しかしながら、このビス(クロルメチル)
エーテルは、揮発性である上に、強い毒性と催腫瘍性を
持っていることから作業者の健康を害する恐れがあるた
め、我が国では労働安全衛生法に基く施行令によって製
造等禁止物質に指定されており、事実上使用することが
できない。
エーテルは、揮発性である上に、強い毒性と催腫瘍性を
持っていることから作業者の健康を害する恐れがあるた
め、我が国では労働安全衛生法に基く施行令によって製
造等禁止物質に指定されており、事実上使用することが
できない。
【0004】従って、メチルエーテル誘導体を製造する
中間体であるビス(クロルメチル)エーテルに代わる不
揮発性で、かつ毒性及び催腫瘍性の低い中間体を提供す
ることが強く要望されていた。
中間体であるビス(クロルメチル)エーテルに代わる不
揮発性で、かつ毒性及び催腫瘍性の低い中間体を提供す
ることが強く要望されていた。
【0005】その解決方法の一つとして、J.P.Cl
evelandによって米国特許3,954,878号
にビス(アリールオキシメチル)エーテル類を用いる方
法が開示されている。一方、この特許で原料として用い
られているビス(アリールオキシメチル)エーテルの製
造法はD.H.Wadsworth,R.S.Vina
l等によってリサーチ・ディスクロジャーNo.147
2(1976年)およびジャーナル・オブ・オルガニッ
ク・ケミストリー47巻,1623〜1626頁(19
82年)に、ビス(アシルオキシメチル)エーテル類と
フェノール類又は置換フェノール類を反応させる方法が
開示されている。
evelandによって米国特許3,954,878号
にビス(アリールオキシメチル)エーテル類を用いる方
法が開示されている。一方、この特許で原料として用い
られているビス(アリールオキシメチル)エーテルの製
造法はD.H.Wadsworth,R.S.Vina
l等によってリサーチ・ディスクロジャーNo.147
2(1976年)およびジャーナル・オブ・オルガニッ
ク・ケミストリー47巻,1623〜1626頁(19
82年)に、ビス(アシルオキシメチル)エーテル類と
フェノール類又は置換フェノール類を反応させる方法が
開示されている。
【0006】しかし、上記の文献に記載されている方法
では、触媒を使用しても反応温度として170〜200
℃が必要であり、反応温度が高いために原料のビス(ア
シルオキシメチル)エーテル類が分解してしまい収率が
低下する、あるいは大量製造を行う場合に反応装置に特
殊な加熱装置を取り付ける必要があるといった問題点が
あり、大量製造を行う場合に満足のいく方法ではなかっ
た。
では、触媒を使用しても反応温度として170〜200
℃が必要であり、反応温度が高いために原料のビス(ア
シルオキシメチル)エーテル類が分解してしまい収率が
低下する、あるいは大量製造を行う場合に反応装置に特
殊な加熱装置を取り付ける必要があるといった問題点が
あり、大量製造を行う場合に満足のいく方法ではなかっ
た。
【0007】
【発明の目的】従って、本発明の目的はビス(クロルメ
チル)エーテルに代わるメチルエーテル誘導体を製造す
るための不揮発性で、かつ毒性及び催腫瘍性の低い中間
体であるビス(アリールオキシメチル)エーテル類の、
大量製造に適し、かつ特別な設備を必要としない、収率
良い製造方法を提供することにある。
チル)エーテルに代わるメチルエーテル誘導体を製造す
るための不揮発性で、かつ毒性及び催腫瘍性の低い中間
体であるビス(アリールオキシメチル)エーテル類の、
大量製造に適し、かつ特別な設備を必要としない、収率
良い製造方法を提供することにある。
【0008】
【発明の構成】本発明の上記目的は、下記一般式[I]
で表されるビス(アシルオキシメチル)エーテル類と一
般式[II]で表される置換フェノール類とを反応温度
110〜170℃で反応させることを特徴とする一般式
[III]で表されるビス(アリールオキシメチル)エ
ーテル類の製造方法によって達成された。
で表されるビス(アシルオキシメチル)エーテル類と一
般式[II]で表される置換フェノール類とを反応温度
110〜170℃で反応させることを特徴とする一般式
[III]で表されるビス(アリールオキシメチル)エ
ーテル類の製造方法によって達成された。
【0009】
一般式[I] R1CO2CH2OCH2OCOR1
式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を表す。
式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を表す。
【0010】
【化3】
【0011】式中、R2〜R4は各々、水素原子又は電
子吸引性の置換基を表す。R2〜R4は互いに同じであ
っても異なっていてもよいが、少なくとも一つは電子吸
引性の置換基を表す。X1及びX2はハロゲン原子を表
し、互いに同じであっても異なっていてもよい。
子吸引性の置換基を表す。R2〜R4は互いに同じであ
っても異なっていてもよいが、少なくとも一つは電子吸
引性の置換基を表す。X1及びX2はハロゲン原子を表
し、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【0012】
【化4】
【0013】式中、R2〜R4は各々、水素原子又は電
子吸引性の置換基を表す。R2〜R4は互いに同じであ
っても異なっていてもよいが、少なくとも一つは電子吸
引性の置換基を表す。X1及びX2はハロゲン原子を表
し、互いに同じであっても異なっていてもよい。
子吸引性の置換基を表す。R2〜R4は互いに同じであ
っても異なっていてもよいが、少なくとも一つは電子吸
引性の置換基を表す。X1及びX2はハロゲン原子を表
し、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【0014】以下、本発明を更に詳しく説明する。
【0015】一般式[I]において、R1が表す炭素数
1〜4のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、sec―ブチ
ル、t−ブチル等の基が挙げられる。これらは更に置換
されていてもよく、置換基としてはアルコキシ基、アシ
ル基、ハロゲン原子等が挙げられる。R1として好まし
くは炭素数1のアルキル基であり、より好ましくはメチ
ル基である。
1〜4のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、sec―ブチ
ル、t−ブチル等の基が挙げられる。これらは更に置換
されていてもよく、置換基としてはアルコキシ基、アシ
ル基、ハロゲン原子等が挙げられる。R1として好まし
くは炭素数1のアルキル基であり、より好ましくはメチ
ル基である。
【0016】一般式[II]において、R2〜R4が表
す電子吸引性の置換基としては、α−ハロゲン置換アル
キル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基
、アンモニオ基、ニトロ基、スルホニオ基、アルキルス
ルフィニル基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子等
が挙げられる。R2〜R4として好ましくは、シアノ基
、ニトロ基、ハロゲン原子であり、より好ましくはハロ
ゲン原子である。特に塩素原子、臭素原子が好ましい。
す電子吸引性の置換基としては、α−ハロゲン置換アル
キル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基
、アンモニオ基、ニトロ基、スルホニオ基、アルキルス
ルフィニル基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子等
が挙げられる。R2〜R4として好ましくは、シアノ基
、ニトロ基、ハロゲン原子であり、より好ましくはハロ
ゲン原子である。特に塩素原子、臭素原子が好ましい。
【0017】一般式[II]において、R2〜R4の少
なくとも一つは電子吸引性の置換基であることが好まし
く、より好ましくは二つ以上が電子吸引性の置換基であ
ることである。又、R2〜R4の内一つだけが電子吸引
性の置換基である時は、R3が電子吸引性の置換基であ
ることが好ましい。
なくとも一つは電子吸引性の置換基であることが好まし
く、より好ましくは二つ以上が電子吸引性の置換基であ
ることである。又、R2〜R4の内一つだけが電子吸引
性の置換基である時は、R3が電子吸引性の置換基であ
ることが好ましい。
【0018】X1及びX2が表すハロゲン原子としては
、弗素、塩素、臭素の各原子が挙げられるが、好ましく
は塩素原子、臭素原子であり、塩素原子がより好ましい
。 X1とX2 は互いに同じであっても異なっていてもよ
いが、互いに同じであることが好ましい。
、弗素、塩素、臭素の各原子が挙げられるが、好ましく
は塩素原子、臭素原子であり、塩素原子がより好ましい
。 X1とX2 は互いに同じであっても異なっていてもよ
いが、互いに同じであることが好ましい。
【0019】本発明の方法で用いることができる一般式
[II]で表される置換フェノール類及び、それを用い
て合成できる一般式[III]で表されるビス(アリー
ルオキシメチル)エーテル類の代表例を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
[II]で表される置換フェノール類及び、それを用い
て合成できる一般式[III]で表されるビス(アリー
ルオキシメチル)エーテル類の代表例を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0020】
【化5】
【0021】
【化6】
【0022】
【化7】
【0023】
【化8】
【0024】
【化9】
【0025】
【化10】
【0026】本発明においては、反応を促進するために
触媒を使用するのも好ましい。触媒を使用することによ
り反応温度を下げた場合でも短時間で収率良く反応する
ことができる。
触媒を使用するのも好ましい。触媒を使用することによ
り反応温度を下げた場合でも短時間で収率良く反応する
ことができる。
【0027】本発明においては種々の触媒を使用するこ
とができる。例えば酸化亜鉛、酢酸亜鉛、トリス(アセ
チルアセトナト)亜鉛、アルミニウムトリアルコキシド
、アルミナ、硫酸アルミニウム、トリス(アセチルアセ
トナト)アルミニウム、シリカ−アルミナ、ゼオライト
、硫酸ジルコニウム、四酢酸ジルコニウム、硝酸ジルコ
ニル、塩化ジルコニル、ビス(アセチルアセトナト)ジ
ルコニル、三弗化硼素・ジエチルエーテル錯体、三弗化
硼素・トリエチルアミン錯体、四塩化チタン、テトラア
ルコキシチタン、臭化マグネシウム・ジエチルエーテル
錯体、トリメチルシリルオキシトリフルオロメタンスル
ホネート等から最も効果の高いものを選ぶことができる
。又、ここに挙げた以外の触媒からも効果があるものな
らば自由に選んで使用することができる。本発明におい
て使用できる触媒の内、好ましいものの一つとしては亜
鉛化合物が挙げられ、その中でも酸化亜鉛が特に好まし
い。
とができる。例えば酸化亜鉛、酢酸亜鉛、トリス(アセ
チルアセトナト)亜鉛、アルミニウムトリアルコキシド
、アルミナ、硫酸アルミニウム、トリス(アセチルアセ
トナト)アルミニウム、シリカ−アルミナ、ゼオライト
、硫酸ジルコニウム、四酢酸ジルコニウム、硝酸ジルコ
ニル、塩化ジルコニル、ビス(アセチルアセトナト)ジ
ルコニル、三弗化硼素・ジエチルエーテル錯体、三弗化
硼素・トリエチルアミン錯体、四塩化チタン、テトラア
ルコキシチタン、臭化マグネシウム・ジエチルエーテル
錯体、トリメチルシリルオキシトリフルオロメタンスル
ホネート等から最も効果の高いものを選ぶことができる
。又、ここに挙げた以外の触媒からも効果があるものな
らば自由に選んで使用することができる。本発明におい
て使用できる触媒の内、好ましいものの一つとしては亜
鉛化合物が挙げられ、その中でも酸化亜鉛が特に好まし
い。
【0028】使用される触媒の使用量は効果の大きさに
応じて自由に選ぶことができるが、原料のビス(アシル
オキシメチル)エーテル類に対して0.01当量〜2.
00当量の間で用いるのが好ましく、より好ましくは0
.10当量〜 1.00 量の範囲である。
応じて自由に選ぶことができるが、原料のビス(アシル
オキシメチル)エーテル類に対して0.01当量〜2.
00当量の間で用いるのが好ましく、より好ましくは0
.10当量〜 1.00 量の範囲である。
【0029】本発明において、一般式[I]で表される
ビス(アシルオキシメチル)エーテル類に対し、一般式
[II]で表される置換フェノール類は2当量以上必要
であるが、好ましくは2.2〜3.5当量用いるのがよ
い。より好ましくは2.5〜3.0当量用いるのがよい
。
ビス(アシルオキシメチル)エーテル類に対し、一般式
[II]で表される置換フェノール類は2当量以上必要
であるが、好ましくは2.2〜3.5当量用いるのがよ
い。より好ましくは2.5〜3.0当量用いるのがよい
。
【0030】本発明において、反応温度は110〜17
0℃の間で選ぶことができるが、好ましくは120〜1
60℃、より好ましくは130〜150℃で反応を行う
ことで反応装置に特殊な設備を追加せず、原料や生成物
の分解を抑えながら、短時間で収率良く反応することが
できる。
0℃の間で選ぶことができるが、好ましくは120〜1
60℃、より好ましくは130〜150℃で反応を行う
ことで反応装置に特殊な設備を追加せず、原料や生成物
の分解を抑えながら、短時間で収率良く反応することが
できる。
【0031】本発明において、反応溶媒としては原料及
び生成物と反応しないもので、反応温度を維持できるも
のならば自由に選ぶことができる。例えばトルエン、混
合キシレン、エチルベンゼン、クロルベンゼン、リグロ
イン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の沸点
110〜200℃の溶媒から反応条件に合わせて自由に
選ぶことができる。
び生成物と反応しないもので、反応温度を維持できるも
のならば自由に選ぶことができる。例えばトルエン、混
合キシレン、エチルベンゼン、クロルベンゼン、リグロ
イン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の沸点
110〜200℃の溶媒から反応条件に合わせて自由に
選ぶことができる。
【0032】本発明においては、反応に伴って生成する
炭素数1〜4の低級カルボン酸を溶媒の一部と一緒に溜
去しながら反応させるのが好ましく、そのために窒素ガ
スの様な不活性ガスを吹き込みながら反応を行い、低級
カルボン酸の溜去を促進することも好ましい。又、分溜
装置などを用いて分溜効率を高めることも好ましい。 又、本発明においては常圧下に反応を行ってもよいし、
減圧下に反応を行ってもよい。特に、反応温度よりも用
いる溶媒の沸点が高い場合は、反応に伴って生成する低
級カルボン酸を溜去するために、減圧下に反応するのが
好ましい。
炭素数1〜4の低級カルボン酸を溶媒の一部と一緒に溜
去しながら反応させるのが好ましく、そのために窒素ガ
スの様な不活性ガスを吹き込みながら反応を行い、低級
カルボン酸の溜去を促進することも好ましい。又、分溜
装置などを用いて分溜効率を高めることも好ましい。 又、本発明においては常圧下に反応を行ってもよいし、
減圧下に反応を行ってもよい。特に、反応温度よりも用
いる溶媒の沸点が高い場合は、反応に伴って生成する低
級カルボン酸を溜去するために、減圧下に反応するのが
好ましい。
【0033】
【実施例】以下、実施例によって本発明を詳しく説明す
るが、本発明がこれによって限定されるものではない。 以下の実施例中で、生成物の構造はNMRスペクトル及
びMassスペクトルで確認した。
るが、本発明がこれによって限定されるものではない。 以下の実施例中で、生成物の構造はNMRスペクトル及
びMassスペクトルで確認した。
【0034】実施例1(例示化合物III−2の製造)
1l三頭コルベンにメカニカルスターラー、温度計、分
溜管+冷却管を取り付け、2,4,6−トリクロルフェ
ノール 269g(1.50mol)、ビス(アセトキ
シメチル)エーテル81g(0.50mol)、酸化亜
鉛20g(0.245mol)、混合キシレン450m
lを入れた。加熱を始め、還流し始めたら、激しく撹拌
しながら1時間加熱・還流させる。次いで、75ml/
hrの割合で溶媒を溜去しながら6時間反応させる。 反応終了後、混合キシレン200mlを加え加熱溶解し
た後、酸化亜鉛を熱時濾過した。濾液を約2分の1に濃
縮した後、メタノール500ml中に注ぎ生成物を結析
させた。析出した結晶を濾過、メタノール洗浄、乾燥し
て目的とするIII−2 196g(収率90%)を得
た。
1l三頭コルベンにメカニカルスターラー、温度計、分
溜管+冷却管を取り付け、2,4,6−トリクロルフェ
ノール 269g(1.50mol)、ビス(アセトキ
シメチル)エーテル81g(0.50mol)、酸化亜
鉛20g(0.245mol)、混合キシレン450m
lを入れた。加熱を始め、還流し始めたら、激しく撹拌
しながら1時間加熱・還流させる。次いで、75ml/
hrの割合で溶媒を溜去しながら6時間反応させる。 反応終了後、混合キシレン200mlを加え加熱溶解し
た後、酸化亜鉛を熱時濾過した。濾液を約2分の1に濃
縮した後、メタノール500ml中に注ぎ生成物を結析
させた。析出した結晶を濾過、メタノール洗浄、乾燥し
て目的とするIII−2 196g(収率90%)を得
た。
【0035】実施例2(例示化合物III−5の製造)
1l三頭コルベンにメカニカルスターラー、温度計、分
溜管+冷却管を取り付け、ペンタクロルフェノール 3
46g(1.30mol)、ビス(アセトキシメチル)
エーテル81g(0.50mol)、酸化亜鉛10g(
0.123mol)、混合キシレン450mlを入れた
。加熱を始め、還流し始めたら、激しく撹拌しながら1
時間加熱・還流させる。次いで、80ml/hrの割合
で溶媒を溜去しながら6時間反応させる。反応終了後、
混合キシレン300mlを加え加熱溶解した後、酸化亜
鉛を熱時濾過した。濾液を約2分の1に濃縮した後、メ
タノール500ml中に注ぎ生成物を結析させた。析出
した結晶を濾過、メタノール洗浄、乾燥してIII−5
270g(収率94%)を得た。
1l三頭コルベンにメカニカルスターラー、温度計、分
溜管+冷却管を取り付け、ペンタクロルフェノール 3
46g(1.30mol)、ビス(アセトキシメチル)
エーテル81g(0.50mol)、酸化亜鉛10g(
0.123mol)、混合キシレン450mlを入れた
。加熱を始め、還流し始めたら、激しく撹拌しながら1
時間加熱・還流させる。次いで、80ml/hrの割合
で溶媒を溜去しながら6時間反応させる。反応終了後、
混合キシレン300mlを加え加熱溶解した後、酸化亜
鉛を熱時濾過した。濾液を約2分の1に濃縮した後、メ
タノール500ml中に注ぎ生成物を結析させた。析出
した結晶を濾過、メタノール洗浄、乾燥してIII−5
270g(収率94%)を得た。
【0036】実施例3(例示化合物III−6の製造)
1l三頭コルベンにメカニカルスターラー、温度計、分
溜管+冷却管を取り付け、2,6−ジクロル−4−ニト
ロフェノール 290g(1.40mol)、ビス(ア
セトキシメチル)エーテル81g(0.50mol)、
酸化亜鉛20g(0.245mol)、混合キシレン4
50mlを入れた。加熱を始め、還流し始めたら、激し
く撹拌しながら1時間加熱還流させる。次いで、80m
l/hrの割合で溶媒を溜去しながら6時間反応させる
。反応終了後、混合キシレン200mlを加え加熱溶解
した後、酸化亜鉛を熱時濾過した。濾液を約2分の1に
濃縮した後、メタノール500ml中に注ぎ生成物を結
析させた。析出した結晶を濾過、メタノール洗浄、乾燥
することによりIII−6 208g(収率91%)が
得られた。
1l三頭コルベンにメカニカルスターラー、温度計、分
溜管+冷却管を取り付け、2,6−ジクロル−4−ニト
ロフェノール 290g(1.40mol)、ビス(ア
セトキシメチル)エーテル81g(0.50mol)、
酸化亜鉛20g(0.245mol)、混合キシレン4
50mlを入れた。加熱を始め、還流し始めたら、激し
く撹拌しながら1時間加熱還流させる。次いで、80m
l/hrの割合で溶媒を溜去しながら6時間反応させる
。反応終了後、混合キシレン200mlを加え加熱溶解
した後、酸化亜鉛を熱時濾過した。濾液を約2分の1に
濃縮した後、メタノール500ml中に注ぎ生成物を結
析させた。析出した結晶を濾過、メタノール洗浄、乾燥
することによりIII−6 208g(収率91%)が
得られた。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、反応中間体として有用
であり、充分な反応性を有すると共に不揮発性で、かつ
毒性及び催腫瘍性の低いビス(アリールオキシメチル)
エーテル類を容易に収率良く製造することができる。
であり、充分な反応性を有すると共に不揮発性で、かつ
毒性及び催腫瘍性の低いビス(アリールオキシメチル)
エーテル類を容易に収率良く製造することができる。
Claims (19)
- 【請求項1】 下記一般式[I]で表されるビス(ア
シルオキシメチル)エーテル類と一般式[II]で表さ
れる置換フェノール類とを反応温度110〜170℃で
反応させることを特徴とする一般式[III]で表され
るビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法
。 一般式[I] R1CO2CH2OCH2OCOR1
〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を表す。 〕【化1】 〔式中、R2〜R4は各々、水素原子又は電子吸引性の
置換基を表す。R2〜R4は互いに同じであっても異な
っていてもよいが、少なくとも一つは電子吸引性の置換
基を表す。X1及びX2はハロゲン原子を表し、互いに
同じであっても異なっていてもよい。〕 【化2】 〔式中、R2〜R4は各々、水素原子又は電子吸引性の
置換基を表す。R2〜R4は互いに同じであっても異な
っていてもよいが、少なくとも一つは電子吸引性の置換
基を表す。X1及びX2はハロゲン原子を表し、互いに
同じであっても異なっていてもよい。〕 - 【請求項2】 一般式[I]において、R1が表す炭
素数1〜4のアルキル基が炭素数1のアルキル基である
ことを特徴とする請求項1記載のビス(アリールオキシ
メチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項3】 一般式[I]において、R1が表す炭
素数1〜4のアルキル基がメチル基であることを特徴と
する請求項1記載のビス(アリールオキシメチル)エー
テル類の製造方法。 - 【請求項4】 一般式[II]において、R2〜R4
が表す電子吸引性の置換基がシアノ基、ニトロ基、ハ
ロゲン原子から選ばれたものであることを特徴とする請
求項1、2又は3記載のビス(アリールオキシメチル)
エーテル類の製造方法。 - 【請求項5】 一般式[II]において、R2〜R4
が表す電子吸引性の置換基がハロゲン原子であること
を特徴とする請求項1、2又は3記載のビス(アリール
オキシメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項6】 一般式[II]において、R2〜R4
が表す電子吸引性の置換基が塩素原子又は臭素原子で
あることを特徴とする請求項1、2又は3記載のビス(
アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項7】 一般式[II]において、R2〜R4
が表す電子吸引性の置換基が塩素原子であることを特
徴とする請求項1、2又は3記載のビス(アリールオキ
シメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項8】 一般式[II]において、R3 が電
子吸引性の置換基であり、R2及びR4が水素原子であ
ることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のビ
ス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項9】 一般式[II]において、R2〜R4
の内二つ以上が電子吸引性の置換基であることを特徴と
する請求項1〜7のいずれかに記載のビス(アリールオ
キシメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項10】 一般式[II]において、R2〜R
4 が全て電子吸引性の置換基であることを特徴とする
請求項1〜7のいずれかに記載のビス(アリールオキシ
メチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項11】 反応を促進するために触媒を使用す
ることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の
ビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項12】 反応を促進するための触媒として、
亜鉛化合物を使用することを特徴とする請求項1〜10
のいずれかに記載のビス(アリールオキシメチル)エー
テル類の製造方法。 - 【請求項13】 反応を促進するための触媒として、
酸化亜鉛を使用することを特徴とする請求項1〜10の
いずれかにに記載のビス(アリールオキシメチル)エー
テル類の製造方法。 - 【請求項14】 反応を促進するための触媒として、
一般式[I]で表されるビス(アシルオキシメチル)エ
ーテル類に対して0.01当量から2.00当量の触媒
を使用することを特徴とする請求項11、12又は13
記載のビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造
方法。 - 【請求項15】 反応を促進するための触媒として一
般式[I]で表されるビス(アシルオキシメチル)エー
テル類に対して0.10〜1.00当量の触媒を使用す
ることを特徴とする請求項11、12又は13記載のビ
ス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項16】 一般式[I]で表されるビス(アシ
ルオキシメチル)エーテル類に対し、一般式[II]で
表される置換フェノール類を2.2〜3.5当量用いる
ことを特徴とする請求項1〜15のいずれかに記載のビ
ス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項17】 一般式[I]で表されるビス(アシ
ルオキシメチル)エーテル類に対し、一般式[II]で
表される置換フェノール類を2.5〜3.0当量用いる
ことを特徴とする請求項1〜15のいずれかに記載のビ
ス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法。 - 【請求項18】 反応温度120〜160℃で反応さ
せることを特徴とする請求項1〜17のいずれかに記載
のビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法
。 - 【請求項19】 反応温度130〜150℃で反応さ
せることを特徴とする請求項1〜17のいずれかに記載
のビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3052587A JPH04290840A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | ビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3052587A JPH04290840A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | ビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04290840A true JPH04290840A (ja) | 1992-10-15 |
Family
ID=12918926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3052587A Pending JPH04290840A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | ビス(アリールオキシメチル)エーテル類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04290840A (ja) |
-
1991
- 1991-03-18 JP JP3052587A patent/JPH04290840A/ja active Pending
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