JPH06263758A - ビススクアリリウム系化合物 - Google Patents
ビススクアリリウム系化合物Info
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- JPH06263758A JPH06263758A JP5052283A JP5228393A JPH06263758A JP H06263758 A JPH06263758 A JP H06263758A JP 5052283 A JP5052283 A JP 5052283A JP 5228393 A JP5228393 A JP 5228393A JP H06263758 A JPH06263758 A JP H06263758A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式〔Ｉ〕で示されるビススクアリリ
ウム系化合物 【化１】 （式中、環Ａ，Ｂ，Ｃは窒素原子を含む複素環を示
す。） 【効果】 本発明の化合物は四角酸構造を二個有する新
規な化合物であり、公知の四角酸構造が一個の化合物に
比べて吸収波長が１００ｎｍ以上も長波長側に吸収を有
するので半導体レーザー利用分野等に有用である。
ウム系化合物 【化１】 （式中、環Ａ，Ｂ，Ｃは窒素原子を含む複素環を示
す。） 【効果】 本発明の化合物は四角酸構造を二個有する新
規な化合物であり、公知の四角酸構造が一個の化合物に
比べて吸収波長が１００ｎｍ以上も長波長側に吸収を有
するので半導体レーザー利用分野等に有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なスクアリリウム系
化合物に関するものであり、詳しくは、染料、高分子の
着色材料、液晶用二色性色素等の分野、更には電子写真
プリンターの電子写真感光材料、光ディスク用記録材
料、非線形光学材料、近赤外線カットフィルター用材料
等の半導体レーザー利用分野で有用な新規なビススクア
リリウム系化合物に関するものである。
化合物に関するものであり、詳しくは、染料、高分子の
着色材料、液晶用二色性色素等の分野、更には電子写真
プリンターの電子写真感光材料、光ディスク用記録材
料、非線形光学材料、近赤外線カットフィルター用材料
等の半導体レーザー利用分野で有用な新規なビススクア
リリウム系化合物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】スクアリリウム系化合物としては従来か
ら種々のものが知られており、例えばＡｎｇｅｗ．ｃｈ
ｅｍ．７９ ５８１（１９６７）等に記載のものが挙げ
られる。しかし、これら公知の化合物は通常、四角酸構
造が１分子内に１つの構造であり、このような化合物は
半導体レーザー分野に使用するには吸収波長がやや短か
いという問題点があった。
ら種々のものが知られており、例えばＡｎｇｅｗ．ｃｈ
ｅｍ．７９ ５８１（１９６７）等に記載のものが挙げ
られる。しかし、これら公知の化合物は通常、四角酸構
造が１分子内に１つの構造であり、このような化合物は
半導体レーザー分野に使用するには吸収波長がやや短か
いという問題点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は種々の色素材
料、半導体レーザー利用分野での有用材料として用いら
れる新規なビススクアリリウム系化合物を提供すること
を目的とする。
料、半導体レーザー利用分野での有用材料として用いら
れる新規なビススクアリリウム系化合物を提供すること
を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記請求項１
において、一般式〔Ｉ〕で示されるビススクアリリウム
系化合物を要旨とする。本発明を更に詳しく説明する。
において、一般式〔Ｉ〕で示されるビススクアリリウム
系化合物を要旨とする。本発明を更に詳しく説明する。
【０００５】
【化２】
【０００６】環Ｄ，Ｅ，Ｆとしては、各々置換基があっ
てもよいベンゼン環またはナフタリン環が挙げられ、好
ましい置換基としては、例えばメチル基、エチル基の様
な低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基の様な低級
アルコキシ基、塩素、臭素の様なハロゲン原子、トリフ
ルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基の様なパーフ
ルオロアルキル基等のハロゲン置換アルキル基等が挙げ
られる。これらの置換基は１個以上結合していてもよ
い。
てもよいベンゼン環またはナフタリン環が挙げられ、好
ましい置換基としては、例えばメチル基、エチル基の様
な低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基の様な低級
アルコキシ基、塩素、臭素の様なハロゲン原子、トリフ
ルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基の様なパーフ
ルオロアルキル基等のハロゲン置換アルキル基等が挙げ
られる。これらの置換基は１個以上結合していてもよ
い。
【０００７】置換基Ｒ1 ，Ｒ4 ，Ｒ5 としては、置換基
を有していてもよいアルキル基が挙げられメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基等のＣ1-8 のアルキル基；メトキシ
エチル基、エトキシエチル基、メトキシプロピル基、メ
トキシエトキシエトキシエチル基等のエーテル基を１〜
４個有するアルキル基；フェニルエチル基、フェニルプ
ロピル基等の置換していてもよいフェニル基等のアリー
ル基で置換されたアルキル基；フェノキシエチル基、フ
ェノキシプロピル基等の置換していてもよいフェノキシ
基等のアリールオキシ基で置換されたアルキル基；フッ
素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換さ
れたアルキル基；その他、置換基としてエステル基、シ
アノ基、ニトロ基、チオエーテル基、カルボニル基、ス
ルホニル基、アミノ基、置換アミノ基、アミド基、チオ
アミド基、ヒドロキシル基、チオール基、カルボン酸エ
ステル基またはスルホン酸基、フリル基、テトラヒドロ
フリル基等を有するアルキル基を挙げることが出来る。
を有していてもよいアルキル基が挙げられメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基等のＣ1-8 のアルキル基；メトキシ
エチル基、エトキシエチル基、メトキシプロピル基、メ
トキシエトキシエトキシエチル基等のエーテル基を１〜
４個有するアルキル基；フェニルエチル基、フェニルプ
ロピル基等の置換していてもよいフェニル基等のアリー
ル基で置換されたアルキル基；フェノキシエチル基、フ
ェノキシプロピル基等の置換していてもよいフェノキシ
基等のアリールオキシ基で置換されたアルキル基；フッ
素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換さ
れたアルキル基；その他、置換基としてエステル基、シ
アノ基、ニトロ基、チオエーテル基、カルボニル基、ス
ルホニル基、アミノ基、置換アミノ基、アミド基、チオ
アミド基、ヒドロキシル基、チオール基、カルボン酸エ
ステル基またはスルホン酸基、フリル基、テトラヒドロ
フリル基等を有するアルキル基を挙げることが出来る。
【０００８】置換基Ｒ2 ，Ｒ3 としては、アルキル基を
示し、互いに連結して環を形成してもよい。アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等の低級アルキル基が挙げられ、環としては、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の脂肪族炭
化水素環、ノルボルナン、アダマンタン、ビシクロ
〔３．３．１〕ノナン等の橋かけ構造を有していてもよ
い炭化水素環等が挙げられる。
示し、互いに連結して環を形成してもよい。アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等の低級アルキル基が挙げられ、環としては、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の脂肪族炭
化水素環、ノルボルナン、アダマンタン、ビシクロ
〔３．３．１〕ノナン等の橋かけ構造を有していてもよ
い炭化水素環等が挙げられる。
【０００９】
【化３】
【００１０】本発明の一般式〔Ｉ〕で表わされるスクア
リリウム系化合物の具体例としては、以下の表−１のも
のを挙げることが出来る。
リリウム系化合物の具体例としては、以下の表−１のも
のを挙げることが出来る。
【００１１】
【表１】
【００１２】
【表２】
【００１３】
【表３】
【００１４】
【表４】
【００１５】本発明の一般式〔Ｉ〕の化合物は例えば、
以下のようにして合成することが出来る。すなわちＮ−
アルキル−２−メチルベンゾチアゾリウム塩などの目的
とする一般式〔Ｉ〕の化合物中の環Ａ，Ｂ，Ｃに相当す
る複素環化合物の窒素原子が４級アミン塩となっている
複素環化合物を四角酸に対して２倍モル用いてアルコー
ル−ベンゼン混合溶媒中、１１０℃、７−１５時間反応
させることにより、本発明の一般式〔Ｉ〕のビススクア
リリウム型色素を合成することができる。なお、この反
応では、副生成物として一般の四角酸構造を１つしか有
さない対称型スクアリリウム色素も得られる。また、こ
の反応系で通常用いられるキノリン触媒が存在しても本
発明の化合物は得られるが、触媒を用いない方がこの反
応には好ましい。
以下のようにして合成することが出来る。すなわちＮ−
アルキル−２−メチルベンゾチアゾリウム塩などの目的
とする一般式〔Ｉ〕の化合物中の環Ａ，Ｂ，Ｃに相当す
る複素環化合物の窒素原子が４級アミン塩となっている
複素環化合物を四角酸に対して２倍モル用いてアルコー
ル−ベンゼン混合溶媒中、１１０℃、７−１５時間反応
させることにより、本発明の一般式〔Ｉ〕のビススクア
リリウム型色素を合成することができる。なお、この反
応では、副生成物として一般の四角酸構造を１つしか有
さない対称型スクアリリウム色素も得られる。また、こ
の反応系で通常用いられるキノリン触媒が存在しても本
発明の化合物は得られるが、触媒を用いない方がこの反
応には好ましい。
【００１６】また、複素環化合物を複数種使用すれば、
環Ａ，Ｂ，Ｃが同一でない化合物が得られる。本発明の
ビススクアリリウム系化合物は、一分子内に四角酸構造
を２個有しており、Ａｎｇｅｗ．ｃｈｅｍ．７９ ５８
１（１９６７）等に記載されているような公知の四角酸
構造を１個有するスクアリリウム系化合物より１００ｎ
ｍ以上吸収波長が長波長にあり、半導体レーザーを利用
する分野の種々の用途に有用である。
環Ａ，Ｂ，Ｃが同一でない化合物が得られる。本発明の
ビススクアリリウム系化合物は、一分子内に四角酸構造
を２個有しており、Ａｎｇｅｗ．ｃｈｅｍ．７９ ５８
１（１９６７）等に記載されているような公知の四角酸
構造を１個有するスクアリリウム系化合物より１００ｎ
ｍ以上吸収波長が長波長にあり、半導体レーザーを利用
する分野の種々の用途に有用である。
【００１７】
【発明の効果】本発明の一般式〔Ｉ〕で示されるビスス
クアリリウム系化合物は染料、高分子の着色材料、液晶
用二色性色素の他電子写真感光材料、光ディスク用記録
材料、非線形光学材料、近赤外線カットフィルター用材
料等半導体レーザーを利用する分野での種々の用途に用
いられる。
クアリリウム系化合物は染料、高分子の着色材料、液晶
用二色性色素の他電子写真感光材料、光ディスク用記録
材料、非線形光学材料、近赤外線カットフィルター用材
料等半導体レーザーを利用する分野での種々の用途に用
いられる。
【００１８】
前記表−１ Ｎｏ．２の化合物の合成
【００１９】
【化４】
【００２０】ヨウ化Ｎ−ブチル−２−メチルベンゾチア
ゾリウム塩〔II〕１３．２ｇ（４０ｍｍｏｌ）と四角酸
〔III 〕２．３ｇ（２０ｍｍｏｌ）をブチルアルコール
８０ｍｌ、ベンゼン２０ｍｌの混合溶媒中で１１０℃、
７時間反応させた。冷却後、クロロホルム４０ｍｌ、酢
酸エチル３０ｍｌ、メタノール３０ｍｌを加え、溶液を
１２時間放置する。生成した結晶を濾過したのち、酢酸
エチルで洗浄し、ジクロロメタン−酢酸エチル混合溶媒
から再結晶して、ビススクアリリウム型色素〔Ｉａ〕
（表１，Ｎｏ．２，陰イオン：ヨウ素）が３．９ｇ（収
率：４３％）得られた。このものの元素分析地、 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトル、ＵＶスペクトルは次の通りであっ
た。
ゾリウム塩〔II〕１３．２ｇ（４０ｍｍｏｌ）と四角酸
〔III 〕２．３ｇ（２０ｍｍｏｌ）をブチルアルコール
８０ｍｌ、ベンゼン２０ｍｌの混合溶媒中で１１０℃、
７時間反応させた。冷却後、クロロホルム４０ｍｌ、酢
酸エチル３０ｍｌ、メタノール３０ｍｌを加え、溶液を
１２時間放置する。生成した結晶を濾過したのち、酢酸
エチルで洗浄し、ジクロロメタン−酢酸エチル混合溶媒
から再結晶して、ビススクアリリウム型色素〔Ｉａ〕
（表１，Ｎｏ．２，陰イオン：ヨウ素）が３．９ｇ（収
率：４３％）得られた。このものの元素分析地、 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトル、ＵＶスペクトルは次の通りであっ
た。
【００２１】
【表５】 理論値／％ 測定値／％ 炭素 ５８．７２ ５７．８７ 水素 ４．７０ ４．４９ 窒素 ４．６７ ４．２２
【００２２】以下に水素核磁気共鳴により得られた化学
シフト値を示す。1 Ｈ−ＮＭＲ（ｄ6 −ＤＭＳＯ）δ：０．７３（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
１Ｈｚ），１．１２−１．２０（２Ｈ，ｍ），１．２８
−１．４２（４Ｈ，ｍ），１．６４−１．９８（６Ｈ，
ｍ），４．３０（４Ｈ，ｂ），４．７３（２Ｈ，ｂ），
６．００（２Ｈ，ｓ），７．２５−８．０（１０Ｈ，
ｍ），８．５３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８ ａｎｄ １６Ｈ
ｚ）． ＵＶ：７９６ｎｍ（ｌｏｇε＝５．４９、クロロホルム
中）
シフト値を示す。1 Ｈ−ＮＭＲ（ｄ6 −ＤＭＳＯ）δ：０．７３（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
１Ｈｚ），１．１２−１．２０（２Ｈ，ｍ），１．２８
−１．４２（４Ｈ，ｍ），１．６４−１．９８（６Ｈ，
ｍ），４．３０（４Ｈ，ｂ），４．７３（２Ｈ，ｂ），
６．００（２Ｈ，ｓ），７．２５−８．０（１０Ｈ，
ｍ），８．５３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８ ａｎｄ １６Ｈ
ｚ）． ＵＶ：７９６ｎｍ（ｌｏｇε＝５．４９、クロロホルム
中）
【００２３】〔実施例２〕実施例１で合成したビススク
アリリウム型色素〔Ｉａ〕（陰イオン：ヨウ素）０．１
ｇをジクロロメタンに溶解させ、ナトリウムテトラフェ
ニルボレート（３６ｍｇ）をメタノール３ｍｌに溶かし
た液を加える。この溶液を６０℃で１時間撹はんする。
冷却後、酢酸エチル６ｍｌを加え、一昼夜放置する。生
じた結晶を濾過、塩化メチレン−ヘキサン混合溶媒から
再結晶することにより、ビススクアリリウム型色素（表
１、Ｎｏ．２）の陰イオンがテトラフェニルボレートで
ある色素〔Ｉｂ〕が得られる。このものの元素分析地、
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＵＶスペクトルは次の通りで
あった。
アリリウム型色素〔Ｉａ〕（陰イオン：ヨウ素）０．１
ｇをジクロロメタンに溶解させ、ナトリウムテトラフェ
ニルボレート（３６ｍｇ）をメタノール３ｍｌに溶かし
た液を加える。この溶液を６０℃で１時間撹はんする。
冷却後、酢酸エチル６ｍｌを加え、一昼夜放置する。生
じた結晶を濾過、塩化メチレン−ヘキサン混合溶媒から
再結晶することにより、ビススクアリリウム型色素（表
１、Ｎｏ．２）の陰イオンがテトラフェニルボレートで
ある色素〔Ｉｂ〕が得られる。このものの元素分析地、
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＵＶスペクトルは次の通りで
あった。
【００２４】
【表６】 理論値／％ 測定値／％ 炭素 ６６．９９ ６６．３５ 水素 ５．１３ ５．５７ 窒素 ３．４５ ３．７６
【００２５】以下に水素核磁気共鳴により得られた化学
シフト値を示す。1 Ｈ−ＮＭＲ（ｄ6 −ＤＭＳＯ）δ：０．７４（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），０．９１（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
３Ｈｚ），１．２０（２Ｈ，ｂ），１．３８−１．４３
（４Ｈ，ｍ），１．６８−１．７２（６Ｈ，ｍ），４．
４３（４Ｈ，ｂ），４．７３（２Ｈ，ｂ），６．１６
（２Ｈ，ｓ），６．７８（８Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），
６．９２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．１５−７．１
９（８Ｈ，ｂ），７．３７−７．９８（１０Ｈ，ｍ），
８．５２（２Ｈ，ｍ）． ＵＶ：８００ｎｍ（ｌｏｇε＝５．５０、クロロホルム
中）
シフト値を示す。1 Ｈ−ＮＭＲ（ｄ6 −ＤＭＳＯ）δ：０．７４（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），０．９１（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
３Ｈｚ），１．２０（２Ｈ，ｂ），１．３８−１．４３
（４Ｈ，ｍ），１．６８−１．７２（６Ｈ，ｍ），４．
４３（４Ｈ，ｂ），４．７３（２Ｈ，ｂ），６．１６
（２Ｈ，ｓ），６．７８（８Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），
６．９２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．１５−７．１
９（８Ｈ，ｂ），７．３７−７．９８（１０Ｈ，ｍ），
８．５２（２Ｈ，ｍ）． ＵＶ：８００ｎｍ（ｌｏｇε＝５．５０、クロロホルム
中）
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 215/20 277/64 401/14 7602−4Ｃ
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式〔Ｉ〕で示されるビススクア
リリウム系化合物 【化１】 （式中、環Ａ，Ｂ，Ｃは窒素原子を含む複素環を示
す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05228393A JP3221139B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | ビススクアリリウム系化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05228393A JP3221139B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | ビススクアリリウム系化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06263758A true JPH06263758A (ja) | 1994-09-20 |
| JP3221139B2 JP3221139B2 (ja) | 2001-10-22 |
Family
ID=12910475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05228393A Expired - Fee Related JP3221139B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | ビススクアリリウム系化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3221139B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007091683A1 (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-16 | Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. | ビススクアリリウム化合物 |
| WO2023037843A1 (ja) * | 2021-09-07 | 2023-03-16 | 国立大学法人九州工業大学 | 新規ダブルスクアライン色素及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP05228393A patent/JP3221139B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007091683A1 (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-16 | Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. | ビススクアリリウム化合物 |
| WO2023037843A1 (ja) * | 2021-09-07 | 2023-03-16 | 国立大学法人九州工業大学 | 新規ダブルスクアライン色素及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3221139B2 (ja) | 2001-10-22 |
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