JPH04275990A - 陶器製又は磁器製物品の施釉方法 - Google Patents

陶器製又は磁器製物品の施釉方法

Info

Publication number
JPH04275990A
JPH04275990A JP3320640A JP32064091A JPH04275990A JP H04275990 A JPH04275990 A JP H04275990A JP 3320640 A JP3320640 A JP 3320640A JP 32064091 A JP32064091 A JP 32064091A JP H04275990 A JPH04275990 A JP H04275990A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glaze
article
container
glazing
movement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3320640A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3192187B2 (ja
Inventor
Karl Voit
カール・ボイト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Voit Michael GmbH
Original Assignee
Voit Michael GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Voit Michael GmbH filed Critical Voit Michael GmbH
Publication of JPH04275990A publication Critical patent/JPH04275990A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3192187B2 publication Critical patent/JP3192187B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
    • B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
    • B05C3/09—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
    • B05C3/10—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles the articles being moved through the liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
    • B28B11/044—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers with glaze or engobe or enamel or varnish
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
    • B28B11/045—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers by dipping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Specific Conveyance Elements (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は物品、特に壷や椀、缶な
どのような中空の容器に施釉する（即ち、釉薬を掛ける
）ための装置であって、前記物品を支持し物品を少なく
ともその一部を釉薬槽に浸すことができるように回転な
らびに旋回する少なくとも１つの釉薬容器を備えた少な
くとも１つの施釉ステーションを有する装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４，９９５，３３１号はこの
型の施釉装置を記載しているが、その装置は複数の支持
アームを有するキャプスタンを有し、各支持アームは少
なくとも１個の釉薬容器のための加工品ホルダを備えて
おり、その釉薬容器は釉薬を掛けられる物品の底部を吸
引効果によってしっかり保持するものである。釉薬容器
はそれ自身の軸の周りを回転し、また釉薬槽の方向に傾
いて少なくとも物品の一部を釉薬に浸すため、適切な駆
動装置により作動させられる。釉薬容器の加工品ホルダ
へおよび支持アームへの取付は釉薬容器の傾き運動を約
１２０゜の角度範囲に制限するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような施釉装置は
皿などの平たい物品の施釉には満足すべきものであるが
、椀、壷などの比較的深い中空の物品あるいは膨れのあ
る形状の物品に関しては、先行技術の施釉装置は物品に
均等に釉薬を掛け、また過剰な釉薬を適切に滴り落すた
めには不適切なものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】それで、本発明の目的は
改善された施釉装置を提供して前記の課題を解決するこ
とである。　　特に、中空の物品を完全に自動化された
方法により信頼できる仕方で均等に施釉できる改良され
た施釉装置を提供することが本発明の目的である。
【０００５】これらならびに以下に明らかにされる他の
目的は、施釉される物品を保持する釉薬容器がそれ自身
の軸の周りに回転可能であり、また釉薬槽の側に傾ける
ことができるだけでなく、釉薬槽の液面に対し実質的に
垂直な方向に案内されて変位させる駆動装置を設けた装
置を提供することにより、本発明によって解決される。
【０００６】釉薬容器の垂直方向の本質的に線形な変位
をも可能にする駆動装置を提供することにより、深さの
深いまた腹部が膨れた形状の中空の物品を、内面および
外面に沿って確実に均一に釉薬を掛けることができる。 釉薬容器の垂直方向の動きの大きさを、施釉される物品
の深さおよび／あるいはその特定の形状に依存させるの
はふさわしい。
【０００７】本発明の他の特徴として、釉薬容器はほぼ
１８０゜の角度範囲で傾けることができ、それにより、
特に物品を釉薬槽から引き出す際に上下に垂直に動かす
時に、過剰な釉薬が釉薬槽へと流れ落ちあるいは滴り落
ちるようにすることができる。
【０００８】施釉される物品を携えた釉薬容器は初期の
位置から釉薬槽へ浸される箇所へと１８０゜傾けられる
位置まで旋回させられる。このようにして、釉薬容器を
旋回可能な角度範囲はかなり拡大されている。３つの異
なる変位モード（すなわち、回転運動、傾き運動、垂直
運動）を設けることにより、釉薬容器の動きあるいは制
御はいかなる適切な形も選択することができる。少なく
とも速度ならびに上下運動の範囲を制御するのは有利で
ある。
【０００９】本発明の他の特徴として、釉薬容器のそれ
自身の軸の周りの回転ならびに傾き運動および／または
垂直上下運動は、物品の特定の特徴に応じて同期させる
ことができる。このようにして、不規則な形態の物品に
確実に施釉することができる。それに加え、釉薬容器の
それ自身の軸の周りの回転運動ならびに傾き運動および
／または垂直上下運動を別々に制御できるようにして、
釉薬容器の動作のモードに関するほとんど万能な制御シ
ステムを実現することが望ましい。
【００１０】本発明の他の特徴として、釉薬容器の垂直
動を実行するための駆動装置は実質的に真っ直ぐな固定
の滑べり棒と、滑べり棒の上に沿って移動可能な、そし
て釉薬容器に動作的に連結されたキャリッジを有し、キ
ャリッジが実質的に垂直な方向に上下に動くようにされ
ている。しかし、釉薬容器を加工品ホルダに搭載して、
加工品ホルダが駆動装置の作用を受けるようにするのが
、好ましい。
【００１１】
【実施例】本発明の上記ならびに他の目的、特徴および
有利な点を、図面を参照しながら以下により詳しく説明
する。
【００１２】すべての図面において、同じあるいは対応
する要素は同じ参照番号で示されている。
【００１３】図面、特に図１を参照すると、そこには、
例えば陶器あるいは磁器製の壷、椀などのような中空の
物品に施釉するための、本発明の施釉装置の一実施例が
略図によって示されている。図１の実施例は本発明を限
定するためのものではないが、施釉装置１は同時に３個
の物品２に施釉するように設計されており、その３個の
物品はコンベヤ１９によって矢印３０の方向に供給領域
Ａへと運ばれ、その供給領域は、参照番号３で示される
センタリング・ステーションを含んでいる。コンベヤ１
９は互いに対し間隔をおいた２本のベルトを有するタイ
プのものであり、その２本のベルトの間に、例えば各物
品２の外側底面に適切なデータを押印することができる
ように、中間スペースが開いている。
【００１４】センタリング・ステーション３では、後の
工程のために、物品２はそれぞれ４つのローラ２０のセ
ットによって適切に整列される。物品２は、整列あるい
はセンタリングされた後、対応する３個の吸引部材４の
セットにより捕らえら、取り上げられる。その吸引部材
４により物品２は一緒に運ばれ、参照番号５で示され図
２で詳しく示される施釉ステーションにある対応するセ
ットの釉薬ポットあるいは容器１３に位置される。
【００１５】施釉ステーション５で施釉された後、物品
２は、対応する３個の吸引部材６のセットにより釉薬容
器１３から排出領域Ｃに位置する吸収性のコンベヤ・ベ
ルト８へと運ばれ、その後、矢印３１で示されているよ
うにその後の処理へと進んで行く。物品２が吸収性のベ
ルト８に置かれる際に物品２を回して、施釉された物品
の基部あるいは底部から余分な釉薬を取り去ることがで
きるように、吸引部材６は回転可能である。
【００１６】これに関連して、米国特許第４，９９５，
３３１号が参照される。この米国特許は概してここに開
示されたようなタイプの施釉装置の例を説明している。
【００１７】図１に示されているように、吸引部材４の
セットおよび吸引部材６のセットは参照番号２１で示さ
れるキャリッジを介して互いに連結されている。キャリ
ッジ２１は、吸引部材４および吸引部材６を同時に変位
できるように支持バー２２ａ、２２ｂを介して吸引部材
４および吸引部材６に取り付けられている。キャリッジ
２１は、間隔をおいて平行なガイド・レール２３を走り
、モータ２４によって駆動されて二重矢印３２の方向に
変位する。モータ２４は、ガイド・レール２３の間にわ
たされた横バー２５に動作連結されている。第２のモー
タ７は、横バー２６を介してキャリッジ２１に適切に接
続され、リンク・ロッド２７により支持バー２２ａに連
接されており、キャリッジ２１が適切な空気圧シリンダ
２８およびガイド・レール２９を介して二重矢印３３の
方向に移動できるようになっている。このようにして、
吸引部材４および吸引部材６はモータ２４および７によ
り水平にＸ軸およびＹ軸に沿って同時に位置を変えるこ
とができる。
【００１８】図２には、本発明による施釉ステーション
５の好適な実施例の側面図が示されている。図２より、
施釉装置１の施釉ステーション５は参照番号１０で示さ
れる加工品ホルダを含んでいることが分かるが、処理対
象の物品２は施釉装置１のさまざまな段階を通してこの
加工品ホルダ１０により保持される。各加工品ホルダ１
０は１個の釉薬容器１３を支持し、キャリッジ１１に搭
載されている。二重矢印４５で示されているように、キ
ャリッジ１１は適切な駆動装置４４（図３）、例えば空
気圧シリンダ／ピストン装置（図示されていない）、に
よって滑べり棒１２に沿って実質的に垂直方向に上向き
および下向きに移動することができる。
【００１９】加工品ホルダ１０は速度調節が可能なモー
タ１４に動作連結されており、このモータ１４により加
工品ホルダ１０、また物品２を携えた釉薬容器１３が軸
の周りに回転可能である。釉薬容器１３の傾き運動を可
能にするために、加工品ホルダ１０は制御可能なモータ
１５の作用を更に受け、このモータ１５により釉薬容器
１３を約１８０゜反対向きに旋回させることができる。
【００２０】各釉薬容器１３は実質的に中空のシリンダ
形状をしており、その内部には釉薬の所定の量が収容さ
れ、物品２の底にも施釉できるようになっている。釉薬
容器１３の上側には、物品を柔らかく支持できるように
、環状の弾性受け面４０を設けることができる。受け面
４０の弾性は、適切な材料を選択することにより、ある
いは適切な設計により、実現することができる。各釉薬
容器１３の下端には中央突起４１が設けられており、そ
れにより釉薬容器１３は加工品ホルダ１０に支持されて
いる。中央突起４１は中央通路を有しており、この通路
は吸引パイプ４２により釉薬容器１３の内部へと延長さ
れている。この吸引パイプ４２は、釉薬容器１３の内部
に減圧を生成できるように吸引器（図示されていない）
へと接続されている。この減圧により、釉薬容器１３の
受け面４０に置かれた物品２は適正な位置にしっかりと
保持される。
【００２１】各吸引部材４、６（図２では吸引部材４の
みが示されている）は、その物品２に面する端に吸引カ
ップ４３が設けられている。参照番号１６で略図的に示
されているのは適切な駆動組立体であり、吸引部材４を
二重矢印３４で示されているように垂直方向に動かすた
めのものである。このように、吸引部材４は矢印３２、
３３の方向に水平に、そして矢印３４で示されたように
垂直方向に位置を変え、物品２を取り上げ、それらを施
釉ステーション５の釉薬容器１３の上に適切に置くこと
ができる。
【００２２】詳細に示されてはいないが、吸引部材６も
同様に駆動組立体の作用を受ける。
【００２３】しかし、その組立体は垂直方向に変位させ
るだけではなく、矢印３５（図１）に示されているよう
に吸引部材をその軸の回りに回転させ、物品２が吸収性
のベルト８に置かれる際、基部あるいは底のあたりの過
剰な釉薬を取り除けるようにされている。
【００２４】図１に示された施釉装置の位置は、吸引部
材４のセットがコンベヤ・ベルト１９から未加工の物品
２を取り上げるようとする状態であり、他方、吸引部材
６は施釉された物品２を吸収性のベルト８上に置こうと
する状態にキャリッジ２１が位置しているところである
。キャリッジ２１は、次いで、矢印３６に示されている
ように左に移動して、吸引部材６が施釉された物品２を
釉薬容器１３から取り上げ、矢印３７の方向に水平に位
置を変え、吸引部材４が釉薬容器１３に整列するするよ
うにする。吸引部材４が下げられ、未加工の物品２が釉
薬容器１３の上に置かれる。続いて、キャリッジ２１は
矢印３８に示されているように右に移動し、矢印３９の
方向へと初期位置に復帰し、その位置で吸引部材４は更
に未加工の物品２を取り上げ、吸引部材６は施釉された
物品２を吸収性のベルト８の上に置く。このようにして
、施釉装置１は実質的に４サイクル工程を実行する。 　　再び図２に戻るが、その図では施釉ステーション５
において物品２の施釉ステップが説明されている。以下
の個々の施釉ステップの説明は例示のためだけになされ
ていることを理解されたい。
【００２５】未加工の物品２が吸引部材４によりそれぞ
れ釉薬容器１３上に設置された後、物品２が、左下側に
破線で釉薬容器１３’として示されているように、釉薬
通し１７中の釉薬の溜りに浸されるように、各釉薬容器
１３が旋回される。内面および外面の両方に均等に施釉
するように釉薬容器１３を回転させつつ、同時に、釉薬
容器１３を約１８０゜旋回するまで更に傾ける。この位
置において、物品２は釉薬槽に完全に沈められる。物品
２を釉薬通し１７中へ浸す深さ、あるいはそのためのキ
ャリッジ１１の動きは、物品２が釉薬の溜りによって完
全にまた均等に塗られるように選択される。同時に、釉
薬容器１３のそれ自身の軸の周りの回転の速度ならびに
傾く速度および／あるいは傾き角は別々にあるいは組み
合せて制御・調整することができる。
【００２６】物品２に釉薬を掛けた後、釉薬容器１３は
右下側に破線で釉薬容器１３’’として示されている位
置となる。この位置で、物品２は釉薬通し１７の釉薬溜
りの液面１８の少し上にまで伸びている。この位置で、
すなわち、釉薬槽の外部で、釉薬容器１３は加工品ホル
ダ１０を介して垂直方向に上限に動かされ、過剰な釉薬
が物品２から釉薬通し１７へと流れ落ちるあるいは滴り
落ちるようにされる。その後、釉薬容器１３はその最初
の位置に戻され、施釉された物品２が吸引部材６により
保持され取り上げられ、排出領域Ｃに位置する吸収性の
ベルト８へと運ばれる。
【００２７】釉薬容器１３が３つの異なる動作モードの
方向に制御可能であるため、施釉工程はいかなる適切な
方法でも実行することができ、以上に述べられた動作シ
ーケンスに限定されるべきではない。しかし、過剰な釉
薬を取り除くため、釉薬容器１３の上下運動は、釉薬槽
から取り去られる、即ち、釉薬槽の液面１８の上に伸び
る物品２と共に実行されるべきである。
【００２８】吸引部材４および６の数が図１に示された
例とは異なっていても良いことが当業者には了解できる
であろう。また、３個の吸引部材４および６の列を更に
続けて設けることもできる。しかし、１つの列当り少な
くとも２個の吸引部材４および６を設けるのが好ましい
。施釉装置１の出力は、望ましければ、米国特許第４，
９９５，３３１号の施釉装置のものと同様の円形のテー
ブルを用いることもできる。この場合、施釉ステーショ
ンは釉薬容器１３のふさわしい動きが可能なように、変
更されるべきである。
【００２９】釉薬容器１３の個々の動作は別個に制御す
ることもできるし、釉薬容器１３の変位を特定の物品に
依存して選択・調整できる適切な制御装置４６（図３）
により一斉に制御することもできる。また、釉薬容器の
ための制御装置４６は用いられる釉薬の性質、例えば粘
度などを考慮にいれて変更することもできる。
【００３０】さらに、釉薬容器を少なくとも１８０゜旋
回させるためにおよび／あるいは釉薬容器１３を釉薬通
し１７中の釉薬の液面１８に対し実質的に垂直に動かす
ために、ユニバーサル型の駆動装置を用いることもでき
ることに注意されたい。
【００３１】本発明は陶器あるいは磁器製の物品のため
の施釉装置に実施されるものとして例示し説明したが、
示された詳細により限定されるものではない。本発明の
趣旨から外れることなく、様々な修正ならびに構造上の
変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の施釉装置の一実施例を示す略図である
。
【図２】施釉工程における釉薬容器の様々な位置を詳細
に示す、本発明の施釉ステーションの側面図である。
【図３】本発明の様々な構成部分を示す略ブロック図で
ある。
【符号の説明】
２　　　　物品 ５　　　　施釉ステーション １０　　加工品ホルダ １１　　キャリッジ １２　　滑り棒 １３　　釉薬容器 １８　　釉薬層液面

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　施釉される物品の底部を吸引効果によ
    り保持する少なくとも１個の釉薬容器（１３）を備えた
    少なくとも１個の施釉ステーション（５）を有し、該釉
    薬容器（１３）は、自分自身の軸の周りに回転可能で、
    少なくとも一部を浸しまたそれから取り出すために釉薬
    槽の方向に傾くことができる、陶器製あるいは磁器製の
    物品のための施釉装置であって、施釉される前記物品（
    ２）を携えた該釉薬容器（１３）が更に前記釉薬槽の液
    面（１８）に実質的に垂直な方向に動くことができるこ
    とを特徴とする、陶器製あるいは磁器製の物品、特に椀
    、壷、缶など、のための施釉装置。
  2. 【請求項２】　　釉薬容器（１３）を初期位置から約１
    ８０゜の角度範囲で傾けることが可能であることを特徴
    とする、請求項１の装置。
  3. 【請求項３】　　釉薬容器（１３）が、施釉される前記
    物品（２）を釉薬槽に向けさせながら、前記釉薬槽の液
    面（１８）に対して実質的に垂直な方向に上下に直線的
    に可動であることを特徴とする、請求項１および２のい
    ずれか１項に記載の装置。
  4. 【請求項４】　　前記垂直方向の上下運動が、実質的に
    、前記物品が前記釉薬槽から引き出される際に行われる
    ことを特徴とする、請求項３の装置。
  5. 【請求項５】　　少なくとも前記上下運動の速度が制御
    可能であることを特徴とする、請求項１ないし４のいず
    れか１項の装置。
  6. 【請求項６】　　前記釉薬容器（１３）の前記自分自身
    の軸の周りの回転運動ならびに前記傾き運動および／あ
    るいは前記垂直方向の上下運動が前記物品に最適な方法
    で同期させられていることを特徴する、請求項１ないし
    ５のいずれか１項の装置。
  7. 【請求項７】　　前記釉薬容器（１３）の前記自分自身
    の軸の周りの回転運動ならびに前記傾き運動および／あ
    るいは前記垂直方向の上下運動が別個に制御可能である
    ことを特徴とする、請求項１ないし６のいずれか１項の
    装置。
  8. 【請求項８】　　前記釉薬容器（１３）が、前記釉薬槽
    の液面（１８）に実質的に垂直な方向に可動な加工品ホ
    ルダ（１０）に搭載されていることを特徴とする、請求
    項１ないし７のいずれか１項の装置。
  9. 【請求項９】　　前記上下運動が、真っ直ぐな滑べり棒
    （１２）により案内されて直線的に変位するキャリッジ
    （１１）に前記加工品ホルダ（１０）を搭載することに
    より実現されていることを特徴とする、請求項８の装置
    。
JP32064091A 1990-12-05 1991-12-04 陶器製又は磁器製物品の施釉方法 Expired - Lifetime JP3192187B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4038797A DE4038797A1 (de) 1990-12-05 1990-12-05 Maschine zum glasieren von ton- und porzellanwaren
DE4038797.6 1990-12-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04275990A true JPH04275990A (ja) 1992-10-01
JP3192187B2 JP3192187B2 (ja) 2001-07-23

Family

ID=6419656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32064091A Expired - Lifetime JP3192187B2 (ja) 1990-12-05 1991-12-04 陶器製又は磁器製物品の施釉方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5405649A (ja)
EP (1) EP0489292B1 (ja)
JP (1) JP3192187B2 (ja)
DE (2) DE4038797A1 (ja)
ES (1) ES2055513T3 (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4337219C2 (de) * 1993-10-30 1995-08-17 Zeidler Kg Maschf Heinrich Verfahren und Vorrichtung zum Glasieren von Geschirrartikeln, insbesondere Tassen, Terrinen, Schüsseln und dergleichen
DE19648341A1 (de) * 1996-11-22 1998-05-28 Lippert Masch Stahlbau J Rundtisch-Glasiermaschine
DE19652592A1 (de) * 1996-12-18 1998-06-25 Eisenmann Kg Maschbau Vorrichtung zum Innenglasieren von Hohlräume aufweisenden Werkstücken
DE19810710C2 (de) * 1998-03-12 2000-04-13 Lippert Masch Stahlbau J Verfahren zum Glasieren von Ton- oder Porzellan-Hohlware und Anlage zur Durchführung dieses Verfahrens
DE10007700B4 (de) * 2000-02-19 2006-06-01 Sama Maschinenbau Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Bearbeitung der Ränder von Keramikartikeln
CN101905978B (zh) * 2009-06-05 2012-05-02 黄学强 一种全自动施釉生产线及全自动施釉工艺
CN103172407A (zh) * 2013-04-18 2013-06-26 广西北流市智宇陶瓷自动化设备有限公司 一种日用陶瓷制品自动浸釉机
CN104193410A (zh) * 2014-07-31 2014-12-10 广西北流仲礼瓷业有限公司 一种陶瓷外表面上釉装置
CN104326768A (zh) * 2014-09-30 2015-02-04 湖南双龙智创自动化设备有限公司 多工位电瓷浸釉机
CN108437172B (zh) * 2018-03-29 2023-07-18 郑州科技学院 雾化施釉装置及施釉方法
CN108638310B (zh) * 2018-07-19 2019-11-01 广东富大陶瓷文化发展股份有限公司 一种用于日用陶瓷加工的上釉装置
CN109366704B (zh) * 2018-12-01 2020-09-08 施仙增 一种洁具上釉装置
DE102019116461A1 (de) * 2019-06-18 2020-12-24 Lippert Gmbh & Co. Kg Tauchglasieren von sanitärkeramik
CN112405798A (zh) * 2020-11-18 2021-02-26 丽水学院 一种龙泉青瓷自动喷釉设备及其喷釉工艺
CN112390017A (zh) * 2020-11-20 2021-02-23 禹州市华龙钧窑有限公司 一种钧瓷生产用浸釉系统及其工作方法
CN113715140A (zh) * 2021-09-07 2021-11-30 吴继军 一种用于日用陶瓷加工的上釉装置
CN113695176B (zh) * 2021-10-28 2022-02-08 南通好得机械有限公司 一种机械零件生产用防锈浸油设备

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1404309A (en) * 1920-08-13 1922-01-24 Frank W Mcdonald Dipping machine
US1711643A (en) * 1924-02-26 1929-05-07 Remington Arms Co Inc Method and apparatus for impregnating paper tubes or other porous articles
GB339395A (en) * 1929-09-27 1930-12-11 George Wade & Son Ltd Improved means applicable for use in "dipping" articles of earthenware or pottery
US2195671A (en) * 1937-03-18 1940-04-02 Plax Corp Method of coating articles
US2195670A (en) * 1937-03-18 1940-04-02 Plax Corp Apparatus for coating articles
US2755205A (en) * 1953-04-22 1956-07-17 Clarence C Robb Method for coating and draining
US2845045A (en) * 1954-12-08 1958-07-29 Technicon International Ltd Apparatus for processing histologic tissue and other materials
US2824029A (en) * 1956-03-16 1958-02-18 Magnus Chemical Company Inc Method and apparatus for washing machine parts
US3429358A (en) * 1964-09-21 1969-02-25 Howmet Corp Method for manufacture of refractory shell molds
GB1152866A (en) * 1966-06-07 1969-05-21 Monsanto Chemicals Refractory Production
GB1507110A (en) * 1975-06-24 1978-04-12 Ntn Toyo Bearing Co Ltd Apparatus for transfer and treatment of apertured article
SU615151A1 (ru) * 1976-04-14 1978-07-15 Днепропетровский Трубопрокатный Завод Им.Ленина Эмалировочный автомат
GB2005567B (en) * 1977-06-28 1982-05-12 Ceramatic Ltd Manufacture of holloware
GB2061135B (en) * 1977-06-28 1982-09-02 Ceramatic Ltd Coating hollow articles
SU747907A1 (ru) * 1977-10-03 1980-07-15 Днепропетровский Трубопрокатный Завод Им. Ленина Эмалировочный автомат
US4295444A (en) * 1978-12-22 1981-10-20 Hitachi Metals Precision, Ltd. Automatic coating system for lost wax process
SU882700A1 (ru) * 1979-05-31 1981-11-23 Предприятие П/Я М-5729 Манипул тор дл нанесени огнеупорных покрытий
DE3108549A1 (de) * 1981-03-06 1982-09-16 Heinrich Zeidler Maschinenfabrik Gmbh & Co Kg, 8672 Selb Verfahren und vorrichtung zum glasieren keramischer hohlkoerper
GB2134012B (en) * 1982-12-03 1986-03-26 G O M International Limited Coating plastic bottles
DE3304940A1 (de) * 1983-02-12 1984-08-16 Herberts Gmbh, 5600 Wuppertal Verfahren zum beschichten einseitig offener hohlkoerper
DE3739602A1 (de) * 1987-11-23 1989-06-01 Zeidler Kg Maschf Heinrich Verfahren und vorrichtung zum glasieren keramischer hohlkoerper
US4915986A (en) * 1988-03-07 1990-04-10 Elias Tariq J Optical lens tinting machine
DE3815822A1 (de) * 1988-05-09 1989-11-23 Voit Michael Gmbh Maschine zum glasieren von ton- und porzellanwaren und werkstueckhalter hierfuer

Also Published As

Publication number Publication date
ES2055513T3 (es) 1994-08-16
EP0489292B1 (de) 1994-06-29
US5405649A (en) 1995-04-11
DE59102077D1 (de) 1994-08-04
JP3192187B2 (ja) 2001-07-23
DE4038797A1 (de) 1992-06-11
EP0489292A1 (de) 1992-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH04275990A (ja) 陶器製又は磁器製物品の施釉方法
JP2588961B2 (ja) 陶磁器の施釉機
US4531474A (en) Rotary board treating apparatus
US2417472A (en) Rotary conveyer for coating machines
JPH04363022A (ja) 貼付板洗浄装置
CN114008002A (zh) 卫生陶瓷的浸釉
CA2418344A1 (en) Method and apparatus for changing the orientation of workpieces about an angled axis for a decorator
CN110843098A (zh) 陶瓷酒瓶全自动浸釉生产线
JPS6281230A (ja) プレス加工用ワ−クの送給装置
US5372293A (en) Apparatus for degolding or tinning conductive portions of a microelectronic device
JP2005537925A (ja) 容器のコーティング方法およびコーティングプラント
JPH0786373A (ja) 基板の姿勢変換装置
DE19810710A1 (de) Verfahren zum Glasieren von Ton- oder Porzellan-Hohlware und Anlage zur Durchführung dieses Verfahrens
CN213494649U (zh) 一种塑胶工件旋转点涂装置
JPH06269717A (ja) 浸漬塗装方法および装置
JPH06277576A (ja) 塗装設備とそれに使用する移載装置
CN214871441U (zh) 一种日用陶瓷画边施釉综合一体机
CN213355886U (zh) 一种环形多转盘饮品杯运行与交叉传送装置
DE4337219C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Glasieren von Geschirrartikeln, insbesondere Tassen, Terrinen, Schüsseln und dergleichen
US3575758A (en) Process and assembly for the production of ceramic molded articles
JP3071686B2 (ja) リング状金属部品へのコーティング材塗布方法および塗布装置
KR101999423B1 (ko) 딥핑 장치
JPH0382778A (ja) エッチング装置
JPH05243199A (ja) 半導体ウエハの格納機構とその方法
JPH0710265A (ja) 浸漬加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100525

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100525

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110525

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110525

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120525

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120525

Year of fee payment: 11