JP3192187B2 - 陶器製又は磁器製物品の施釉方法 - Google Patents
陶器製又は磁器製物品の施釉方法Info
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
- B05C3/09—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
- B05C3/10—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles the articles being moved through the liquid or other fluent material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/044—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers with glaze or engobe or enamel or varnish
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- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は物品、特に壷や椀、缶な
どのような中空の容器に施釉する（即ち、釉薬を掛け
る）ための方法であって、前記物品を支持し物品を少な
くともその一部を釉薬槽に浸すことができるように回転
ならびに旋回する少なくとも一の釉薬容器を備えた少な
くとも一の施釉ステーションを有する装置を用いて実施
する施釉方法に関するものである。
どのような中空の容器に施釉する（即ち、釉薬を掛け
る）ための方法であって、前記物品を支持し物品を少な
くともその一部を釉薬槽に浸すことができるように回転
ならびに旋回する少なくとも一の釉薬容器を備えた少な
くとも一の施釉ステーションを有する装置を用いて実施
する施釉方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４，９９５，３３１号はこの
型の施釉装置を記載しているが、その装置は複数の支持
アームを有するキャプスタンを有し、各支持アームは少
なくとも１個の釉薬容器のための加工品ホルダを備えて
おり、その釉薬容器は釉薬を掛けられる物品の底部を吸
引効果によってしっかり保持するものである。釉薬容器
はそれ自身の軸の周りを回転し、また釉薬槽の方向に傾
いて少なくとも物品の一部を釉薬に浸すため、適切な駆
動装置により作動させられる。釉薬容器の加工品ホルダ
へおよび支持アームへの取付は釉薬容器の傾き運動を約
１２０゜の角度範囲に制限するものである。
型の施釉装置を記載しているが、その装置は複数の支持
アームを有するキャプスタンを有し、各支持アームは少
なくとも１個の釉薬容器のための加工品ホルダを備えて
おり、その釉薬容器は釉薬を掛けられる物品の底部を吸
引効果によってしっかり保持するものである。釉薬容器
はそれ自身の軸の周りを回転し、また釉薬槽の方向に傾
いて少なくとも物品の一部を釉薬に浸すため、適切な駆
動装置により作動させられる。釉薬容器の加工品ホルダ
へおよび支持アームへの取付は釉薬容器の傾き運動を約
１２０゜の角度範囲に制限するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような施釉装置は
皿などの平たい物品の施釉には満足すべきものである
が、椀、壷などの比較的深い中空の物品あるいは膨れの
ある形状の物品に関しては、先行技術の施釉装置は物品
に均等に釉薬を掛け、また過剰な釉薬を適切に滴り落す
ためには不適切なものである。
皿などの平たい物品の施釉には満足すべきものである
が、椀、壷などの比較的深い中空の物品あるいは膨れの
ある形状の物品に関しては、先行技術の施釉装置は物品
に均等に釉薬を掛け、また過剰な釉薬を適切に滴り落す
ためには不適切なものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】したがって、本発明の目
的は改善された装置を用いた施釉方法を提供し前記の課
題を解決することにある。特に本発明の目的は、中空の
物品を完全に自動化され信頼できる方法で均等に施釉し
得る改良された装置を用いた施釉方法を提供することに
ある。
的は改善された装置を用いた施釉方法を提供し前記の課
題を解決することにある。特に本発明の目的は、中空の
物品を完全に自動化され信頼できる方法で均等に施釉し
得る改良された装置を用いた施釉方法を提供することに
ある。
【０００５】これらならびに以下に明らかにされる他の
目的は、施釉される物品を保持する釉薬容器がそれ自身
の軸の周りに回転可能であり、また釉薬槽の側に傾ける
ことができるだけでなく、釉薬槽の液面に対し実質的に
垂直な方向に案内されて変位させる駆動装置を設けた装
置を提供することにより、本発明によって解決される。
目的は、施釉される物品を保持する釉薬容器がそれ自身
の軸の周りに回転可能であり、また釉薬槽の側に傾ける
ことができるだけでなく、釉薬槽の液面に対し実質的に
垂直な方向に案内されて変位させる駆動装置を設けた装
置を提供することにより、本発明によって解決される。
【０００６】釉薬容器の垂直方向の本質的に線形な変位
をも可能にする駆動装置を用いて施釉方法を提供するこ
とにより、深さの深いまた腹部が膨れた形状の中空の物
品を、内面および外面に沿って確実に均一に釉薬を掛け
ることができる。施釉される物品の深さ及び／又はその
特定の形状により、釉薬容器の垂直方向の動きの範囲を
好適に設定することができる。
をも可能にする駆動装置を用いて施釉方法を提供するこ
とにより、深さの深いまた腹部が膨れた形状の中空の物
品を、内面および外面に沿って確実に均一に釉薬を掛け
ることができる。施釉される物品の深さ及び／又はその
特定の形状により、釉薬容器の垂直方向の動きの範囲を
好適に設定することができる。
【０００７】本発明の他の特徴として、釉薬容器はほぼ
１８０゜の角度範囲で傾けることができ、それにより、
特に物品を釉薬槽から引き出す際に上下に垂直に動かす
時に、過剰な釉薬が釉薬槽へと流れ落ちあるいは滴り落
ちるようにすることができる。
１８０゜の角度範囲で傾けることができ、それにより、
特に物品を釉薬槽から引き出す際に上下に垂直に動かす
時に、過剰な釉薬が釉薬槽へと流れ落ちあるいは滴り落
ちるようにすることができる。
【０００８】施釉される物品を携えた釉薬容器は初期の
位置から釉薬槽へ浸される箇所へと１８０゜傾けられる
位置まで旋回させられる。このようにして、釉薬容器を
旋回可能な角度範囲はかなり拡大されている。３つの異
なる変位モード（すなわち、回転運動、傾き運動、垂直
運動）を設けることにより、釉薬容器の動きあるいは制
御はいかなる適切な形も選択することができる。少なく
とも速度ならびに上下運動の範囲を制御するのは有利で
ある。
位置から釉薬槽へ浸される箇所へと１８０゜傾けられる
位置まで旋回させられる。このようにして、釉薬容器を
旋回可能な角度範囲はかなり拡大されている。３つの異
なる変位モード（すなわち、回転運動、傾き運動、垂直
運動）を設けることにより、釉薬容器の動きあるいは制
御はいかなる適切な形も選択することができる。少なく
とも速度ならびに上下運動の範囲を制御するのは有利で
ある。
【０００９】本発明の他の特徴として、釉薬容器のそれ
自身の軸の周りの回転ならびに傾き運動および／または
垂直上下運動は、物品の特定の特徴に応じて同期させる
ことができる。このようにして、不規則な形態の物品に
確実に施釉することができる。それに加え、釉薬容器の
それ自身の軸の周りの回転運動ならびに傾き運動および
／または垂直上下運動を別々に制御できるようにして、
釉薬容器の動作のモードに関するほとんど万能な制御シ
ステムを実現することが望ましい。
自身の軸の周りの回転ならびに傾き運動および／または
垂直上下運動は、物品の特定の特徴に応じて同期させる
ことができる。このようにして、不規則な形態の物品に
確実に施釉することができる。それに加え、釉薬容器の
それ自身の軸の周りの回転運動ならびに傾き運動および
／または垂直上下運動を別々に制御できるようにして、
釉薬容器の動作のモードに関するほとんど万能な制御シ
ステムを実現することが望ましい。
【００１０】本発明の他の特徴として、釉薬容器の垂直
動を実行するための駆動装置は実質的に真っ直ぐな固定
の滑べり棒と、滑べり棒の上に沿って移動可能な、そし
て釉薬容器に動作的に連結されたキャリッジを有し、キ
ャリッジが実質的に垂直な方向に上下に動くようにされ
ている。しかし、釉薬容器を加工品ホルダに搭載して、
加工品ホルダが駆動装置の作用を受けるようにするの
が、好ましい。
動を実行するための駆動装置は実質的に真っ直ぐな固定
の滑べり棒と、滑べり棒の上に沿って移動可能な、そし
て釉薬容器に動作的に連結されたキャリッジを有し、キ
ャリッジが実質的に垂直な方向に上下に動くようにされ
ている。しかし、釉薬容器を加工品ホルダに搭載して、
加工品ホルダが駆動装置の作用を受けるようにするの
が、好ましい。
【００１１】
【実施例】本発明の上記ならびに他の目的、特徴および
有利な点を、図面を参照しながら以下により詳しく説明
する。
有利な点を、図面を参照しながら以下により詳しく説明
する。
【００１２】すべての図面において、同じあるいは対応
する要素は同じ参照番号で示されている。
する要素は同じ参照番号で示されている。
【００１３】図面、特に図１を参照すると、そこには、
例えば陶器あるいは磁器製の壷、椀などのような中空の
物品に施釉するための、本発明で用いる装置の一実施例
が略図によって示されている。図１の実施例は本発明を
限定するためのものではないが、施釉装置１は同時に３
個の物品２に施釉するように設計されており、その３個
の物品はコンベヤ１９によって矢印３０の方向に供給領
域Ａへと運ばれ、その供給領域は、参照番号３で示され
るセンタリング・ステーションを含んでいる。コンベヤ
１９は互いに対し間隔をおいた２本のベルトを有するタ
イプのものであり、その２本のベルトの間に、例えば各
物品２の外側底面に適切なデータを押印することができ
るように、中間スペースが開いている。
例えば陶器あるいは磁器製の壷、椀などのような中空の
物品に施釉するための、本発明で用いる装置の一実施例
が略図によって示されている。図１の実施例は本発明を
限定するためのものではないが、施釉装置１は同時に３
個の物品２に施釉するように設計されており、その３個
の物品はコンベヤ１９によって矢印３０の方向に供給領
域Ａへと運ばれ、その供給領域は、参照番号３で示され
るセンタリング・ステーションを含んでいる。コンベヤ
１９は互いに対し間隔をおいた２本のベルトを有するタ
イプのものであり、その２本のベルトの間に、例えば各
物品２の外側底面に適切なデータを押印することができ
るように、中間スペースが開いている。
【００１４】センタリング・ステーション３では、後の
工程のために、物品２はそれぞれ４つのローラ２０のセ
ットによって適切に整列される。物品２は、整列あるい
はセンタリングされた後、対応する３個の吸引部材４の
セットにより捕らえら、取り上げられる。その吸引部材
４により物品２は一緒に運ばれ、参照番号５で示され図
２で詳しく示される施釉ステーションにある対応するセ
ットの釉薬ポットあるいは容器１３に位置される。
工程のために、物品２はそれぞれ４つのローラ２０のセ
ットによって適切に整列される。物品２は、整列あるい
はセンタリングされた後、対応する３個の吸引部材４の
セットにより捕らえら、取り上げられる。その吸引部材
４により物品２は一緒に運ばれ、参照番号５で示され図
２で詳しく示される施釉ステーションにある対応するセ
ットの釉薬ポットあるいは容器１３に位置される。
【００１５】施釉ステーション５で施釉された後、物品
２は、対応する３個の吸引部材６のセットにより釉薬容
器１３から排出領域Ｃに位置する吸収性のコンベヤ・ベ
ルト８へと運ばれ、その後、矢印３１で示されているよ
うにその後の処理へと進んで行く。物品２が吸収性のベ
ルト８に置かれる際に物品２を回して、施釉された物品
の基部あるいは底部から余分な釉薬を取り去ることがで
きるように、吸引部材６は回転可能である。
２は、対応する３個の吸引部材６のセットにより釉薬容
器１３から排出領域Ｃに位置する吸収性のコンベヤ・ベ
ルト８へと運ばれ、その後、矢印３１で示されているよ
うにその後の処理へと進んで行く。物品２が吸収性のベ
ルト８に置かれる際に物品２を回して、施釉された物品
の基部あるいは底部から余分な釉薬を取り去ることがで
きるように、吸引部材６は回転可能である。
【００１６】これに関連して、米国特許第４，９９５，
３３１号が参照される。この米国特許は概してここに開
示されたようなタイプの施釉装置の例を説明している。
３３１号が参照される。この米国特許は概してここに開
示されたようなタイプの施釉装置の例を説明している。
【００１７】図１に示されているように、吸引部材４の
セットおよび吸引部材６のセットは参照番号２１で示さ
れるキャリッジを介して互いに連結されている。キャリ
ッジ２１は、吸引部材４および吸引部材６を同時に変位
できるように支持バー２２ａ、２２ｂを介して吸引部材
４および吸引部材６に取り付けられている。キャリッジ
２１は、間隔をおいて平行なガイド・レール２３を走
り、モータ２４によって駆動されて二重矢印３２の方向
に変位する。モータ２４は、ガイド・レール２３の間に
わたされた横バー２５に動作連結されている。第２のモ
ータ７は、横バー２６を介してキャリッジ２１に適切に
接続され、リンク・ロッド２７により支持バー２２ａに
連接されており、キャリッジ２１が適切な空気圧シリン
ダ２８およびガイド・レール２９を介して二重矢印３３
の方向に移動できるようになっている。このようにし
て、吸引部材４および吸引部材６はモータ２４および７
により水平にＸ軸およびＹ軸に沿って同時に位置を変え
ることができる。
セットおよび吸引部材６のセットは参照番号２１で示さ
れるキャリッジを介して互いに連結されている。キャリ
ッジ２１は、吸引部材４および吸引部材６を同時に変位
できるように支持バー２２ａ、２２ｂを介して吸引部材
４および吸引部材６に取り付けられている。キャリッジ
２１は、間隔をおいて平行なガイド・レール２３を走
り、モータ２４によって駆動されて二重矢印３２の方向
に変位する。モータ２４は、ガイド・レール２３の間に
わたされた横バー２５に動作連結されている。第２のモ
ータ７は、横バー２６を介してキャリッジ２１に適切に
接続され、リンク・ロッド２７により支持バー２２ａに
連接されており、キャリッジ２１が適切な空気圧シリン
ダ２８およびガイド・レール２９を介して二重矢印３３
の方向に移動できるようになっている。このようにし
て、吸引部材４および吸引部材６はモータ２４および７
により水平にＸ軸およびＹ軸に沿って同時に位置を変え
ることができる。
【００１８】図２には、本発明による施釉ステーション
５の好適な実施例の側面図が示されている。図２より、
施釉装置１の施釉ステーション５は参照番号１０で示さ
れる加工品ホルダを含んでいることが分かるが、処理対
象の物品２は施釉装置１のさまざまな段階を通してこの
加工品ホルダ１０により保持される。各加工品ホルダ１
０は１個の釉薬容器１３を支持し、キャリッジ１１に搭
載されている。二重矢印４５で示されているように、キ
ャリッジ１１は適切な駆動装置４４（図３）、例えば空
気圧シリンダ／ピストン装置（図示されていない）、に
よって滑べり棒１２に沿って実質的に垂直方向に上向き
および下向きに移動することができる。
５の好適な実施例の側面図が示されている。図２より、
施釉装置１の施釉ステーション５は参照番号１０で示さ
れる加工品ホルダを含んでいることが分かるが、処理対
象の物品２は施釉装置１のさまざまな段階を通してこの
加工品ホルダ１０により保持される。各加工品ホルダ１
０は１個の釉薬容器１３を支持し、キャリッジ１１に搭
載されている。二重矢印４５で示されているように、キ
ャリッジ１１は適切な駆動装置４４（図３）、例えば空
気圧シリンダ／ピストン装置（図示されていない）、に
よって滑べり棒１２に沿って実質的に垂直方向に上向き
および下向きに移動することができる。
【００１９】加工品ホルダ１０は速度調節が可能なモー
タ１４に動作連結されており、このモータ１４により加
工品ホルダ１０、また物品２を携えた釉薬容器１３が軸
の周りに回転可能である。釉薬容器１３の傾き運動を可
能にするために、加工品ホルダ１０は制御可能なモータ
１５の作用を更に受け、このモータ１５により釉薬容器
１３を約１８０゜反対向きに旋回させることができる。
タ１４に動作連結されており、このモータ１４により加
工品ホルダ１０、また物品２を携えた釉薬容器１３が軸
の周りに回転可能である。釉薬容器１３の傾き運動を可
能にするために、加工品ホルダ１０は制御可能なモータ
１５の作用を更に受け、このモータ１５により釉薬容器
１３を約１８０゜反対向きに旋回させることができる。
【００２０】各釉薬容器１３は実質的に中空のシリンダ
形状をしており、その内部には釉薬の所定の量が収容さ
れ、物品２の底にも施釉できるようになっている。釉薬
容器１３の上側には、物品を柔らかく支持できるよう
に、環状の弾性受け面４０を設けることができる。受け
面４０の弾性は、適切な材料を選択することにより、あ
るいは適切な設計により、実現することができる。各釉
薬容器１３の下端には中央突起４１が設けられており、
それにより釉薬容器１３は加工品ホルダ１０に支持され
ている。中央突起４１は中央通路を有しており、この通
路は吸引パイプ４２により釉薬容器１３の内部へと延長
されている。この吸引パイプ４２は、釉薬容器１３の内
部に減圧を生成できるように吸引器（図示されていな
い）へと接続されている。この減圧により、釉薬容器１
３の受け面４０に置かれた物品２は適正な位置にしっか
りと保持される。
形状をしており、その内部には釉薬の所定の量が収容さ
れ、物品２の底にも施釉できるようになっている。釉薬
容器１３の上側には、物品を柔らかく支持できるよう
に、環状の弾性受け面４０を設けることができる。受け
面４０の弾性は、適切な材料を選択することにより、あ
るいは適切な設計により、実現することができる。各釉
薬容器１３の下端には中央突起４１が設けられており、
それにより釉薬容器１３は加工品ホルダ１０に支持され
ている。中央突起４１は中央通路を有しており、この通
路は吸引パイプ４２により釉薬容器１３の内部へと延長
されている。この吸引パイプ４２は、釉薬容器１３の内
部に減圧を生成できるように吸引器（図示されていな
い）へと接続されている。この減圧により、釉薬容器１
３の受け面４０に置かれた物品２は適正な位置にしっか
りと保持される。
【００２１】各吸引部材４、６（図２では吸引部材４の
みが示されている）は、その物品２に面する端に吸引カ
ップ４３が設けられている。参照番号１６で略図的に示
されているのは適切な駆動組立体であり、吸引部材４を
二重矢印３４で示されているように垂直方向に動かすた
めのものである。このように、吸引部材４は矢印３２、
３３の方向に水平に、そして矢印３４で示されたように
垂直方向に位置を変え、物品２を取り上げ、それらを施
釉ステーション５の釉薬容器１３の上に適切に置くこと
ができる。
みが示されている）は、その物品２に面する端に吸引カ
ップ４３が設けられている。参照番号１６で略図的に示
されているのは適切な駆動組立体であり、吸引部材４を
二重矢印３４で示されているように垂直方向に動かすた
めのものである。このように、吸引部材４は矢印３２、
３３の方向に水平に、そして矢印３４で示されたように
垂直方向に位置を変え、物品２を取り上げ、それらを施
釉ステーション５の釉薬容器１３の上に適切に置くこと
ができる。
【００２２】詳細に示されてはいないが、吸引部材６も
同様に駆動組立体の作用を受ける。
同様に駆動組立体の作用を受ける。
【００２３】しかし、その組立体は垂直方向に変位させ
るだけではなく、矢印３５（図１）に示されているよう
に吸引部材をその軸の回りに回転させ、物品２が吸収性
のベルト８に置かれる際、基部あるいは底のあたりの過
剰な釉薬を取り除けるようにされている。
るだけではなく、矢印３５（図１）に示されているよう
に吸引部材をその軸の回りに回転させ、物品２が吸収性
のベルト８に置かれる際、基部あるいは底のあたりの過
剰な釉薬を取り除けるようにされている。
【００２４】図１に示された施釉装置の位置は、吸引部
材４のセットがコンベヤ・ベルト１９から未加工の物品
２を取り上げるようとする状態であり、他方、吸引部材
６は施釉された物品２を吸収性のベルト８上に置こうと
する状態にキャリッジ２１が位置しているところであ
る。キャリッジ２１は、次いで、矢印３６に示されてい
るように左に移動して、吸引部材６が施釉された物品２
を釉薬容器１３から取り上げ、矢印３７の方向に水平に
位置を変え、吸引部材４が釉薬容器１３に整列するする
ようにする。吸引部材４が下げられ、未加工の物品２が
釉薬容器１３の上に置かれる。続いて、キャリッジ２１
は矢印３８に示されているように右に移動し、矢印３９
の方向へと初期位置に復帰し、その位置で吸引部材４は
更に未加工の物品２を取り上げ、吸引部材６は施釉され
た物品２を吸収性のベルト８の上に置く。このようにし
て、施釉装置１は実質的に４サイクル工程を実行する。
再び図２に戻るが、その図では施釉ステーション５に
おいて物品２の施釉ステップが説明されている。以下の
個々の施釉ステップの説明は例示のためだけになされて
いることを理解されたい。
材４のセットがコンベヤ・ベルト１９から未加工の物品
２を取り上げるようとする状態であり、他方、吸引部材
６は施釉された物品２を吸収性のベルト８上に置こうと
する状態にキャリッジ２１が位置しているところであ
る。キャリッジ２１は、次いで、矢印３６に示されてい
るように左に移動して、吸引部材６が施釉された物品２
を釉薬容器１３から取り上げ、矢印３７の方向に水平に
位置を変え、吸引部材４が釉薬容器１３に整列するする
ようにする。吸引部材４が下げられ、未加工の物品２が
釉薬容器１３の上に置かれる。続いて、キャリッジ２１
は矢印３８に示されているように右に移動し、矢印３９
の方向へと初期位置に復帰し、その位置で吸引部材４は
更に未加工の物品２を取り上げ、吸引部材６は施釉され
た物品２を吸収性のベルト８の上に置く。このようにし
て、施釉装置１は実質的に４サイクル工程を実行する。
再び図２に戻るが、その図では施釉ステーション５に
おいて物品２の施釉ステップが説明されている。以下の
個々の施釉ステップの説明は例示のためだけになされて
いることを理解されたい。
【００２５】未加工の物品２が吸引部材４によりそれぞ
れ釉薬容器１３上に設置された後、物品２が、左下側に
破線で釉薬容器１３’として示されているように、釉薬
通し１７中の釉薬の溜りに浸されるように、各釉薬容器
１３が旋回される。内面および外面の両方に均等に施釉
するように釉薬容器１３を回転させつつ、同時に、釉薬
容器１３を約１８０゜旋回するまで更に傾ける。この位
置において、物品２は釉薬槽に完全に沈められる。物品
２を釉薬通し１７中へ浸す深さ、あるいはそのためのキ
ャリッジ１１の動きは、物品２が釉薬の溜りによって完
全にまた均等に塗られるように選択される。同時に、釉
薬容器１３のそれ自身の軸の周りの回転の速度ならびに
傾く速度および／あるいは傾き角は別々にあるいは組み
合せて制御・調整することができる。
れ釉薬容器１３上に設置された後、物品２が、左下側に
破線で釉薬容器１３’として示されているように、釉薬
通し１７中の釉薬の溜りに浸されるように、各釉薬容器
１３が旋回される。内面および外面の両方に均等に施釉
するように釉薬容器１３を回転させつつ、同時に、釉薬
容器１３を約１８０゜旋回するまで更に傾ける。この位
置において、物品２は釉薬槽に完全に沈められる。物品
２を釉薬通し１７中へ浸す深さ、あるいはそのためのキ
ャリッジ１１の動きは、物品２が釉薬の溜りによって完
全にまた均等に塗られるように選択される。同時に、釉
薬容器１３のそれ自身の軸の周りの回転の速度ならびに
傾く速度および／あるいは傾き角は別々にあるいは組み
合せて制御・調整することができる。
【００２６】物品２に釉薬を掛けた後、釉薬容器１３は
右下側に破線で釉薬容器１３''として示されている位置
となる。この位置で、物品２は釉薬通し１７の釉薬溜り
の液面１８の少し上にまで伸びている。この位置で、す
なわち、釉薬槽の外部で、釉薬容器１３は加工品ホルダ
１０を介して垂直方向に上限に動かされ、過剰な釉薬が
物品２から釉薬通し１７へと流れ落ちるあるいは滴り落
ちるようにされる。その後、釉薬容器１３はその最初の
位置に戻され、施釉された物品２が吸引部材６により保
持され取り上げられ、排出領域Ｃに位置する吸収性のベ
ルト８へと運ばれる。
右下側に破線で釉薬容器１３''として示されている位置
となる。この位置で、物品２は釉薬通し１７の釉薬溜り
の液面１８の少し上にまで伸びている。この位置で、す
なわち、釉薬槽の外部で、釉薬容器１３は加工品ホルダ
１０を介して垂直方向に上限に動かされ、過剰な釉薬が
物品２から釉薬通し１７へと流れ落ちるあるいは滴り落
ちるようにされる。その後、釉薬容器１３はその最初の
位置に戻され、施釉された物品２が吸引部材６により保
持され取り上げられ、排出領域Ｃに位置する吸収性のベ
ルト８へと運ばれる。
【００２７】釉薬容器１３が３つの異なる動作モードの
方向に制御可能であるため、施釉工程はいかなる適切な
方法でも実行することができ、以上に述べられた動作シ
ーケンスに限定されるべきではない。しかし、過剰な釉
薬を取り除くため、釉薬容器１３の上下運動は、釉薬槽
から取り去られる、即ち、釉薬槽の液面１８の上に伸び
る物品２と共に実行されるべきである。
方向に制御可能であるため、施釉工程はいかなる適切な
方法でも実行することができ、以上に述べられた動作シ
ーケンスに限定されるべきではない。しかし、過剰な釉
薬を取り除くため、釉薬容器１３の上下運動は、釉薬槽
から取り去られる、即ち、釉薬槽の液面１８の上に伸び
る物品２と共に実行されるべきである。
【００２８】吸引部材４および６の数が図１に示された
例とは異なっていても良いことが当業者には了解できる
であろう。また、３個の吸引部材４および６の列を更に
続けて設けることもできる。しかし、１つの列当り少な
くとも２個の吸引部材４および６を設けるのが好まし
い。施釉装置１の出力は、望ましければ、米国特許第
４，９９５，３３１号の施釉装置のものと同様の円形の
テーブルを用いることもできる。この場合、施釉ステー
ションは釉薬容器１３のふさわしい動きが可能なよう
に、変更されるべきである。
例とは異なっていても良いことが当業者には了解できる
であろう。また、３個の吸引部材４および６の列を更に
続けて設けることもできる。しかし、１つの列当り少な
くとも２個の吸引部材４および６を設けるのが好まし
い。施釉装置１の出力は、望ましければ、米国特許第
４，９９５，３３１号の施釉装置のものと同様の円形の
テーブルを用いることもできる。この場合、施釉ステー
ションは釉薬容器１３のふさわしい動きが可能なよう
に、変更されるべきである。
【００２９】釉薬容器１３の個々の動作は別個に制御す
ることもできるし、釉薬容器１３の変位を特定の物品に
依存して選択・調整できる適切な制御装置４６（図３）
により一斉に制御することもできる。また、釉薬容器の
ための制御装置４６は用いられる釉薬の性質、例えば粘
度などを考慮にいれて変更することもできる。
ることもできるし、釉薬容器１３の変位を特定の物品に
依存して選択・調整できる適切な制御装置４６（図３）
により一斉に制御することもできる。また、釉薬容器の
ための制御装置４６は用いられる釉薬の性質、例えば粘
度などを考慮にいれて変更することもできる。
【００３０】さらに、釉薬容器を少なくとも１８０゜旋
回させるためにおよび／あるいは釉薬容器１３を釉薬通
し１７中の釉薬の液面１８に対し実質的に垂直に動かす
ために、ユニバーサル型の駆動装置を用いることもでき
ることに注意されたい。
回させるためにおよび／あるいは釉薬容器１３を釉薬通
し１７中の釉薬の液面１８に対し実質的に垂直に動かす
ために、ユニバーサル型の駆動装置を用いることもでき
ることに注意されたい。
【００３１】本発明は陶器あるいは磁器製物品への施釉
方法を実施するものとして例示し説明したが、示された
詳細により限定されるものではない。本発明の趣旨を逸
脱することなく、様々な修正および構造上の変更が可能
である。
方法を実施するものとして例示し説明したが、示された
詳細により限定されるものではない。本発明の趣旨を逸
脱することなく、様々な修正および構造上の変更が可能
である。
【図１】本発明の施釉方法に用いる装置の一実施例を示
す略図である。
す略図である。
【図２】施釉工程における釉薬容器の様々な位置を詳細
に示す、本発明に用いる施釉ステーションの側面図であ
る。
に示す、本発明に用いる施釉ステーションの側面図であ
る。
【図３】本発明に用いる装置の様々な構成部分を示す略
ブロック図である。
ブロック図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−290578（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−41378（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C04B 41/86 B05C 1/00 - 3/20
Claims (9)
- 【請求項１】 被施釉物品を底部から吸引保持する少な
くとも一の釉薬容器であって該容器の内部に少なくとも
一定量の釉薬が収容され、該容器がその軸上で回転可能
であり、被施釉物品の少なくとも一部を釉薬槽に浸しか
つ取り出すために釉薬槽に向けて傾けることが可能な釉
薬容器（１３）を有する少なくとも一の施釉ステーショ
ン（５）を備えた装置を用いた、中空の陶器製物品又は
磁器製物品の施釉方法であって、前記釉薬容器（１３）
において垂直方向上向きに開口部を向けて保持される被
施釉物品（２）が、傾き軸上で旋回されて釉薬槽内の釉
薬に少なくともその一部が浸され、同時に被施釉物品が
特に浸された位置でその軸上で回転し、かつ被施釉物品
が傾き軸の垂直運動で調整可能に変位し、傾き運動と回
転運動とを組み合わせつつ被施釉物品が釉薬槽の波面
（１８）に対し略垂直方向に向けられることを特徴とす
る、椀、壷などの中空の陶器製物品又は磁器製物品の施
釉方法。 - 【請求項２】 前記施釉容器（１３）が初期位置から約
１８０°の角度の範囲で傾けることが可能であることを
特徴とする請求項１に記載の施釉方法。 - 【請求項３】 前記施釉槽に向いた前記被施釉物品
（２）を備える前記施釉容器（１３）が前記施釉槽の波
面（１８）に対し略垂直方向で上下に直線的に可動する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の施釉方法。 - 【請求項４】 前記垂直方向の上下運動が、前記被施釉
物品が前記釉薬槽から引き出される際に追加的に行われ
ることを特徴とする請求項３に記載の施釉方法。 - 【請求項５】 少なくとも前記上下運動の速度が制御可
能であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか
１項に記載の施釉方法。 - 【請求項６】 前記釉薬容器（１３）のその軸上での回
転運動並びに前記傾き運動および／又は前記垂直方向の
上下運動が前記物品に最適な方法で同期させられている
ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記
載の施釉方法。 - 【請求項７】 前記釉薬容器（１３）のその軸上での回
転運動並びに前記傾き運動および／又は前記垂直方向の
上下運動が別個に制御可能であることを特徴とする請求
項１ないし６のいずれか１項に記載の施釉方法。 - 【請求項８】 前記釉薬容器（１３）が、前記釉薬槽の
波面（１８）に実質的に垂直方向に可動し得る加工品ホ
ルダ（１０）に搭載されていることを特徴とする請求項
１ないし７のいずれか１項に記載の施釉方法。 - 【請求項９】 略垂直方向の前記上下運動が、前記加工
品ホルダ（１０）を真っ直ぐな滑り棒（１２）により案
内され直線的に変位するキャリッジ（１１）に搭載する
ことにより実現されることを特徴とする請求項８に記載
の施釉方法。
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|---|---|---|---|
| DE4038797.6 | 1990-12-05 | ||
| DE4038797A DE4038797A1 (de) | 1990-12-05 | 1990-12-05 | Maschine zum glasieren von ton- und porzellanwaren |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04275990A JPH04275990A (ja) | 1992-10-01 |
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ID=6419656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32064091A Expired - Lifetime JP3192187B2 (ja) | 1990-12-05 | 1991-12-04 | 陶器製又は磁器製物品の施釉方法 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0489292B1 (ja) |
| JP (1) | JP3192187B2 (ja) |
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| ES (1) | ES2055513T3 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| DE4337219C2 (de) * | 1993-10-30 | 1995-08-17 | Zeidler Kg Maschf Heinrich | Verfahren und Vorrichtung zum Glasieren von Geschirrartikeln, insbesondere Tassen, Terrinen, Schüsseln und dergleichen |
| DE19648341A1 (de) * | 1996-11-22 | 1998-05-28 | Lippert Masch Stahlbau J | Rundtisch-Glasiermaschine |
| DE19652592A1 (de) * | 1996-12-18 | 1998-06-25 | Eisenmann Kg Maschbau | Vorrichtung zum Innenglasieren von Hohlräume aufweisenden Werkstücken |
| DE19810710C2 (de) * | 1998-03-12 | 2000-04-13 | Lippert Masch Stahlbau J | Verfahren zum Glasieren von Ton- oder Porzellan-Hohlware und Anlage zur Durchführung dieses Verfahrens |
| DE29915611U1 (de) | 1999-09-07 | 2000-02-24 | NSM Magnettechnik GmbH & Co. KG, 59399 Olfen | Transportvorrichtung |
| DE10007700B4 (de) * | 2000-02-19 | 2006-06-01 | Sama Maschinenbau Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Bearbeitung der Ränder von Keramikartikeln |
| CN101905978B (zh) * | 2009-06-05 | 2012-05-02 | 黄学强 | 一种全自动施釉生产线及全自动施釉工艺 |
| CN103172407A (zh) * | 2013-04-18 | 2013-06-26 | 广西北流市智宇陶瓷自动化设备有限公司 | 一种日用陶瓷制品自动浸釉机 |
| CN104193410A (zh) * | 2014-07-31 | 2014-12-10 | 广西北流仲礼瓷业有限公司 | 一种陶瓷外表面上釉装置 |
| CN104326768A (zh) * | 2014-09-30 | 2015-02-04 | 湖南双龙智创自动化设备有限公司 | 多工位电瓷浸釉机 |
| CN108437172B (zh) * | 2018-03-29 | 2023-07-18 | 郑州科技学院 | 雾化施釉装置及施釉方法 |
| CN108638310B (zh) * | 2018-07-19 | 2019-11-01 | 广东富大陶瓷文化发展股份有限公司 | 一种用于日用陶瓷加工的上釉装置 |
| CN109366704B (zh) * | 2018-12-01 | 2020-09-08 | 施仙增 | 一种洁具上釉装置 |
| DE102019116461A1 (de) * | 2019-06-18 | 2020-12-24 | Lippert Gmbh & Co. Kg | Tauchglasieren von sanitärkeramik |
| CN112405798A (zh) * | 2020-11-18 | 2021-02-26 | 丽水学院 | 一种龙泉青瓷自动喷釉设备及其喷釉工艺 |
| CN112390017A (zh) * | 2020-11-20 | 2021-02-23 | 禹州市华龙钧窑有限公司 | 一种钧瓷生产用浸釉系统及其工作方法 |
| CN113715140A (zh) * | 2021-09-07 | 2021-11-30 | 吴继军 | 一种用于日用陶瓷加工的上釉装置 |
| CN113695176B (zh) * | 2021-10-28 | 2022-02-08 | 南通好得机械有限公司 | 一种机械零件生产用防锈浸油设备 |
| CN118143658B (zh) * | 2024-05-13 | 2024-07-12 | 山西平定亮晶晶砂锅有限公司 | 一种自动修坯机 |
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| US1711643A (en) * | 1924-02-26 | 1929-05-07 | Remington Arms Co Inc | Method and apparatus for impregnating paper tubes or other porous articles |
| GB339395A (en) * | 1929-09-27 | 1930-12-11 | George Wade & Son Ltd | Improved means applicable for use in "dipping" articles of earthenware or pottery |
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| US2195671A (en) * | 1937-03-18 | 1940-04-02 | Plax Corp | Method of coating articles |
| US2755205A (en) * | 1953-04-22 | 1956-07-17 | Clarence C Robb | Method for coating and draining |
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-
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- 1990-12-05 DE DE4038797A patent/DE4038797A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-11-15 DE DE59102077T patent/DE59102077D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-11-15 EP EP91119514A patent/EP0489292B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-11-15 ES ES91119514T patent/ES2055513T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-04 JP JP32064091A patent/JP3192187B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-07-16 US US08/092,751 patent/US5405649A/en not_active Expired - Lifetime
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| DE59102077D1 (de) | 1994-08-04 |
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