JPH04260370A - 固体撮像装置 - Google Patents
固体撮像装置Info
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- JPH04260370A JPH04260370A JP3043019A JP4301991A JPH04260370A JP H04260370 A JPH04260370 A JP H04260370A JP 3043019 A JP3043019 A JP 3043019A JP 4301991 A JP4301991 A JP 4301991A JP H04260370 A JPH04260370 A JP H04260370A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 5
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
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- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は固体撮像装置に関し、特
に固体撮像装置の水平転送部に関する。
に固体撮像装置の水平転送部に関する。
【0002】
【従来の技術】固体撮像装置の一例として、例えばイン
ターライン転送方式のCCD固体撮像装置の構成を図5
に示す。同図において、水平及び垂直方向に画素単位で
2次元配列されて入射光量に応じた信号電荷を蓄積する
複数個の感光部1と、これら感光部1から垂直列毎に読
み出された信号電荷を垂直方向に転送する垂直シフトレ
ジスタ(垂直転送部)2とによって撮像部3が構成され
ている。この撮像部3において、感光部1は例えばフォ
トダイオードからなり、垂直シフトレジスタ2はCCD
(Charge Coupled Device) に
よって構成される。垂直シフトレジスタ2に移された信
号電荷は、水平ブランキング期間の一部にて1走査線に
相当する部分ずつ順に水平シフトレジスタ(水平転送部
)4へ移される。1走査線分の信号電荷は、水平シフト
レジスタ4によって順次水平方向に転送される。水平シ
フトレジスタ4の最終端には、FDA(Floatin
g Diffusion Amplifier)等から
なり、転送されてきた信号電荷を電気信号に変換する出
力回路部5が配されている。
ターライン転送方式のCCD固体撮像装置の構成を図5
に示す。同図において、水平及び垂直方向に画素単位で
2次元配列されて入射光量に応じた信号電荷を蓄積する
複数個の感光部1と、これら感光部1から垂直列毎に読
み出された信号電荷を垂直方向に転送する垂直シフトレ
ジスタ(垂直転送部)2とによって撮像部3が構成され
ている。この撮像部3において、感光部1は例えばフォ
トダイオードからなり、垂直シフトレジスタ2はCCD
(Charge Coupled Device) に
よって構成される。垂直シフトレジスタ2に移された信
号電荷は、水平ブランキング期間の一部にて1走査線に
相当する部分ずつ順に水平シフトレジスタ(水平転送部
)4へ移される。1走査線分の信号電荷は、水平シフト
レジスタ4によって順次水平方向に転送される。水平シ
フトレジスタ4の最終端には、FDA(Floatin
g Diffusion Amplifier)等から
なり、転送されてきた信号電荷を電気信号に変換する出
力回路部5が配されている。
【0003】この種のCCD固体撮像装置のうち、第1
導電型である例えばN型の半導体基板を用いた構造の装
置では、Pウェル(well)上に各素子を配置し、こ
のPウェルをイメージセンサ部のブルーミング対策のた
めに空乏化してオーバーフローバリアーとして機能させ
ている。ただし、水平シフトレジスタ4については、水
平転送駆動のための転送クロックの駆動条件、即ち水平
転送クロックの電圧レベルに合わせるため、Pウェルに
ボロン(Boron)を打ち込み、ポテンシャルを浅く
しているのが現状である。
導電型である例えばN型の半導体基板を用いた構造の装
置では、Pウェル(well)上に各素子を配置し、こ
のPウェルをイメージセンサ部のブルーミング対策のた
めに空乏化してオーバーフローバリアーとして機能させ
ている。ただし、水平シフトレジスタ4については、水
平転送駆動のための転送クロックの駆動条件、即ち水平
転送クロックの電圧レベルに合わせるため、Pウェルに
ボロン(Boron)を打ち込み、ポテンシャルを浅く
しているのが現状である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Pウェ
ルにボロンを打ち込むことで、Pウェルのポテンシャル
も浅くなるため、水平転送クロックが“L”レベルのと
きにPウェルが空乏化しなくなり、これにより水平転送
の転送効率の劣化を来すことが、本願発明者のシミュレ
ーションによって判明した。そこで、本発明は、他の素
子部へ悪影響をほとんど及ぼすことなく水平転送の効率
改善を可能とした固体撮像装置を提供することを目的と
する。
ルにボロンを打ち込むことで、Pウェルのポテンシャル
も浅くなるため、水平転送クロックが“L”レベルのと
きにPウェルが空乏化しなくなり、これにより水平転送
の転送効率の劣化を来すことが、本願発明者のシミュレ
ーションによって判明した。そこで、本発明は、他の素
子部へ悪影響をほとんど及ぼすことなく水平転送の効率
改善を可能とした固体撮像装置を提供することを目的と
する。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、第1導電型の半導体基板の表面側に形成
された第2導電型のウェルと、この第2導電型のウェル
の表面側に形成された信号電荷転送領域とからなる水平
転送部を備えた固体撮像装置において、ウェルに不純物
を打ち込んでこのウェルを完全に空乏化した構成を採っ
ている。
に、本発明は、第1導電型の半導体基板の表面側に形成
された第2導電型のウェルと、この第2導電型のウェル
の表面側に形成された信号電荷転送領域とからなる水平
転送部を備えた固体撮像装置において、ウェルに不純物
を打ち込んでこのウェルを完全に空乏化した構成を採っ
ている。
【0006】
【作用】本発明による固体撮像装置の水平転送部におい
ては、転送クロックの駆動条件に合わせるために、先ず
、第2導電型のウェルにボロンを打ち込むことでポテン
シャルを浅し、その後このウェルに不純物を打ち込むこ
とでウェルを完全に空乏化する。打ち込むエネルギーは
、信号電荷の転送領域に悪影響をほとんど及ぼさない程
度の高エネルギーとする。ウェルを完全に空乏化するこ
とにより、水平転送の転送効率を向上できる。また、ウ
ェルに不純物を打ち込む際、ボロン打込みのマスクを共
用できるので、イオン打込み工程を追加するのみで実現
できる。
ては、転送クロックの駆動条件に合わせるために、先ず
、第2導電型のウェルにボロンを打ち込むことでポテン
シャルを浅し、その後このウェルに不純物を打ち込むこ
とでウェルを完全に空乏化する。打ち込むエネルギーは
、信号電荷の転送領域に悪影響をほとんど及ぼさない程
度の高エネルギーとする。ウェルを完全に空乏化するこ
とにより、水平転送の転送効率を向上できる。また、ウ
ェルに不純物を打ち込む際、ボロン打込みのマスクを共
用できるので、イオン打込み工程を追加するのみで実現
できる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は、本発明による固体撮像装置の水平
転送部の断面構造図である。図において、第1導電型で
ある例えばN型の半導体基板11の表面側に、第2導電
型であるP型のウェル(以下、Pウェルと称する)12
が形成され、このPウェル12の表面側にはN型領域1
3が形成されている。水平シフトレジスタ4は、N型領
域13の表面に形成されたN+ 型領域からなる信号電
荷転送領域14と、この転送領域14上にシリコン酸化
膜SiO2よりなる絶縁層15を介して形成された蓄積
ゲート電極16及び転送ゲート電極17とによって構成
されている。この水平シフトレジスタ4において、互い
に隣り合う蓄積ゲート電極16及び転送ゲート電極17
が対となり、2相の転送クロックφH1,φH2が印加
されることにより、信号電荷の水平方向への転送が行わ
れる。
に説明する。図1は、本発明による固体撮像装置の水平
転送部の断面構造図である。図において、第1導電型で
ある例えばN型の半導体基板11の表面側に、第2導電
型であるP型のウェル(以下、Pウェルと称する)12
が形成され、このPウェル12の表面側にはN型領域1
3が形成されている。水平シフトレジスタ4は、N型領
域13の表面に形成されたN+ 型領域からなる信号電
荷転送領域14と、この転送領域14上にシリコン酸化
膜SiO2よりなる絶縁層15を介して形成された蓄積
ゲート電極16及び転送ゲート電極17とによって構成
されている。この水平シフトレジスタ4において、互い
に隣り合う蓄積ゲート電極16及び転送ゲート電極17
が対となり、2相の転送クロックφH1,φH2が印加
されることにより、信号電荷の水平方向への転送が行わ
れる。
【0008】ここで、2相の転送クロックφH1,φH
2の駆動条件に合わせるために、すなわち、例えば“L
”レベルが0〔V〕、“H”レベルが5〔V〕の2値の
転送クロックφH1,φH2による転送駆動を可能とす
るために、Pウェル12にボロンを打ち込むことでポテ
ンシャルを浅くする。ボロンを打ち込む前の各領域のポ
テンシャルを図2に、ボロンを打ち込んだ後の各領域の
ポテンシャルを図3にそれぞれ示す。図3中の破線は、
図2のボロン打込み前のポテンシャルを示している。同
図から明らかなように、Pウェル12にボロンを打ち込
むことにより、全領域に亘って全体的にポテンシャルが
浅くなり、特にPウェル12の領域では、ニュートラル
(中性領域)となる。
2の駆動条件に合わせるために、すなわち、例えば“L
”レベルが0〔V〕、“H”レベルが5〔V〕の2値の
転送クロックφH1,φH2による転送駆動を可能とす
るために、Pウェル12にボロンを打ち込むことでポテ
ンシャルを浅くする。ボロンを打ち込む前の各領域のポ
テンシャルを図2に、ボロンを打ち込んだ後の各領域の
ポテンシャルを図3にそれぞれ示す。図3中の破線は、
図2のボロン打込み前のポテンシャルを示している。同
図から明らかなように、Pウェル12にボロンを打ち込
むことにより、全領域に亘って全体的にポテンシャルが
浅くなり、特にPウェル12の領域では、ニュートラル
(中性領域)となる。
【0009】ボロンの打込み後、Pウェル12にさらに
転送領域14等の他の素子部に悪影響をほとんど及ぼさ
ない程度の高エネルギーのドナー(不純物)を打ち込む
。このドナーの打込みの際には、ボロンを打ち込んでい
るマスクを共用する。Pウェル12に高エネルギーのド
ナーを打ち込むことにより、図4に示すように、N型領
域13のポテンシャルのポテンシャルをほぼ維持したま
まPウェル12の領域を完全に空乏化できることになる
。この際、表面の転送領域14のポテンシャルをも深く
してしまう虞れがあるため、ドナーのドーズ量の最適化
が必要となる。なお、図4中の破線は、図3のドナー打
込み前のポテンシャルを示している。
転送領域14等の他の素子部に悪影響をほとんど及ぼさ
ない程度の高エネルギーのドナー(不純物)を打ち込む
。このドナーの打込みの際には、ボロンを打ち込んでい
るマスクを共用する。Pウェル12に高エネルギーのド
ナーを打ち込むことにより、図4に示すように、N型領
域13のポテンシャルのポテンシャルをほぼ維持したま
まPウェル12の領域を完全に空乏化できることになる
。この際、表面の転送領域14のポテンシャルをも深く
してしまう虞れがあるため、ドナーのドーズ量の最適化
が必要となる。なお、図4中の破線は、図3のドナー打
込み前のポテンシャルを示している。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
Pウェルに他の素子部に悪影響をほとんど及ぼさない程
度の高エネルギーのドナーを打ち込むことにより、Pウ
ェルを完全に空乏化した構成となっているので、他の素
子部へ悪影響をほとんど及ぼすことなく水平転送の転送
効率を改善できる効果がある。また、ドナーの打込みの
際に、ボロン打込みのマスクを共用できるので、イオン
打込み工程を追加するのみで実現できる効果もある。
Pウェルに他の素子部に悪影響をほとんど及ぼさない程
度の高エネルギーのドナーを打ち込むことにより、Pウ
ェルを完全に空乏化した構成となっているので、他の素
子部へ悪影響をほとんど及ぼすことなく水平転送の転送
効率を改善できる効果がある。また、ドナーの打込みの
際に、ボロン打込みのマスクを共用できるので、イオン
打込み工程を追加するのみで実現できる効果もある。
【図1】本発明による固体撮像装置の水平転送部の断面
構造図である。
構造図である。
【図2】ボロン打込み前の各領域のポテンシャル図であ
る。
る。
【図3】ボロン打込み後の各領域のポテンシャル図であ
る。
る。
【図4】ドナー打込み後の各領域のポテンシャル図であ
る。
る。
【図5】インターライン転送方式のCCD固体撮像装置
の構成図である。
の構成図である。
1 感光部
2 垂直シフトレジスタ
3 撮像部
4 水平シフトレジスタ
5 出力回路部
11 半導体基板
12 Pウェル
14 信号電荷転送領域
16 蓄積ゲート電極
17 転送ゲート電極
Claims (1)
- 【請求項1】 第1導電型の半導体基板の表面側に形
成された第2導電型のウェルと、この第2導電型のウェ
ルの表面側に形成された信号電荷転送領域とからなる水
平転送部を備えた固体撮像装置において、前記第2導電
型のウェルに不純物を打ち込んで前記第2導電型のウェ
ルを完全に空乏化したことを特徴とする固体撮像装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3043019A JPH04260370A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 固体撮像装置 |
KR1019920001973A KR920017261A (ko) | 1991-02-14 | 1992-02-12 | 고체촬상장치 |
DE69230232T DE69230232T2 (de) | 1991-02-14 | 1992-02-14 | Festkörperbildsensor |
EP92102515A EP0499275B1 (en) | 1991-02-14 | 1992-02-14 | Solid state imager |
US08/098,653 US5397730A (en) | 1991-02-14 | 1993-07-15 | Method of making a high efficiency horizontal transfer section of a solid state imager |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3043019A JPH04260370A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 固体撮像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04260370A true JPH04260370A (ja) | 1992-09-16 |
Family
ID=12652258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3043019A Pending JPH04260370A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 固体撮像装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5397730A (ja) |
EP (1) | EP0499275B1 (ja) |
JP (1) | JPH04260370A (ja) |
KR (1) | KR920017261A (ja) |
DE (1) | DE69230232T2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000286409A (ja) * | 1999-03-18 | 2000-10-13 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | 固体撮像素子およびその製造方法 |
JP2013093562A (ja) * | 2011-09-26 | 2013-05-16 | Parkes Christopher | 枯渇型電荷増倍ccd画像センサ |
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---|---|---|---|---|
JP3031815B2 (ja) * | 1994-04-01 | 2000-04-10 | シャープ株式会社 | 電荷検出素子及びその製造方法並びに電荷転送検出装置 |
JP2965061B2 (ja) * | 1996-04-19 | 1999-10-18 | 日本電気株式会社 | 電荷結合素子およびその製造方法 |
JP2004241638A (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-26 | Sanyo Electric Co Ltd | 電荷転送素子 |
JP5428491B2 (ja) * | 2009-04-23 | 2014-02-26 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5732179A (en) * | 1980-08-06 | 1982-02-20 | Toshiba Corp | Manufacture of solid image pickup device |
US5118631A (en) * | 1981-07-10 | 1992-06-02 | Loral Fairchild Corporation | Self-aligned antiblooming structure for charge-coupled devices and method of fabrication thereof |
FR2533371B1 (fr) * | 1982-09-21 | 1985-12-13 | Thomson Csf | Structure de grille pour circuit integre comportant des elements du type grille-isolant-semi-conducteur et procede de realisation d'un circuit integre utilisant une telle structure |
JPS6239055A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-20 | Mitsubishi Electric Corp | 固体撮像素子 |
JPS62125668A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Sharp Corp | 固体撮像素子 |
JPS63188971A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-08-04 | Seiko Epson Corp | 電荷転送装置 |
NL8700282A (nl) * | 1987-02-06 | 1988-09-01 | Philips Nv | Ladingsgekoppelde inrichting en camera voorzien van een dergelijke inrichting. |
JPH079986B2 (ja) * | 1987-11-26 | 1995-02-01 | 株式会社東芝 | 電荷結合素子の製造方法 |
FR2636171B1 (fr) * | 1988-08-10 | 1990-11-09 | Philips Nv | Dispositif capteur d'images du type a transfert de trame |
US5114833A (en) * | 1988-08-29 | 1992-05-19 | Eastman Kodak Company | Charge-coupled device and process of making the device |
JPH0327539A (ja) * | 1989-06-25 | 1991-02-05 | Sony Corp | 電荷転送装置 |
-
1991
- 1991-02-14 JP JP3043019A patent/JPH04260370A/ja active Pending
-
1992
- 1992-02-12 KR KR1019920001973A patent/KR920017261A/ko not_active Application Discontinuation
- 1992-02-14 EP EP92102515A patent/EP0499275B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-14 DE DE69230232T patent/DE69230232T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-07-15 US US08/098,653 patent/US5397730A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2000286409A (ja) * | 1999-03-18 | 2000-10-13 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | 固体撮像素子およびその製造方法 |
JP2013093562A (ja) * | 2011-09-26 | 2013-05-16 | Parkes Christopher | 枯渇型電荷増倍ccd画像センサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0499275A1 (en) | 1992-08-19 |
EP0499275B1 (en) | 1999-11-03 |
KR920017261A (ko) | 1992-09-26 |
DE69230232T2 (de) | 2000-03-23 |
DE69230232D1 (de) | 1999-12-09 |
US5397730A (en) | 1995-03-14 |
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