JPH04260301A - 角形チップ抵抗器およびその製造方法 - Google Patents

角形チップ抵抗器およびその製造方法

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JPH04260301A
JPH04260301A JP3021912A JP2191291A JPH04260301A JP H04260301 A JPH04260301 A JP H04260301A JP 3021912 A JP3021912 A JP 3021912A JP 2191291 A JP2191291 A JP 2191291A JP H04260301 A JPH04260301 A JP H04260301A
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JP
Japan
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glass
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Pending
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JP3021912A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Shimada
聡明 嶋田
Minoru Sobane
実 曽羽
Takeshi Izeki
健 井関
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、角形チップ抵抗器およ
びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の「軽薄短小」化にとも
ない回路素子の小型化の要求が高まりつつあり、抵抗器
のチップ化が急速に進んでいる。
【0003】以下に従来の角形チップ抵抗器およびその
製造方法について説明する。図3は従来の角形チップ抵
抗器の断面図、図4は従来の角形チップ抵抗器の製造工
程図を示すものである。図3において、11は絶縁性に
優れた96アルミナ基板である。12は電極層で厚膜A
gペーストを印刷,焼成することで形成している。13
はRuO2系グレーズペーストを印刷,焼成し形成して
いる抵抗層である。この上にはプリコートガラス層14
が形成されており、さらにその上に1次ガラス層15,
捺印文字16,2次ガラス層17が形成されている。9
6アルミナ基板11の両端面には電極層12に接続する
ように端面電極18が設けられ、さらにこの端面電極1
8を覆うようにNiめっき層19,Sn−Pbめっき層
20が設けられている。
【0004】この従来の角形チップ抵抗器の製造方法を
図4の製造工程図を用いて説明する。まず、耐熱性,絶
縁性に優れた96アルミナ基板11の上に、厚膜Agペ
ーストをスクリーン印刷し、乾燥後、ベルト式連続焼成
炉によって850℃のピーク8〜10分,IN−OUT
1時間のプロファイルで焼成することにより電極層12
を形成する電極印刷,焼成工程(a)を行う。次に、R
uO2系グレーズペーストをスクリーン印刷し、乾燥後
、ベルト式連続焼成炉によって850℃のピーク8〜1
0分,IN−OUT1時間のプロファイルで焼成する抵
抗印刷,焼成工程(b)により抵抗層13を形成し、続
いて前記抵抗層13を被覆し保護するためガラスペース
トをスクリーン印刷し、乾燥後、ベルト式連続焼成炉に
よって580〜600℃のピーク6分,IN−OUT5
0分のプロファイルで焼成するプリコート印刷,焼成工
程(c)によりプリコートガラス層14を形成して、Y
AGレーザーによる抵抗値修正工程(d)が行われる。 その後、前記プリコートガラス層14を保護するためガ
ラスペーストをスクリーン印刷し、乾燥する1次ガラス
印刷工程(e)、この上に厚膜白色捺印ペーストにより
スクリーン印刷し、乾燥する捺印印刷工程(f)、1次
ガラス層と捺印文字を保護するためガラスペーストをス
クリーン印刷し、乾燥する2次ガラス印刷工程(g)を
行った後、1次ガラス層15,捺印文字16,2次ガラ
ス層17を一括してベルト式連続焼成炉によって580
〜600℃のピーク6分,IN−OUT50分のプロフ
ァイルで焼成するガラス焼成工程(h)により形成する
。この2次ガラス層17に使用するガラスペーストは、
後工程で端面電極上へのめっき工程を行うため耐酸性に
優れていることが必要であり、ガラスペースト中のガラ
スフリットの軟化点が通常580〜600℃のガラスペ
ーストを用いている。さらに、96アルミナ基板11の
両端面には、前記電極層12に接続するように端面に厚
膜Agペーストを端面電極塗布機により塗布し、乾燥後
、ベルト式連続焼成炉によって580〜600℃のピー
ク6分,IN−OUT50分のプロファイルで焼成する
端面電極塗布,焼成工程(i)により形成し、最後に、
前記端面電極18を覆うように半田付け性の信頼性を維
持するためめっき工程(j)によりNiめっき層19,
Sn−Pbめっき層20が設けられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の方
法では、レーザーによる抵抗値修正工程を行った後にガ
ラス焼成工程,端面電極焼成工程を行い、これらの焼成
工程により抵抗値ドリフトが発生するためガラス焼成温
度をなるべく低くすることにより抵抗値ドリフトを抑え
る配慮が必要である。従来の電極層には厚膜Agを用い
ており、組成中にガラスフリットを含み、抵抗体との相
互反応がみられ抵抗値ドリフトが起こりやすいものであ
るため、ガラス焼成温度を低く抑えねばならなかった。 そして後工程で端面電極18上へのめっき工程を行うた
め2次ガラス層17は耐酸性に優れていなければならず
、ガラスフリットの軟化点が580〜600℃のガラス
ペーストを用いているが、ガラス焼成温度は抵抗値ドリ
フトを抑制する程度に抑えることを考えると580〜6
00℃にせざるを得ないのである。またこの温度で焼成
したのではこのガラスペーストの場合、ガラス溶融が不
十分となるため、ガラス表面にピンホールが多数発生し
、めっき工程においてめっき付着不良が発生するといっ
た問題を有していた。
【0006】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、抵抗値ドリフトが少なく、かつガラス表面のピンホ
ールを低減しこれにより発生するめっき付着不良が極め
て少ない角形チップ抵抗器およびその製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の角形チップ抵抗器は、絶縁性基板と、この絶
縁性基板上にAuまたはAu−PtまたはAu−Pt−
Pdの金属有機化合物ペーストを印刷,焼成することに
より形成する一対の薄膜電極層と、前記電極層に接続す
るように設けたRuO2系グレーズペーストを印刷,焼
成することにより形成する抵抗層と、前記抵抗層を覆う
ように設けられた保護ガラス層とを備えたものである。
【0008】また本発明の製造方法は、絶縁性基板上に
AuまたはAu−PtまたはAu−Pt−Pdの金属有
機化合物ペーストを印刷,焼成することにより薄膜電極
層を形成する工程と、前記薄膜電極層に接続するように
RuO2系グレーズペーストを印刷,焼成することによ
り抵抗層を形成する工程と、前記抵抗層を覆うようにガ
ラスフリットの軟化点が580〜600℃のガラスペー
ストを印刷し、この軟化点より30℃以上高い温度で焼
成することにより保護ガラス層を形成する工程とからな
るものである。
【0009】
【作用】本発明によれば、AuまたはAu−Ptまたは
Au−Pt−Pdの金属有機化合物ペーストを印刷,焼
成して形成する薄膜Auもしくは薄膜Au−Pt,薄膜
Au−Pt−Pdからなる薄膜電極層は、組成中にガラ
スフリットを含まないため、抵抗体とガラスフリットと
の相互反応がほとんどなく抵抗値ドリフトが従来の厚膜
Ag電極を用いた場合より非常に小さくなる。
【0010】また抵抗体の保護ガラスとして使用するガ
ラスペーストに用いられるガラスフリットの軟化点が5
80〜600℃であっても、これより30℃以上の焼成
温度で焼成することが可能となる。これによりガラス溶
融が十分に行え、その結果ガラス表面のピンホールが低
減しめっき工程でのめっき付着不良を極めて少なくする
ことができる。
【0011】さらに、薄膜Auもしくは薄膜Au−Pt
,薄膜Au−Pt−Pdの電極は、厚膜Ag電極の約1
/50の膜厚のため、抵抗体と接続したとき段差がほと
んどなく抵抗膜厚が均一になり抵抗値のバラツキが少な
くなる。
【0012】また使用するガラスペーストに用いられる
ガラスフリットの軟化点より30℃以上の焼成温度で焼
成しガラス溶融を十分に行うことにより、ガラス表面の
平滑性が増し実装時の吸着ミスを低減することができる
【0013】
【実施例】以下本発明の一実施例の角形チップ抵抗器と
その製造方法について、図面を参照しながら説明する。 図1は本発明の一実施例における角形チップ抵抗器の断
面図、図2は本発明の一実施例における角形チップ抵抗
器の製造工程図を示すものである。図1において、1は
絶縁性の96アルミナ基板である。2はAuの金属有機
化合物ペーストを印刷,焼成することにより形成してい
る薄膜Au電極層である。3はRuO2系グレーズペー
ストを印刷,焼成し形成している抵抗層である。この上
にはプリコートガラス層4が形成されており、さらにそ
の上に1次ガラス層5,捺印文字6,2次ガラス層7が
形成されている。96アルミナ基板1の両端面には電極
層2に接続するように端面電極8が設けられ、さらにこ
の端面電極8を覆うようにNiめっき層9,Sn−Pb
めっき層10が設けられている。
【0014】この本発明の角形チップ抵抗器の製造方法
を図2の製造工程図を用いて説明する。まず、耐熱性,
絶縁性に優れた96アルミナ基板よりなる絶縁性基板1
の上に、Auの金属有機化合物ペーストをスクリーン印
刷し、乾燥後、ベルト式連続焼成炉によって850℃の
ピーク8〜10分,IN−OUT1時間のプロファイル
で焼成することにより、薄膜Au電極層2を形成する電
極印刷,焼成工程(A)を行う。
【0015】次に、RuO2系グレーズペーストをスク
リーン印刷し、乾燥後、ベルト式連続焼成炉によって8
50℃のピーク8〜10分,IN−OUT1時間のプロ
ファイルで焼成する抵抗印刷,焼成工程(B)により抵
抗層3を形成し、続いて、前記抵抗層3を被覆し保護す
るためガラスペーストをスクリーン印刷し、乾燥後、ベ
ルト式連続焼成炉によって640℃のピーク7分,IN
−OUT50分のプロファイルで焼成するプリコート印
刷,焼成工程(C)によりプリコートガラス層4形成を
経て、YAGレーザーによる抵抗値修正工程(D)が行
われる。
【0016】その後、前記プリコートガラス層4を保護
するためガラスペーストをスクリーン印刷し、乾燥する
1次ガラス印刷工程(E)、この上に厚膜白色捺印ペー
ストによりスクリーン印刷し、乾燥する捺印印刷工程(
F)、1次ガラス層5と捺印文字6を保護するためガラ
スペーストをスクリーン印刷し、乾燥する2次ガラス印
刷工程(G)を行った後、1次ガラス層5,捺印文字6
,2次ガラス層7を一括してベルト式連続焼成炉によっ
て640℃のピーク7分,IN−OUT50分のプロフ
ァイルで焼成するガラス焼成工程(H)により形成する
【0017】さらに、前記薄膜Au電極層2に接続する
ように96アルミナ基板1の両端面には厚膜Agペース
トを端面電極塗布機により塗布し、乾燥後、ベルト式連
続焼成炉によって580〜600℃のピーク6分,IN
−OUT50分のプロファイルで焼成する端面電極塗布
,焼成工程(I)により端面電極8を形成し、最後に、
前記端面電極8を覆うように半田付け性の信頼性を維持
するためめっき工程(J)によりNiめっき層9,Sn
−Pbめっき層10が設けられている。
【0018】(表1),(表2)に本実施例による角形
チップ抵抗器およびその製造方法と従来の製造方法での
ガラス焼成後のガラス表面のピンホール数と、ガラス焼
成前後の抵抗値変化率を示す。本実施例も従来例も、そ
れぞれ590℃,640℃でガラスを焼成した場合を記
している。
【0019】
【表1】
【0020】
【表2】
【0021】表によれば、640℃で焼成することによ
ってガラス表面ピンホール数は1個,2個と極めて少な
くなっており、めっき工程においてガラス表面ピンホー
ルによるめっき付着不良が、非常に起きにくくなるとい
える。また、従来の製造方法では640℃で焼成した場
合は特に抵抗値変化率の絶対値,バラツキ共に大きくな
っているのに対して、本実施例の製造方法では640℃
で焼成しても抵抗値変化率が±1%以内となっている。 これは薄膜Au電極2は抵抗体3のガラスフリットとの
相互反応がほとんどないために、焼成温度を640℃に
しても抵抗値ドリフトを抑制することができたといえる
。なお、本実施例の抵抗値変化率のバラツキが小さかっ
たのは、薄膜Au電極2は厚膜Ag電極の約1/50の
膜厚のため、抵抗体3と接続したとき段差がほとんどな
く抵抗膜厚が均一になり、バラツキが抑制された点が大
きな要因の一つといえる。
【0022】すなわち、本実施例によれば、ガラスフリ
ットを含まない電極材料を用いているので抵抗体3とガ
ラスフリットとの相互作用は起こり得ず、640℃で焼
成が可能であるため、ガラス表面ピンホールが減少しか
つ抵抗値ドリフトも小さい角形チップ抵抗器が提供でき
る。
【0023】なお薄膜Au電極層2の代わりに、薄膜A
u−Pt,薄膜Au−Pt−Pdとしてもよい。
【0024】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ガラスフ
リットを含まない金属有機化合物ペーストを印刷,焼成
することにより形成する薄膜Auもしくは薄膜Au−P
t,薄膜Au−Pt−Pdを電極としているため、抵抗
体との相互作用がなく、抵抗値ドリフトが小さくなる。 さらにガラス焼成工程においてガラスフリットの軟化点
が580〜600℃のガラスペーストを印刷しこの軟化
点より30℃以上の焼成温度により形成することが十分
可能となる。よって、ガラス表面のピンホールを低減し
、めっき工程でのめっき付着不良をなくすことができる
優れた角形チップ抵抗器およびその製造方法を実現でき
るものである。
【0025】また、電極膜厚が薄くなるため、抵抗体と
接続したとき段差は発生せず、抵抗膜厚が均一になり抵
抗値のバラツキが少なくなる。さらにガラス溶融が十分
に行えるためガラス表面の平滑性が増し、実装時の吸着
ミスを低減することができる優れた角形チップ抵抗器お
よびその製造方法を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の角形チップ抵抗器の断面図
【図2】本発明の同実施例の角形チップ抵抗器の製造工
程図
【図3】従来の角形チップ抵抗器の断面図
【図4】従来
の角形チップ抵抗器の製造工程図
【符号の説明】
1  96アルミナ基板 2  薄膜An電極層 3  抵抗層 4  プリコートガラス層 5  1次ガラス層 6  捺印文字 7  2次ガラス層 8  端面電極層 9  Niめっき層 10  Su−Pbめっき層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁性基板と、この絶縁性基板上にAuま
    たはAu−PtまたはAu−Pt−Pdの金属有機化合
    物ペーストを印刷,焼成することにより形成する一対の
    薄膜電極層と、前記電極層に接続するように設けたRu
    O2系グレーズペーストを印刷,焼成することにより形
    成する抵抗層と、前記抵抗層を覆うように設けられた保
    護ガラス層とを備えた角形チップ抵抗器。
  2. 【請求項2】絶縁性基板上にAuまたはAu−Ptまた
    はAu−Pt−Pdの金属有機化合物ペーストを印刷,
    焼成することにより薄膜電極層を形成する工程と、前記
    薄膜電極層に接続するようにRuO2系グレーズペース
    トを印刷,焼成することにより抵抗層を形成する工程と
    、前記抵抗層を覆うようにガラスフリットの軟化点が5
    80〜600℃のガラスペーストを印刷し、この軟化点
    より30℃以上高い温度で焼成することにより保護ガラ
    ス層を形成する工程とからなる請求項1記載の角形チッ
    プ抵抗器の製造方法。
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