JPH042584B2

JPH042584B2 -

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Publication number: JPH042584B2
Application number: JP58078394A
Authority: JP
Priority date: 1982-05-06
Filing date: 1983-05-06
Publication date: 1992-01-20
Also published as: EP0094304A1; EP0094304B1; FR2526422A1; CA1206480A; ES8402555A1; IE831031L; FR2526422B1; PT76642A; FI82443B; JPS5925350A; PT76642B; FI82443C; HU188276B; FI831521A0; ATE18546T1; IE54904B1; ES522106A0; DE3362512D1; FI831521L; US5026862A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、シクロプロパンカルボン酸誘導体の
新製造法及び新規な中間体に関する。しかして、本発明の主題は、次式（）［ここで、Ｒは、水素原子、１〜18個の炭素原子
を含有するアルキル基、18個までの炭素原子を含
有するアルコキシアルキル基、又は次式：（式中、R₁₄は水素原子又はメチル若しくはシア
ノ基を表わす）の基を表わし、Ｗは、水素原子を表わし且つＹはCO₂R′又は
COSR′基を表わし、或いはＷは、ハロゲン原子Halを表わし且つＹは
CO₂R′基を表わし、 R′は飽和又は不飽和の線状又は分岐状のアル
キル基を表わし、二重結合の立体配置は、Ｗが水素原子を表わす
場合にはＺであり、又はＷがハロゲン原子を表わ
す場合にはＥである］に相当する、シクロプロパン環に関して全ての可
能な異性体形態にある化合物を製造するにあた
り、次式（）（ここで、Ｒは先に述べた意味を有する）の化合物に次式（₁）：又は次式（₂）：（これら式中、Ｙ及びＷは前記の意味を有し、置
換基Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ及びG₁は水素原子又は
１〜３個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
す）の化合物を作用させて、二重結合の立体配置がＷ
が水素原子を表わす場合にはＺであり又はＷがハ
ロゲン原子を表わす場合にはＥであり、且つ、シ
クロプロパンと基Ｙのカルボキシルが二つの場合
とも二重結合に関してcis位置にある式（）の
化合物を得ることを特徴とする前記式（）の化
合物の製造法にある。 R′が飽和の線状又は分岐状アルキル基を表わ
すときは、それはメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、
イソブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｔ−
ブチル、ｔ−ペンチル又はネオペンチル基である
のが好ましい。 R′が不飽和アルキル基を表わすときは、これ
は、例えばビニル若しくは１，１−ジメチルアリ
ルのようなエチレン基、又は例えばエチニル若し
くはプロピニル基のようなアセチレン基である。Ｗがハロゲン原子を表わすときは、それは、例
えば塩素又は臭素原子であつてよいが、弗素原子
が好ましい。Ｒがアルキル基を表わすときは、それはメチ
ル、エチル又はｔ−ブチル基であるのが好まし
い。Ｒが18個までの炭素原子を含有するアルコキシ
アルキル基を表わすときは、それは、−
CH₂OCH₃基であるのが好ましい。本発明の方法によれば、シクロプロパン環に関
する式（）の化合物の構造は、得ようと望む式
（）の化合物の構造であつて、その方法中に構
造の変化はない。式（）の化合物は、多くの立体異性体形態で
存在できる。事実、それらはシクロプロパンの１
及び３位置に２個の不斉炭素原子を持つている。
さらに、それらは、部分Ｒはもちろん部分Ｙにも
１個以上の不斉中心を与えることができる。しか
して、当然であるが、本発明は、可能な異性体の
それぞれの製造並びにそれらの混合物の製造にも
及ぶ。しかしながら、本発明は、特に、シクロプ
ロパン部分が1R、cis又は1R、trans構造である
ことを特徴とする前記の製造法、そして特にシク
ロプロパン部分が1R、cis構造であることを特徴
とする前記の製造法を主題とする。さらに詳しくは、本発明は、Ｒが (a) １〜18個の炭素原子を含有する線状又は分岐
状のアルキル基か、或いは (b) 次式：（式中、R₁₄は水素原子又はメチル若しくはシ
アノ基を表わす）の基を表わすことを特徴とする製造法を主題とする。特に、本発明の主題は、Ｒがα−シアノ−３−
フエノキシベンジル又はα−メチル−３−フエノ
キシベンジルを表わすことを特徴とする製造法に
ある。また、本発明は、特に、Ｒが水素原子又は18個
までの炭素原子を含有するアルコキシアルキル
基、特に基−CH₂OCH₃を表わすことを特徴とす
る式（）の化合物の製造法を主題とする。また、本発明は、特に、前記式（₁）におい
て置換基Ｃ及びＥが水素原子を表わし、置換基Ｄ
及びＦがメチル基を表わす化合物を用いることを
特徴とする製造法を主題とする。また、本発明は、特に、式（）の化合物と式
（₁）又は（₂）の化合物との反応が強塩基の
存在下に行われることを特徴とする式（）の化
合物の製造法を主題とする。強塩基としては、例
えば水素化ナトリウム、アルカリ若しくはアルカ
リ土類金属アルコラート、アルカリアミド又は有
機リチウム誘導体を用いることができる。また、本発明は、特に、操作が−70℃〜＋25℃
の間の温度で行われることを特徴とする製造法を
主題とする。また特に、本発明は、操作がテトラ
ヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルホスホトリアミド及
びジメトキシエタンよりなる群から選ばれる溶媒
（脂肪族又は芳香族炭化水素を混合してもよい）
中で行なわれることを特徴とする製造法を主題と
する。そして特に、本発明は、先に記載した式（）
の化合物に次式（_A）：｛ここでＡは次式：

【式】又は

【式】（式中、置換基Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ及びG₁は水
素原子又は１〜３個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わす）の二価の炭化水素基を表わし、 R′は先に定義した通りである｝の化合物を作用させて次式（_A）：（ここで二重結合の立体配置はＺである）の化合物を得ることを特徴とする製造法、同様
に、先に記載した式（）の化合物に次式（_B）：（ここでＡ、R′及びHalは先に定義した通りであ
る）の化合物を作用させて次式（_B）：（ここで二重結合の立体配置はＥである）の化合物を得ることを特徴とする製造法を主題と
する。さらに、本発明は、先に記載した式（）の化
合物に次式（_C）：（ここでＡ及びR′は先に定義した通りである）の化合物を反応させて対応する次式（_C）：（ここで二重結合の立体位置はＺである）の化合物を得ることを特徴とする製造法を主題と
する。本発明の方法の開始時に用いられる式（）の
化合物は、その異性体形、cis、trans、ラセミ又
は光学活性形のうちの任意の一つであつてよい。
式（）の化合物がcis形であり且つＲが水素原
子を表わすときは、それ自体は対応するラクト
ン、即ち、cis−２，２−ジメチル−３−ジヒド
ロキシメチルシクロプロパン−１−カルボン酸の
ラクトンの形にある。式（）の化合物は一般に既知の化学物質であ
る。これらは非常に有用なペスチサイド性を付与
されているか又は有用なペスチサイド性化合物の
合成に中間体として用いることができる。それら
は、特にヨーロツパ特許出願第0038271号、
0041021号、0048186号及び0050534号に記載され
ている。Ｙが−COSR基気を表わす式（）の化
合物は、フランス国特許出願第81−19481（1918年
10月16日出願）に記載されている。これらは、次
式（ここでＲは先に定義した通りである）の化合物に次式 HS−R′ のメルカプタンを作用させて所期の式（）の化
合物を得ることにより製造することができる。これらの化合物は、式（）の全ての化合物と
同様に、非常に有用なペスチサイド性、特に殺虫
及び殺だに性を示し、又は活性な物質の合成にお
ける中間体をなす。以下では、フランス国特許出
願第81−19481号に記載されたようなこれら化合
物のいくつかの製造例を示す。本発明の主題をなす方法は、これが所望の二重
結合立体配置を持つ式（）の所期化合物を、容
易に入手できる原料、即ちシクロプロパンとＹ基
のカルボキシルが二重結合に関してcis位置にあ
る化合物から出発して、簡単で且つ迅速な態様で
取得することを可能にさせるために、特に有益で
ある。今日までに知られた式（）の化合物の製造方
法は非常に長い合成過程により式（）の化合物
を得るのを可能にしているにすぎないか、又は同
じ立体特異性を導かないのである。しかして、例
えばヨーロツパ特許出願第0048186号は、次式（ここでR〓は線状、分岐状又は環状のアルキル
基であり、Ａはピレスリノイド合成に用いられる
アルコールの残基である）のエステル並びにその酸及び対応アルキルエステ
ルを製造するにあたり、次式（）（ここでHalはハロゲン原子を表わし、alkは１
〜20個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
す）の化合物にハロゲン原子を解裂できるアルカリ剤
を反応させ、その後(a)カルボキシル基を導入でき
る反応剤を反応させて次式（）の化合物を得、この化合物に式R〓−OH（R〓は前
記の意味を有する）のエステル化剤を作用させて
次式（）の化合物を得るか、又は(b)次式 Hal−CO₂R〓（ここでHalはハロゲン原子を表わし、R〓は前記
の意味を有する）の誘導体を反応させて次式（）の化合物を直接得、次いで式（）の化合物に水
素化剤を注意深く作用させて次式（）（ここで二重結合はＺ配置を有する）の化合物を得、この化合物にシクロプロパンの１
位置の炭素に結合したエステル官能基を選択的に
解裂できる酸加水分解剤を作用させて対応する次
式の化合物を得、この化合物にアルコールＡ−OH
を作用させて対応する次式（ここで配置は本質上Ｚである）のエステルを得ることを特徴とする方法を記載し
ている。また、式（）の化合物が、有機溶媒中でウイ
ツチヒ反応に従い次式の化合物に次式

【式】又は（ここでR〓及びR〓は炭化水素基である）の化合物を作用させて次式

【式】又は

【式】の化合物をＥ及びＺ異性体の混合物の形で得、次
いでこれをその異性体のそれぞれに分離すること
により得ることができることも知られている。こ
の方法は工業的観点から利益がない。なぜなら
ば、この方法は実質的にＥ立体配置を持つ化合
物、即ちペスチサイドとして利益の少ない化合物
を含む混合物を導くからである。これに対して、環状りん酸エステルを用いる本
発明の方法は、選定された立体配置を持つ化合
物、即ちシクロプロパンとカルボキシルが二重結
合に関してcis位置にある化合物を迅速且つ簡単
な方法で、しかも優れた収率で導くものである。式（₁）及び（₂）のある種の化合物は既知
であり、例えば下記の式に従つて製造することが
できる。（ここでＸはハロゲン原子を表わし、alkは低級
アルキル基を表わす）式（_A）のある種の化合物、例えば次式（ここでR′₁はプロピル、イソプロピル又はｔ−
ブチル基を表わす）は新規である。式（_A1）及
び（_A2）のこれらの化合物は、それ自体、新規
な化合物として、特に本発明の方法を実施するの
に必要な中間体として本発明の主題をなす。ま
た、式（_B）及び（_C）の化合物も新規な物質
であり、それ自体、新規な化合物として、特に本
発明を実施するのに必要な中間体として本発明の
主題をなすものである。式（_B）及び（_C）の化合物のうちでも、特
に次式

【式】及びの化合物があげられる。式（_B）及び（_C）の化合物の製造例は実験
の部でさらに示す。下記の実施例は本発明を例示するもので、これ
を何ら制限しない。例１（1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
〔３−オキソ−３−ｔ−ブトキシ−１−プロペ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 65ｇの臭化リチウムを600c.c.の無水テトラヒド
ロフランに溶解する。次いで−40℃において18.3
c.c.のジイソプロピルアミン、50ｇの２−ｔ−ブト
キシカルボニルメチル−４，５−ジメチル−２−
オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン及び19ｇの（1R、cis）２，２−ジメチル−３−
ジヒドロキシメチルシクロプロパン−１−カルボ
ン酸のラクトンを導入する。温度を−40℃に保ち
ながら、45ｇのカリウムｔ−ブチラートを100c.c.
のテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を１時
間半でゆつくりと加える。反応混合物を−40℃で
１時間かきまぜ続け、次いで混合物を１の1N
塩酸水溶液に注ぐ。イソプロピルエーテルで抽出
し、水洗し、乾燥し、減圧下に蒸発乾固させるこ
とによつて、93％の所記のＺ異性体を含む32ｇの
生成物を得た。類似の結果が２−ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル−５，５−ジメチル−２−オキソ−１，３，２
−ジオキサホスホリナンを製造することによつて得ることができた。この
製造を以下に記載する。製造１出発物質として用いた２−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル−４，５−ジメチル−２−オキソ−
１，３，２−ジオキサホスホランは次のように製
造される。工程Ａ：２−メトキシ−４，５−ジメチル−１，
３，２−ジオキサホスホラン 300ｇの亜りん酸トリエチルと200c.c.の２，３−
ブタンジオールを含む混合物を100℃に加熱する。
生じたメタノールを蒸留し、170ｇの所期生成物
を得た。 BP＝66℃／20mmＨｇ。工程Ｂ：最終生成物 62.5ｇのブロム酢酸ｔ−ブチルを140mmＨｇの
減圧下に115℃に加熱する。次いで２時間にわた
り37ｇの２−メトキシ−４，５−ジメチル−１，
３，２−ジオキサホスホランを導入する。揮発性
生成物を減圧下に除去した後、59ｇの所期生成物
を回収した。これはゆつくりと結晶化する。 NMRスペクトルｔ−ブチル基のCH₃ 1.5ppm 環のCH₃ 1.31〜1.46ppm Ｐに隣接したCH₂ 2.98〜3.28ppm 環のCH 4.22〜5.11ppm ２−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−５，５−
ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサ
ホスホリナンの製造 115℃に予め加熱した27c.c.のブロム酢酸ｔ−ブ
チルに130mmＨｇの圧力下に２時間にわたり25.5
ｇの２−メトキシ−５，５−ジメチル−１，３，
２−ジオキサホスホリナンを加える。添加完了後
反応を15分間続け、次いで過剰の薬剤を減圧蒸留
により追出す。所期生成物をイソプロピルエーテ
ルより結晶化し、35ｇの純ホスホリナンを得た。
MP＝98℃。 NMRスペクトル（CDCl₃） tBuのCH₃ 1.49ppm 環の対のCH₃ 1.06及び1.1ppm Ｐのα位のCH₂ 2.8及び3.16ppm J_H-P＝22Hz 例２（1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−メトキシ−３−オキソ−１−プロペニル）
シクロプロパンカルボン酸メトキシメチル例１におけるように実施し、1.9ｇの（1R、
cis）２，２−ジメチル−３−ホルミルシクロプ
ロパン−１−カルボン酸メトキシメチルと2.7ｇ
の２−メトキシカルボニルメチル−４，５−ジメ
チル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホ
ランより出発して、３ｇの粗生成物を得た。これ
は90％の所期の△Ｚ異性体を含有する。例２の製造において出発物質として用いた化合
物は次のように得られる。製造２２−メトキシカルボニルメチル−４，５−ジメ
チル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホ
ラン 45c.c.の１−ブロム酢酸メチルを120〜130℃に加
熱し、これに69.8ｇの製造１の工程Ａで製造した
生成物を70分間で加える。温度を周囲温度に戻
し、過剰の１−ブロム酢酸メチルを留去する。得
られた粗生成物を再蒸留し、73ｇの所期生成物を
得た。BP＝130〜132℃。製造３（1R、cis）２，２−ジメチル−３−ホルミル
シクロプロパンカルボン酸メトキシメチル工程Ａ：クロルメチルメチルエーテルの製造 90c.c.のメチラールと2.4c.c.のメタノールを含む
混合物にかきまぜながら70c.c.の塩化アセチルを導
入する。次いで反応混合物を数時間放置する。工程Ｂ（1R、cis）２，２−ジメチル−３−ホルミル
シクロプロパンカルボン酸メトキシメチル 500c.c.のテトラヒドロフランに溶解した110ｇの
（1R、cis）２，２−ジメチル−３−（ジヒドロキ
シメチル）シクロプロパン−１−カルボン酸のラ
クトンに15±２℃において約半時間にわたり6.7
ｇの水素化リチウムを加える。この混合物を含む
装置を工程Ａで得た生成物を含む装置と接続させ
てクロルエーテルをリチウム塩上にデカントし、
これを20℃で４時間かきまぜ続ける。反応媒体を
重炭酸ナトリウム水溶液上に注ぎ、イソプロピル
エーテルで抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、
溶媒を蒸発させた後、117ｇの粗生成物が残つた
が、これを蒸留して精製する。BP／0.05mmＨｇ
＝65℃〜70℃。例３（1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−エトキシ−３−オキサ−１−プロペニル）
シクロプロパンカルボン酸メトキシメチル例１におけるように実施し、1.9ｇの（1R、
cis）２，２−ジメチル−３−ホルミルシクロプ
ロパン−１−カルボン酸メトキシメチルと３ｇの
２−エトキシカルボニルメチル−４，５−ジメチ
ル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラ
ン（E.Brever他によりTetrahedron34、997
（1973）に記載の方法に従つて製造）より出発し
て、99.5％の△Ｚ異性体を含む1.6ｇの生成物を
得た。MP＝100℃。例４（1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−メチルチオプロペニル）シ
クロプロパンカルボン酸ｔ−ブチル工程Ａ：リチウムジイソプロピルアミドの製造
9.73ｇのジイソプロピルアミンと100c.c.のテトラ
ヒドロフランを含む混合物に０℃±５℃でかきま
ぜながら45c.c.の2.3Mt−ブチルリチウムシクロヘ
キサン溶液を加える。工程Ｂ：陰イオンの製造 19.6ｇの２−（メチルチオカルボニルメチル）−
４，５−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジ
オキサホスホランを100c.c.のテトラヒドロフラン
に溶解してなる溶液を不活性雰囲気下に−50℃に
冷却し、工程Ａで製造した生成物の全部を20分間
で加える。この反応生成物は−30℃以下の温度に
保つ。工程Ｃ：所期生成物 14ｇの（1R、cis）３−ホルミル−２，２−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチルを
200c.c.のテトラヒドロフランに溶解してなる溶液
に工程Ｂで製造した生成物の全部を−50℃でかき
まぜながら導入する。反応生成物を−30℃で１時
間30分かきまぜる。次いでこれをりん酸モノナト
リウム飽和水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。抽出物を一緒にし、水洗し、乾燥し、過
し、減圧乾燥させる。30ｇの生成物を得、これを
シリカでクロマトグラフイーし、ヘキサンと酢酸
エチルとの混合物（９−１）で溶離する。これに
より6.9ｇの所期生成物を単離した。MP＝57〜58
℃。製造４出発物質として用いた２−（メチルチオカルボ
ニルメチル）−４，５−ジメチル−２−オキソ−
１，３，２−ジオキサホスホランは次のように製
造した。工程Ａ：ブロムチオ酢酸メチル 10℃で14c.c.のピリジンと15c.c.のCH₃SHを150℃
のベンゼンに加える。０℃に冷却した後、14c.c.の
塩化ブロムアセチルを50c.c.のベンゼンに溶解して
なる溶液を30分間で加える。温度を20℃に戻し、
４時間かきまぜる。反応混合物を冷1N塩酸溶液
に注ぎ、15分間かきまぜる。ベンゼン相をデカン
トし、乾燥し、乾固させる。これにより所期生成
物を得たが、再精留した後20ｇの生成物を単離し
た。BP／0.05mmＨｇ＝36℃。工程Ｂ：２−（メチルチオカルボニルメチル）−
４，５−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−
ジオキサホスホラン 18.7ｇの工程Ａで製造した生成物を18.7ｇの２
−メトキシ−４，５−ジメチル−１，３，２−ジ
オキサホスホランに130℃で30分間にわたり滴下
し、これを140℃で１時間かきまぜ続ける。得ら
れた生成物を80℃で減圧下に乾固させ、25ｇの所
期生成物を得た。例５（1R、cis−△Ｅ）２，２−ジメチル−３−
（３−エトキシ−３−オキソ−２−フルオル−
１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸 0.5ｇの臭化リチウムを10c.c.のテトラヒドロフ
ランに溶解し、次いで−40℃において0.2c.c.のジ
イソプロピルアミン、0.25ｇの（1R、cis）２，
２−ジメチル−３−ジヒドロキシメチルシクロプ
ロパンカルボン酸のラクトン及び0.5ｇの２−（エ
トキシカルボニルフルオルメチル）−５，５−ジ
メチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホス
ホリナンを導入する。次いで３c.c.のテトラヒドロ
フランに溶解した0.5ｇのカリウムｔ−ブチラー
トをゆつくりと加える。これを−40℃で１時間保
つた後、希塩酸上に注ぎ、イソプロピルエーテル
で抽出し、濃縮乾固する。得られた酸は95％のＥ
異性体を含有した。製造５２−（エトキシカルボニルフルオルメチル）−
５，５−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジ
オキサホスホリナン 10ｇのブロムフルオル酢酸エチルと6.4ｇの２
−メトキシ−５，５−ジメチル−１，３，２−ジ
オキサホスホリナンを500mmＨｇの圧力下に150℃
で３時間加熱する。冷却し、シリカでクロマトグ
ラフイー（溶離剤：CHCl₃1−アセトン１−ヘキ
サン１）した後、所期生成物を30％の収率で単離
した。 NMRスペクトル（CDCl₃）環のCH₃ 0.91及び1.3ppm エステルのCH₂−CH₃
1.21−1.33−1.45−4.18−4.3−4.41−4.53ppm 環のCH₂O 3.66〜4.5ppm Ｆ及びＰのα位の−CH−
4.91−5.1ppm、5.7−5.9ppm J_H-P＝12Hz J_H-F＝47Hz 例６（1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−メトキシ−１−プロペニル）
シクロプロパンカルボン酸 10ｇの臭化リチウムと40c.c.の無水テトラヒドロ
フランを混合し、−10℃に冷却し、2.54ｇの
（1R、cis）２，２−ジメチル−３−ジヒドロキ
シメチルシクロプロパンカルボン酸のラクトンを
加える。混合物を−30℃に冷却し、４c.c.のジイソ
プロピルアミン、次いで5.6ｇの２−メトキシカ
ルボニルメチル−４，５−ジメチル−２−オキソ
−１，３，２−ジオキサホスホラン、最後に20c.c.
のテトラヒドロフランに溶解した4.8ｇのカリウ
ムｔ−ブチラートを加える。これを−30℃で１時
間接触させ、次いで200c.c.の1N塩酸と氷との混合
物に注ぐ、結晶を分離し、99.5％のＺ異性体を含
む2.34ｇの所期生成物を単離した。MP＝100℃。例７（1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−エトキシ−１−プロペニル）
シクロプロパンカルボン酸５ｇの臭化リチウムと20c.c.のテトラヒドロフラ
ンを混合し、次いで1.420ｇの（1R、cis）２，２
−ジメチル−３−ジヒドロキシメチルシクロプロ
パンカルボン酸のラクトンと３ｇの２−エトキシ
カルボニルメチル−４，５−ジメチル−２−オキ
ソ−１，３，２−ジオキサホスホランを加える。
この後、２c.c.のジイソプロピルアミンを10c.c.のテ
トラヒドロフランに溶解したものを加え、次いで
2.5ｇのカリウムｔ−ブチラートを10c.c.のテトラ
ヒドロフランに溶解したものを加える。これを−
30℃で１時間保ち、次いで水−氷−濃塩酸混合物
に注ぎ、結晶を分離し、乾燥し、98.9％のＺ異性
体を含む1.51ｇの所期生成物を得た。MP−100
℃。例８（1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−プロポキシカルボニル−１
−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸例６に記載の方法と類似の方法で実施し、出発
物質として1.26ｇの（1R、cis）２，２−ジメチ
ル−３−ジヒドロキシメチルシクロプロパンカル
ボン酸ラクトンと3.13ｇの２−プロポキシカルボ
ニルメチル−４，５−ジメチル−２−オキソ−
１，３，２−ジオキサホスホランを用い、そして
ヘキサンで再結晶した後、0.89ｇの所期生成物を
得た。MP＝59℃。〔α〕_D＝＋77°±1.5°（ｃ＝１％、CHCl₃）。製造６２−プロポキシカルボニルメチル−４，５−ジ
メチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホス
ホラン製造１の工程Ｂに記載の方法と類似の方法
で実施し、出発物質として3.8ｇのブロム酢酸ｎ
−プロピルと2.42ｇの２−メトキシ−４，５−ジ
メチル−１，３，２−ジオキサホスホランを使用
して、3.62ｇの粗製の所期生成物を得、これをそ
のまま例８で用いた。例９（1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−イソプロポキシ−１−プロ
ペニル）シクロプロパンカルボン酸例６に記載の方法と類似の方法で実施し、出発
物質として0.76ｇの（1R、cis）２，２−ジメチ
ル３−ジヒドロキシメチルシクロプロパンカルボ
ン酸のラクトンと1.9ｇ２−イソプロポキシカル
ボニルメチル−４，５−ジメチル−２−オキソ−
１，３，２−ジオキサホスホランを使用すること
によつて、１ｇの所期生成物、Ｚ異性体を得た。
MP＝100℃、〔α〕_D＝＋71°±2°（ｃ＝１％
CHCl₃）。また0.09ｇのＥ異性体を得た。製造７２−イソプロポキシカルボニルメチル−４，５
−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサ
ホスホラン製造１の工程Ｂに記載の方法と類似の方法で実
施し、出発物質として2.03ｇのブロム酢酸イソプ
ロピルと1.3ｇの２−メトキシ−４，５−ジメチ
ル−１，３，２−ジオキサホスホランを用いるこ
とによつて、1.94ｇの所期の粗生成物を得、これ
はそのまま例９で用いた。例 10 （1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−ｔ−ブトキシ−１−プロペ
ニル）シクロプロパンカルボン酸メトキシメチ
ル例１に記載の方法と類似の方法で実施し、出発
物質として3.25ｇの２−ｔ−ブトキシカルボニル
メチル−４，５−ジメチル−２−オキソ−１，
３，２−ジオキサホスホランと1.5ｇの（1R、
cis）２，２−ジメチル−３−ホルミルシクロプ
ロパン１−カルボン酸メトキシメチルを使用する
ことによつて、シリカでクロマトグラフイーし、
ヘキサンと酢酸エチルとの混合物（９−１）で溶
離した後、1.9ｇ所期生成物（MP＜50℃）と0.1
ｇのＥ異性体を得た。例 11 （1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−メトキシ−１−プロペニル）
シクロプロパンカルボン酸ｔ−ブチル 0.4c.c.のジイソプロピルアミンと４c.c.のテトラ
ヒドロフランを混合し、−10℃〜−20℃において
1.3c.c.の2Mブチルリチウムシクロヘキサン溶液を
加える。混合物を−10℃〜−20℃で15分間かきま
ぜ、次いで−50℃〜−60℃に冷却し、0.4ｇの
（1R、cis）２，２−ジメチル−３−ホルミルシ
クロプロパンカルボン酸ｔ−ブチル、0.562ｇの
２−メトキシカルボニルメチル−４，５−ジメチ
ル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラ
ン及び10c.c.のテトラヒドロフラン上に注ぎ、−50
℃〜−60℃に冷却し、−40℃で１時間接触させた
後、これを酸性りん酸ナトリウムの冷飽和水溶液
上に注ぎ、イソプロピルエーテルで抽出する。有
機相を乾燥し、溶媒を蒸発させる。88％のＺ異性
体を含む0.5ｇの所期生成物を得た。例 12 （1R、trans−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−エトキシ−１−プロペニル）
シクロプロパンカルボン酸例１に記載の方法と類似の方法で実施し、出発
物質として２ｇの（1R、trans）２，２−ジメチ
ル−３−ホルミルシクロプロパンカルボン酸と
4.1ｇの２−エトキシカルボニルメチル−４，５
−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサ
ホスホランを使用することにより、シリカでクロ
マトグラフイーし、１％の酢酸を含むシクロヘキ
サン−酢酸エチル混合物（６−４）で溶離した
後、75％のＺ異性体を含む1.73ｇの所期生成物を
得た。例 13 （1R、cis−△Ｚ）２，２−ジメチル−３−
（３−オキソ−３−エトキシ−１−プロペニル）
シクロプロパンカルボン酸（RS）α−シアノ
−３−フエノキシベンジル１ｇの２−エトキシカルボニルメチル−４，５
−ジメチル−２−オキソ−１，３，２−ジオキサ
ホスホランと10c.c.のテトラヒドロフランを混合
し、−60℃に冷却し、次いで0.495ｇのカリウムｔ
−ブチラートを６c.c.のテトラヒドロフランに溶解
したものをゆつくりと加える。−60℃に10分間放
置した後これを1.2ｇの（1R、cis）２，２−ジメ
チル−３−ホルミルシクロプロパンカルボン酸
（RS）α−シアノ−３−フエノキシベンジルと13
c.c.のテトラヒドロフランの混合物上にゆつくりと
注ぐ。これを再び−60℃で10分間放置し、次いで
1N塩酸溶液上に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、
水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。その残留物
をシリカでクロマトグラフイーし、ヘキサンと酢
酸エチルとの混合物（８−２）で溶離し、0.96ｇ
の所期生成物、Ｚ異性体を得た。クロマトグラフ
イーを続けることによつて0.3ｇのＥ異性体を得
た。下記の例は、フランス国特許出願第8119481号
に記載のある種の化合物の製造を記載する。例Ａ（1R、cis）２，２−ジメチル−３−〔（△Ｚ）
−３−オキソ−３−メチルチオプロペニル〕シ
クロプロパンカルボン酸（Ｓ）α−シアノ−３
−フエノキシベンジル 4.1ｇの（1R、cis）２，２−ジメチル−３−
〔（△Ｚ）−カルボキシエテニル〕シクロプロパン
カルボン酸（Ｓ）α−シアノ−３−フエノキシベ
ンジルと50mgのジメチルアミノピリジンを20c.c.の
塩化メチレンに導入し、次いで０℃で2.16ｇのジ
シクロヘキシルカルボジイミドを加える。これを
５分間かきまぜ、次いで545mgのメチルメルカプ
タンを５c.c.のベンゼンに溶解してなる溶液を一度
に加え、０℃で５分間、次いで20℃で16時間かき
まぜる。生じた不溶性物を別し、液を1N塩
酸水溶液で洗い、次いで水洗し、減圧蒸留により
濃縮乾固する。その残留物をシリカゲルでクロマ
トグラフイーし、シクロヘキサンと酢酸エチルと
の混合物（９／１）で溶離し、1.2ｇの（1R、
cis）２，２−ジメチル−３−〔（△Ｚ）３−オキ
ソ−３−メチルチオプロペニル〕シクロプロパン
カルボン酸（Ｓ）α−シアノ−３−フエノキシベ
ンジルを得た。MP＝87℃。〔α〕_D＝＋51°（ｃ＝１
％、ベンゼン）。例Ｂ（1R、cis）２，２−ジメチル−３−〔（△Ｚ）
−３−オキソ−３−エチルチオプロペニル〕シ
クロプロパンカルボン酸（Ｓ）α−シアノ−３
−フエノキシベンジル２ｇの（1R、cis）２，２−ジメチル−３−
〔（△Ｚ）カルボキシエテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸（Ｓ）α−シアノ−３−フエノキシベン
ジルを10c.c.の塩化メチレンに導入し、1.5c.c.のエ
タンチオールを一度に加え、次いで＋５℃で１ｇ
のジシクロヘキシルカルボジイミドと40mgのジメ
チルアミノピリジンを５c.c.の塩化メチレンに溶解
してなる溶液を加える。＋５℃で５分間、周囲温
度で３時間かきまぜた後、生じた不溶性物を別
する。液を減圧蒸留により濃縮乾固し、その残
留物をシリカゲルでクロマトグラフイーし、ｎ−
ヘキサンと酢酸エチルとの混合物（８／２）で溶
離し、1.2ｇの（1R、cis）２，２−ジメチル−３
−〔（△Ｚ）３−オキソ−３−エチルチオプロペニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α−シアノ
−３−フエノキシベンジルを得た。MP＝47℃、
〔α〕_D＝＋59°（ｃ＝0.4％、クロロホルム）。例Ｃ（1R、cis）２，２−ジメチル−３−〔（△Ｚ）
３−オキソ−３−イソプロピルチオプロペニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α−シア
ノ−３−フエノキシベンジル 3.9ｇの（1R、cis）２，２−ジメチル−３−
〔（△Ｚ）カルボキシエテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸（Ｓ）α−シアノ−３−フエノキシベン
ジルを25c.c.の塩化メチレンに溶解してなる溶液に
３c.c.の２−プロパンチオールを一度に加え、次い
で＋５℃で２ｇのジシクロヘキシルカルボジイミ
ドと70mgのジメチルアミノピリジンを10c.c.の塩化
メチレンに溶解してなる溶液を加える。＋５℃で
５分間、次いで周囲温度で３時間かきまぜた後、
生じた不溶性物を別する。路液を減圧蒸留によ
り濃縮乾固し、その残留物をシリカゲルでクロマ
トグラフイーし、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの
混合物（85／15）で溶離し、3.1ｇの（1R、cis）
２，２−ジメチル−３−〔（△Ｚ）３−オキソ−３
−イソプロピルチオプロペニル〕シクロプロパン
カルボン酸（Ｓ）α−シアノ−３−フエノキシベ
ンジルを得た。MP＝80℃、〔α〕_D＝＋69°（ｃ＝
0.5％クロロホルム）。例Ｄ（1R、cis）２，２−ジメチル−３−〔（△Ｚ）
３−オキソ−３−ｔ−ブチルチオプロペニル〕
シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α−シアノ−
３−フエノキシベンジル 3.46ｇの1R、cis）２，２−ジメチル−３−
〔（△Ｚ）カルボキシエテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸（Ｓ）α−シアノ−３−フエノキシベン
ジルを20c.c.の塩化メチレンに溶解してなる溶液に
150mgのジメチルアミノピリジンと1.9ｇのジシク
ロヘキシルカルボジイミドを５℃で加える。＋５
℃で５分間かきまぜた後、５c.c.のｔ−ブチルメル
カプタンを加える。混合物を＋５℃で５分間、次
いで20℃で３時間かきまぜ、生じた不溶性物を
別する。液を減圧蒸留により濃縮乾固し、その
残留物をシリカゲルでクロマトグラフイーし、シ
クロヘキサンと酢酸エチルとの混合物（９／１）
で溶離し、1.4ｇの（1R、cis）２，２−ジメチル
−３−〔（△Ｚ）−３−オキソ−３−ｔ−ブチルチ
オプロペニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）
α−シアノ−３−フエノキシベンジルを得た。
MP＝76℃、〔α〕_D＝＋55°（ｃ＝0.5％、ベンゼ
ン）。

Claims

【特許請求の範囲】１次式（）［ここで、Ｒは、水素原子、１〜18個の炭素原子
を含有するアルキル基、18個までの炭素原子を含
有するアルコキシアルキル基、又は次式：（式中、R₁₄は水素原子又はメチル若しくはシア
ノ基を表わす）の基を表わし、Ｗは、水素原子を表わし且つＹはCO₂R′又は
COSR′基を表わし、或いはＷは、ハロゲン原子Halを表わし且つＹは
CO₂R′基を表わし、 R′は飽和又は不飽和の線状又は分岐状のアル
キル基を表わし、二重結合の立体配置は、Ｗが水素原子を表わす
場合にはＺであり、又はＷがハロゲン原子を表わ
す場合にはＥである］に相当する、シクロプロパン環に関して全ての可
能な異性体形態にある化合物を製造するにあた
り、次式（）（ここで、Ｒは先に述べた意味を有する）の化合物に次式（₁）：又は次式（₂）：（これら式中、Ｙ及びＷは前記の意味を有し、置
換基Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ及びG₁は水素原子又は
１〜３個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
す）の化合物を作用させて、二重結合の立体配置がＷ
が水素原子を表わす場合にはＺであり又はＷがハ
ロゲン原子を表わす場合にはＥであり、且つ、シ
クロプロパンと基Ｙのカルボキシルが二つの場合
とも二重結合に関してcis位置にある式（）の
化合物を得ることを特徴とする前記式（）の化
合物の製造法。２シクロプロパン部分が1R、cis又は1R、
trans構造であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の製造法。３シクロプロパン部分が1R、cis構造であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の方
法。４Ｒが (a) １〜18個の炭素原子を含有する線状又は分岐
状のアルキル基か、或いは (b) 次式：（式中、R₁₄は水素原子又はメチル若しくはシ
アノ基を表わす）の基を表わすことを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の方法。５Ｒがα−シアノ−３−フエノキシベンジル又
はα−メチル−３−フエノキシベンジルを表わす
ことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の製
造法。６Ｒが水素原子又は18個までの炭素原子を含有
するアルコキシアルキル基を表わすことを特徴と
する特許請求の範囲第１〜３項のいずれかに記載
の製造法。７Ｒが基−CH₂OCH₃を表わすことを特徴とす
る特許請求の範囲第６項記載の製造法。８置換基Ｃ及びＥが水素原子を表わし、置換基
Ｄ及びＦがメチル基を表わす式（₁）の化合物
を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１〜
７項のいずれかに記載の製造法。９式（）の化合物と式（₁）又は（₂）の
化合物との反応が強塩基の存在下に行われること
を特徴とする特許請求の範囲第１〜８項のいずれ
かに記載の製造法。１０操作が−70℃〜＋25℃の間の温度で行われ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１〜９項の
いずれかに記載の製造法。１１操作がテトラヒドロフラン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル
ホスホトリアミド及びジメトキシエタンよりなる
群から選ばれ、そして脂肪族又は芳香族炭化水素
を加えた又は加えない溶媒中で行なわれることを
特徴とする特許請求の範囲第１〜１０項のいずれ
かに記載の製造法。１２前記した式（）の化合物に次式（_A）：｛ここでＡは次式：【式】又は【式】（式中、置換基Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ及びG₁は水
素原子又は１〜３個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わす）の二価の炭化水素基を表わし、 R′は先に定義した通りである｝の化合物を作用させて次式（_A）：（ここで二重結合の立体配置はＺである）の化合物を得ることを特徴とする特許請求の範囲
第１〜１１項のいずれかに記載の製造法。１３前記した式（）の化合物に次式（_B）：｛ここで、Ａは次式：【式】又は【式】（式中、置換基Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ及びG₁は水
素原子又は１〜３個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わす）の二価の炭化水素基を表わし、 R′及びHalは先に定義した通りである｝の化合物を作用させて次式（_B）：（ここで二重結合の立体配置はＥである）の化合物を得ることを特徴とする特許請求の範囲
第１〜１１項のいずれかに記載の製造法。１４前記した式（）の化合物に次式（_C）：｛ここで、Ａは次式：【式】又は【式】（式中、置換基Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ及びG₁は水
素原子又は１〜３個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わす）の二価の炭化水素基を表わし、 R′は先に定義した通りである｝の化合物を反応させて対応する次式（_C）：（ここで二重結合の立体配置はＺである）の化合物を得ることを特徴とする特許請求の範囲
第１〜１１項のいずれかに記載の製造法。