JPS5930710B2 - 殺虫殺だに中間体とその製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はピレスロイド系殺虫殺ダニ剤であるシス一３−
（２●２−ジハロビニル）−２●２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボキシレートの製造のための新規な中間体及
び中間体を製造する方法に ５関する。

ピレスリン類は天然に存在する菊の花の抽出物であり殺
虫殺ダニ剤として長い間興昧が持たれてきた。

天然ピレスリン類のある人工的に造られた変形物は天然
の物質よりもはるかに強力であり、 ５又他の利点をも
示す。先行技術は対応する低級アルキルエステルである
３−（２・２−ジハロビニル）−２・２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸類及びそれから製造されるピレス
ロイド殺虫殺ダニ剤を開示している。この酸及びエステ
ルは次 ４のカルボキシレート基を含み、ここでＸは塩
素又は臭素である。ピレスロイド殺虫殺ダニ剤を製造す
るためには、この酸又は低級アルキルエステルを種々の
アルコール例えばｍ−フエノキシベンジルアルコール、
α−シアノ−ｍ−フエノキシペンジルアルコール又はこ
の技術に於て熟達者に良く知られた他のアルコールによ
りエステル化（又はエステル交換）することが出米る。

これらの酸及びエステル類はシス及びトランスの両方に
幾何異性体として存在することが知られている。

即ちＣ−１及びＣ−３のカルボキシ及びジハロビニル基
は互いにシスかトランスのいずれかでありうる。ある与
えられたジハロビニルシクロプロパンカルボン酸のシス
及びトランス異性体から造られたピレスロイドエステル
類の間では殺虫殺だに活性に実質的な相違がある。一般
にある与えられた合成ピレスロイドエステルのシス異性
体とトランス異性体の間に於ける様に、シス異性体はト
ランス異性体よりも活性がより強く、この相対的な活性
は天然のエステルでは逆になる。Ｃ−１とＣ−３は不斉
炭素であり、ピレスロイドエステル類は光学活性であり
得、それらの活性はＣ−１とＣ−３の立体配置に依存す
る。４個の光学異性体があり、（１Ｒ・３Ｒ）、（１Ｓ
・３Ｒ）、（１Ｒ・３Ｓ）、及び（１Ｓ・３Ｓ）である
。

（１Ｒ・３Ｒ）と（１Ｓ・３Ｓ）異性体はシスであるの
に対して（１Ｓ・３Ｒ）と（１Ｒ・３Ｓ）異性体はトラ
ンスである。一般に（１Ｒ・３Ｒ）巽性体が最も活性が
ある。シスエステルの殺虫殺だに活性がより大きいため
、本質的にトランス異性体のないシス一３−（２・２−
ジハロビニル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカル
ボキシレートの製造方法が活発に捜し求められ、又ラセ
ミ体シス幾何異性体からなる２個の光学異性体の間では
（１Ｒ・３Ｒ）光学異性体が特に望まれる。

例えば、３−フエノキシベンジル（１Ｒ・３Ｒ）−３−
（２・２−ジクロロビニル）−２●２−ジメチルシクロ
プロパンカルボキシレート及び（Ｓ）一α−シアノ−３
ーフエノキシベンジル（１Ｒ・３Ｒ）−３−（２・２−
ジブロモビニル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカ
ルポキシレートは特に活性が強く、（１Ｓ・３Ｓ）異性
体よりもより活性が強く、多大な商業的興昧がある。従
つて本発明の目的はラセミ体及び本質的にトランス異性
体のない光学活性体のシス一３−（２・２−ジハロビニ
ル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸及び
低級アルキルエステルの両方を製造する改良方法を提供
することである。

別の目的はそれらの製造のための新規なラセミ体の及び
光学活性中間体を提供することである。その他の目的は
本発明の属する技術に於ける熟達者には明白となるであ
ろう。本発明に従つて製造されるシス一３−（２・２−
ジハロビニル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸及び低級アルキルエステルは、先行技術によつて
開示されこの技術の熟達者に良く知られた方法に従つて
本質的にラセミ化又は異性化することなしにエステル化
されピレスロイド殺虫殺ダニ剤に変換され得る。例えば
酸を塩化チオニルで処理して酸塩化物を造り続いて適当
なアルコールとの反応により殺虫殺だに性エステルを製
造することが出来、この低級アルキルエステルは適当な
アルコールによつてエステル交換を行なうことが出来る
。本発明は方法の態様及び組成物の態様の両方を含むも
のである。

一つの方法態様に於ては本発明は分子内カルベノイド環
化によつて式のジアゾエステルを環化することからなる
式のラクトンを製造する方法に関する（式中Ｒは水素又
ぱＣＸ３基であつて各Ｘは塩素又は臭素原子である）。

この方法は立体特異的に行なうことが出来る。他の方法
の面に於て、本発明は、新規中間体例えば３−メチル−
２−ブテン−２−オール又は１・１・１−トリハロ一４
−メチル−３−ベンゼン−２−オールのマロン酸及びア
ルカノイル酢酸エステル並びにこれらエステルのジアゾ
誘導体、及び１−アルコキシカルボニル置換ラクトン類
の製造のためにある場合には立体特異的に行われうる方
法に関する。

上に挙げた中間体の例はすべて上述の式により表わされ
るラクトンの製造のための出発物質として有用である。
本発明の中間体式 （式中Ｘは同じか又は異なつており各Ｘは塩素又は臭素
原子である。

）の化合物を例えば亜鉛及び酢酸で処理する脱離反応を
受けさせこれによつてラクトン環を開環することと一個
のＸ原子を脱離させることを同時に行うことによつて式
（式中Ｘは同じか又は異なつており、上に与えられたも
のと同じものである）のシス一３−（２・２−ジハロビ
こル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を
本質的にトランス異性体のないものとして製造すること
が出来る。

この方法の面に於てもまた光学活性生成物を製造しうる
。合成物の面に於ては、本発明は上述の様にピレスロイ
ド殺虫殺ダニ剤がそれから製造され得るシス一３−（２
・２−ジハロビニル）−２●２−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸及び低級アルキルエステル類の製造に有用
な新規中間体に関する。本発明の合成物態様は総括的に
下記の構造式１、、及びによつて表わすことが出来る。
式中Ｒは水素原子又はＣＸ３基であり、Ｘは同じか又は
異なつており、各Ｘは塩素又は臭素原子であり、Ｒ１は
低級アルキル又は低級アルコキシであり、Ｒ２は水素又
は低級アルコキシカルボニル又は低級アルカノイルであ
り、Ｒ３は水素又は低級アルコキシカルボニルである。
ここで用いるアルキル、アルコキシ、等々を修飾する「
低級」の用語は１〜６個の、好ましくは１〜４個の炭素
原子の鎖を意味する。式１の合成物態様はアルカノイル
酢酸及びマロン酸のエステル即ちＲ１はそれぞれ低級ア
ルキルと低級アルコキシである。

これらの化合物はＲがＣＨ３の場合掌性のあるもの〔キ
ラル（Ｃｈｉｒａｌ）〕である。これらの新規エステル
類は３−メチル−２−ブテン−１−オール又は１・１・
１−トリハロ一４−メチル−３−ベンゼン−２−オール
類を例えばジケテン又は塩化低級アルキルマロニルでエ
ステル化することによつて製造できる。式の合成物態様
即ち前述のエステルのジアゾ誘導体はＲがＣＨ３のとき
にキラル（ＣｈｉｒａＩ）であり、式のラクトンも又、
キラルであるが、これらは式１のエステルから本発明の
方法態様によりすべて以下に述べられる様にシス一３−
（２・２−ジハロビニル）−２・２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸及び低級アルキルエステルが出米る様
に製造できる。

本発明の好ましい態様に於ては、式１のエステル前駆体
に於てＲ１がそれぞれ低級アルキル及び低級アルコキシ
であるときにこの価が生じるところのそれぞれＲ２が低
級アルカノイルでＲ３が低級アルコキシカルボニルであ
るときに於ては、Ｒ２基は式のジアゾ誘導体から開裂さ
せられＲ３基は式のラクトンから開裂させられる。

従つてＲ１基の正確な性質は臨界的ではない。従つて式
Ｉの化合物の考慮される同等物及び本発明の方法により
式１の化合物から製造される式及びの対応する化合物は
Ｒ１が６個以上の炭素原子のアルキル又はアルコキシ、
例えばオクチルとオクチロキシ、アルールとアリーロキ
シ例えばフエニルとフエノキシ、アラルキルとアラルコ
キシ、例えばベンジルとベンジロキシであつてこれらの
各々は例えばハロ、ニトロ、アルキル及びアルコキシな
ど１又はそれ以上の単純置換基を有する化合物である。
本発明の方法及び合成物態様は次の図式に例示される。

本発明は例示される特定の態様に限定されるものと解釈
されてはならない。一力法態様に於ては、式１のエステ
ルはジアゾ変換反応を受けさせられる。

例えばこれをアレーン（Ａｒｅｎｅ）スルホニルアジド
例えばトシルアジド又は［ポリマー結合」スルホニルア
ジドなどのアジドと反応させて式の対応するジアゾ化合
物が製造される。式１のエステルはＲがＣＸ３のときは
キラル（Ｃｈｉｒａｌ）であつて、このエステルが（Ｒ
）異性体のときは式のジアゾ化合物も又（Ｒ）異性体で
ある。

この方法についての次の記載に於て、（Ｒ）異性体につ
いて言及されるときは（Ｓ）系列の対応する化合物につ
いても同様の事が言えるということ、またその逆のこと
も言えるということが理解されるであろう。式１のエス
テルが３−メチル−２−ブテニルアルカノイルアセテー
ト又は３−メチル−１−トリハロメチル一２−ブテニル
アルカノイルァセテート（Ｒ１は低級アルキル）である
とき、それぞれ３−メチル−２−ブテニル、又は３−メ
チル−１−トリハロメチル一２−ブテニル２−ジアゾア
ルカノイルアセテート（式Ｒ２は低級アルカノイル）が
製造される。

この中間体を単離することなしに例えば塩基好ましくは
水酸化ナトリウム水溶液によりアルカノイル基をこれか
ら開裂させてそれぞれ３−メチル−２−ブテニル又は３
−メチル−１−トリハロメチル一２−ブテニルジアゾア
セテート（式、Ｒ２は水素）を直接生成させるのが好ま
しい。３−メチル−２−ブテニル又は３−メチル−１−
トリハロメチル一２−ブテニルアセトアセテートは特に
式１のエステルとして好ましく、これはジケトンからこ
れらを容易に造り得るからである。

従つて（Ｒ）−３−メチル−１−トリクロロメチル−２
−ブテニルジアゾアセテートは（Ｒ）−３−メチル−１
−トリクロロメチル−２−ブテニルアセトアセテートか
ら造られる。式１のエステルが３−メチル−２−ブテニ
ル又は３−メチル−１−トリハロメチル一２−ブテニル
マロエート（Ｒ１は低級アルコキシ）であるときはジア
ゾ変換反応にエチルエステルを用いてエチル３−メチル
−２−ブテニル又は３−メチル−１−トリハロメチル一
２−ブテニルジアゾマロネート（式、Ｒ２はエトキシカ
ルボニル）を製造するのが好ましい。この様に、（Ｒ）
−３−メチル−１−トリクロロメチル−２−ブテニルジ
アゾマロネートが（Ｒ）−３−メチル−１−トリクロロ
メチル−２−ブテニルマロネートから製造される。しか
しジアゾアセテートはシス一３−（２・２−ジハロビニ
ル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸又は
エステルのＣ−１に究極的に望まれる水素原子を含んで
いるのでジアゾマロネートよりむしろジアゾアセテート
を製造するのが好ましい。

この様に、３−メチル−２−ブテニル又は３−メチル−
１−トリハロメチル一２−ブテニルアルカノイルアセテ
ート（式１，．Ｒ１は低級アルキル例えばメチル）を出
発物質として使うのが好ましく、アセトアセテートは特
に好ましい。これも本発明の範囲内にある好ましい３−
メチル−２−ブテニル又は３−メチル−１−トリハロメ
チル一２−ブテニルジアゾアセテートを製造する第二の
方法態様は３−メチル−２−ブテン−１一オール又は１
・１・１−トリハロ一４−メチルー３−ベンゼン−２−
オールを塩化グリオキシロールのヒドラゾン例えばトシ
ルヒドラゾンでエステル化することである。第三の方法
態様に於ては、上述の如くして造り得るＲ２が水素又は
低級アルコキシカルボニルである式（ＲがＣＸ３のとき
式化合物はキラル（Ｃｈｉｒａｌ）である）のジアゾ誘
導体は、例えば分子内カルベノィド環化により、銅含有
触媒で処理することによつて環化され、これによつてビ
シクロラクトン即ちＲがＨ又はＣＸ３のときそれぞれ式
の６・６−ジメチル−２−オキソ一２−オキサビシクロ
〔３・ｌ・０〕ヘキサン又は４−トリハロメチル一６・
６−ジメチル−２−オキソ一３−オキサビシクロ〔３・
１・０〕ヘキサンを生成する。

出発物質はジアゾアセテートでありそれによりＲ３が水
素である式の化合物を製造することが好ましい。銅含有
触媒が光学活性ではないならばＲ−ＣＸ３の場合の式の
ジアゾ誘導体が光学活性でなければラセミ体ラクトンが
得られる。

その場合にはジアゾ誘導体の（Ｒ）異性体は本質的に他
の異性体のない（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）−４−トリハロメ
チル一６・６−ジメチル−２−オキン一３−オキサビシ
クロ〔３・１・０〕ヘキサンを生成する。（Ｓ）立体化
学のジアゾ誘導体は（１Ｓ・４Ｓ・５Ｒ）ラクトンを製
造する。Ｒ−ＣＸ３の場合の式化合物は４個の光学異性
体として存在することが出来、ラクトン中のＣ−１とＣ
−５の２つの新しい不斉炭素原子が出来ることからして
、単一の光学異性体が得られることは特に驚くべきこと
である。式のジアゾエステル前，駆体の分子モデルは式
の化合物からの窒素の脱離によつて造られるカルベノイ
ト沖間体が二重結合のいずれかの側が攻撃されることに
よつてほぼ等しい確率で環化することを示唆する。実際
には攻撃はオレフインの一方の側に於いてのみ選択的に
起こるのである。環化は下記キラル（Ｃｈｉｒａｌ）銅
含有触媒が用いられるときには光学活性ラクトンをも与
える。

光学不活性の４−トリハロメチル置換ラクトンを環化す
るため非掌性の〔アキラル（Ａｃｈｉｒａｌ）〕又はラ
セミ体触媒を使用することに於ける予期せぬ結果は、４
−トリハロメチル一置換ラクトンの２つの可能なラセミ
体の対（４つの光学異性体）があるのに対してたつた１
つのラセミ体の対即ち（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）光学異性体
とその鏡像が製造されることである。この技術に於て熟
練した者にとつては前述の式のジアゾ誘導体からそのよ
うにして誘導されるカルベノイド中間体を生じ得る他の
化合物もまた式の二環式ラクトンを造るのに使用出米る
ことが明らかであろう。

式のラセミ体ジアゾ誘導体からラセミ体ラクトンを、又
は光学活性ジアゾ誘導体から光学活性ラクトンを製造す
るのに用いられ得る光学不活性銅含有触媒には銅のアキ
ラル（Ａｃｈｉｒａｌ）又はラセミ体配位錯体、例えば
キユブリツクアセチルアセトネート、キユブリツクサリ
チルアルデヒドイミネート、エチルアセト酢酸第２銅、
並びに酸化第１銅、酸化第２銅、塩化第１銅、酢酸第２
銅、及び金属銅が含まれる。

これらのうちアキラル（Ａｃｈｉｒａｌ）又はラセミ体
配位錯体が好ましく、キユプリツクアセチルアセトネー
トが特に好ましい。光学活性ラクトンへの環化を実施す
る為の光学活性銅含有触媒は〔Ｎ−（２−ヒドロキシエ
チレート）サリチリデンアミナト〕銅（）複核錯体から
選ばれるキラル（Ｃｈｉｒａｌ）複核銅含有触媒からな
る。

これらの触媒には光学活性ビス〔２一ブトキシ一α一（
２−ブトキシ一５−メチルフエニル）一α一〔１−〔〔
（２−ヒドロキシフエニル）メチレン〕アミノ〕一エチ
ル〕−５−メチルベンゼンメタノラート（２−）〕一銅
及びビス一〔２−ブトキシ一α一〔２−ブトキシ一５−
（１・１−ジメチルエチル）フエニル〕−５−（１・１
−ジメチルエチル）一α一〔１−〔〔（２−ヒドロキシ
フエニル）メチレン〕アミノ〕一エチル〕ベンゼンメタ
ノラト（２−）〕一銅が含まれる。（Ｓ）立体化学の触
媒、例えばビス〔２−ブトキシ一５−メチルーフエニル
）一α−〔（Ｓ）−１一〔〔（２−ヒドロキシフエニル
）メチレン〕アミノ〕一エチル〕−５−メチルベンゼン
メタノラト（２−）〕一銅及びビス一〔２−フトキシ一
α一〔２−ブトキシ一５−（１・１−ジメチルエチル）
フエニル〕−５−（１・１−ジメチルエチル）一α一〔
（Ｓ）−１−〔〔（２−ヒドロキシフエニル）メチレン
〕−アミノ〕エチル〕ベンゼンメタノラト（２−）〕一
銅が好ましく、これはこれらが下記の方法によつて（１
Ｒ・３Ｒ）異性体の濃度が高くなつたために光学活性で
あるシス３−（２・２−ジハロビニル）−２・２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸又はエステルにしうる光
学活性のラクトンを与えるからである。これらの触媒の
うち、ビス〔２−ブトキシ一α〔２−ブトキシ一５−（
１・１−ジメチルエチル）一フエニル〕−５−（１・１
−ジメチルエチル）α一〔（Ｓ）−１−〔〔（２−ヒド
ロキシフエニル）メチレン〕アミノ〕エチル〕ベンゼン
メタノラト（２−）〕一銅が特に好ましい。（Ｒ）立体
化学の触媒は（１Ｓ・３Ｓ）エナンシオマ一に富んだ酸
又はエステルを究極的に生じる。触媒はグリニャール試
薬と結合させること、生じたアミノアルコールからサリ
チルアルドイミンを造ること及びイミンを酢酸第２銅で
処理することにより光学活性エチルアラニンから製造さ
れる。環化には中性洛媒例えば芳香族炭化水素及びエー
テル類、好ましくはトルエン、ベンゼン、ｎオクタン、
シクロヘキサン、又はジオキサンを用いることが出来る
。

一般にジオキサンが好ましいが、トリブロモメチル化合
物にはトルエンが好ましい。反応が高希釈で行なわれれ
ば更に良い収率が得られる。第４の方法態様に於ては、
Ｒ３が低級アルコキシカルボニル基好ましくはメトキシ
カルボニルである式の二環状ラクトンに脱アルコキシカ
ルボニル化を受けさせ、例えばヘキサメチルホスホリツ
クトリアミド、ジメチルホルムアミド及びジメチルスル
ホキシド、又はこれらと水の混合物から選ばれる極性洛
媒中で塩化リチウムで処理し低級アルコキシカルボニル
基を開裂せしめてＲ３が水素である式の対応するラクト
ンを製造する。

ラクトンの立体化学は脱アルコキシカルボニル化によつ
て影響を受けず、またもしＲ＝ＣＨ３である場合の出発
ラクトンが（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）異性体のときは、生成
物は（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）異性体である。（Ｓ）立体化
学のキラル（Ｃｈｉｒａｌ）触媒を用いて上述の様にし
て造られた出発ラクトンは開裂された光学活性ラクトン
を与えこれは下記の様にシス一３−（２ｅ２−ジハロビ
ニル）一２・２−ジメチルシクロプロパンラルボン酸又
はエステルに変えることが出来後者は（１Ｒ・３Ｒ）異
性体の濃度が高くなつているので光学活性である。第５
の方法態様に於て、Ｒが水素である式の二環式ラクトン
、は低級アルキルシス一３−（２・２−ジハロビニル）
−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレートに
変換される。

例えば、６・６−ジメチル−２−オキソ一３−オキサビ
シクロ〔３・１・０〕ヘキサンは塩基で処理されラクト
ン環が開環され続いて酸性にしてジアゾメタンでメチル
化され、メチルシス一３−ヒドロキシメチル−２・２−
ジメチルシクロプロパンカルボキシレートが製造される
。アルコールは次に酸化されてメチルシス一３−ホルミ
ル−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート
になる。トリ又はテトラハロメタンは次にメチル３−ホ
ルミル−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレ
ートに加えられ、次に生じる３−（１−ヒドロキシ−１
ートリハロメチル）誘導体のアシノ呵ヒ及びアシル化さ
れた化合物の金属亜鉛による還元を行ない、メチル３−
（２・２−ジハロビニル）−２・２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボキシレートを与える。６・６−ジメチル−
２−オキソ一３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサ
ンはこの技術で良く知られ上に述べられた方法でピレス
ロイド殺虫殺ダニ剤に変換できる低級アルキルシスエス
テルを直接生成するので、Ｒ３が水素であるラクトンを
用いるのが好ましい。

Ｒ３が低級アルコキシカルボニルである場合には生じる
１−アルコキシカルボニルシクロプロパンカルボキシレ
ートは脱アルコキシカルボニル化されピレスロイド殺虫
殺ダニ剤に変換され得る。更にもし光学活性ラクトンが
用いられれば、これが６・６−ジメチル−２−オキソ一
３−オキサビシクロ〔３・１・０〕−ヘキサンであるこ
とが好ましいだけでなく、光学活性が（１Ｒ・５Ｓ）異
性体の濃度が高くなることによるものであることも好ま
しい。なぜならば（１Ｒ・３Ｒ）異性体の濃度が高くな
つた光学活性シクロプロパンカルボキシレートが次に得
られるからである。光学活性の（１Ｒ・５Ｓ）異性体に
富む６・６−ジメチル−２−オキソ一３−オキサビシク
ロ〔３・１・０〕ヘキサンは例えば上に述べた方法態様
によつて得られるが、但しジアゾエステルは（Ｓ）立体
化学を有するキラル（Ｃｈｉｒａｌ）複核銅含有触媒で
環化される。第６の方法態様に於ては、ＲがＣＸ３であ
る式の二環式ラクトンを、亜鉛、マグネシウム、ナトリ
ウムから選ばれる金属又はＣｒ（）の配位錯体で酢酸、
エタノールなどのアルコール、及びテトラヒドロフラン
及びジエチルエーテルなどのエーテル、及びこれらの混
合物から選ばれる溶媒中に於て処理することによる脱離
反応を受けさせ、これによつて同時にラクトン環を開環
し、１個のハロゲン原子を除去して本質的にトランス異
性体なしにシス一３−（２・２−ジハロビニル）−２・
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸即ちカルボキシ
及びジハロビニル基が互いにシスであるものを製造する
。

金属が亜鉛でありかつ洛媒がエーテルと酢酸の混合物で
あるのが好ましい。上記の様にシクロプロパンカルボン
酸が次いで直接にピレスロィド殺虫殺ダニ剤に変換され
るのでＲ３が水素であるのが好ましい．Ｒ３が低級アル
コキシカルボニルである場合には、生じた１−アルコキ
シカルボニルシクロプロパンカルボン酸は例えばエステ
ルを経て脱アルコキシカルボニル化されピレスロイド殺
虫殺ダニ剤に変換される。更にもし光学活性ラクトンが
使用されたならばこれが４一トリハロメチル一６・６−
ジメチル−２−オキソー３−オキサビシクロ〔３・１・
０〕ヘキサンであることが好ましいばかりでなく、光学
活性が（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）異性体によるものであるこ
とが好ましい。なぜならば光学活性（１Ｒ・３Ｒ）Ｊ′
シクロプロパンカルボン酸が次に得られるからである。

光学活性の（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）−４−トリハロメチル
一６・６−ジメチル−２−オキソ一３−オキサビシクロ
〔３・１・Ｏ〕ヘキサンは例えば土述の方法態様により
得られるが、但し式のジアゾ誘導体の光学活性（Ｒ）異
性体が環化されるか又はジアゾエステルが（Ｓ）立体化
学を有するキラル（Ｃｈｉｒａｌ）複核銅含有触媒で環
化されるかのいずれかであることを条件とする。脱離反
応は式の４−トリハロメチル一置換ラクトンのＣ−４の
トリハロメチル基からのただ１個のハロゲン原子を脱離
することを含み、またトリハロメチル基はラクトンへ導
く方法に於て反応性の中心ではないので、式１１、又は
の化合物中ハロゲン原子の２個は本発明の任意の方法に
於て他の置換基により置換できることは明白であろう。
例えばハロゲン原子の２つはそれぞれ独立して水素、ハ
ロゲン、シアノ、１又はそれ以上のハロゲン原子で置換
され得る、１乃至４個の炭素原子の低級アルキル、及び
ＹがＣＨ２−、−０−、一Ｓ−、又は不在であり、フエ
ニル基が１又はそれ以上のハロゲン、低級アルキル（１
〜４炭素原子）、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、
又は低級アルキルチオ基で置換され得る一ＹＯであるこ
とが出米る。

更に当業者には酸それ自身よりもむしろシス一３−（２
・２−ジハロビニル）−２・２−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸の種々の誘導体が式のラクトンが開環され
る方法を変えることによつて脱離反応によつて得られう
ることが明らかであろう。

例えばラクトンがメタノール性炭酸カリウムで処理され
続いて亜鉛及び酢酸で処理されたときにはメチルジハロ
ビニルシクロプロパンカルボキシレートが得られる。好
ましい多段階方法の態様ではシス一３−（２・２−ジハ
ロビニル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸、例えば（１Ｒ・３Ｒ）酸が、式１の３−メチル−１
−トリハロメチル一２−ブテニルアセトアセテート例え
ば（Ｒ）アセトアセテートをトシルアジドで処理してジ
アゾ変換を行ない、続いて水酸化ナトリウムで処理して
アセチル基を開裂させ、式の３−メチル−１−トリハロ
メチル一２−ブテニルジアゾアセテート例えば（Ｒ）ジ
アゾアセテートを造り、これを次にキユプリツクアセチ
ルアセトナートで分子内カルベノイド環化せしめ、式の
４−トリハロメチル一６・６−ジメチル−２−オキソ一
３−オキサビシクロ〔２・１・０〕ヘキサン例えば（１
Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）−ビシクロヘキサンを造り、これを次
に亜鉛と酢酸で処理してシス一３−（２・２−ジハロビ
ニル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を
造ることによつてつくられる。

ＲがＣＸ３基である式１、、の任意の化合物は塩素と臭
素両方共を含んで良く、また前記方法に使用されうるが
、トリクロロ及びトリブロモ化合物が好ましく、収率は
塩素含有化合物の場合一般により高い。

このように上に開示した方法はシス一３−（２・２−ジ
クロロビニル）−２・２一ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸又は低級アルキルエステルを製造するのに特に非
常に適している。ジブロモビニル酸又はエステルはジク
ロロビニル酸又はその低級アルキルエステル中のハロゲ
ンを交換することによつて良好な収率で製造出来る。本
発明は次の製造実施例を参照することによつてより完全
に理解がなされるであろう。

次の実施例で温度は摂氏、圧力は７ｆｔｍＨｇである。

ＮＭＲスペクトルの内部標準としてテトラメチルシラン
が用いられた。ＮＭＲのデーターを報告する場合省略形
は次の意味を持つ。Ｓ．シングレツト（一重線）；ｄ１
タブレット（二重線）；ｔ１トリフレット（三重線）；
ｑクアルテツト（四重線）；ｍ１マルチプレツト（多重
線）。これらの任意の省略形は前にプロード（巾広）の
ｂ又はダブル（二重）のｄが置かれる。例えばＤ．．ｄ
．は二重のタブレット（二重線）でありＢ．ｔはプロー
ドのトリフレットである。参考例 １ ４−トリハロメチル一６・６−ジメチル−２ーオキソ一
３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサンの合成Ａ．
３−メチル−１−トリハロメチル一２−ブテニルジアゾ
アセテートから１．１・１・１−トリクロロ−４−メチ
ル−３−ベンゼン−２−オールの製造一５ン〜１０オに
保たれた約１００ｍ１の石油エーテル（沸点３０〜７０
））中のイソブテン８９７（１．６モル）及びクロラー
ル８０７（０．５２モル）の洛液に、３０〜６０分間の
間にわたつて６．０８ｙの無水塩化アルミニウムが少量
宛添加された。

添加している間浩液は激しくかきまぜられ、その後−５
〜−１０しで５時間、次に室温で一夜かきまぜられた。

エーテルで溶液を希釈した後、５０〜 １００ｍ１の水で洗滌され硫酸マグネシウム上で乾燥さ
れ蒸溜された。

石油エーテルを蒸溜した後に、１・ｌ・１−トリクロロ
−４−メチル−４−ベンゼン−２−オール７４．９７（
収率７１％）が得られた。沸点１０６〜１１８７／２５
ｍｍ０ １・１・１−トリクロロ−４−メチル−４一ペンテン一
２−オール（７４ｙ１０．３６モル）が、１４０−〜１
５０７で１８時間加熱された。

冷却後このアルコールがエーテルで希釈され、エーテル
溶液は活性炭で処理された。エーテルが蒸発によつて除
去され石油エーテルから再結晶後に、結晶性の１・１・
１−トリクロロ−４−メチル−３−ベンゼン−２−オー
ル（４３．４ｙ、収率５９％）を生じた。１・１・１−
トリブロモ−４−メチル−３ーベンゼン−２−オールは
上記反応においてクロラールをプロマールに置きかえる
ことにより同様につくられる。

１．（ａ） （２Ｒ）−１・１・１−トリクロロ−４メ
チル−３−ベンゼン−２−オールの製造１・１・１−ト
リクロロ−４−メチル− ３−ベンゼン−２−イル（Ｓ）−Ｎ−（１−（１−ナフ
チル）エチル）カルバメートが１・１・１−トリクロロ
−４−メチル−３−ベンゼン−２−オールのラセミ体か
らつくられた。

（２Ｒ）−アルコール部分を含有するジアステレオマ一
が、ヘキサンの添加によつて粗製物から沈澱され、融点 １２０〜１２３製の白色固体としてカルバメートを生成
した。

このカルバメートはトリクロロシランで 開裂され、（２Ｒ）−１・１・１−トリクロロ−４−メ
チル−３−ベンゼン−２−オールを生じた。

〔α〕羽＝−３．２２（ヘキサン）。ベンゼン−２−オ
ール及び下記の実施例 ＩＡ．２．（ａ）、ＩＡ．４，（ａ）及び１Ａ．８．（
ａ）で生成された化合物の絶対立体構造は、実施例Ｃの
（１Ｒ・３Ｒ）−３−（２・２−ジクロロビニル）−２
・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を製造するの
に使用される反応順序を通しての逆類推による理由づけ
で確立された。

酸の絶対立体構造は独立して確立された。

２・ ３−メチル−１−トリクロロメチ，Ｌ．−２−ブ
テニルアセトアセテートの製造１・１・１−トリクロロ
−４−メチル−３ベンゼン−２−オール（２０．４′Ｆ
７、０．１モル）と無水酢酸ナトリウム（０．０４７）
の混合物が、トリクロロアルコールが溶融するまで一緒
に加熱された。

８０〜８３℃に保たれた混合物に、１時間でジケトン（
１３．２Ｗ１１１０．１１モル）が滴加された。

次で混合物は更に２時間８０〜８３加に保たれた。反応
混合物はエーテルで希釈され、エーテル醇液はＩＮ塩酸
水溶液、重炭酸ナトリウム飽和水溶液及び塩化ナトリウ
ム飽和水醇液で次々に洗滌された。

次に酔液は硫酸マグネシウム上で乾燥されエーテルが蒸
発されると残留物を残した。これは真空下で蒸溜され、
３−メチル−１−トリクロロメチル−２−ブテニルアセ
トアセテート（２５．３７、収率８８％）を生成した。
沸点９５〜９６７／０．２３ｍｍ０２．（ａ） （１Ｒ
）−３−メチル−１−トリクロロメチル−２−ブテニル
アセトアセテートの製造 実施例１Ａ．１．（ａ）からの（２Ｒ）−１・１・１−
トリクロロ−４−メチル−３−ベンゼン−２−オール（
１．５０ｙ１７．３５ミリモル）と痕跡の酢酸ナトリウ
ムの混合物が、窒素下１０００で１時間にわたつて滴下
された新らしく蒸溜されたジケトン （０．７０７、８．３６ミリモル）により処理された。

８０〜８３３で更に１時間かきま ぜて加熱した後、冷却された反応混合物が３ｍ１のＣＨ
２Ｃｌ２で希釈され８枚の分取薄層クロマトグラフイ板
（２０×２０ｃｒｒＬ）上でクロマトグラフ処理されＣ
Ｈ２Ｃｌ３で展開された。

単離と抽出は淡黄色の油として（１Ｒ）−３−メチル−
１−トリクロロメチル−２−ブテニルアセトアセテート （１．８０７、８５％の単離収率）を生じた。

と〔α〕３１）′−＋２１．１０（ヘキサン中）。分析
：Ｎｍｒｌ）Ｐｐｍ（ＣＨＣｌ３）：６．０８（ｄ、１
Ｈ）、５．３４（ＭｌｌＨ）、３，５３（Ｓｌ２Ｈ）、
２．３０（Ｓｌ３Ｈ）、１．８７（Ｄｄｌ６Ｈ） キラール（Ｃｈｉｒａｌ）Ｅｕ（Ｈｆｃ）３（ユーロピ
ウム トリス（ヘプタフルオロガンファー））について
のＮｍｒスペクトラムは、同じ試薬を使用するラセミ体
のＮｍｒ分析に見られるピークの多様性の１／２を示し
たのみであつた。

３．３−メチル−１−トリブロモメチル−２一ブテニル
アセトアセテートの製造１・１・１−トリブロモ−４−
メチル−３ Σ一ペンテン一２−オール（６．７２ｔ１
０．０２モル）と無水酢酸ナトリウム０．００８７が、
９０）で一緒に溶融された。

混合物の温度は次で８００に下げられ、１０分間にわた
つてジケトン（約２．６ｍ１１０．０２２モル）が滴下
５して加えられた。生成混合物は更に３時間８０加で
加熱された。

冷却後混合物はエーテルで希釈され、エーテル浩液は１
Ｎ塩酸水溶液で、次に重炭酸ナトリウム飽和水溶液で１
０回洗滌された。

洗滌混合物は活性炭で処 ５理され、硫酸マグネシウム
土で乾燥された。エーテルの蒸発は油状残留物として、
３−メチル−１−トリブロモメチル−２−ブテニルアセ
トアセテート（８．３４７、収率９９％）を生成した。
分析： ＮｍｒδＰｐｍ：６．０２（ＤｌｌＨ）、５．２５（Ｍ
ｌｌＨ）、３．５３（Ｓｌ２Ｈ）、２。

３２（Ｓｌ３Ｈ）、１．８５（Ｍｌ６Ｈ）４．３−メチ
ル−１−トリクロロメチル−２一ブテニルアセトアセテ
ートから３−メチル−１−トリクロロメチル−２−ブテ
ニルジアゾアセテートの製造５０ｄのアセトニトリル中
の３−メチル−溶出液としてＣＨ２Ｃｌ２で以て８枚の
分取用薄層クロマトグラフイ板（シリカゲル、２０×２
０ｃＴｎ）上でクロマトグラフイ処理されると、黄色の
油として（１Ｒ）−３一メチル一１−トリクロロメチル
−２−ブテ 之ニルジアゾアセテート（０，９６ｒ１単
離収率６２％）を生成した。

〔α〕＝＋５９離（ヘキサン中）。

５．３−メチル−１−トリブロモメチル−２ーブテニル
ジアゾアセテートの製造４０ｍ１のアセトニトリル中の
３−メチル−１−トリブロモメチル−２−ブテニルアセ
トアセテート（８．３２ｙ１０．０１９８モル）とトシ
ルアジド（３．９７、０．０１９８モル）の溶液に、１
０ｍ１のアセトニトリル中のトリエチルアミン（２．０
７、０．０２０モル）の溶液が３５分間にわたつて滴加
された。

生成した混合物は室温で２．５時間かきまぜられ、３ー
メチル−１−トリブロモメチル−２−ブテニルジアゾア
セテートを与えた。次にこれに１Ｎ水酸化ナトリウム水
洛液６０ｄが添加され、混合物は室温で４５分間かきま
ぜられた。

次に反応混合物はエーテルで希釈され有機相が分離され
、水相はエーテルで抽出されて有機相は一緒にされた。
エーテル溶液は塩化ナトリウムを含有する水酸化カリウ
ムの３％水溶液の次々の３部分と、次に塩化ナトリウム
飽和水溶液で３回洗滌された。洗滌されたエーテル性溶
液は硫酸マグネシウム上で乾燥され活性炭で処理された
。エーテルの蒸発は油状の残留物を生じた。３−メチル
−１−トリブロモメチル−２−ブテニルジアゾアセテー
ト（５．７８ｙ１収率７１％）が、カラムクロマトグラ
フイによりこれから単離された。

分析： ＮｍｒδＰｐｍ（ＣＤＣｌ３）：１．８５（Ｄｄｌ６Ｈ
）、４．８２（ＳｌｌＨ）、５．３３（Ｄｑ、１Ｈ）、
６．０３（Ｄ，ｌＨ）６．グリオキシロールクロライド
のトシルヒドラゾンから３−メチル−１−トリクロロメ
チ ・ル一２−ブテニルジアゾアセテートの製造２５ｍ
１の塩化メチレン中のグリオキシロールクロライド（２
．６１７、０．０１）と１・１・１−トリクロロ−４−
メチル−３−ベンゼン−３−オール（２．０３５ｆ１０
．０１モル）の冷醇液（０ル）に、２０分間にわたつて
８ｍ１の塩化メチレン中のトリエチルアミン（２．０２
ｙ，．０．０２モル）の浩液が滴加された。

０２で１時間かきまぜた後、塩化メチレンが真空下に２
５かで蒸発され残留物を残した。

残留物は５０ｍ１のベンゼン中に浩解され、暗褐色の溶
液は活性炭で処理され蒸発されて黄褐色の油を与えた。
この油は塩化メチレンに洛解され、溶液は次々に冷水で
２回、冷重炭酸ナトリウム水浩液で２回、及び冷水で２
回洗滌された。塩化メチレン中の浩液は硫酸ナトリウム
上で乾燥され、真空下に２５硫で蒸発されて、粘稠な油
としてメチル−１−トリクロロメチル−２−プテニルジ
アゾアセテート（２．６７７、粗成物の収率９９％）を
与えた。

分析：Ｉｒ（Ｃ７ｒＬ−１） ２９７０、２９５０１２
９００、２１３０、１７７０、１７４０１１７００、１
４４０、１３４０、１３１０、１２７０、１２００、１
１７０、１０９５、１０７０１９７０、８４０、８３０
、８００、７７０１７５０、６３０、５６０１５４０、
４５０３−メチル−１−トリクロロメチル−２ーブテニ
ルジアゾアセテートがトリエチルアミンが、１時間へだ
てＳ．２回分に分けて加えられること、生成した混合物
が次に００で２．５時間かきまぜられること及び生成物
はカラムクロマトグラフイで精製されること以外は、上
記と同様な方法でつくられた。

下記のＮｍｒスペクトラムを示す。

Ｎｍｒｌ）Ｐｐｍ（ＣＣｌ４）：５．９３（ＤｌｌＨ）
、５．２３（ＤｑｌｌＨ）、４．７２（ＳｌｌＨ）、１
．８７（Ｔｌ６Ｈ）１．４−トリクロロメチル−６・６
−ジメチルー２−オキソ一３−オキサビシクロ〔３・１
・０〕ヘキサンの製造７０ｍ１のジオキサン中のキユウ
プリツクアセチルアセトナト（Ｏ］７７、０．２７ミリ
モル）の還流溶液に、アルゴン雰囲気下１０ｍ１のジオ
キサン中の３−メチル−１−トリクロロメチル−２−ブ
テニルジアゾアセテート（１．０９７、０，００４モル
）とキユープリツクアセチルアセトナト（０．００７ｙ
．．０．０２７ミリモル）の溶液が３．５時間にわたつ
て滴加された。

次に反応混合物が還流下に１時間加熱され乾固まで蒸発
されると残留物が生成し、これはエーテルに溶解された
。エーテル溶液は次々に１Ｎ塩酸水浩液の２部分、重炭
酸ナ ５トリウム水溶液の２部分及び塩化ナトリウム飽
和水溶液で２回洗滌された。溶液が硫酸マグネシウム上
で乾燥された後、エーテルが蒸発されると淡黄色の油を
生じた。これは酔出液としてｎ−ヘキサン／酢酸エチル
の９／１混合物を使用してシリカゲルカラム上のカラム
クロマトグラフイにより精製されると、４一トリクロロ
メチル一６・６−ジメチル−２一オキソ一３−オキサビ
シクロ〔３・１・Ｏ〕ヘキサンを与えた（０．５５７、
収率５３％）。１８．光学活性４−トリクロロメチル−
６・６一ジメチル一２−オキソ一３−オキサビシクロ〔
３・１・Ｏ〕ヘキサンの製造ジオキサン（５ｍ１）中の
３−メチル−１一トリクロロメチル一２−ブテニルジア
ゾアセ ２テート（０４５４４７、２ミリモル）の酔液
が、ジオキサン（３５ｍ１）中のビス一〔２−ブトキシ
一α一〔２−プトキシ一５−（１・１一ジメチルエチル
）フエニル〕−５−（１・１一ジメチルエチル）一α−
〔（Ｓ）−１一〔〔（２−ヒドロキシフエニル）メチレ
ン〕アミノ〕エチル〕ベンゼンメタノラト一（２−）〕
銅（０．７６２７、０．０５ミリモル）の懸濁液中に、
１００〜１０５で約４．５時間にわたつて滴々と添加さ
れた。

窒素の発生が始 （つたときに、温度は徐々に５００ま
で低下され、添加している間５０徐に保たれた。３−メ
チル−１−トリクロロメチル−２−ブテニルジアゾアセ
テートの添加完了後、反応混合物が５０アで２時間かき
まぜられた。

次に反応混合物は乾固するまで真空下に蒸発され残留物
がジエチルエーテルに溶解された。エーテル醇液が、洗
液がアンモニア水浩液で試験されたとき青色に変らなく
なるまで塩酸の１Ｎ水洛液で洗滌された。次で塩化ナト
リウム飽和水溶液で１回洗滌されて硫酸マグネシウム上
で乾燥された。エーテルは真空下に蒸発され、（１Ｒ・
４Ｒ・５Ｓ）異性体が濃化された粗製の４−トリクロロ
メチル−６・６−ジメチｈ乏 域に対する二つのシングレツトを与える。

Ｅｕ（Ｈｆｃ）３でのＮｍｒによるラセミ体の分析は、
メチル領域によく一致する二つのタブレットを示し、他
の多様性も見える。

９．４−トリブロモメチル−６・６−ジメチル−２−オ
キソ一３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサンの製
造４０ｄのトルエン中のキユープリツクアセチルアセト
ナト（０．００５７、０．０１９ミリモル）の還流して
いる醇液に、アルゴン雰囲気下でトルエン１０ｍ１中の
３−メチル−１−トリブロモメチル−２−ブテニルジア
ゾァセテート（０．２０３ｙ．．０．００５モル）の洛
液が２．５時間にわたつて滴加された。

混合物は次で還流下に１時間加熱された冷却後反応混合
物は次々に、１Ｎ塩酸水溶液の２部分、重炭酸ナトリウ
ム飽和水浩液で１回及び塩化ナトリウム飽和水浩液で２
回洗滌された。硫酸マグネシウムで乾燥後、洛液は蒸発
されて残留物として黄色の油を与えた。残留物は溶出
一液としてｎ−ヘキサン／酢酸エチルの９／１を使用し
て、シリカゲルカラム上のカラムクロマトグラフイによ
り精製され、ｎ−ヘキサンから再結晶後融点１０１〜１
０３−である、４−トリブロモ−メチル−６・６−ジメ
チル Ｃ一２−オキソ一３−オキサビシクロ〔３・１・
０〕ヘキサン０．０５３ｙを生成した。収率２８％ｏ分
析： Ｃ８Ｈ９Ｂｒ３Ｏ２に対し 計算値 Ｃ２５．５Ｏ；Ｈ２．４ｌ 沖定値 Ｃ２５．５２；Ｈ２．３６ ｎｍｒδＰｐｍ（ＣＤＣｌ３）：１．２８（２ｓ、６Ｈ
）、２．１８（ＤｌｌＨ）、２．３７（ＤｌｌＨ）、４
．５８（ＳｌｌＨ）Ｎｍｒスペクトラムはこのラクトン
が （１Ｓ・４Ｓ・５Ｒ）／（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）ラセミ体
混合物であることを示す。

１０．１−トリクロロメチル−３−メチル−２一ブテニ
ル一２−ジアゾアセトアセテートの製 〈造１０ｍ１の
アセトニトリル中の１−トリクロロメチル−３−メチル
−２−プテニルアセトアセテート（０，５７５７、２ミ
リモル）とトリエチルアミン（０．４０４７、４ミリモ
ル）の溶液に、１７のポリマー結合のスルホニルアジド
が添加された。

混合物は室温で一夜かきまぜられ▲過された。フイルタ
ーケーキはエーテルで洗われ、スラリーが▲過された。
洛媒が一緒にした▲液から蒸発によつて除去されると、
１−トリクロロメチル−３−メチル−２−ブテニル２−
ジアゾアセトアセテート０．６０７を与えた。収率９６
％。分析： Ｎｍｒｌ）Ｐｐｍ：６．０３（ＤｌｌＨ）、５．８２（
ＢｄｌｌＨ）、２。

４５（Ｓｌ３Ｈ）、 １．９０（ｄ、６Ｈ） ！（施例 低級アルキル３−メチル−１−トリクロロメチル−２−
ブテニルジアゾマロネート類からＴ．エチル３−メチル
−１−トリクロロメチル２−ブテニルマロネートの製造
８ｍ１のエーテル中の１・１・ｌ−トリクロロー４−メ
チル−３−ベンゼン−２−オール（７．９８７、０．０
３９２モル）とピリジン（３．１０ｙ．．０．０３９２
モル）の醇液に、４ｍ１のエーテル中のエチルマロニル
クロライド（５．８７７、０．０３９モル）の洛液が滴
加された。

反応混合物は次で室温で一夜かきまぜられた。反応混合
物がエーテルで希釈され、次で１Ｎ塩酸水醇液、次に重
炭酸ナトリウム水溶液、続いて塩化ナトリウム水溶液で
洗滌された。

洗滌混合物は硫酸マグネシウム上で乾燥され、工ーテル
は蒸発により除去され又残留物が蒸溜されると、エチル
３−メチル−１−トリクロロメチル−２−ブテニルマロ
ネート（５．６８ｙ１収率４６％）が生成した。沸点１
０４〜１０５１／０．３ｍ７７！０分析： ＮｍｒδＰｐｍ：６．００（ＤｌｌＨ）、５．３２（Ｄ
ｑｌｌＨ）、４．１８（Ｄｄｌ２Ｈ）、３，３５（Ｓｌ
２Ｈ）、１．８８（Ｍｌ６Ｈ）、１．３０（Ｔｌ３Ｈ）
）．．エチル３−メチル−１−トリクロロメチル２−ブ
テニルジアゾマロネートの製造４０ｍ１のアセトニトリ
ル中のエチル３−メチル−１−トリクロロ−メチル−２
−ブテニルマ口ネート（５．６３７、０．０１７７モル
）とトリエチルアミン（１．７９７、０．０１７７モル
）の溶液に、１０ｍ１のアセトニトリル中のトシルアジ
ド（３，４８７ｆ、０．０１７７モル）の醇液が滴加さ
れた。

添加後混合物が室温で一夜かきま ５ぜられた。次にア
セトニトリルが真空下に室温で蒸発され、残留物を生成
した。

これはエーテルに溶解された。エーテル溶液は３％水酸
化カリウム水洛液の３部分と塩化ナトリウム水酔液の１
回で １次々に洗滌された。溶液を硫酸マグネシウム上
で乾燥した後エーテルは蒸発されて、エチル３メチル１
−トリクロロメチル−２−ブテニルジアゾマロネート５
．９１７（収率８５％）を残留物として生成した。分析
： ＮｍｒδＰｐｍ（ＣＣｌ４）：６．０３（ＤｌｌＨ）、
５．３０（ＤｑｌｌＨ）、４．２７（Ｄｄｌ２Ｈ）、１
．８８（Ｍｌ６Ｈ）、１．３３（Ｔｌ３Ｈ）３．エチル
４−トリクロロメチル−６・６−ジメ ニチル一２−オ
キソ一３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン−１
−カルボキシレートの製造２４０ｍ１のｎ−オクタン中
の還流している銅粉（５．０７、０．０７９モル）の懸
濁液に、６０ｍ１（７１）ｎ−オクタン中のエチル３−
メチル−１一トリクロロメチル一２−ブテニルジアゾマ
ロネート（５．０７、０．０１４６モル）の溶液が１時
間で滴加された。

反応混合物は次で還流下に２．５時間加熱され▲過され
た。ｎ−オクタンが真空下の蒸発により▲液から除去さ
れると残留物が生成し、これは真空下に蒸発されるとエ
チル４−トリクロロメチル−６・６−ジメチル−２−オ
キソ一３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン−１
−カルボキシレートを極めて粘稠な油として与えた。（
２．４７ｙ、収率５４％）、沸点１２３〜１２５（／０
．３ｍ１０分析： ＮｍｒδＰｐｍ（ＣＣｌ４）：４．４７（ＳｌｌＨ）、
４．２３（Ｄｄｌ２Ｈ）、２．６７（ＳｌｌＨ）、１．
３２（Ｍｌ９Ｈ）４．メチル４−トリクロロメチル−６
・６−ジメチル−２−オキソ一３−オキサビシクロ〔３
・１・０〕ヘキサン−１−カルボキシレートの製造ｎ−
オクタン３２０ｍ１中の銅粉（６．６ｙ１０．１０４モ
ル）の還流している懸濁液に、８０ｄｆ）ｎ−オクタン
中の（上記エチルエステルについて述べたようにしてつ
くられた）メチル３ーメチル−１−トリクロロメチル−
２−ブテニルジアゾマロネート（６．６７、０．０２モ
ル）の浩液が、１時間で滴加された。

反応混合物が還流下に２．５時間加熱され、次で熱いう
ちに▲過された。真空下▲液からｎ−オクタンが蒸発さ
れ残留物を生成した。これは酢酸エチルに洛解された。
溶液は１Ｎ塩酸水溶液、重炭酸ナトリウム水醇液及び塩
化ナトリウム水溶液で次々に洗滌された。硫酸マグネシ
ウム上で乾燥された後、酢酸エチルは蒸発によつて除去
され、油としてメチル４−トリクロロメチル−６・６−
ジメチル−２−オキソ一３−オキサビシクロ〔３・１・
０〕ヘキサン−１−カルボキシレート（５．７７７、９
６％の収率）を生成した。

この油をエーテルと共にすりくだくと結晶のラクトンを
生成した。融点１１８〜１２００。分析： ＣｌＯＨｌｌＣ４Ｃｌ３に対する 計算値：Ｃｌ３９．８３；Ｈｌ３．６８ 測定値：Ｃｌ３９．５７；Ｈｌ３．５６ｎｍｒδＰｐｍ
（ＣＤＣｌ３）：４．３９（ＳｌｌＨ）、３．７６（Ｓ
ｌ３Ｈ）、２．６１（ＳｌｌＨ）、１，３０（Ｓｌ６Ｈ
）質量スペクトルｍ／ｅ：３００、１０９、１００、３
３、１８ 分子量（ＣＨＣｌ３）：２９５ ＮＭＲスペクトルはラクトンが（１Ｓ・４Ｓ・５Ｒ）／
（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）ラセミ体混合物であることを示し
ている。

参考例 ４−トリクロロメチル−６・６−ジメチル−２ーオキソ
一３−オキサビシクロ〔３・１・Ｏ〕ヘキサンの製造１
０ｍ１のヘキサメチル燐酸トリアミド中のメチル４−ト
リクロロメチル−６・６−ジメチル−２−オキソ一３−
オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン−１−カルボキ
シレート（１．５２７、０．００５モル）の溶液に、塩
化リチウム（０．４２７、０．０１０モル）が加えられ
た〇７５間で２時間加熱後、冷却した反応混合物ほエー
テルで希釈された。

エーテル溶液は水で洗滌され硫酸マグネシウム上で乾燥
され、エーテルは蒸発によつて除去されて残留物を生成
した。これは溶出液としてｎ−ヘキサン／酢酸エチルの
９／１を使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフ
イで精製され、４−トリクロロメチル−６・６−ジメチ
ル−２−オキソ一３−オキサビシクロ〔３・１・０］ヘ
キサン０．３４７を油として生成した。収率２８％ｏ分
析： ＮｍｒδＰｐｍ（ＣＤＣｌ３）：４，６０（ＳｌｌＨ）
、２．３７（ＤｌｌＨ）、２．１５（ＤｌｌＨ）、１．
２８（Ｓｌ６Ｈ）質量スペクトルｍ／ｅ：２４３、１２
５、１００、９７、３０上記手順により、エチル４−ト
リクロロメチル−６・６−ジメチル−２−オキソ一３−
オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン−１−カルボキ
シレートから、同じ化合物が製造される。

参考例 ６・６−ジメチル−２−オキソ一３−オキサビシクロ〔
３・１・０〕ヘキサンの合成１．３−メチル−２−ブテ
ニルアセトアセテートの製造３−メチル−２−ブテン−
１−オル（２１．２７、０．２５ｍ０１ｅ）と無水酢酸
ナトリウム（０．１７）の混合物がＯに冷却された。

ダイケテン（３６ＷＬ１１０．３ｍ０１ｅ）が１．５乃
至２時間に亘つて滴加された。次いで反応混合物が７５
〜８０てに加熱され、この温度が１時間維持された。混
合物はエーテルで稀められた。エーテル溶液は１Ｎの塩
酸水洛液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、飽和塩化ナト
リウム水溶液、で次次洗われ次いで硫酸マグネシウム上
で乾燥された。エーテルが蒸発されて、残つた残溜物が
真空蒸溜されて３−メチル−２−ブテニルアセトアセテ
ート（３２．１ｆ、７６％収率）を与えた。Ｂｐｌｌ４
〜１１７１／１８〜１９ｍ７７！０２．３−メチル−２
−ブテニルジアゾアセテートの製造３−メチル−２−ブ
テニルアセトアセテート（７．４ｆ７、０．０４３５ｍ
０１ｅ）とｐ−トルエンスルフオニルアジドの溶液がア
セトニトリル中でつくられた。

アセトニトリル中のトリエチルアミン（４．４０ｙ）が
この溶液に１０分間に亘つて滴加され、かきまぜられた
反応混合物が室温で２時間維持された。水酸化ナトリウ
ム（１３０ｍ１１０．１３ｍ０１ｅ）の１Ｎ水溶液が加
えられ、かきまぜが４５分間続けられた。

工ーテルと塩化ナトリウムの水溶液が混合物に加えられ
た。相分離後、エーテル層が１Ｎ水酸化ナトリウム水洛
液（３回）と塩化ナトリウムの飽和水洛液（２回）で続
けて洗われム洗われたエーテル溶液が硫酸マグネシウム
上で乾燥され活性炭で処理された。蒸発後残溜物は３−
メチル−２−ブテニルジアゾアセテート（５．７２７、
８５％収率）と同定された。分析： ＮｍｒδＰｐｍ： １．８（Ｍｌ６Ｈ）、４．６（Ｓｌ
ｌＨ）、４．８（Ｍｌ２Ｈ）、５．４（ＭｌｌＨ）、３
．６・６−ジメチル−２−オキソ一３−オキサビシクロ
〔３・１・０〕へキサンの製造ジオキサン（２０ｍ１）
中の３−メチル−２−ブテニルジアゾアセテート（４１
．３ｍｍ０１１６．３６７）の溶液がアルゴン雰囲気下
７時間に亘つてジオキサン（４００ｍ１）中のキユプリ
ツクアセチルアセトネエート（１．０３ｍｍ０１８、０
．２７ｙ）の還流している洛液に滴加された。

添加終了後、反応混合物が１時間還流下に加熱された。
粗製反応混合物が蒸溜されて６・６−ジメチル−２−オ
キソ一３−オキサビシクロ〔３・１・Ｏ〕ヘキサン（３
．８５７、７５％収率）が得られた。ＢｐｌｌＯＯｌ６
ｍｍＨｇＯ４．光学活性６・６−ジメチル−２−オキソ
一３−オキサビシクロ〔３・１・Ｏ〕ヘキサンジオキサ
ン（１５ｍ１）中の３−メチル−２−ブテニルジアゾア
セテート（９８０η、６．４ｍｍ０１ｅｓ）の醇液が１
１０℃でジオキサン（５５ｍ１）中のビス〔２−ブトキ
シ一α一〔２−ブトキシ一５−（１・１−ジメチルエチ
ル）フエニル〕−５−（１・１−ジメチルエチル）一α
一〔（Ｓ）−１−〔〔（２−ヒドロキシフエニル）メチ
レン〕アミノ〕エチル〕ベンゼンメタノラト（２−）〕
一銅（８３η、０．０６４ｍｍ０１ｅ）の洛液に添加さ
れた。

窒素の発生が始つた時、温度は徐々に５２〜３。に下げ
られた。添加は５．５時間かＸつた。殆んど理論量の窒
素の発生が観察された。添加完了後、反応混合物が５２
〜３察で２時間かきまぜられ、蒸発乾個せしめられ、真
空下で蒸溜せしめられて（１Ｒ・５Ｓ）異性体（５００
Ｗ１９）が濃化された６・６−ジメチル−２−オキソ一
３−オキサビシクロ〔３・１・Ｏ〕−ヘキサンが得られ
た。生成物の旋光度は〔α〕青＝−５３．５ら（ＣＨＣ
ｌ３）であつた。

生成物は次いで塩基で処理され、酸性化され次いでメチ
ルシス一３−フオルミル２・２−ジ ｌメチルシクロプ
ロパンカルボキシレートに酸化される前にメチル化され
た。

後者は次いで低級アルコキシ３−（２・２−ジクロロビ
ニル）−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレ
ートに変換された。エステルが加水分解され、生じたシ
ス一３−（２・２−ジクロロビニル）一２・２−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸の光学活性は約５８％（１
Ｒ・３Ｒ）異性体の光学的収率に相当する〔α〕Ｄ−＋
１６．７（ＣＨＣｌ３）であつた。
二参考例シス一３−（２・２−ジハロビニール）
−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の合成Ａ
．シス一３−（２・２−ジクロロビニール）−２・２−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸の Ｃ製造０．６ｗ
Ｌ１の酢酸と３ｍ１のエーテル中の亜鉛末（０．５２７
、０．００８モル）の懸濁液に１５分間に亘つて３Ｔ！
Ｌｌのエーテル中の４−トリクロロメチル−６・６−ジ
メチル−２−オキソ一３オキサビシクロ〔３・１・０〕
−ヘキサン〔０．４８７７、０．００２モル〕の醇液が
滴加された。

混合物が室温で２時間かきまぜられ３０ｄのエーテルと
５ＴＩＬＩの水が加えられ、混合物が次いでｆ過助剤を
通して沢過された。有機層が分離され、飽和塩化ナトリ
ウム水醇液で２回洗われ、硫酸マグネシウム上で乾燥さ
れ、エーテルが蒸発せしめられて結晶性のシス一３−（
２・２−ジクロロビニール）−２・２−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸（０．４０５７、９７％収量）が得
られた。分析： ＮｍｒδＰｐｍ（ＣＤＣｌ３）： １．１８（Ｓｌ６Ｈ
）、１．９２（Ｍｌ２Ｈ）、６．１５（ＤｌｌＨ）、０
．５７ＷＬ１の酢酸と３ｍ１のエーテル中の亜鉛末（０
．４９４７、０．００７６モル）の冷凍された懸濁液に
２０分間に亘つて５ｍ１のエーテル中の４−トリブロモ
メチル−６・６−ジメチル−２ーオキソ一３−オキサビ
シクロ〔３・１・０〕ヘキサン（０．７２ｙ１０、００
１９モル）の洛液が滴加された。

混合物は００で１時間かきまぜられた。３０ｍ１のエー
テルと５ｍ１の水を滴加した後混合物は▲過助剤を通し
て▲過された。

有機層が分離され、飽和塩化ナトリウム水洛液で３回洗
われ、硫酸マグネシウム上で乾燥され、エーテルが蒸発
で除去されて結晶性のシス一３−（２・２−ジブロモビ
ニール）−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
（０．４８９７、８６％収率）が得られた。Ｍｐｌｌｌ
２〜１１４収（ｎ−ヘキサンから再結晶後）。

分析： ＮｍｒδＰｐｍ（ＣＤＣｌ３）： １．２７（Ｓ，６Ｈ
）、１．９７（Ｍｌ２Ｈ）、６．６７（ＤｌｌＨ）、１
１．３（ＢｓｌｌＨ）６．６７ｐｐｍ単一のタブレット
がＮｍｒスペクトラム中にあることはシス異性体のみが
存在することを示す。

もし光学活性４−トリハロメチル一６・６−ジメチル−
２−オキソ一３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサ
ンが使用されると例えば（１Ｒ・４Ｒ・５Ｓ）光学異性
体が濃化されると、例えば（ＩＲ・３Ｒ）異性体が濃化
された光学活性シス一３−（２・２−ジハロビニル）−
２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸が得られる
。

Ｃ．（１Ｒ・３Ｒ）−３−（２・３−ジクロロビニール
）−２・２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造
酢酸（０．９９７、１．６４ｍｍ０１）と４ｍ１のエー
テル中に細かく粉砕された亜鉛末（０．８１ｙ１１．２
３ｍｍ０１）の懸濁液に窒素下で、４ｍ１の工ーテル中
の実施例ＩＡ．８．（ａ）からの（ ＩＲ・４Ｒ・５Ｓ
）−６ ・６−ジメチル−２−オキソ一４−トリクロロ
メチル−３−オキサピングロー〔３・１・０〕ヘキサン
（０．５０ｙ） １．８４ｍｍ０１）の溶液が加えられ
た。

反応はガス液相クロマトグラフィ（Ｇｌｐｃ）で監視さ
れた。Ｇｌｐｃの結果が殆んど完全な変換を示した時反
応混合物は追加のエーテルと水で稀められ沢過助剤を通
してＰ過され、有機層が分離され乾燥され蒸発されて黄
色油を生じた。

これがＣＨ２Ｃｌ２を溶出液とし２個の２０×２０（Ｖ
７ｌの分取薄層クロマトグラフイ（ Ｔｌｃ）板上でク
ロマトグラフイ処理された。遅く進行する酸のバンドが
除去されＣＨ２Ｃｌ２で抽出され、抽出液が沢過され蒸
発されて（ＩＲ・ ３Ｒ）− ３ 一（ ２・２−ジク
ロロビニール）− ２ ・ ２ −ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸が得られた。（６８〜、１８％単離され
た収率）、第２回目の同じ実験に於いてつくられた酸の
旋光度が測定された。

〔α〕君＝＋６．２（ヘキサン）。Ｇｌｐｃのオートサ
ンブラー小壜（容量〜２ｍ１）中に封入された前述のシ
クロプロパンカルボン酸（６５〜、０．３２５ｍｍ０工
）に塩化チオニル（１９４Ｗ９、１．６３ｍｍ０１）が
全部一度に注射器で加えられた。小壜は４５゜の油浴中
に２１／４時間つるされ、その後０．２ｍ１のＥｔ２Ｏ
が加えられ、溶媒と過剰の塩化チオニルが注射器で高真
空下で除かれた。残留物に０．５ｍ１のトルエンが加え
られ、その後生じた溶液の若干滴が１滴のＨ− ２ −
オクタノール、１滴のピリジン及び０．１ゴのトルエン
を含んでいる第２の封入されたＧｌｐｃオートサンプル
小壜に加えられた。小壜は４５ｃの油浴中で１時間つる
されその間白色の沈澱が生じた。１時間後上澄液がクロ
ームＷ（ ＣｈｒＯｍＷ）上の１５％ＱＦ−１を詰めら
れた１乞×１／８／（７）ステンレス鋼製のカラム上で
Ｇｌｐｃによつて分析された。クロマトグラムは反応に
於いて生じたエステルは生成物と（ ＩＲ・ ３Ｒ）−
３−（２ ・２−ジクロロビニール） − ２ ・ ２
−ジメチル−シクロプロパンカルボン酸のＨ − ２
−オクタノールエステルの真正試料の滞留時間の比較
を基にして少く共９３％の（ＩＲ・３Ｒ）−３−（ ２
・２−ジクロロビニール） − ２ ・ ２ −ジメチ
ル−シクロプロパンカルボン酸のＨ−２＝オクタノール
エステルであつた。参考例ＩＡ．ｌ（ａ）、ＩＡ．２．
（ａ）、ＩＡ．４．（ａ）、ＩＡ．８．（ａ）及びＣ．
、のやり方で（ＩＳ・３Ｓ）− ３ −（ ２ ・ ２
−ジクロロビニール）−２・２−ジメチル−シクロプ
ロパンカルボン酸が（ ２Ｓ）−１・１ ・ １−トリ
クロロ− ４ −メチル−３−ベンゼン−２−オルから
（ＩＳ・４Ｓ・５Ｒ）− ６ ・ ６ −ジメチル−２
−オキソ一４ートリクロロメチル−３−オキサビシクロ
〔３・１・Ｏ〕ヘキサンを経てつくられる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ Ｒ＾３が低級アルコキシカルボニル、ＲがＣＣｌ＿
   ３であることを特徴とする式▲数式、化学式、表等があ
   ります▼ の化合物。 ２ エチル４−トリクロロメチル−６・６−ジメチル−
   ２−オキソ−３−オキサ〔３・１・０〕ヘキサン−１−
   カルボキシレートである特許請求の範囲第１項の化合物
   。 ３ メチル４−トリクロロメチル−６・６−ジメチル−
   ２−オキソ−３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサ
   ン−１−カルボキシレートである特許請求の範囲第１項
   の化合物。 ４ 分子内カルベノイド環化によつて式▲数式、化学式
   、表等があります▼ のジアゾ誘導体を環化することを特徴とする式▲数式、
   化学式、表等があります▼のラクトンの製法（両式中Ｒ
   はＣＣｌ＿３でＲ＾２とＲ＾３は共に低級アルコキシカ
   ルボニルである）。 ５ 銅を含有する触媒でジアゾ誘導体を環化することを
   特徴とする特許請求の範囲４の方法。 ６ 触媒が掌性のある〔キラール（Ｃｈｉｒａｌ）〕複
   核銅−含有触媒であることを特徴とする特許請求の範囲
   ５の方法。 ７ 触媒が〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチレート）サリチ
   リデンアミナト〕銅（II）複核錯体から選ばれることを
   特徴とする特許請求の範囲６の方法。 ８ 触媒がビス〔２−ブトキシ−α−〔２−ブトキシ−
   ５（１・１−ジメチルエチル）フェニル〕−５−（１・
   １−ジメチルエチル）−α−〔（Ｓ）−１−〔〔（２−
   ヒドロキシフェニル）メチレン〕アミノ〕エチル〕ベン
   ゼンメタノラト（２−）〕−銅であることを特徴とする
   特許請求の範囲７の方法。 ９ ジアゾ誘導体とラクトンが光学的に活性であること
   を特徴とする特許請求の範囲８の方法。 １０ エチル４−トリクロロメチル−６・６−ジメチル
   −２−オキソ−３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキ
   サン−１−カルボキシレートがエチル３−メチル−１−
   トリクロロメチル−２−ブテニルジアゾマロネエートか
   らつくられることを特徴とする特許請求の範囲５の方法
   。 １１ メチル４−トリクロロメチル−６・６−ジメチル
   −２−オキソ−３−オキサ−ビシクロ〔３・１・０〕ヘ
   キサン−１−カルボキシレートがメチル３−メチル−１
   −トリクロロメチル−２−ブテニルジアゾマロネエート
   からつくられることを特徴とする特許請求の範囲５の方
   法。