JPH0425275B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、新規オリゴマンノシド及びその製造
法に関するものであり、更に詳細には、α1−２
結合及びα1−６結合を有する分枝状マンナン及
びグルコースを含有する分枝状マンナンならびに
その製造法に関するものである。 マンナンは高等植物から微生物まで広く分布し
ている多糖である。近年、それらの化学構造の研
究が進歩し、いくつかのくり返し単位の構造式が
提示されている。例えば、酵母マンナンやイモチ
菌のマンナンは、細胞の表層に存在しているプロ
テオマンナンであり（T.Nakajima，H.Sasaki，
M.Sato，K.Tamari and K.Matsuda，J.
Biochem.（Tokyo）82，1657〜1662）複雑に分岐
した構造が考えられている。これらのマンナン
は、表層に存在していることから生物間の認識現
象にも関与している可能性が大きい。また、いく
つかのマンナンについては、抗腫瘍活性が報告さ
れている。本発明者らは、これらの生物学的機能
や抗腫瘍活性とマンナン構造との相関の解明を目
的して、正確な構造を有するオリゴマンノシドの
合成研究を行つている。 本発明者らは上記研究の一環として、稲イモチ
菌の細胞壁中に存在している下記の構造式をもつ
プロテオヘテログリカンの部分構造の合成研究を
行い、M5モデルおよびM9モデルの合成に成功
した（特開昭57−72996号公報、特願昭57−
146662号明細書参照）。

【表】 （式中、Ｍはマンノース残基、Ｇはグルコース残
基、Gfはガラクトフラノシル残基を示す。） 本発明は、上記G2M7モデルの合成研究の過程
において完成されたものである。本発明の新規オ
リゴマンノシドは次の一般式によつて表わされ
る。 上記式中、Ｒは水素原子またはベンジル基、Ｙ
は水素原子、アセチル基または （式中、R′は水素原子またはアセチル基を示す） を示す。 上記一般式において、Ｙが水素原子またはアセ
チル基である５糖化合物は、式(1)： （式中Ｒはベンジル基を示す） で表わされる化合物と、式(2) （式中Ｒはベンジル基、R′はアセチル基、Ｘは
ハロゲン原子を示す） で表わされる化合物を反応させ、必要により脱ア
セチル化および脱ベンジル化することにより得ら
れる。 (3)Ｒ＝ベンジル基、R′＝アセチル基 (4)Ｒ＝ベンジル基、R′＝Ｈ (5)Ｒ＝Ｈ、R′＝Ｈ 本発明の他の目的化合物である９糖化合物は、
化合物(4)と式(7) （式中R′はアセチル基、Ｘはハロゲン原子を示
す） で表わされる化合物を反応させ、必要により脱ア
セチル化および脱ベンジル化することにより得ら
れる。 (11)Ｒ＝ベンジル基、R′＝アセチル基 (12)Ｒ＝ベンジル基、R′＝Ｈ (13)Ｒ＝Ｈ、R′＝Ｈ 本発明の出発物質である化合物(1)は、たとえば
次のように合成することができる。 まず化合物(A)（T.Ogawa ＆ K.Sasajma，
Carbchy−drate Research，93（1981），67−81
参照） を、（CH₃）₃SiOSO₂CF₃（TMS Trif）、SnCl₄、
AlCl₃、PCl₃、ZnCl₂等のルイス酸触媒存在下で
ベンジルアルコールと反応させて化合物(B)を得
る。溶媒はジクロルエタン、ジクロルメタン、ク
ロロホルム、ニトロメタン、ベンゼン、トルエン
等が好適である。 反応温度、反応時間は、それぞれ約−20〜50
℃、約１分〜48時間が適当である。 得られた化合物(B)を、MeONa／MeOH、
EtONa／EtOH、ｉ−PrOH／ｉ−PrONa、
MeOK／KOH等のアルコラートとTHF、エーテ
ル等の溶媒中で処理して、脱アセチル化して、化
合物(C)を得る。 得られた化合物(C)を、AgOSO₂CF₃、Ag₂CO₃、
Ag₂O、AgClO₄、HgBr₂、Hg（CN）₂等の銀また
は水銀化合物触媒、モレキユラーシーブ等の脱酸
剤の存在下に既知の化合物(2) （Ｘは、ハロゲン原子） と反応させることにより３糖化合物（1′）を得
る。 溶媒は、ジクロルエタン、ジクロルメタン、ク
ロロホルム、ニトロメタン、ベンゼン、トルエン
等が適当であり、反応温度、反応時間は、それぞ
れ約−20〜100℃、約１分〜48時間が適当である。 化合物（1′）を常法により脱アセチル化すると
化合物(1)が得られる。 化合物(2)の合成については、たとえば特開昭57
−146797号公報を参照されたい。 本発明のもう１つの出発物質である２糖ハロゲ
ニド(7)は、たとえば次のように合成することがで
きる。 まず化合物(21)または(22)と化合物(28)を反応さ
せて２糖化合物(33)を得る。 (21)Ｘ＝OR′ (22)Ｘ＝Cl (28)

【式】 (33)Ｒ＝ベンジル基、R′＝アセチル基 (37)Ｒ＝Ｈ、R′＝アセチル基 (38)Ｒ＝アセチル基、R′＝アセチル基 次に、化合物(33)をたとえばHCOOH／10％Pd
−Ｃにより脱ベンジル化して化合物(37)を得、こ
れを無水酢酸−ピリジンによりアセチル化して化
合物(38)とした後、ハロゲン化水素、たとえば臭
化水素と酢酸で処理して、２糖ハロゲニド(7)を得
る。 化合物(38)はまた、化合物(22)と化合物(25)を反
応させて得られる化合物(31)を、脱アリル化およ
び脱ベンジル化後、無水酢酸／ピリジンでアセチ
ル化することにより得られる。あるいは化合物(2
２）と化合物(30)を反応させて化合物(35)を得、こ
れを脱ベンジル化後、アセチル化してもよい。化
合物(30)は、６−Ｏ−トリチル−α−Ｄ−ベンジ
ルマンノピラノシド(26)をアセチル化した後、酢
酸により脱トリチル化することにより得られる。 (22) （Ｘ＝ハロゲン原子 Ｒ＝ベンジル基 R′＝アセチル基） (25)R¹＝アリル基 R²、R³、R⁴＝ベンジル基 (30)R¹＝ベンジル基 R²、R³、R⁴＝アセチル基

〔化合物(33)の性質〕

Rf0.64 C₆₃H₆₆O₁₂ Ｃ：74.54 Ｈ：6.55 実測値 Ｃ：74.07、Ｈ：6.52 〔α〕²⁰ _D＋71.1゜（Ｃ＝0.36 CHCl₃） δC（CDCl₃）：128.27−127.54（ph）96.59（ｄ，
170.9）、96.35（ｄ，170.9）（Ｃ−1a，Ｃ−1b）
21.05（ｑ，

〔化合物(34)の性質〕

Rf0.59 C₆₃H₆₆O₁₂ Ｃ：74.54 Ｈ：6.55 実測値 Ｃ：74.14 Ｈ：6.52 m.p.129℃ 〔α〕²⁰ _D＋41.9゜（Ｃ＝0.3 CHCl₃） δC（CDCl₃）：103.85（ｄ，161.1Hz Ｃ−1a）96.93
（ｄ，169.7Hz Ｃ−1a） δH（CDCl₃）7.29−7.18（30H，ｍ，アロマチツ
ク）1.87（3H，Ｓ，Ac） (B) 50ml容二口フラスコにモレキユラーシーブス
4A末５ｇ及び回転子を入れ190℃で１夜、減圧
下撹拌した。室温冷却後ジクロルエタン20ml溶
の化合物(28)１ｇ（185mM）と化合物(21)１ｇ
（187mM）を加え、窒素置換後TMS−
OTrif／mlを滴下注入した。０℃で６時間撹拌
した所tlc（トルエン：酢酸エチル５：１）上で
化合物(28)のRf0.47、化合物(21)の0.31のスポツ
トが消失し、新たにRf0.61、Rf0.57の２つのス
ポツトが現れた。モレキユラーシーブス末を
別後クロロホルム50mlを加え飽和重曹水で２
度、飽和食塩水で１度洗浄し、MgSO₄で乾燥
後溶媒除去しシリカゲル70ｇのフラツシユクロ
マトグラフイー（トルエン：酢酸エチル15：
１）で単離し、Rf0.61のものを990mgのシロツ
プ状物質、Rf0.57のものを350mgの白色結晶
（1PEから）として単離した。 ¹H nmr、tlcより前者を化合物(33)（52.8
％）後者を化合物(34)（19％）と同定した。 参考例 ２ 化合物(38)の合成 化合物(33)800mgをギ酸30mlに溶解し、300mgの
10％Pd−Ｃを加え室温で１時間撹拌したがtlc（ト
ルエン：酢酸エチル５：１）上でRf0.56の原料の
スポツトしか現れなかつた。10％Pd−C200mgを
加え60℃に加温し、一晩撹拌するとtlc（トルエ
ン：酢酸エチル５：１）で原料スポツトが消失
し、新たに原点にスポツトが現れ、tlc（クロロホ
ルム：メタノール２：１）ではRf0.17〜0.56のマ
ルチスポツトとなつて現れた。ケイ藻土（FC）
過後、溶媒除去し、1Nトリエチルアミン／メ
タノール溶液20mlを加えて１時間撹拌すると、
tlc（クロロホルム：メタノール２：１）上で
Rf0.17の単一のスポツトが現れた。 このものを溶媒除去後無水酢酸／ピリジン
（１：２）混合溶液を20ml加え３時間撹拌すると
tlc（トルエン：酢酸エチル１：１）上で原料の原
点スポツトが消失し、Rf0.44のほぼ単一のスポツ
トが現れた。シリカゲル20ｇのフラツシユクロマ
トグラフイー（トルエン：酢酸エチル１：１）に
より単離し350mgの粉状物質(38)を得た（65％）。 〔化合物(38)の性質〕 C₂₈H₄₂O₁₉ Ｃ：49.56 Ｈ：5.60 実測値Ｃ：
49.44 Ｈ：5.69 〔α〕²⁰ _D＋8.4（Ｃ＝0.2、CHCl₃） δH（CDCl₃）：6.03（1H，ｄ，1.6Hz Ｈ−１−ａ） 5.85（1H，ｄ，1.7Hz，Ｈ−１−ｂ） 2.08〜2.01（24H，ｍ，８×Ac） 参考例 ３ 化合物(7)の合成 20ml容二口フラスコに25％HBr／酢酸２ml、
ジクロルメタン２ml、無水酢酸0.1mlを加え、窒
素置換後30分間撹拌した。ジクロルエタン２ml溶
の化合物(38)50mgを注入し、室温で１時間撹拌す
るとtlc（トルエン：酢酸エチル２：１）上で原料
のスポツトが消失し、Rf0.51及びRf0〜0.3のマル
チスポツトが現れた。溶媒除去後トルエンで30回
共沸したところtlc（トルエン：酢酸エチル２：
１）上でRf0.51とほぼ単一のスポツトが現れた。 〔化合物(7)の性質〕 δH（CDCl₃）：6.22（1H，Ｈ−1a）、2.09〜2.01
（21H，ｍ，Ac） 参考例 ４ 化合物(30)の合成 化合物(26)3.0ｇ（5.4mM）を無水酢酸：ピリ
ジン１：２溶液10mlに溶解し、室温で３時間撹拌
した。溶媒除去後、酢酸エチル100mlに溶解し、
水約100mlで２回、飽和食塩水で１回洗浄後、溶
媒除去し、単離することなく90％酢酸300mlを加
え、80℃で15分間加熱した。溶媒除去後シリカゲ
ル100ｇのフラツシユクロマトグラフイーにより
単離し、1.9ｇの白色粗結晶(30)を得た（収率89
％）。1PEより再結晶化し、1.7ｇの白色結晶を得
た（80％）。 〔化合物(30)の性質〕 m.p.113−115℃ C₁₉H₃₂O₉ Ｃ：57.86 Ｈ：5.62 実測値 Ｃ：57.59 Ｈ：6.18 〔α〕_D＋68.4゜（Ｃ＝0.17、CHCl₃） δH：7.33（5H，Ｓ，アロマチツク）5.52−5.25
（4H，ｍ，Ｈ−１，Ｈ−２，Ｈ−３，Ｈ−４）
2.13（3H，Ｓ，Ac）2.07（3H，Ｓ，Ac）2.00
（3H，Ｓ，Ac） 参考例 ５ 化合物(31)の合成 (A) 50ml容褐色二口フラスコにモレキユラーシー
ブス5Aを加え、190℃で減圧下１夜撹拌した。
室温冷却後トルエン５ml溶のAgSO₃CF₃500mg
を注入し、減圧下溶媒除去した。化合物(25)
600mg（1.22mM）をジクロルエタン10mlと共
に注入し、室温で１時間撹拌した。−15℃に冷
却後化合物(22)700mg（1.37mM）をジクロルエ
タン10mlと共に滴下注入し15分間撹拌した。ケ
イ藻土過後溶媒除去し、酢酸エチル100mlを
加え、重曹水で２回、飽和食塩水で１回洗浄後
MgSO₄で乾燥し、溶媒除去後シリカゲル100ｇ
のフラツシユクロマトグラフイー（トルエン：
酢酸エチル15：１）で単離しRf0.47のものを
360mg、Rf0.45のものを350mg、それぞれシロツ
プ状物質として単離した。 ¹³C NMR、 ¹H
NMRより前者をα体化合物(31)（31％）後者
をβ体化合物(32)（30％）と同定した。更に化
合物(32)は1PEより結晶化し300mgの白色結晶を
得た。 〔化合物(31)の性質〕 Rf0.47 C₅₉H₆₄O₁₂ Ｃ：73.42 Ｈ：6.68 実測値 Ｃ：73.29 Ｈ：6.61 〔α〕_D＋71.0（Ｃ＝0.8、CHCl₃） δH：7.36−7.24（30H，ｍ，アロマチツク）
5.89〜5.73（1H，ｍ，OCH₂CＨCH₂）1.92
（3H，Ｓ，Ac） 〔化合物(32)の性質〕 Rf0.45 C₅₉H₆₄O₁₂ Ｃ：73.42 Ｈ：6.68 実測値 Ｃ：73.29 Ｈ：6.68 m.p.128〜129℃ 〔α〕_D＋31.5゜（Ｃ＝0.4、CHCl₃） δH：7.31〜7.23（30H，ｍ，アロマチツク）
6.01〜5.59（1H，ｍ，OCH₂CＨCH₂）1.82
（3H，Ｓ，Ac） δC：128.27〜127.53 103.85（161.1Hz Ｃ−１−
ｂ）、96.93（169.7Hz，Ｃ−1a） (B) 50ml容二口フラスコにモレキユラーシーブス
4A末２ｇを入れ190℃で減圧下３日間撹拌し
た。室温冷却後500mgHg（CN）₂（2mM）を加え
た後窒素置換し、化合物(25)600mg（1.22mM）
をニトロメタン20mlと共に注入した。室温で１
時間撹拌した後ニトロメタン５ml溶の化合物(2
２）１ｇ（1.96mM）を注入し、60℃に昇温後１
夜撹拌した。ケイ藻土過後酢酸エチル100ml
を加え重曹水で２回、飽和食塩水で１回洗浄
し、MgSO₄で乾燥後シリカゲル100ｇのフラツ
シユクロマトグラフイー（トルエン：酢酸エチ
ル15：１）で単離し、Rf0.52のものを580mg、
Rf0.48のものを250mgそれぞれシロツプ状物質
として単離した。tlc， ¹H NMRにより前者
を化合物(31)（50％）後者を化合物(32)（21％）
と同定した。 参考例 ６ 化合物(35)の合成 50ml容２口フラスコにモレキユラーシーブス
4A末３ｇ及び回転子を入れ180℃で減圧下１夜撹
拌した。室温冷却後Hg（CN）₂600mgを加え減圧下
更に１時間撹拌した。窒素置換後ニトロメタン20
ml溶の化合物(30)450mg（1.14mM）を注入し、１
時間撹拌し、ニトロメタン２ml溶の化合物(22)
650mg（1.23mM）を滴下注入し50℃に昇温後２
夜撹拌を続けた。更にニトロメタン２ml溶の化合
物(22)300mg（0.57mM）を注入し一夜撹拌を続け
るとtlc（トルエン：酢酸エチル２：１）上で化合
物(22)のRf0.86、化合物(30)のRf0.30のスポツト
が共に消失し、新たにRf0.64、0.59の２つのスポ
ツトが現れた。モレキユラーシーブス末を別後
溶媒除去し、酢酸エチル50mlに溶解後、飽和重曹
水２回、飽和食塩水で１度洗浄し、MgSO₄で乾
燥後溶媒除去し、シリカゲル100ｇのフラツシユ
クロマトグラフイーにより単離してRf0.64のもの
400mg、Rf0.59のもの150mgをそれぞれシロツプ状
物質として単離した。 ¹H NMR、 ¹³C NMRより前者をα体化合物
（３５）（収率40％）、後者をβ体化合物(36)（収率15
％）と同定した。 〔化合物(35)の性質〕 Rf0.64 C₄₈H₅₄O₁₄として、 Ｃ：66.19、Ｈ：6.25 実測値 Ｃ：65.80、Ｈ：6.29 δH 7.32〜7.25（20H，ｍ，アロマチツク）、2.05
（3H，ｓ，Ac）、2.03（3H，ｓ，Ac）、1.98
（3H，ｓ，Ac）、1.93（3H，ｓ，Ac） δC 128.37〜127.59、99.37（174.6Hz，Ｃ−1a）、
96.06（168.5Hz，Ｃ−1b）、20.61（ｑ，

〔化合物(36)の性質〕

Rf0.59 C₄₈H₅₄O₁₄として Ｃ：66.19、Ｈ：6.25 実測値 Ｃ：65.82、Ｈ：6.27 δH：7.32〜7.20（20H，ｍ，アロマチツク）、2.04
（3H，ｓ，Ac）、2.02（3H，ｓ，Ac）、1.97
（3H，ｓ，Ac）、1.93（3H，ｓ，Ac） 参考例 ７ 化合物（1′）の合成 モレキユラーシーブス4A末２ｇを30ml容褐色
二口フラスコに入れ190℃で１晩減圧下撹拌した。
室温冷却後トルエン10ml溶のAgOSO₂CF₃300mg
を加え溶媒除去し、窒素置換後化合物(C)400mg
（0.67mM）をジクロルエタン15mlと共に注入し、
室温で１時間撹拌した。０℃に冷却後ジクロルエ
タン２ml溶の化合物(2)700mg（1.3mM）を滴下注
入した。室温で１夜撹拌を続けるとtlc（トルエ
ン：酢酸エチル５：１）上で化合物(2)のRf0.46の
スポツトが消失し、痕跡の化合物(C)のRf0.005の
スポツトと共に新たにRf0.51、Rf0.01（微量）の
２つのスポツトが現れた。シリカゲル15ｇのフラ
ツシユクロマトグラフイー（トルエン：酢酸エチ
ル12：１）によりRf0.51のものを単離し650mgの
シロツプ状物質（1′）を得た（69％）。 〔化合物（1′）の性質〕 C₈₅H₉₀O₁₈ Ｃ：72.94 Ｈ：6.48 実測値 Ｃ：73.25、Ｈ：6.54 〔α〕_D＋43.5゜（Ｃ＝0.4、CHCl₃） δH：7.30−7.18（45H，ｍ，アロマチツク）5.55
（1H，Ｈ−1b）、5.41（1H，Ｈ−1c）、5.05（1H，
ｄ（2Hz）、Ｈ−1a）、2.101（3H，ｓ，Ac）、
2.091（3H，ｓ，Ac） 参考例 ８ 化合物(1)の合成 化合物（1′）400mgをTHF10mlの溶解し、0.1N
NaOMe／MeOH10mlを加え室温で３時間撹拌す
るとtlc（トルエン：酢酸エチル５：１）上で原料
のRf0.60のスポツトが消失し、新たにRf0.35のス
ポツトが現れた。アンバーリストＡ−15で中和
後、溶媒除去し、シリカゲル20ｇのフラツシユク
ロマトグラフイーにより単離し、320mgのシロツ
プ状物質(1)を得た（85％）。 〔化合物(1)の性質〕 計算値 Ｃ：73.95 Ｈ：6.59 実測値 Ｃ：73.97 Ｈ：6.67 〔α〕_D＋43.2゜（Ｃ＝0.34、CHCl₃） δH：7.31−7.19（45H，ｍ，アロマチツク）5.24
（2H，Ｈ−1b，Ｈ−1c） 実施例 １ 化合物(3)の合成 50ml容褐色二口フラスコにモレキユラーシーブ
4A末2.5ｇと回転子を入れ減圧下190℃で１夜撹
拌した。室温冷却後トルエン５ml溶の
AgOSO₂CF₃400mg（1.5mM）を注入し減圧下溶
媒除去し、窒素置換した。化合物(1)320mg
（0.24mM）をジクロルエタン20mlと共に注入し
室温で１時間撹拌した。０℃に冷却後ジクロルエ
タン２ml溶の化合物(2)400mg（0.75mM）を滴下
注入し、室温で１晩撹拌した。ケイ藻土過後酢
酸エチル100mlを加え、飽和重曹水約70mlで２回、
飽和食塩水で１回洗浄後MgSO₄で乾燥し、溶媒
除去後シリカゲル30ｇのフラツシユクロマトグラ
フイー（トルエン：酢酸エチル15：１）で単離し
413mgのシロツプ状物質(3)を得た（75％）。 〔化合物(3)の性質〕 C₁₃₉H₁₄₆O₂₈： Ｃ：73.72 Ｈ：6.50 実測値 Ｃ：73.56 Ｈ：6.52 〔α〕_D＋43.3゜（Ｃ＝0.2，CHCl₃） δH（CDCl₃）7.24−7.19（75H，ｍ，アロマチツ
ク）2.09（3H，ｓ，Ac）2.07（3H，ｓ，Ac） 実施例 ２ 化合物(4)の合成 化合物(3)413mgをTHF10mlに溶解し、0.1N
MeONa／MeOH10mlを加えて室温で２時間撹拌
し、アンバーリストＡ−15で中和後溶媒除去し、
シリカゲル20ｇのフラツシユクロマトグラフイー
で単離し、230mgのシロツプ状物質(4)を得た（58
％）。 〔化合物(4)の性質〕 tlc：Rf0.36（トルエン：酢酸エチル＝５：１） C₁₃₅H₁₄₂O₂₆ Ｃ：74.36 Ｈ：6.56 実測値 Ｃ：73.94、Ｈ：6.71 〔α〕_D＋41.1゜（Ｃ＝0.2inCHCl₃） δH（CDCl₃）：7.35−7.20（75H、ｍ、アロマチツ
ク） 実施例 ３ 化合物(11)の合成 モレキユラーシーブス4A末２ｇと回転子を褐
色二口フラスコに入れ180℃で減圧下１夜撹拌し
た。室温冷却後トルエン20ml溶の
AgOSO₂CF₃200mg（0.77mM）を注入し、溶媒除
去した。窒素置換後ベンゼン10ml溶の化合物(4)
125mg（0.057mM）を注入し１時間室温で撹拌し
た。５℃に冷却後ベンゼン１ml溶の化合物(7)100
mg（0.14mM）を滴下注入し室温で１夜撹拌を続
けるとtlc（トルエン：酢酸エチル２：１）上で化
合物(4)のRf0.71のスポツトが消失し、化合物(7)の
Rf0.46のスポツトと共に新たにRf0.21のスポツト
が現れた。フラクトゲルPVA2000（ベンゼン）に
よりRf0.21のものを単離し、118mgのシロツプ状
物質(11)を得た（60％）。 〔化合物(11)の性質〕 C₁₈₇H₂₁₀O₆₀ Ｃ：65.72 Ｈ：6.19 実測値 Ｃ：65.51 Ｈ：6.29 〔α〕_D＋28.5゜（Ｃ＝0.27，CHCl₃） δH（CDCl₃）：7.26−7.16（75H，ｍ，アロマチツ
ク）2.12−1.97（36H，ｍ，Ac） 実施例 ４ 化合物(13)の合成 化合物(11)90mgをTHF2mgに溶解し
0.1NNaOMe／MeOH2mlを加え室温で３時間撹
拌した。アンバーリストＡ−15で中和後溶媒除去
し、酢酸２ml、10％Pd−C50mgを加え、80℃で30
分間水素添加を行うとtlc（クロロホルム：メタノ
ール５：１）で原料のスポツトが消失し、新たに
原点にスポツトが現れた。このものはtlc（ブタノ
ール：酢酸：水１：１：１）上ではRf0.42の単一
のスポツトを示した。ケイ藻土（FC）過後溶
媒除去し、エタノール、メタノールで共沸し35mg
の粉状物質(13)を得た（89％）。 〔化合物(13)の性質〕 〔α〕_D＋104゜（Ｃ＝1.3，H₂O） δH（60℃，D₂O）：5.348（1H，Ｈ−1a）5.224−
5.207（3H，Ｈ−1c，Ｈ−1d，Ｈ−1e）5.060−
5.047（3H，Ｈ−1b，Ｈ−1f，Ｈ−1g）4.958
（2H，ｄ，3.7Hz，Ｈ−1h，Ｈ−1i） δH（20℃，D₂O）：102.50（Ｃ−1f，Ｃ−1g）
100.99（Ｃ−1c，Ｃ−1d，Ｃ−1e）98.38（Ｃ−
1b，Ｃ−1h，Ｃ−1i）92.88（Ｃ−1a）73.63（Ｃ
−２×５）61.44，61.06（Ｃ−６×６）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記の一般式で表わされるオリゴマンノシ
   ド。 上記式中、Ｒは水素原子またはベンジル基、Ｙ
   は水素原子、アセチル基または （式中、R′は水素原子またはアセチル基を示す）
   を示す。 ２ 式 （式中Ｒはベンジル基を示す） で表わされる化合物と、式 （式中Ｒはベンジル基、R′はアセチル基、Ｘは
   ハロゲン原子を示す） で表わされる化合物を反応させ、必要により脱ア
   セチル化および脱ベンジル化することを特徴とす
   る、一般式 （式中Ｒは水素原子またはベンジル基、R′は水
   素原子またはアセチル基を示す） で表わされるオリゴマンノシドの製造法。 ３ 式 （式中Ｒはベンジル基を示す） で表わされる化合物と式 （式中R′はアセチル基、Ｘはハロゲン原子を示
   す） で表わされる化合物を反応させ、必要により脱ア
   セチル化および脱ベンジル化することを特徴とす
   る、一般式 （式中Ｒは水素原子またはベンジル基、R′は水
   素原子またはアセチル基を示す） で表わされるオリゴマンノシドの製造法。