JPS6364437B2 - - Google Patents

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JPS6364437B2
JPS6364437B2 JP3331981A JP3331981A JPS6364437B2 JP S6364437 B2 JPS6364437 B2 JP S6364437B2 JP 3331981 A JP3331981 A JP 3331981A JP 3331981 A JP3331981 A JP 3331981A JP S6364437 B2 JPS6364437 B2 JP S6364437B2
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、新規オリゴマンノシド及びその製造
法に関するものであり、更に詳細には、α1―2
結合を有する直鎖状マンナン及びその製造法に関
するものである。 マンナンは高等植物から微生物まで広く分布し
ている多糖である。近年、それらの化学構造の研
究が進歩し、いくつかのくり返し単位の構造式が
提示されている。例えば、酵母マンナンやイモチ
菌のマンナンは、細胞の表層に存在しているプロ
テオマンナンであり(T.Nakajima,H.Sasaki,
M.Sato,K.Tamari and K.Matsuda,J.
Biochem.(Tokyo)82,1657〜1662)複雑に分岐
した構造が考えられている。これらのマンナン
は、表層に存在していることから生物間の認識現
象にも関与している可能性が大きい。また、いく
つかのマンナンについては、抗腫瘍活性が報告さ
れている。本発明者らは、これらの生物学的機能
や抗腫瘍活性とマンナン構造との相関の解明を目
的して、正確な構造を有するオリゴマンノシドの
合成研究を行つている。 本発明者らは既に、2,6―および3,6―分
枝のマンナン構造の合成法を確立しているが(特
開昭57―72996号(特願昭55―149182号)及び特
開昭57―72997号(特願昭55―149183号明細書参
照)。)、更にα1―2結合の直鎖状マンナンの合成
法につき鋭意研究の結果、本発明を完成するに至
つた。 本発明は、単糖性糖供与体7または2糖性糖供
与体22を用いて糖鎖を伸長せしめるものであり、
この方法により6糖程度までの直鎖マンナンが容
易に合成される。 以下、本発明を詳述する。 本発明は、一般式: (式中、R1及びR2は水素原子またはアセチル
基を示し、R3は水素原子またはベンジル基を示
し、R4は水素原子、ベンジル基またはハロゲン
原子を示し、mは0〜2の整数、nは0〜4の整
数、m+nは2〜6の整数である。) で表わされるオリゴマンノシド及びその製造法に
関するものである。上記一般式で表わされるオリ
ゴマンノシドの具体例としては、後記の如き化合
物(10),(11),(12),(13),(14),(15),(16)
,(17),
(18),(19),(20),(21),(22),(23),(
24),
(25),(26),(27)及び(28)が挙げられる。 本発明における出発物質(5)は、たとえば、α―
D―マンノース(1)を常法により化合物(2)とし、こ
れをジクロルメタン等の溶媒中、トリエチルアミ
ン及びベンジルアルコールと共にリフラツクスさ
せることにより得られる。 また、単糖性糖供与体化合物(7)は、たとえば、
前記化合物(2)をジクロルメタン中、トリエチルア
ミン及びメタノールと共にリフラツクスさせて化
合物(3)とし、これをNaOCH3/MeOHで脱アセ
チル化後、DMF中、NaH及びベンジルブロマイ
ドでベンジル化して化合物(4)を得、これをジクロ
ルメタン中、トリメチルクロルシランで処理する
ことにより得られる。 本発明の新規オリゴマンノシドは次のように合
成される。まず、前記化合物(5)を脱アセチル化
後、ベンジル化して式(6): で表わされる化合物を得、該化合物(6)を触媒存在
下に加熱して式(8)で表わされる化合物を得、該化
合物(8)を脱アセチル化すると式(9)で表わされる単
糖受容体化合物(9)が得られる。 該化合物(9)を、式(7): (式中、Xはハロゲン原子を示す。) で表わされる糖供与体化合物と反応させると式(10)
で表わされる2糖化合物(10)が得られ、該化合物を
脱アセチル化すると式(11)で表わされる化合物(11)が
更に該化合物を脱ベンジル化すれば式(12): で表わされる化合物(12)がそれぞれ得られる。 また、前記2糖化合物(11)を糖受容体として、糖
供与体化合物(7)と反応させると式(13)で表わさ
れる3糖化合物(13)が得られ、該化合物を脱ア
セチル化すれば式(14)で表わされる化合物
(14)が、更に、脱ベンジル化すれば式(15): で表わされる化合物(15)がそれぞれ得られる。 上記3糖化合物(14)を糖受容体として糖供与
体化合物(7)と反応させると式(16)で表わされる
4糖化合物(16)が得られ、これを脱アセチル化
すると式(17)で表わされる化合物(17)が、更
にこれを脱ベンジル化すると式(18): で表わされる化合物(18)がそれぞれ得られる。 また、式(2): (式中、Acはアセチル基、Xはハロゲンを示
す。) で表わされる化合物を、式(9): (式中、Bnはベンジル基を示す。) で表わされる化合物と反応させると式(19)で表
わされる2糖化合物(19)が得られ、該化合物を
脱ベンジル化すれば式(20)で表わされる化合物
(20)が、更に、これを常法によりアセチル化す
れば式(21)で表わされる化合物(21)がそれぞ
れ得られ、該化合物をハロゲン化水素で処理すれ
ば、式(22): で表わされる2糖性糖供与体化合物(22)が得ら
れる。 前記3糖化合物(14)を糖受容体とし、前記2
糖化合物(22)を糖供与体として両者を反応せし
めると式(23)で表わされる5糖化合物(23)が
得られ、これを脱アセチル化、更に脱ベンジル化
することによりそれぞれ化合物(24)及び(25)
が得られる。 また前記4糖化合物(17)を糖受容体とし、前
記2糖化合物(22)を糖供与体として両者を反応
せしめると、式(26)で表わされる6糖化合物
(26)が得られ、これを脱アセチル化、更に脱ベ
ンジル化することによりそれぞれ化合物(27)及
び(28)が得られる。 化合物(6)は、化合物(5)をNaOCH3/CH3OH等
で脱アセチル化した後、DMF等の溶媒中NaH及
びベンジルハロゲニドでベンジル化することによ
り得られる。 化合物(6)に、HgBr2等を加え、アルゴン置換
後、50℃〜200℃で30分〜24時間反応させると化
合物(8)が得られ、これを常法により、たとえば、
THF中、NaOCH3/CH3OHにより脱アセチル
化すれば単糖性糖受容体化合物(9)が得られる。 単糖性糖供与体化合物(2)または(7)、または2糖
性糖供与体化合物(22)と、糖受容体化合物(9),
(11),(14)または(17)との反応は、1,2―ジ
クロルエタン、ジクロルメタン、クロロホルム、
ニトロメタン、ベンゼン、トルエン等の溶媒中、
温度−30℃〜150℃、時間1〜8時間程度で、
HgBr2,Hg(CN)2,AgOSO2CF3,Ag2CO3
Ag2O,AgClO4等の触媒を用いて行われる。こ
の際、反応中生成するHBrなどの酸を除去する
目的でモレキユラーシーブ4Aを加えて反応させ
るのが好ましい。糖供与体化合物としては、クロ
ライド、ブロマイドまたはアイオダイドを用いる
のが好ましい。 化合物(10),(13),(16),(23)及び(26)の脱
アセチル化反応は、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、トリエチルアミンなどの三級
有機塩基等の触媒を用いて、メタノール、エタノ
ール、n―及びiso―プロパノール、水又はそれ
らの混合溶媒中温度−30℃〜100℃、0.5時間〜30
時間で充分に進行する。 化合物(11),(14),(17),(19),(24)及び(
27)
の脱ベンジル化反応は、これらの化合物を、水―
エタノール、THF―エタノール、エタノール、
メタノール、酢酸、THF―水、ジオキサン―水、
DMF等の溶媒又は混合溶媒に溶解し、Pd/C等
を触媒として常圧又は加圧水素添加することによ
り行われる。反応温度は0℃〜100℃反応時間は
1〜100時間程度が適当である。 なお、上記の工程において得られる中間体及び
目的化合物(6),(8),(9),(10),(11),(12),(13)

(14),(15),(16),(17),(18),(19),(
20),
(21),(22),(23),(24),(25),(26),(
27)及
び(28)はいずれも本発明者らにより初めて合成
された新規化合物である。 本発明の上記工程を以下概略的に示す。
〔化合物(6)の物理的性質〕
m・p・82℃ 〔α〕D+25.8゜(C=2.8,CHCl3) 元素分析: 分析値 :C;74.21,H;6.37 C36H38O7としての計算値:C;74.20,H;6.57 実施例 2 化合物(6)108gに、乾燥したHgBr25gを加え、
Ar置換後140℃で9時間撹拌すると t.l.c(C Cl4:アセトン10:1)上でRf0.51の
スポツトを示す生成物が得られた。これを酢酸エ
チルに溶解後水洗し溶媒を留去するとシロツプ状
の化合物(8)92gが得られた。化合物(8)82gを
THF100mlに溶解し200mlの0.025N NaOCH3
メタノール溶液を加え4時間撹拌後アンバーリス
トA―15で中和し、シリカゲルカラムにより分離
(トルエン:酢酸エチル,5:1)するとシロツ
プ状の化合物(9)55gが得られた(収率,化合物(6)
に対して50%)。 〔化合物(9)の物理的性質〕 〔α〕D−37.8゜(C=8.6,CHCl3) 元素分析: 分析値 :C;74.24,H;6.52 C34H36O6としての計算値:C;74.20,H;6.57 実施例 3 200ml容の褐色二口フラスコにモレキユラーシ
ープズ4A粉末20g、マグネチツクスターラーを
入れ180℃で1晩撹拌減圧乾燥し、AgSO3CF33.9
g(15mM),化合物(9)4.3g(8mM)を加え、
Ar置換した後ジクロルエタン50mlを注入し、−30
℃で化合物(7)の20mlジクロルエタン溶液を注入し
た。室温に戻した後1時間撹拌するとt.l.c(トル
エン、酢酸エチル5:1)でRf0.85及びRf0.81の
スプツトを示す2つの主生成物が約4:1の割合
で現れた。ジクロルエタン200mlを加えた後ケイ
ソウ土過し、重曹水で洗浄後濃縮し、シリカゲ
ル75gのカラムにより(展開溶媒トルエン:酢酸
エチル10:1)上記のRf0.85に相当するシロツプ
状の化合物(10)を得た(6.9g、収率,化合物(9)に
対して85%)。 〔化合物(10)の物理的性質〕 〔α〕D+35.9゜(C=5.1,CHCl3) 元素分析: 分析値 :C;73.68,H;6.52 C63H66O12としての計算値:C;74.54,H;6.55 実施例 4 化合物(10)6.9gにTHF50ml,0.075N
NaOCH3/メタノール100mlを加え室温で2時間
撹拌した後、溶媒を留去し、50gシリカゲルカラ
ム(展開溶媒トルエン:酢酸エチル5:1)によ
り、t.l.c(トルエン:酢酸エチル5:1)で
Rf0.35のスポツトを示すシロツプ状の化物11を単
離した(5g,収率,76%)。 〔化合物(11)の物理的性質〕 〔α〕D+35.9゜(C=8.1,CHCl3) 化合物(11)3.4gを酢酸40mlに溶かし、10%Pd/
C1.7gを加え50℃で水素添加すると3時間でt.l.c
(トルエン:酢酸エチル、5:1)で原点スポツ
トのみとなり、24時間でt.l.c(ブタノール:酢
酸:水、2:1:1)でRf0.1のスポツトとなつ
た。ケイ藻土過後溶媒留去し、シロツプ状の化
合物(12)を得た(収率82%)。 〔化合物(12)の物理的性質〕 〔α〕D+60.0゜(C=0.1,H2O) 元素分析 分析値:C:40.79,H:6.44 C12H22O111/2H2O としての計算値:C:41.03,H:6.60 1HNMR δH(D2O): 5.36(s,1H) 5.28(s,4H) 5.03(s,1H) 化合物(12)を無水酢酸:ピリジン(1:2)でア
セチル化後、シリカゲル:セライト(5:1,80
g)のカラムクロマトグラフイー(トルエン:酢
酸エチル3:2)により精製し、酢酸エチル、シ
クロヘキサンで再結晶化し、1.55gの結晶を得た
(収率,化合物(11)に対して65%)。このものは、実
施例10で得られる化合物(21)に一致した。 実施例 5 100ml容の褐色二口フラスコにモレキユラーシ
ーブズ4A及びマグネチツクスターラーを入れ、
190℃で6時間撹拌減圧乾燥した。AgSO3CF30.9
g(3.4mM),化合物(11)1.2g(1.2mM)を入れ
Ar置換後、ジクロルエタン20mlを注入し、−15℃
で化合物(4)875mg(2.4mM)より調整した化合物
(7)を注入し、室温に戻し、1晩撹拌するとt.l.c
(トルエン、酢酸エチル5:1)で化合物(11)のス
ポツトが消失し、Rf0.65のスポツトを示す化合物
(13)が得られた。 実施例 6 実施例5で得られた化合物(13)を0.1N
NaOCH3/CH3OH,THFにより脱アセチル後、
シリカゲル:ケイ藻土(5:1,120g)のカラ
ムクロマトグラフイー(トルエン、酢酸エチル
5:1)により処理してRf0.41のスポツトを示す
シロツプ状の化合物(14)1.2g(収率71%)を
得た。 〔化合物(14)の物理的性質〕 〔α〕D+34.2(C=10.6,CHCl3) 元素分析: 分析値 :C;75.34,H;6.60 C86H89O15としての計算値:C;75.27,H;6.49 上記化合物(14)150mgに酢酸5ml,10%Pd/
C100mgを加え50℃で1晩水素添加するとt.l.c(酢
酸:エタノール2:1)でRf0.4〜0.7の広いスポ
ツトとなつた。 1H.NMRでアロマテイツクのピ
ークが消えたのを確認し、ケイ藻土過後溶媒留
去しシロツプ状の化合物(15)30mgを得た(収率
56%)。 〔化合物(15)の物理的性質〕 〔α〕D+55.3゜(C=0.11,H2O) 元素分析: 分析値 :C;42.67,H;6.52 C18H32O16としての計算値:C;42.86,H;6.39 1HNMR δH(D2O): 5.36(s,1H) 5.29(d,J=1.5Hz,1H) 5.03(d,J=1.5Hz,1H) 実施例 7 50ml容褐色二口フラスコにモレキユラーシーブ
ズ5g,マグネチツクスターラーを入れ190℃で
撹拌しながら1晩減圧乾燥し、トルエンに溶かし
たAgSO3CF3500mg(1.92mM)を注入し、減圧
で溶媒を留去した。Ar置換後化合物(14)890mg
(0.663mM)の30mlジクロルエタン溶液を注入
し、−20℃で化合物(4)500mg(1mM)より調整し
た化合物(7)をジクロルエタン5mlと共に注入し
た。室温に戻し1晩撹拌するとt.l.c(トルエン:
酢酸エチル5:1)上で化合物(14)に相当する
スポツトが消失し、Rf0.74のスポツトが現れた。
シリカゲル:セライト(5:1,20g)のカラム
クロマトグラフイー(展開溶媒、トルエン:酢酸
エチル、10:1)に付して、シロツプ状の化合物
(16)1.08g(収率,化合物(14)に対して89g)
を得た。 〔化合物(16)の物理的性質〕 〔α〕D+23゜(C=5.0,CHCl3) 元素分析: 分析値: C;74.87,H;6.58 C117H122O22としての計算値: C;74.74,H;6.54 実施例 8 化合物(16)1.0gを0.05N―NaOCH3/メタ
ノールで脱アセチルし、シリカゲル:セライト
(5:1,120g)のカラムクロマトグラフイー
(展開溶媒トルエン:酢酸エチル5:1)により
分離してシロツプ状の化合物(17)843mg(収率,
79.8%)を得た。 〔化合物(17)の物理的性質〕 〔α〕D+31.3゜(C4.9,CHCl3) 上記化合物(17)140mgに酢酸5ml,10%Pd/
C100mgを加え50℃で1晩水素添加するとt.l.c(酢
酸:エタノール2:1)でRf0.16〜0.50の広いス
ポツトとなつた。ケイ藻土過後、溶媒留去しシ
ロツプ状の化合物(18)12mgを得た(収率24%)。 〔化合物(18)の物理的性質〕 〔α〕D+45.9゜(C=0.46,H2O) 元素分析 分析値: C;40.94,H;6.31 C24H42O21・2H2Oとしての計算値:
C;41.03,H;6.59 1HNMR δH(D2O): 5.36(d,J=2Hz,1H) 5.28(s,2H) 5.03(d,J=1.2Hz,1H) 実施例 9 50ml容二口フラスコにモレキユラーシーブズ5
g,マグネチツクスターラーを入れ180℃で撹拌
しながら1晩減圧乾燥し、室温に戻し乾燥した
HgBr2720mgを加えた。Ar置換後、化合物(9)540
mg(1mM)の20mlジクロルエタン溶液を注入し、
0℃でジクロルエタン5mlと共に化合物(2)820mg
(2mM)を注入し、室温で1晩撹拌するとt.l.c
(トルエン:酢酸エチル,2:1)上で化合物(2)
及び(9)に相当するスポツトが消失し、Rf0.56にス
ポツトを有する生成物が得られた。ケイソウ土
過後、重曹水、水で洗浄し、シリカゲル:セライ
ト(5:1,50g)のカラムクロマトグラフイー
(展開溶媒、トルエン:酢酸エチル,2:1)に
付して、シロツプ状の化合物(19)740mg(収率,
化合物(9)に対し89%)を単離した。 実施例 10 実施例9で得られた化合物(19)の全量を20ml
の酢酸中10%Pd―C500mgを加え、50℃で1晩水
素添加を行い脱ベンジル化して化合物(20)を
得、該化合物を溶媒留去後、ピリジン30ml、無水
酢酸15ml中でアセチル化し、シリカゲル10gのク
ロマトグラフイー(展開溶媒トルエン:酢酸エチ
ル,1:1)で分離して化合物(21)の白色結晶
400mgを得た(収率,化合物(19)に対し66%)。 〔化合物(21)の物理的性質〕 〔α〕D+36.9゜(C=4.8,CHCl3) 元素分析: 分析値 :C;49.33,H;5.63 C28H38O19としての計算値:C;49.56,H;5.60 化合物(21)250mg(0.41mM)に30%HBr/
酢酸15mlを加え室温で2時間撹拌するとt.l.c(ト
ルエン:酢酸エチル,1:1)上でRf0.44のスポ
ツトを示す化合物(22)が得られた。 実施例 11 50ml容の褐色二口フラスコにモレキユラーシー
ブズ末5g、マグネチツクスターラーを入れ、
180℃で撹拌しながら減圧で一晩乾燥した。トル
エン溶のAgSO3CF3350mg(1.34mM)を注入し、
減圧で溶媒留去後アルゴン置換し化合物(14)
270mg(0.2mM)をジクロルエタン20mlと共に注
入した。0℃に冷却後化合物(21)250mg
(0.41mM)より調整した化合物(22)をジクロ
ルエタン5mlと共に全量注入した。室温に戻し、
1晩撹拌するとt.l.c(トルエン:酢酸エチル、
1:1)で化合物(14)のスポツトが消え、
Rf0.64のスポツトを生じた。シリカゲル:セライ
ト(5:1、20g)のカラムクロマトグラフイー
により上記スポツトを単離し、シロツプ状の化合
物(23)290mg(収率,化合物(14)に対して72
%)を得た。 〔化合物(23)の物理的性質〕 〔α〕D+28.8゜(C=1.0,CHCl3) 元素分析: 分析値: C;67.51,H;6.18 C114H126O33としての計算値: C;67.64,H;6.27 実施例 12 化合物(23)200mgを0.01NCH3ONa/CH3OH
中室温で1時間撹拌し脱アセチル化して化合物
(24)を得、これを10%Pd/C70mg,酢酸5mlを
加え50℃で水素添加を行うとt.l.c(酢酸:エタノ
ール2:1)でRf0.13〜0.50の広いスポツトとな
つた。ケイ藻土過後水洗し、溶媒留去した所65
mgのシロツプを得た。セフアデツクスG―252g
(水)によるゲルロ過を行い、0〜2ml画分の溶
媒を留去し、化合物(2)555mg(収率,67%)を得
た。 〔化合物(25)の物理的性質〕 〔α〕D+42.6゜(C=0.5,H2O) 元素分析: 分析値 :C;43.20,H;6.30 C30H52O26としての計算値:C;43.48,H;6.32 1HNMR δH(D2O) 5.03(1H,d,J=2Hz) 5.28(3H,s) 5.36(1H,d,J=2Hz) 実施例 13 50ml容の褐色二口フラスコにモレキユラーシー
ブズ5g,マグネチツクスターラーを入れ180℃
で撹拌しながら1晩乾燥した。トルエンに溶解し
たAgSO3CF3300mg(1.15mM)を注入し、減圧
で溶媒留去後、化合物(17)280mg(0.15mM)
をジクロルエタン20mlと共に注入し、0℃に冷却
し化合物(22)をジクロルエタン5mlと共に注入
し、室温に戻し1晩撹拌するとt.l.c(トルエン:
酢酸エチル2:1)上で化合物(17)に相当する
スポツトが消え化合物(26)に相当するRf0.6の
スポツト及び化合物(22)及び(22)の分解物と
思われる原点附近のスポツトが現れた。シリカゲ
ル:セライト(5:1,20g)のカラムクロマト
グラフイー(トルエン:酢酸エチル,2:1)に
付してシロツプ状の化合物(26)270mgを得た
(収率,化合物(22)に対して73%)。 〔化合物(26)の物理的性質〕 〔α〕D+21.1゜(C=19,CHCl3) 元素分析: 分析値: C;69.13,H;6.31 C141H148O38としての計算値: C;69.10,H;6.09 実施例 14 化合物(26)200mgを0.01NCH3ONa/CH3OH
中、室温で1時間撹拌するとt.l.c(酢酸エチル)
上でRf0.48のスポツトを示す生成物が得られた。
これをシリカゲル(5g)カラムクロマトグラフ
イー(酢酸エチル)で精製してシロツプ状の化合
物(27)120mg(収率68%)を得た。 化合物(27)120mgに酢酸5ml,10%Pd/C60
mgを加え50℃で1晩水素添加するとt.l.c(酢酸:
エタノール2:1)でRf0.11〜0.50の広いスポツ
トとなつた。 1H―NMRでアロマテイツクプロ
トンのピークが消えたのを確認した後ケイ藻土
過し、溶媒留去した所15mgのシロツプを得た。更
に材を水洗した所、更に35mgのシロツプを得
た。両者を合せ、セフアデツクスG―25.2g
(水)によるゲルロ過を行い、0〜2ml画分を溶
媒留去し、水、エタノールから結晶化し化合物(2)
8の結晶51mg(収率95%)を得た。 〔化合物(2)8の物理的性質〕 〔α〕D+32.2゜(C=0.34,H2O) 元素分析: 分析値: C;42.23,H;6.24 C36H64O32・2H2Oとしての計算値:
C;42.11,H;6.24

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式: (式中、R1及びR2は水素原子またはアセチル
    基を示し、R3は水素原子またはベンジル基を示
    し、R4は水素原子、ベンジル基またはハロゲン
    原子を示し、mは0〜2の整数、nは0〜4の整
    数、m+nは2〜6の整数である。) で表わされるオリゴマンノシド。 2 m=2,n=4であり、R1,R2,R3及びR4
    が水素原子である特許請求の範囲第1項記載のオ
    リゴマンノシド。 3 m=2,n=4であり、R1及びR2が水素原
    子、R3及びR4がベンジル基である特許請求の範
    囲第1項記載のオリゴマンノシド。 4 m=2,n=4であり、R1及びR2がアセチ
    ル基、R3及びR4がベンジル基である特許請求の
    範囲第1項記載のオリゴマンノシド。 5 m=2,n=3であり、R1,R2,R3及びR4
    が水素原子である特許請求の範囲第1項記載のオ
    リゴマンノシド。 6 m=2,n=3であり、R1及びR2が水素原
    子、R3及びR4がベンジル基である特許請求の範
    囲第1項記載のオリゴマンノシド。 7 m=2,n=3であり、R1及びR2がアセチ
    ル基、R3及びR4がベンジル基である特許請求の
    範囲第1項記載のオリゴマンノシド。 8 m=0,n=4であり、R1,R3及びR4が水
    素原子である特許請求の範囲第1項記載のオリゴ
    マンノシド。 9 m=0,n=4であり、R1が水素原子、R3
    及びR4がベンジル基である特許請求の範囲第1
    項記載のオリゴマンノシド。 10 m=0,n=4であり、R1がアセチル基、
    R3及びR4がベンジル基である特許請求の範囲第
    1項記載のオリゴマンノシド。 11 m=0,n=3であり、R1,R3及びR4
    水素原子である特許請求の範囲第1項記載のオリ
    ゴマンノシド。 12 m=0,n=3であり、R1が水素原子、
    R3及びR4がベンジル基である特許請求の範囲第
    1項記載のオリゴマンノシド。 13 m=0,n=3であり、R1がアセチル基、
    R3及びR4がベンジル基である特許請求の範囲第
    1項記載のオリゴマンノシド。 14 m=0,n=2であり、R1,R3及びR4
    水素原子である特許請求の範囲第1項記載のオリ
    ゴマンノシド。 15 m=0,n=2であり、R1が水素原子、
    R3及びR4がベンジル基である特許請求の範囲第
    1項記載のオリゴマンノシド。 16 m=0,n=2であり、R1がアセチル基、
    R3及びR4がベンジル基である特許請求の範囲第
    1項記載のオリゴマンノシド。 17 m=2,n=0であり、R1及びR2がアセ
    チル基、R4がハロゲン原子である特許請求の範
    囲第1項記載のオリゴマンノシド。 18 m=2,n=0であり、R1,R2及びR4
    アセチル基である特許請求の範囲第1項記載のオ
    リゴマンノシド。 19 m=n=1であり、R1及びR2がアセチル
    基、R3及びR4が水素原子である特許請求の範囲
    第1項記載のオリゴマンノシド。 20 m=n=1であり、R1及びR2がアセチル
    基、R3及びR4がベンジル基である特許請求の範
    囲第1項記載のオリゴマンノシド。 21 式(5): (式中、Acはアセチル基、Bnはベンジル基を
    示す。)で表わされる化合物を脱アセチル化後、
    ベンジル化して式(6) で表わされる化合物を得、該化合物(6)を触媒存在
    下に加熱して式(8)で表わされる化合物を得、該化
    合物(8)を脱アセチル化して式(9)で表わされる化合
    物を得、 該化合物(9)を、式(7): (式中、Xはハロゲン原子を示す。) で表わされる化合物と反応させて式(10)で表わされ
    る化合物を得、該化合物を脱アセチル化して式(11)
    で表わされる化合物を得、該化合物を脱ベンジル
    化して式(12): で表わされる化合物を得ることを特徴とするオリ
    ゴマンノシドの製造法。 22 式(11): (式中、Bnはベンジル基を示す。) で表わされる化合物を、式(7): (式中、Acはアセチル基、Xはハロゲン原子
    を示す。) で表わされる化合物と反応させて式(13)で表わ
    される化合物を得、該化合物を脱アセチル化して
    式(14)で表わされる化合物を得、該化合物を脱
    ベンジル化して式(15): で表わされる化合物を得ることを特徴とするオリ
    ゴマンノシドの製造法。 23 式(14): (式中、Bnはベンジル基を示す。) で表わされる化合物を式(7): (式中、Acはアセチル基、Xはハロゲン原子
    を示す。) で表わされる化合物と反応させて式(16)で表わ
    される化合物を得、該化合物を脱アセチル化して
    式(17)で表わされる化合物を得、該化合物を脱
    ベンジル化して式(18): で表わされる化合物を得ることを特徴とするオリ
    ゴマンノシドの製造法。 24 式(2): (式中、Acはアセチル基、Xはハロゲン原子
    を示す。) で表わされる化合物を、式(9): (式中、Bnはベンジル基を示す。) で表わされる化合物と反応させて式(19)で表わ
    される化合物を得、該化合物を脱ベンジル化して
    式(20)で表わされる化合物を得、該化合物をア
    セチル化して式(21)で表わされる化合物を得、
    該化合物をハロゲン化水素で処理して式(22): で表わされる化合物を得ることを特徴とするオリ
    ゴマンノシドの製造法。 25 式(14): (式中、Bnはベンジル基を示す。) で表わされる化合物を、式(22): (式中、Acはアセチル基、Xはハロゲン原子
    を示す。) で表わされる化合物と反応させて式(23)で表わ
    される化合物を得、該化合物を脱アセチル化して
    式(24)で表わされる化合物を得、該化合物を脱
    ベンジル化して式(25): で表わされる化合物を得ることを特徴とするオリ
    ゴマンノシドの製造法。 26 式(17): (式中、Bnはベンジル基を示す。) で表わされる化合物を、式(22): (式中、Acはアセチル基、Xはハロゲン原子
    を示す。) で表わされる化合物と反応させて式(26)で表わ
    される化合物を得、該化合物を脱アセチル化して
    式(27)で表わされる化合物を得、該化合物を脱
    ベンジル化して式(28): で表わされる化合物を得ることを特徴とするオリ
    ゴマンノシドの製造法。
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