JPH0423385A - 銅張積層板の製造方法 - Google Patents

銅張積層板の製造方法

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JPH0423385A
JPH0423385A JP12363590A JP12363590A JPH0423385A JP H0423385 A JPH0423385 A JP H0423385A JP 12363590 A JP12363590 A JP 12363590A JP 12363590 A JP12363590 A JP 12363590A JP H0423385 A JPH0423385 A JP H0423385A
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copper
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copper foil
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Kyoko Adachi
恭子 足立
Michio Futakuchi
二口 通男
Yutaka Yaizumi
家泉 豊
Morihide Suzuki
鈴木 守英
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 この発明は表面にカップリング剤と界面活性剤を混合し
た表面処理剤塗膜が形成されたプリプレグを用いて製造
される銅張積層板の製造方法に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、銅張積層板の諸特性に対する要求は厳しくなって
きており、例えばプリント配線板の高密度化の要求によ
り信号線の巾は益々細くなり、プリント配線板の信頼性
確保のため、銅箔とプリプレグ間或いはブリプレク同土
間の高いしかも安定した接着強度が要求されている。
第4図及び第5図に従来のガラスエポキシプリプレグ製
造工程と製造装置の構成図を示す。第4図および第5図
において、1はカラスクロス、2はエポキシ樹脂液、3
は含浸槽、4は乾燥炉、8はカッタ、9はプリプレグて
あり、101はエポキシ樹脂含浸工程、102は乾燥工
程、105は裁断工程である。
従来のガラスエポキシ銅張積層板は、先ずエポキシ樹脂
含浸工程101においてカラスクロス1をエポキシ樹脂
液2を満たした含浸槽3に浸積し通過させ、乾燥工程1
02て乾燥炉4を通して硬化させ、Bステージ状態にし
て所定寸法にカッタ8で裁断したプリプレグ9を所定枚
数重ね合わせ、その重ね合わせたプリプレグ9の片面ま
たは両面に銅箔を積層して加熱加圧することにより接着
成形して製造される。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来のガラスエポキシ鋼張積層板は以上のようにして製
造されているので、プリプレグ9の表面処理がなされて
いながったため、このプリプレグ9を用いたエポキシ銅
張積層板の銅箔とプリプレグ9間の密着力およびプリプ
レグ9同土間の密着力が弱く、はんだ耐熱試験でふくれ
やはがれを生したり、密着力にばらつきが生じることが
あり、銅張積層板の信頼性を損うという問題かあった。
この発明は、上記のような従来例の問題点を解消するた
めになされたもので、プリプレグの表面に均一にカップ
リング剤と界面活性剤を混合した表面処理剤塗膜を形成
し、このプリプレグと銅箔を積層して成形することによ
り、銅張積層板の銅箔とプリプレグ間およびプリプレグ
同土間の接着力を向上させ、その接着力のばらつきを少
なくすることかできる銅張積層板の製造方法を提供する
ことを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
このため、この発明に係る銅張積層板の製造方法は、樹
脂を含浸乾燥したプリプレグ基材にカップリング剤と界
面活性剤を混合した表面処理溶液を塗布乾燥し、前記基
材の表面にプリプレグ重量に対して0.001重量%か
ら0.1重量%の表面処理剤塗膜を被着してプリプレグ
を形成し、このプリプレグと銅箔を積層して成形するこ
とにより前記の目的を達成しようとするものである。
〔作用〕
以上のような構成としたこの発明に係る銅張積層板の製
造方法は、表面にカップリング剤と界面活性剤を混合し
た表面処理剤塗膜を被着したプリプレグと銅箔を積層し
て成形するので、銅張積層板の銅箔とプリプレグ間およ
びプリプレグ同土間の接着強度が著しく向上する。
(実施例〕 以下に、この発明の一実施例を図に基ついて説明する。
(構成) 第1図はこの発明の実施例の銅張積層板に用いるプリプ
レグの製造工程図、第2図はこの発明の銅張積層板に用
いるプリプレグ゛の部分断面図、第3図は、上記のプリ
プレグの製造装置構成図である。なお、従来例と同一ま
たは相当部分は同一符号て表わす。
第1図ないし第3図において、5は表面処理液塗布槽、
6はカップリンク剤に界面活性・剤を混合した表面処理
液、7は乾燥炉、9aはプリプレグ重量に対して0.0
01重量%から0.1重量%の表面処理剤塗膜Aを表面
に形成されたプリプレグ、Gはプリプレグ基材であり、
103は表面処理液6の塗布工程、104は乾燥工程で
ある。
(動作) 以上の構成に基づいて動作を説明する。
ガラスクロス1にエポキシ樹脂を含浸乾燥するまては従
来例と同様なので説明を省略する。
第1図および第2図において、エポキシ樹脂を含浸乾燥
してBステージ状態にしたプリプレグ基材Gを塗布工程
103において塗布槽5の表面処理液、即ち、何れも重
量%でカップリング剤(例えば、信越化学社製KBM−
403)3%、エタノール60%、水37.5%、酢酸
05%を混合し、こむに0.5%のふっそ渠界面活性剤
(例えばスリーエム社製フロラードFC−43)を加え
て1時間攪拌した表面処理液6中に浸漬して、プリプレ
グ基材0表面に表面処理液6を塗布する。続いて、乾燥
工程104において、110℃の乾燥炉7で15分間加
熱し、塗布された表面処理液6の稀釈溶剤を揮発乾燥す
る。このプリプレグ基材Gを裁断工程105てカッタ8
によって所定のサイズに裁断してプリプレグ9aか製造
される。このプリプレグ9aを所定板数重ねた上に銅箔
(図示せず)を積層して加圧加熱することにより、ガラ
スエポキシ銅張積層板が成形製造される。
このようにして製造された銅張積層板と従来の銅張積層
板のプリプレグ間の引きはかし強さと、はんだ耐熱性試
験をJ I 5−C−6481に準拠して行った結果の
比較データを下記の表に示す。
以上で明らかなように、この発明によって製造されたガ
ラスエポキシ銅張積層板の引きはかし強さとはんだ耐熱
性が、従来品に比べて著しく向上することがわかる。
なお、表面処理液の組成は、カップリング剤に対する界
面活性剤の重量比が0.01%から0.5%とするのが
好適である。
また、プリプレグ9Aに対する表面処理剤塗膜Aの付着
量をプリプレグ9八重量に対して0.001重量%から
0.1重量%としたのは、 0.001重1%以下では
少なすぎてプリプレグ9A上に均一な表面処理剤塗膜A
を形成できず、 0.1重量%以上では表面処理剤塗膜
Aが厚くなって塗膜内で凝集破壊が起り、逆に接着強さ
が低下するためである。
さらに、表面処理液に使用するカップリング剤は、上述
のように、シランカップリング剤を用いるか、これに代
えてチターネートカップリング剤を用いても良く、或い
あは両方のカップリング剤を適宜混合したものを用いて
も良い。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明によれば、樹脂を含浸乾
燥したプリプレグ基材にカップリング剤と界面活性剤を
混合した表面処理溶液を塗布し乾燥して、表面にプリプ
レグの重量に対して0.001重量%から0.1重量%
の表面処理剤塗膜を被着して形成したプリプレグを用い
て銅張積層板を製造したので、接着された銅張積層板の
銅箔とプリプレグ間およびプリプレグ同土間の接着力が
格段に強化され、銅張積層板の品質を著しく向上させる
ことができる。こわによって、プリント配線板の品質と
信頼性を著しく向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例の銅張積層板に用いるプリプ
レグの製造工程図、第2図はこの発明の銅張積層板に用
いるプリプレグの部分断面図、第3図は同しく上記のプ
リプレグの製造装置構成図、第4図は従来の銅張積層板
に用いるプリプレグの製造工程図、第5図は同しく製造
装置構成図である。 5は表面処理液塗布槽、6は表面処理液、7は乾燥炉、
9,9aはプリプレグ、103は表面処理液の塗布工程
、104は乾燥工程、Aは表面処理剤塗膜、Gはプリプ
レグ基材である。 なお、図中、同一または相当部分は同一符号て表わす。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 樹脂を含浸乾燥したプリプレグ基材にカップリング剤と
    界面活性剤を混合した表面処理溶液を塗布乾燥し、前記
    基材の表面にプリプレグ重量に対して0.001重量%
    から0.1重量%の表面処理剤塗膜を被着してプリプレ
    グを形成し、このプリプレグと銅箔を積層して得ること
    を特徴とする銅張積層板の製造方法。
JP12363590A 1990-05-14 1990-05-14 銅張積層板の製造方法 Expired - Lifetime JPH0728109B2 (ja)

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JPH0423385A true JPH0423385A (ja) 1992-01-27
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002076621A (ja) * 2000-08-31 2002-03-15 Elna Co Ltd 多層配線基板とその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002076621A (ja) * 2000-08-31 2002-03-15 Elna Co Ltd 多層配線基板とその製造方法
JP4522560B2 (ja) * 2000-08-31 2010-08-11 エルナー株式会社 多層配線基板とその製造方法

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