JPH04229293A - 染料熱転写に用いる補助受容素子の下塗り層 - Google Patents
染料熱転写に用いる補助受容素子の下塗り層Info
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- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、熱染料転写の受容素子
に用いる下塗り層に関する。より詳細には、本発明は任
意の形をした本受容素子へ熱染料転写するときに用いる
補助受容素子に下塗り層を適用する技術に関する。
に用いる下塗り層に関する。より詳細には、本発明は任
意の形をした本受容素子へ熱染料転写するときに用いる
補助受容素子に下塗り層を適用する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、カラービデオカメラで電気的につ
くり出される画像をプリントすることを目的とする熱転
写系が開発された。開発された方法のひとつによれば、
まず色フィルターによって電気的な画像の色を分けて、
それぞれの色の画像を電気信号に変換する。その後、こ
れらの電気信号からシアン、マゼンタおよびイエローの
電気信号をつくり出して電気信号をサーマルプリンター
へ送る。サーマルプリンターにおいてプリントするため
に、シアン、マゼンタおよびイエローの染料供与素子は
染料受容素子に重ね合わせる。これら2つの素子はサー
マルプリントヘッドと熱盤ローラーとの間に挿入される
。線形サーマルプリントヘッドによって、染料供与シー
トの裏側から熱を与える。サーマルプリントヘッドは多
くの加熱素子を有しており、シアン、マゼンタおよびイ
エローの信号に応じて断続的に加熱する。こうして、画
面上の画像に対応したカラーハードコピーが得られる。 この工程およびこの工程を実施する為の装置はブラウン
スタイン(Brownstein)の「サーマルプリン
ト装置操縦法およびそのための装置」と題する米国特許
第4,621,271号(1986年11月4日付)明
細書にさらに詳しく記載されている。
くり出される画像をプリントすることを目的とする熱転
写系が開発された。開発された方法のひとつによれば、
まず色フィルターによって電気的な画像の色を分けて、
それぞれの色の画像を電気信号に変換する。その後、こ
れらの電気信号からシアン、マゼンタおよびイエローの
電気信号をつくり出して電気信号をサーマルプリンター
へ送る。サーマルプリンターにおいてプリントするため
に、シアン、マゼンタおよびイエローの染料供与素子は
染料受容素子に重ね合わせる。これら2つの素子はサー
マルプリントヘッドと熱盤ローラーとの間に挿入される
。線形サーマルプリントヘッドによって、染料供与シー
トの裏側から熱を与える。サーマルプリントヘッドは多
くの加熱素子を有しており、シアン、マゼンタおよびイ
エローの信号に応じて断続的に加熱する。こうして、画
面上の画像に対応したカラーハードコピーが得られる。 この工程およびこの工程を実施する為の装置はブラウン
スタイン(Brownstein)の「サーマルプリン
ト装置操縦法およびそのための装置」と題する米国特許
第4,621,271号(1986年11月4日付)明
細書にさらに詳しく記載されている。
【0003】上記の熱染料転写技術は、高分子受容シー
トに像を形成する手段としてかなり確立されているもの
である。しかし、サーマルヘッド、レーザー、フラッシ
ュなどの熱プリント機器を用いてこの方法を実施しよう
とする場合には、受容素子の厚さ、平面性、柔軟性や受
容素子の形状について幾分厳しい物理的制約がある。か
かる制約があるために、この方法は非平面性材料上に染
料を熱転写するときには用いがたい。したがって、受容
素子の厚さ、平面性、形状、柔軟性によって制約を受け
ない(仮に制約を受けるとしてもごくわずかである)熱
プリント機器による染料熱転写法を開発することが望ま
れていた。
トに像を形成する手段としてかなり確立されているもの
である。しかし、サーマルヘッド、レーザー、フラッシ
ュなどの熱プリント機器を用いてこの方法を実施しよう
とする場合には、受容素子の厚さ、平面性、柔軟性や受
容素子の形状について幾分厳しい物理的制約がある。か
かる制約があるために、この方法は非平面性材料上に染
料を熱転写するときには用いがたい。したがって、受容
素子の厚さ、平面性、形状、柔軟性によって制約を受け
ない(仮に制約を受けるとしてもごくわずかである)熱
プリント機器による染料熱転写法を開発することが望ま
れていた。
【0004】特開昭62−66997号公報(日東電気
)および特開昭60−203494号(リコー)には、
熱転写によって透明な受容素子上に染料像を形成し、受
容素子を材料(台板)に接着する方法が開示されている
。この方法により、熱染料転写像をさまざまな材料上に
形成することが可能になった。しかしながら、粘着した
受容素子の表面がでこぼこになるためこの方法は実用的
ではなかった。
)および特開昭60−203494号(リコー)には、
熱転写によって透明な受容素子上に染料像を形成し、受
容素子を材料(台板)に接着する方法が開示されている
。この方法により、熱染料転写像をさまざまな材料上に
形成することが可能になった。しかしながら、粘着した
受容素子の表面がでこぼこになるためこの方法は実用的
ではなかった。
【0005】欧州特許第0 266 430号(大日本
印刷)には、任意の材料上に染料転写像を形成する方法
が開示されている。この方法は、まず、透明なシートの
染料受容層上に像を形成し、支持体から染料像受容層を
分離し、そして、染料受容層を任意の材料上に接着する
工程からなる。この方法によって、薄い受容層を材料上
に接着するには、像受容層を支持体から分離しなくては
ならない。また、接着層によって表面がでこぼこになる
ため実用的ではなく、さらに材料に像を形成した層が永
久に接着したままになるという問題もある。
印刷)には、任意の材料上に染料転写像を形成する方法
が開示されている。この方法は、まず、透明なシートの
染料受容層上に像を形成し、支持体から染料像受容層を
分離し、そして、染料受容層を任意の材料上に接着する
工程からなる。この方法によって、薄い受容層を材料上
に接着するには、像受容層を支持体から分離しなくては
ならない。また、接着層によって表面がでこぼこになる
ため実用的ではなく、さらに材料に像を形成した層が永
久に接着したままになるという問題もある。
【0006】カツクーツク(Kaszczuk)とムル
ク(Mruk)の米国特許出願第519,603号(1
990年5月4日出願)には、任意の形状を有する材料
上に像形成層を永久に接着することなく熱転写によって
像を形成する方法が開示されている。この方法では、支
持体と分離染料像受容層とからなる補助受容素子を使用
することが必要である。染料像受容層に通常の方法で像
を形成した後、補助受容層を支持体から分離して、任意
の形状を有する本受容素子と接触するように設置する。 染料像は熱によって、補助受容素子から本受容素子へと
転写する。
ク(Mruk)の米国特許出願第519,603号(1
990年5月4日出願)には、任意の形状を有する材料
上に像形成層を永久に接着することなく熱転写によって
像を形成する方法が開示されている。この方法では、支
持体と分離染料像受容層とからなる補助受容素子を使用
することが必要である。染料像受容層に通常の方法で像
を形成した後、補助受容層を支持体から分離して、任意
の形状を有する本受容素子と接触するように設置する。 染料像は熱によって、補助受容素子から本受容素子へと
転写する。
【0007】米国特許出願第519,603号には好ま
しい補助受容素子が開示されている。この受容素子は、
紙支持体、その紙支持体上に押し出しコーティングされ
た下塗りされていないポリオレフィン層、およびポリオ
レフィン層上にコーティングされた染料像受容層からな
る。ポリオレフィン層は支持体への接着を和らげるため
、補助受容素子から支持体のみを剥がすことができる。 また、染料を本受容素子へ転写しているときに、ポリオ
レフィン層は適当な強度と寸法安定性を残存層に与える
。
しい補助受容素子が開示されている。この受容素子は、
紙支持体、その紙支持体上に押し出しコーティングされ
た下塗りされていないポリオレフィン層、およびポリオ
レフィン層上にコーティングされた染料像受容層からな
る。ポリオレフィン層は支持体への接着を和らげるため
、補助受容素子から支持体のみを剥がすことができる。 また、染料を本受容素子へ転写しているときに、ポリオ
レフィン層は適当な強度と寸法安定性を残存層に与える
。
【0008】ポリオレフィン層でコーティングされた紙
シートを上記の補助受容素子の支持体として使用すると
きは、ポリオレフィン層とそれに接する染料受容層をし
っかりと接着することが重要である。もし、接着が弱け
れば、紙支持体をポリオレフィン表面から剥がすときに
染料像受容層もポリオレフィン層から剥離してしまう。 また、再転写することができる程度に十分に結合させた
積層シートを作製することは不可能かもしれない。した
がって、ポリオレフィン表面にしっかりと接着した下塗
り層を開発する必要性がある。
シートを上記の補助受容素子の支持体として使用すると
きは、ポリオレフィン層とそれに接する染料受容層をし
っかりと接着することが重要である。もし、接着が弱け
れば、紙支持体をポリオレフィン表面から剥がすときに
染料像受容層もポリオレフィン層から剥離してしまう。 また、再転写することができる程度に十分に結合させた
積層シートを作製することは不可能かもしれない。した
がって、ポリオレフィン表面にしっかりと接着した下塗
り層を開発する必要性がある。
【0009】従来の下塗り層はこの点では十分とはいえ
なかった。塩化ポリビニリデン誘導体が染料受容素子の
下塗り層として使用されてきたが(米国特許第4,74
8,150号)、接着力がかなり弱くて実際に使用する
には難がある。金属アルコキシド(例えばチタニウム
テトラーn−ブトキシドなど)およびアルコキシシラン
誘導高分子は概してより効果的な下塗り層ということが
できるが、これらの材料は加水分解を受け、高再現性で
コーティングすることが困難であるという問題を有する
。
なかった。塩化ポリビニリデン誘導体が染料受容素子の
下塗り層として使用されてきたが(米国特許第4,74
8,150号)、接着力がかなり弱くて実際に使用する
には難がある。金属アルコキシド(例えばチタニウム
テトラーn−ブトキシドなど)およびアルコキシシラン
誘導高分子は概してより効果的な下塗り層ということが
できるが、これらの材料は加水分解を受け、高再現性で
コーティングすることが困難であるという問題を有する
。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ポリオレフィン層と染
料像受容層とを接着したまま、ポリオレフィンと染料像
受容層から支持体を除去することができるように、支持
体上にコーティングしたポリオレフィン層と高分子染料
像受容層とが十分に接着している、補助染料受容素子を
開発することを、本発明の目的とする。
料像受容層とを接着したまま、ポリオレフィンと染料像
受容層から支持体を除去することができるように、支持
体上にコーティングしたポリオレフィン層と高分子染料
像受容層とが十分に接着している、補助染料受容素子を
開発することを、本発明の目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】かかる目的は、表面に分
離可能なポリオレフィン層を有している支持体、染料像
受容層、およびポリオレフィン層と染料像受容層との間
に存在する下塗り層からなる染料熱転写に用いる染料受
容素子であって、下塗り層が架橋したポリ(酢酸ビニル
−コービニルアルコール)からなる染料受容素子を提供
する本発明によって達成された。
離可能なポリオレフィン層を有している支持体、染料像
受容層、およびポリオレフィン層と染料像受容層との間
に存在する下塗り層からなる染料熱転写に用いる染料受
容素子であって、下塗り層が架橋したポリ(酢酸ビニル
−コービニルアルコール)からなる染料受容素子を提供
する本発明によって達成された。
【0012】補助染料像受容素子は、任意の形をした材
料に染料像を形成する工程に使用する。この工程は、(
a)補助染料受容素子の染料像受容層上に熱転写によっ
て染料像を転写し、(b)支持体から染料像受容層を分
離し、(c)染料像を有する分離した染料像受容層を任
意の形を有する本受容素子に接するように設置し、(d
)染料像受容層から染料像を熱によって本受容素子に転
写し、そして(e)工程(d)で得られた像を有する本
受容素子から染料像受容層を除去する工程からなる。
料に染料像を形成する工程に使用する。この工程は、(
a)補助染料受容素子の染料像受容層上に熱転写によっ
て染料像を転写し、(b)支持体から染料像受容層を分
離し、(c)染料像を有する分離した染料像受容層を任
意の形を有する本受容素子に接するように設置し、(d
)染料像受容層から染料像を熱によって本受容素子に転
写し、そして(e)工程(d)で得られた像を有する本
受容素子から染料像受容層を除去する工程からなる。
【0013】効率よく実施するために、上記の転写法の
すべての工程に制限的な事項が幾つかある。まず、染料
は補助受容素子へ効率よく転写することができるもので
なくてはならない。しかし、本受容素子へ再転写するこ
とができる程度に付着していなくてはならない。支持体
を補助受容素子からきれいに分離する(第1分離工程)
ことができるようにするためには、接着力はある程度弱
くなくてはならない。補助受容素子から支持体を除いた
残りの層は、お互いに強く結合していて、単一のユニッ
トとして運ぶことができるようによく凝集していなくて
はならない。そして、本受容素子として使用する材料が
さまざまな表面(局面、不均一面や平面など)を有して
いても、それに滑らかに設置することができるものでな
くてはならない。補助受容素子と本受容素子との接触は
、再転写中に滑ったり分離したりしない程度でなくては
ならない。再転写後、融合染料像のみが本受容素子に残
るように、本受容素子から補助受容素子の残存層を完全
にかつ容易に除去することができなくてはならない。
すべての工程に制限的な事項が幾つかある。まず、染料
は補助受容素子へ効率よく転写することができるもので
なくてはならない。しかし、本受容素子へ再転写するこ
とができる程度に付着していなくてはならない。支持体
を補助受容素子からきれいに分離する(第1分離工程)
ことができるようにするためには、接着力はある程度弱
くなくてはならない。補助受容素子から支持体を除いた
残りの層は、お互いに強く結合していて、単一のユニッ
トとして運ぶことができるようによく凝集していなくて
はならない。そして、本受容素子として使用する材料が
さまざまな表面(局面、不均一面や平面など)を有して
いても、それに滑らかに設置することができるものでな
くてはならない。補助受容素子と本受容素子との接触は
、再転写中に滑ったり分離したりしない程度でなくては
ならない。再転写後、融合染料像のみが本受容素子に残
るように、本受容素子から補助受容素子の残存層を完全
にかつ容易に除去することができなくてはならない。
【0014】本発明の補助染料受容素子は、表面に分離
可能なポリオレフィン層を有する支持体、染料像受容層
、およびポリオレフィン層と染料像受容層との間に存在
する下塗り層からなる。本発明の補助染料受容素子の染
料像受容層は、例えば、ポリカーボネート、ポリカプロ
ラクトン、または脂肪族ジオールと芳香族または脂肪族
ジカルボン酸との直鎖ポリエステルからなっていてもよ
い。この他の当業者に自明の高分子も受容素子に使用し
うる。共重合体や高分子ブレンドも単一層として、また
は保護オーバーコートや第2の受容オーバーコートとと
もに使用することができる。本発明の好ましい実施態様
においては、補助染料受容素子はポリカプロラクトン受
容オーバーコートからなる。補助染料像受容層高分子は
、染料に対する適合性があることと本受容素子への永久
接着性がないことの2点のバランスをとって選択しなく
てはならない。染料像受容層の量は、初期の目的を効果
的に達成するものであればいかなる量であってもよい。 概して0.5〜5g/m2とすれば良好な結果が得られ
る。
可能なポリオレフィン層を有する支持体、染料像受容層
、およびポリオレフィン層と染料像受容層との間に存在
する下塗り層からなる。本発明の補助染料受容素子の染
料像受容層は、例えば、ポリカーボネート、ポリカプロ
ラクトン、または脂肪族ジオールと芳香族または脂肪族
ジカルボン酸との直鎖ポリエステルからなっていてもよ
い。この他の当業者に自明の高分子も受容素子に使用し
うる。共重合体や高分子ブレンドも単一層として、また
は保護オーバーコートや第2の受容オーバーコートとと
もに使用することができる。本発明の好ましい実施態様
においては、補助染料受容素子はポリカプロラクトン受
容オーバーコートからなる。補助染料像受容層高分子は
、染料に対する適合性があることと本受容素子への永久
接着性がないことの2点のバランスをとって選択しなく
てはならない。染料像受容層の量は、初期の目的を効果
的に達成するものであればいかなる量であってもよい。 概して0.5〜5g/m2とすれば良好な結果が得られ
る。
【0015】本発明の好ましい実施態様においては、補
助受容素子の染料像受容層はポリカーボネートからなる
。本明細書において「ポリカーボネート」とは、カルボ
ン酸とグリコールまたは二価のフェノールのポリエステ
ルを意味する。このようなグリコールまたは二価のフェ
ノールとしては、p−キシレングリコール、2,2−ビ
ス(4−オキシフェニル)プロパン、ビス(4−オキシ
フェニル)メタン、1,1−ビス(4−オキシフェニル
)エタン、1,1−ビス(オキシフェニル)ブタン、1
,1ービス(オキシフェニル)シクロヘキサン、2,2
−ビス(オキシフェニル)ブタンなどを挙げることがで
きる。特に好ましい実施態様においては、平均分子量が
25,000のビスフェノール−Aポリカーボネートを
使用する。好ましいポリカーボネートとして、ジェネラ
ルエレクトリックLEXANTMやバイヤ−AG MA
CROLON 5700TMを挙げることができる。
助受容素子の染料像受容層はポリカーボネートからなる
。本明細書において「ポリカーボネート」とは、カルボ
ン酸とグリコールまたは二価のフェノールのポリエステ
ルを意味する。このようなグリコールまたは二価のフェ
ノールとしては、p−キシレングリコール、2,2−ビ
ス(4−オキシフェニル)プロパン、ビス(4−オキシ
フェニル)メタン、1,1−ビス(4−オキシフェニル
)エタン、1,1−ビス(オキシフェニル)ブタン、1
,1ービス(オキシフェニル)シクロヘキサン、2,2
−ビス(オキシフェニル)ブタンなどを挙げることがで
きる。特に好ましい実施態様においては、平均分子量が
25,000のビスフェノール−Aポリカーボネートを
使用する。好ましいポリカーボネートとして、ジェネラ
ルエレクトリックLEXANTMやバイヤ−AG MA
CROLON 5700TMを挙げることができる。
【0016】高質の像を転写することができるようにす
るために、補助受容素子へ像を転写しているときに十分
な強度と寸法安定性と断熱効果を補助受容素子に付与す
るために支持体を使用する。かかる性質を付与すること
ができ、しかもポリオレフィン層から比較的容易に分離
することができる材料であればいかなるものを使用して
もよい。受容層から支持体を剥がすことができるように
穏やかに接着するために、セルロースをベースにした紙
ストック上に押出被覆した下塗りしていないポリオレフ
ィン層を補助受容素子に使用するのが好ましい。その中
でも、凝集強度が高くて裂けにくいポリプロピレンまた
はポリプロピレン誘導層を用いるのが特に好ましい。ま
た、ポリオレフィンの共重合体も使用することができる
。ポリプロピレンとポリエチレンとのブレンドが特に好
ましい。かかるポリオレフィン層は、本受容素子へ染料
像を再転写するときに適度の強度と寸法安定性を付与し
、補助染料像受容層への染料転写中(第1転写工程中)
に効果を発揮した後、補助受容素子の大部分(支持体)
を除去することができるようにする。支持体の除去した
とき、残りの層はより柔軟であるため、本受容素子の形
によりよく適合する。このため再転写によって本受容素
子上に高質の像を形成することができる。
るために、補助受容素子へ像を転写しているときに十分
な強度と寸法安定性と断熱効果を補助受容素子に付与す
るために支持体を使用する。かかる性質を付与すること
ができ、しかもポリオレフィン層から比較的容易に分離
することができる材料であればいかなるものを使用して
もよい。受容層から支持体を剥がすことができるように
穏やかに接着するために、セルロースをベースにした紙
ストック上に押出被覆した下塗りしていないポリオレフ
ィン層を補助受容素子に使用するのが好ましい。その中
でも、凝集強度が高くて裂けにくいポリプロピレンまた
はポリプロピレン誘導層を用いるのが特に好ましい。ま
た、ポリオレフィンの共重合体も使用することができる
。ポリプロピレンとポリエチレンとのブレンドが特に好
ましい。かかるポリオレフィン層は、本受容素子へ染料
像を再転写するときに適度の強度と寸法安定性を付与し
、補助染料像受容層への染料転写中(第1転写工程中)
に効果を発揮した後、補助受容素子の大部分(支持体)
を除去することができるようにする。支持体の除去した
とき、残りの層はより柔軟であるため、本受容素子の形
によりよく適合する。このため再転写によって本受容素
子上に高質の像を形成することができる。
【0017】本発明の架橋下塗り層のポリ(酢酸ビニル
−コービニルアルコール)成分は下記の構造を有する。
−コービニルアルコール)成分は下記の構造を有する。
【0018】
【0019】上式において、nは90〜60モル%であ
るのが好ましく、80〜70モル%であるのが最も好ま
しい。mは10〜40モル%であるのが好ましく、20
〜30モル重量%であるのが最も好ましい。なお分子量
は制限的ではない。
るのが好ましく、80〜70モル%であるのが最も好ま
しい。mは10〜40モル%であるのが好ましく、20
〜30モル重量%であるのが最も好ましい。なお分子量
は制限的ではない。
【0020】高分子のビニルアルコール部分は、通常ジ
アルデヒドで架橋されていて、分子内ヘミアセタール結
合を形成している。この他の架橋剤として、ジイソシア
ネート、エポキシドや二価のフェノールがある。これら
の架橋反応は当業者に公知であり、例えば Butva
r Properties and Uses,Tec
h. Bulletin 8084, .17ff,
モンサント、セントルイス(1989)に記載されてい
る。 架橋反応は、酸触媒によって開始し、反応が実質的に完
結するまで続けるのが好ましい。架橋は、65〜120
℃で1〜5分間接触させる下塗り層のコーティング操作
中に行うのが効率的である。なお、架橋はときによって
室温で起こることもあるが比較的困難を伴うことがある
。
アルデヒドで架橋されていて、分子内ヘミアセタール結
合を形成している。この他の架橋剤として、ジイソシア
ネート、エポキシドや二価のフェノールがある。これら
の架橋反応は当業者に公知であり、例えば Butva
r Properties and Uses,Tec
h. Bulletin 8084, .17ff,
モンサント、セントルイス(1989)に記載されてい
る。 架橋反応は、酸触媒によって開始し、反応が実質的に完
結するまで続けるのが好ましい。架橋は、65〜120
℃で1〜5分間接触させる下塗り層のコーティング操作
中に行うのが効率的である。なお、架橋はときによって
室温で起こることもあるが比較的困難を伴うことがある
。
【0021】架橋したポリ酢酸ビニル下塗り層のコーテ
ィング量は、0.02〜0.6g/m2とするのが好ま
しく、0.05〜0.2g/m2とするのが最も好まし
い。
ィング量は、0.02〜0.6g/m2とするのが好ま
しく、0.05〜0.2g/m2とするのが最も好まし
い。
【0022】本受容素子にはさまざまな高分子を使用す
ることができる。これらの材料の化学構造や物理的性質
には共通性がなく、互いに極めて異なったものであるか
も知れない。本受容素子に使用するのが好ましい高分子
として、ポリイミド、ポリアリーレイト、ポリアセター
ル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリエーテル
スルホンやポリエーテルケトンが挙げられる。
ることができる。これらの材料の化学構造や物理的性質
には共通性がなく、互いに極めて異なったものであるか
も知れない。本受容素子に使用するのが好ましい高分子
として、ポリイミド、ポリアリーレイト、ポリアセター
ル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリエーテル
スルホンやポリエーテルケトンが挙げられる。
【0023】補助受容素子から本受容素子へ染料像を転
写するのに必要な時間は、160〜220℃において1
.0〜3.0分である。205℃で2分間処理すると良
好な結果が得られる。
写するのに必要な時間は、160〜220℃において1
.0〜3.0分である。205℃で2分間処理すると良
好な結果が得られる。
【0024】本発明の補助染料受容素子とともに使用す
る染料供与素子は、表面に染料含有層を有する支持体か
らなる。熱染料転写に使用するのに適するものとして知
られている染料は、本発明の工程に有効に使用すること
ができるものと考えられる。本発明で使用することがで
きる染料は、可視光を吸収する既に合成された染料に限
らない。したがって、赤外線や紫外線を吸収する材料も
使用することができる。2成分からなる染料調製系も本
発明で使用することができる。使用するのに適した染料
として、アントラキノン染料(住友化学製 Sumik
alon Violet RSTM、 三菱化学製 D
ianix Fast Violet 3R−FSTM
、 日本化薬 Kayalon Polyol Bri
lliant Blue N−BGMTMとKST B
lack 146TMなど)や、 アゾ染料(日本化薬
製 KST Black KRTM、 Kayalon
Polyol Brilliant Blue BM
TM、 Kayalon Polyol Dark B
lue 2BMTM、 住友化学製 Sumikaro
n Diazo Blue 5GTM、 三井東圧製
Miktazol Black 5GHTMなど)や、
ダイレクト染料(三菱化学製 Direct Dark
Green BTM、 日本化薬製品 Direct
Fast Black DTMとDirect Br
own MTMなど)や、 酸染料(日本化薬製 Ka
yanol Milling Cyanine 5RT
Mなど)や、塩基性染料(住友化学製 Sumicac
rylBlue 6GTM、 保土ケ谷化学工業製 A
izenMalachite GreenTMなど)が
挙げられる。また、
る染料供与素子は、表面に染料含有層を有する支持体か
らなる。熱染料転写に使用するのに適するものとして知
られている染料は、本発明の工程に有効に使用すること
ができるものと考えられる。本発明で使用することがで
きる染料は、可視光を吸収する既に合成された染料に限
らない。したがって、赤外線や紫外線を吸収する材料も
使用することができる。2成分からなる染料調製系も本
発明で使用することができる。使用するのに適した染料
として、アントラキノン染料(住友化学製 Sumik
alon Violet RSTM、 三菱化学製 D
ianix Fast Violet 3R−FSTM
、 日本化薬 Kayalon Polyol Bri
lliant Blue N−BGMTMとKST B
lack 146TMなど)や、 アゾ染料(日本化薬
製 KST Black KRTM、 Kayalon
Polyol Brilliant Blue BM
TM、 Kayalon Polyol Dark B
lue 2BMTM、 住友化学製 Sumikaro
n Diazo Blue 5GTM、 三井東圧製
Miktazol Black 5GHTMなど)や、
ダイレクト染料(三菱化学製 Direct Dark
Green BTM、 日本化薬製品 Direct
Fast Black DTMとDirect Br
own MTMなど)や、 酸染料(日本化薬製 Ka
yanol Milling Cyanine 5RT
Mなど)や、塩基性染料(住友化学製 Sumicac
rylBlue 6GTM、 保土ケ谷化学工業製 A
izenMalachite GreenTMなど)が
挙げられる。また、
【0025】
【0026】で表される染料や米国特許第4,541,
830号に記載される染料も使用することができる。上
記の染料は単独でも組み合わせても使用できる。染料の
使用量は0.05〜1g/m2とすることができる。ま
た、疎水性染料を使用するのが好ましい。
830号に記載される染料も使用することができる。上
記の染料は単独でも組み合わせても使用できる。染料の
使用量は0.05〜1g/m2とすることができる。ま
た、疎水性染料を使用するのが好ましい。
【0027】染料供与素子中の染料は高分子結合剤中に
分散させる。かかる高分子結合剤としては、セルロース
誘導体(セルロースアセテートヒドロジェンフタレート
、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピ
オネート、セルロースアセテートブチレート、セルロー
ストリアセテートなど)、ポリカーボネート、ポリ(ス
チレンーコーアクリロニトリル)、ポリ(スルホン)や
ポリ(フェニレンオキシド)などが挙げられる。 結合剤は0.1〜5g/m2で使用することができる。
分散させる。かかる高分子結合剤としては、セルロース
誘導体(セルロースアセテートヒドロジェンフタレート
、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピ
オネート、セルロースアセテートブチレート、セルロー
ストリアセテートなど)、ポリカーボネート、ポリ(ス
チレンーコーアクリロニトリル)、ポリ(スルホン)や
ポリ(フェニレンオキシド)などが挙げられる。 結合剤は0.1〜5g/m2で使用することができる。
【0028】染料供与素子の染料層は、グラビア印刷な
どのプリント法によってプリントされていても、支持体
上にコーティングされていてもよい。
どのプリント法によってプリントされていても、支持体
上にコーティングされていてもよい。
【0029】染料供与素子の裏面には、プリントヘッド
が染料供与層に粘着するのを防止するために滑層をコー
ティングすることができる。かかる滑層は、界面活性剤
、液体潤滑剤、固体潤滑剤やこれらの混合物といった潤
滑剤を含有していてもよい。また高分子結合剤は使用し
てもしなくてもよい。潤滑剤として好ましいのは、オイ
ル、100℃以下で溶融する半結晶質の有機固体(例え
ば、ポリ(ビニルステアレート)、密蝋、過フッ化アル
キルエステルポリエーテル、ポリ(カプロラクトン)、
カーボワックスやポリ(エチレングリコール)など)で
ある。滑層に適した高分子結合剤として、ポリ(ビニル
アルコールーコーブチラール)、ポリ(ビニルアルコー
ルーコーアセタール)、ポリ(スチレン)、ポリ(ビニ
ルアセテート)、セルロースアセテートブチラート、セ
ルロースアセテートやエチルセルロースが挙げられる。
が染料供与層に粘着するのを防止するために滑層をコー
ティングすることができる。かかる滑層は、界面活性剤
、液体潤滑剤、固体潤滑剤やこれらの混合物といった潤
滑剤を含有していてもよい。また高分子結合剤は使用し
てもしなくてもよい。潤滑剤として好ましいのは、オイ
ル、100℃以下で溶融する半結晶質の有機固体(例え
ば、ポリ(ビニルステアレート)、密蝋、過フッ化アル
キルエステルポリエーテル、ポリ(カプロラクトン)、
カーボワックスやポリ(エチレングリコール)など)で
ある。滑層に適した高分子結合剤として、ポリ(ビニル
アルコールーコーブチラール)、ポリ(ビニルアルコー
ルーコーアセタール)、ポリ(スチレン)、ポリ(ビニ
ルアセテート)、セルロースアセテートブチラート、セ
ルロースアセテートやエチルセルロースが挙げられる。
【0030】滑層に使用することができる潤滑剤の量は
、潤滑剤の種類に大きく依存するが、一般には0.00
1〜2g/m2である。高分子結合剤を使用する場合は
、その高分子結合剤の0.1〜50重量%、好ましくは
0.5〜40重量%の潤滑剤を使用する。
、潤滑剤の種類に大きく依存するが、一般には0.00
1〜2g/m2である。高分子結合剤を使用する場合は
、その高分子結合剤の0.1〜50重量%、好ましくは
0.5〜40重量%の潤滑剤を使用する。
【0031】上記のように、染料供与素子は染料転写像
を本発明の補助受容素子に形成するために使用する。具
体的には、上記の染料供与素子を像のかたちに加熱して
染料像を補助染料受容素子に転写して転写染料像を形成
する。
を本発明の補助受容素子に形成するために使用する。具
体的には、上記の染料供与素子を像のかたちに加熱して
染料像を補助染料受容素子に転写して転写染料像を形成
する。
【0032】染料を染料供与素子から転写するのは、サ
ーマルヘッドにより行うのが好ましい。しかし、レーザ
ー、閃光、超音波法などの方法によって行うこともでき
る。これらの方法の中には、当業者に周知のように、入
力エネルギーを熱エネルギーに変換する工程を含むもの
もある。
ーマルヘッドにより行うのが好ましい。しかし、レーザ
ー、閃光、超音波法などの方法によって行うこともでき
る。これらの方法の中には、当業者に周知のように、入
力エネルギーを熱エネルギーに変換する工程を含むもの
もある。
【0033】染料供与素子は、シート状、連続ロールま
たはリボンとして使用することができる。連続ロールま
たはリボンとする場合には、表面に単一の染料のみを適
用してもよいし、米国特許第4,541,830号に記
載される昇華性シアン、マゼンタ、イエロー、ブラック
などの異なる染料を繰り返しエリアに適用してもよい。 このような、単一色、2色、3色、4色(およびそれ以
上の多色)素子はすべて本発明の範囲に含まれる。
たはリボンとして使用することができる。連続ロールま
たはリボンとする場合には、表面に単一の染料のみを適
用してもよいし、米国特許第4,541,830号に記
載される昇華性シアン、マゼンタ、イエロー、ブラック
などの異なる染料を繰り返しエリアに適用してもよい。 このような、単一色、2色、3色、4色(およびそれ以
上の多色)素子はすべて本発明の範囲に含まれる。
【0034】好ましい実施態様においては、染料供与素
子は、シアン、マゼンタおよびイエロー染料からなる連
続繰り返しエリアでコーティングされたポリ(エチレン
テレフタレート)支持体からなる。そして、上記の工程
をそのそれぞれの色について行い、補助染料受容素子に
3色の染料転写像を形成する。
子は、シアン、マゼンタおよびイエロー染料からなる連
続繰り返しエリアでコーティングされたポリ(エチレン
テレフタレート)支持体からなる。そして、上記の工程
をそのそれぞれの色について行い、補助染料受容素子に
3色の染料転写像を形成する。
【0035】染料供与素子から補助染料受容素子へ染料
を転写するのに用いるサーマルプリントヘッドは、商業
的に入手することができる。例えば、富士通サーマルヘ
ッド(FTP−040 MCS001)、TDKサーマ
ルヘッドF415 HH7−1089やロームサーマル
ヘッドKE2008ーF3を使用することができる。
を転写するのに用いるサーマルプリントヘッドは、商業
的に入手することができる。例えば、富士通サーマルヘ
ッド(FTP−040 MCS001)、TDKサーマ
ルヘッドF415 HH7−1089やロームサーマル
ヘッドKE2008ーF3を使用することができる。
【0036】本発明をさらに説明するために、以下に実
施例を挙げる。
施例を挙げる。
【0037】
【実施例】(1)ポリ(酢酸ビニルーコービニルアルコ
ール)の合成ポリ(酢酸ビニルーコービニルアルコール
)を、カークオスマー Encyclopedia o
f Chemical Technology 第3巻
、801頁および ビルマー Textbook of
Polymer Science、第2版、418〜
419頁に記載されている一般法によって簡便に合成し
た。
ール)の合成ポリ(酢酸ビニルーコービニルアルコール
)を、カークオスマー Encyclopedia o
f Chemical Technology 第3巻
、801頁および ビルマー Textbook of
Polymer Science、第2版、418〜
419頁に記載されている一般法によって簡便に合成し
た。
【0038】ポリビニルアルコール(デュポン Vin
ol 325)(440g)を蒸留水(5580g)に
添加し、90℃で1時間加熱して透明な溶液を調製した
。この溶液を10℃に冷却して、36%塩酸(1300
g)を添加して冷却を続け10℃にした。アセトアルデ
ヒド(274g)を激しく撹拌しながら10℃で10分
かけて添加した。混合物はミルク状となり、細かい沈澱
が形成された。さらに10℃で15分間撹拌した後、温
度を30℃に上げてさらに4時間撹拌した。細かい固形
物を濾別して、蒸留水(4000ml)で30分かけて
2回洗浄し、3回目はpHが7になるまで水酸化ナトリ
ウムで繰り返し調整した水で洗浄した。固形分を濾別し
て40℃の真空オーブンで乾燥した。収量は508gで
あった。
ol 325)(440g)を蒸留水(5580g)に
添加し、90℃で1時間加熱して透明な溶液を調製した
。この溶液を10℃に冷却して、36%塩酸(1300
g)を添加して冷却を続け10℃にした。アセトアルデ
ヒド(274g)を激しく撹拌しながら10℃で10分
かけて添加した。混合物はミルク状となり、細かい沈澱
が形成された。さらに10℃で15分間撹拌した後、温
度を30℃に上げてさらに4時間撹拌した。細かい固形
物を濾別して、蒸留水(4000ml)で30分かけて
2回洗浄し、3回目はpHが7になるまで水酸化ナトリ
ウムで繰り返し調整した水で洗浄した。固形分を濾別し
て40℃の真空オーブンで乾燥した。収量は508gで
あった。
【0039】(2)染料供与素子の調製染料供与素子を
、厚さ6μmのポリ(エチレンテレフタレート)の支持
体の1面上に以下の層をコーティングすることによって
調製した。
、厚さ6μmのポリ(エチレンテレフタレート)の支持
体の1面上に以下の層をコーティングすることによって
調製した。
【0040】1)n−酢酸プロピルと1ーブタノールと
の混合溶媒からコーティングした duPont Ty
zer TBTTM チタニウムテトラーnーブトキシ
ド(0.12g/m2)の下塗り層 2)トルエン、メタノールおよびシクロペンタノン混合
溶媒からコーティングした、セルロースアセテートプロ
ピオネート結合剤(2.5%アセチル、45%プロピオ
ニル)(0.47g/m2)中の下記の構造
の混合溶媒からコーティングした duPont Ty
zer TBTTM チタニウムテトラーnーブトキシ
ド(0.12g/m2)の下塗り層 2)トルエン、メタノールおよびシクロペンタノン混合
溶媒からコーティングした、セルロースアセテートプロ
ピオネート結合剤(2.5%アセチル、45%プロピオ
ニル)(0.47g/m2)中の下記の構造
【0041
】
】
【0042】を有するマゼンタ染料および Shamr
ock Technologies 社 S−363T
M(ポリエチレン、ポリプロピレンおよび酸化ポリエチ
レン粒子の超微粉砕ブレンド)(0.02g/m2)か
らなる層それぞれの染料供与素子の裏面上には、Ach
esonColloids Emralon 329T
M(硝酸セルロース中のポリテトラフルオロエチレン粒
子の乾燥フィルム)(0.54g/m2)および Sh
amrock Technologies S−Nau
ba 5021TM(一般名:カルナバワックス)(0
.02g/m2)からなる層(滑層)を、n−酢酸プロ
ピル、トルエン、2ープロパノールおよび1ーブタノー
ルの混合溶媒からコーティングした。
ock Technologies 社 S−363T
M(ポリエチレン、ポリプロピレンおよび酸化ポリエチ
レン粒子の超微粉砕ブレンド)(0.02g/m2)か
らなる層それぞれの染料供与素子の裏面上には、Ach
esonColloids Emralon 329T
M(硝酸セルロース中のポリテトラフルオロエチレン粒
子の乾燥フィルム)(0.54g/m2)および Sh
amrock Technologies S−Nau
ba 5021TM(一般名:カルナバワックス)(0
.02g/m2)からなる層(滑層)を、n−酢酸プロ
ピル、トルエン、2ープロパノールおよび1ーブタノー
ルの混合溶媒からコーティングした。
【0043】(3)補助染料受容素子の調製硬木と軟木
からなる亜硫酸漂白パルプの混合物(厚さ7ミル(17
2ミクロン))のペーパーストックを用いて、補助染料
受容素子を調製した。このストックを、当業者に周知の
方法によって、20%ポリエチレンと80%ポリプロピ
レンとの混合物(37g/m2)を用いて押出被覆した
。ポリオレフィン層の頂部には、本発明の層または対照
用下塗り層をコーティングした。コーティング温度は7
1℃とし、接触時間は2分とした。かかる条件は、層内
のアセタールポリマーを架橋するのに十分であった。
からなる亜硫酸漂白パルプの混合物(厚さ7ミル(17
2ミクロン))のペーパーストックを用いて、補助染料
受容素子を調製した。このストックを、当業者に周知の
方法によって、20%ポリエチレンと80%ポリプロピ
レンとの混合物(37g/m2)を用いて押出被覆した
。ポリオレフィン層の頂部には、本発明の層または対照
用下塗り層をコーティングした。コーティング温度は7
1℃とし、接触時間は2分とした。かかる条件は、層内
のアセタールポリマーを架橋するのに十分であった。
【0044】下塗り層の上に、Bayer AG Ma
krolon 5700TM(ビスフェノールーAポリ
カーボネート)(2.9g/m2)、Union Ca
rbide Tone PCL−300TM(ポリカプ
ロラクトン)(0.38g/m2)および1,4ージデ
コキシー2,5−ジメトキシベンゼン(0.38g/m
2)を、塩化メチレンとトリクロロエチレンとの混合溶
媒からコーティングした。この層の上に、Union
Carbide Tone PCLー300TM(0.
11g/m2)、Dow Corning DC510
TM シリコーン流体(0.01g/m2)および3M
社の Fluotad FC−431TM(0.01g
/m2)を、塩化メチレンとトリクロロエチレンとの混
合溶媒からコーティングした。
krolon 5700TM(ビスフェノールーAポリ
カーボネート)(2.9g/m2)、Union Ca
rbide Tone PCL−300TM(ポリカプ
ロラクトン)(0.38g/m2)および1,4ージデ
コキシー2,5−ジメトキシベンゼン(0.38g/m
2)を、塩化メチレンとトリクロロエチレンとの混合溶
媒からコーティングした。この層の上に、Union
Carbide Tone PCLー300TM(0.
11g/m2)、Dow Corning DC510
TM シリコーン流体(0.01g/m2)および3M
社の Fluotad FC−431TM(0.01g
/m2)を、塩化メチレンとトリクロロエチレンとの混
合溶媒からコーティングした。
【0045】下記の本発明の下塗り層をコーティングし
た。
た。
【0046】(E−1)コーティングのためにブタノン
に溶解したポリ(酢酸ビニルーコービニルアルコール)
(73%アセタール)(0.11g/m2)、グリオキ
サール(0.026g/m2)およびp−トルエンスル
ホン酸(0.007g/m2) (E−2)ブタノンからコーティングしたポリ(酢酸ビ
ニルーコービニルアルコール)(73%アセタール)(
0.11g/m2)および MobayChemica
l Mondur CB−75(トルエンジイソシアネ
ートをベースにしたアダクツ)(0.022g/m2)
下記の対照用下塗り層をコーティングした。
に溶解したポリ(酢酸ビニルーコービニルアルコール)
(73%アセタール)(0.11g/m2)、グリオキ
サール(0.026g/m2)およびp−トルエンスル
ホン酸(0.007g/m2) (E−2)ブタノンからコーティングしたポリ(酢酸ビ
ニルーコービニルアルコール)(73%アセタール)(
0.11g/m2)および MobayChemica
l Mondur CB−75(トルエンジイソシアネ
ートをベースにしたアダクツ)(0.022g/m2)
下記の対照用下塗り層をコーティングした。
【0047】(C−1)ポリオレフィン層と染料受容層
との間に下塗り層を使用しない場合 (C−2)塩化メチレンとトリクロロエチレンとの混合
溶媒からコーティングしたポリ(アクリロニトリルーコ
ー塩化ビニリデンーコーアクリル酸)(重量比14:8
0:6)(0.075g/m2) (C−3)1ーブタノールからコーティングした du
Pont Tyzer TBTT(チタニウムテトラー
n−ブトキシド)(0.12g/m2) (C−4)エタノールと水との混合溶媒からコーティン
グした Dow Corning Z−6020 (N
−(βーアミノエチル)ーγーアミノプロピルトリメト
キシシラン(0.27g/m2) (4)下塗り層の評価エリアが約10cmx13cmの
染料供与素子ストリップの染料側が、これと同一のエリ
アの補助染料受容素子の高分子像受容層側に接触するよ
うに組み合わせ染料転写体とした。この染料転写体を直
径60mmのゴムローラーで駆動した引取装置に設置し
た。TDK熱ヘッドL−231(サーモスタット22℃
)を染料供与素子の側からゴムローラーに向けて8.0
ポンド(3.6kg)の力で押し付けた。
との間に下塗り層を使用しない場合 (C−2)塩化メチレンとトリクロロエチレンとの混合
溶媒からコーティングしたポリ(アクリロニトリルーコ
ー塩化ビニリデンーコーアクリル酸)(重量比14:8
0:6)(0.075g/m2) (C−3)1ーブタノールからコーティングした du
Pont Tyzer TBTT(チタニウムテトラー
n−ブトキシド)(0.12g/m2) (C−4)エタノールと水との混合溶媒からコーティン
グした Dow Corning Z−6020 (N
−(βーアミノエチル)ーγーアミノプロピルトリメト
キシシラン(0.27g/m2) (4)下塗り層の評価エリアが約10cmx13cmの
染料供与素子ストリップの染料側が、これと同一のエリ
アの補助染料受容素子の高分子像受容層側に接触するよ
うに組み合わせ染料転写体とした。この染料転写体を直
径60mmのゴムローラーで駆動した引取装置に設置し
た。TDK熱ヘッドL−231(サーモスタット22℃
)を染料供与素子の側からゴムローラーに向けて8.0
ポンド(3.6kg)の力で押し付けた。
【0048】画像形成電子系を働かせて、染料転写体を
プリントヘッドとローラーとの間を6.9mm/秒で引
き取った。これと同時に熱プリントヘッドの抵抗体を1
ドットあたり33ミリ秒のプリント時間において、12
8μ秒ごとに29マイクロパルス加熱した。最大濃度の
像は255パルス/ドットで描かせた。熱プリントヘッ
ドに供給した電力は約23.5Vであり、その結果瞬間
ピーク電力は1.3ワット/ドットとなり最大供給エネ
ルギーは9.6ミリジュール/ドットとなった。
プリントヘッドとローラーとの間を6.9mm/秒で引
き取った。これと同時に熱プリントヘッドの抵抗体を1
ドットあたり33ミリ秒のプリント時間において、12
8μ秒ごとに29マイクロパルス加熱した。最大濃度の
像は255パルス/ドットで描かせた。熱プリントヘッ
ドに供給した電力は約23.5Vであり、その結果瞬間
ピーク電力は1.3ワット/ドットとなり最大供給エネ
ルギーは9.6ミリジュール/ドットとなった。
【0049】像を形成した後、紙支持体を補助受容素子
のポリオレフィン接面から分離して廃棄した。この分離
工程は以下の表にて「第1分離工程」と称するものであ
り、裂けないように分離するのが比較的困難であった。
のポリオレフィン接面から分離して廃棄した。この分離
工程は以下の表にて「第1分離工程」と称するものであ
り、裂けないように分離するのが比較的困難であった。
【0050】像を転写した補助受容素子(ポリオレフィ
ン層、アセタールまたは対照用下塗り層、受容層と受容
素子被覆層)を一体化した素子として本受容素子の上に
被覆層が下になるように置いた。厚さ2mmの押出しポ
リマーのシートからなる下記の3つの本受容素子を使用
した。
ン層、アセタールまたは対照用下塗り層、受容層と受容
素子被覆層)を一体化した素子として本受容素子の上に
被覆層が下になるように置いた。厚さ2mmの押出しポ
リマーのシートからなる下記の3つの本受容素子を使用
した。
【0051】1)ポリエーテルスルホンPES(ICI
社)(4ーヒドロキシフェニルスルホンとヒドロキノン
から誘導したポリエーテルスルホン)2)LEXAN1
41TM(ジェネラルエレクトリック社)(ビスフェノ
ールーAから誘導したポリカーボネート)3)ポリエー
テルエーテルケトンPEEK(ICI社)(p,p’ー
ジヒドロキシベンゾフェノンとヒドロキノンとの共重合
体)しわをなくすために、緩やかな圧力をかけて2つの
受容素子を密接に接触させた後、これらを熱盤を用いて
205℃で2分間加熱して補助受容素子から染料像を転
写し本受容素子高分子内においてこれを融着した。補助
受容素子層を一体化したまま本受容素子から除去して廃
棄した。この工程は以下の表において「第2分離工程」
と称する。この工程において、本受容素子上の補助受容
素子から本来残すべき受容素子高分子を分離することな
く効果的に剥離するのは比較的困難であった。
社)(4ーヒドロキシフェニルスルホンとヒドロキノン
から誘導したポリエーテルスルホン)2)LEXAN1
41TM(ジェネラルエレクトリック社)(ビスフェノ
ールーAから誘導したポリカーボネート)3)ポリエー
テルエーテルケトンPEEK(ICI社)(p,p’ー
ジヒドロキシベンゾフェノンとヒドロキノンとの共重合
体)しわをなくすために、緩やかな圧力をかけて2つの
受容素子を密接に接触させた後、これらを熱盤を用いて
205℃で2分間加熱して補助受容素子から染料像を転
写し本受容素子高分子内においてこれを融着した。補助
受容素子層を一体化したまま本受容素子から除去して廃
棄した。この工程は以下の表において「第2分離工程」
と称する。この工程において、本受容素子上の補助受容
素子から本来残すべき受容素子高分子を分離することな
く効果的に剥離するのは比較的困難であった。
【0052】
【0053】C:紙支持体接面からポリオレフィンがき
れいにかつ容易に分離した。残ったポリオレフィンは、
密着した再転写用ユニットとして受容素子に結合したま
まであった。(すなわち、ポリオレフィンー下塗り層ー
受容層の結合が強固である)F:受容素子が密着したユ
ニットとしてポリオレフィンを保持していないため、実
際的で効率的な転写ができなかった。
れいにかつ容易に分離した。残ったポリオレフィンは、
密着した再転写用ユニットとして受容素子に結合したま
まであった。(すなわち、ポリオレフィンー下塗り層ー
受容層の結合が強固である)F:受容素子が密着したユ
ニットとしてポリオレフィンを保持していないため、実
際的で効率的な転写ができなかった。
【0054】ND:第1剥離工程がうまくいかなかった
ため測定できなかった。
ため測定できなかった。
【0055】E:本受容素子から補助受容素子をきれい
に剥離し、本受容素子上に染料像のみを残すことができ
た。
に剥離し、本受容素子上に染料像のみを残すことができ
た。
【0056】Fr:本受容素子上に部分的または実質的
に補助受容素子が残存していた。
に補助受容素子が残存していた。
【0057】上記の結果は、上記の転写工程に関しては
、本発明の架橋ポリ(酢酸ビニルーコービニルアルコー
ル)の下塗り層が従来の下塗り層よりも優れていること
を示している。本発明のこのような優越性は、試験した
3種類の本受容素子のいずれについても示された。
、本発明の架橋ポリ(酢酸ビニルーコービニルアルコー
ル)の下塗り層が従来の下塗り層よりも優れていること
を示している。本発明のこのような優越性は、試験した
3種類の本受容素子のいずれについても示された。
【0058】
【発明の効果】本発明の補助受容素子は、高分子染料像
受容層と支持体上にコーティングされたポリオレフィン
層とを、ポリオレフィンと染料像受容層とをユニットと
して密着させたまま、支持体をポリオレフィンと染料像
受容層から除去することができる程度に接着する。支持
体を除去すると、除去後にのこされた層は柔軟になるた
め本受容素子のかたちにより適合しやすくなる。このた
め、転写により本受容素子に高質の像を形成することが
できる。
受容層と支持体上にコーティングされたポリオレフィン
層とを、ポリオレフィンと染料像受容層とをユニットと
して密着させたまま、支持体をポリオレフィンと染料像
受容層から除去することができる程度に接着する。支持
体を除去すると、除去後にのこされた層は柔軟になるた
め本受容素子のかたちにより適合しやすくなる。このた
め、転写により本受容素子に高質の像を形成することが
できる。
Claims (1)
- 【請求項1】表面に分離可能なポリオレフィン層を有し
ている支持体、染料像受容層、およびポリオレフィン層
と染料像受容層との間に存在する下塗り層からなる染料
熱転写に用いる染料受容素子であって、下塗り層が架橋
したポリ(酢酸ビニル−コービニルアルコール)からな
る染料受容素子。
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US519610 | 1990-05-04 |
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---|---|
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JP2884868B2 (ja) * | 1991-12-27 | 1999-04-19 | 松下電器産業株式会社 | 熱転写記録方法及びその記録方法に使用される中間シート |
DE69308644T2 (de) * | 1992-06-04 | 1997-09-04 | Agfa Gevaert Nv | Farbstoffempfangselement für thermische Sublimation farbstoffübertragung |
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EP0879711B1 (en) * | 1994-03-18 | 2001-07-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Thermal transfer image-receiving sheet |
US5420095A (en) * | 1994-10-11 | 1995-05-30 | Eastman Kodak Company | Subbing layer for receiver used in thermal dye transfer |
US5774164A (en) * | 1994-10-27 | 1998-06-30 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Thermal transfer image-receiving sheet |
US5474969A (en) * | 1994-11-28 | 1995-12-12 | Eastman Kodak Company | Overcoat for thermal dye transfer receiving element |
US5798161A (en) | 1995-01-20 | 1998-08-25 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical disk, method of forming image on optical disk, image forming apparatus and adhesive layer transfer sheet |
JP3773966B2 (ja) * | 1995-03-07 | 2006-05-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 受像シート材料、転写画像形成方法及び積層体 |
US5716900A (en) * | 1995-05-01 | 1998-02-10 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Heat transfer material for dye diffusion thermal transfer printing |
US6071368A (en) | 1997-01-24 | 2000-06-06 | Hewlett-Packard Co. | Method and apparatus for applying a stable printed image onto a fabric substrate |
US6022440A (en) * | 1997-12-08 | 2000-02-08 | Imation Corp. | Image transfer process for ink-jet generated images |
US7090890B1 (en) * | 1998-04-13 | 2006-08-15 | The Trustees Of Princeton University | Modification of polymer optoelectronic properties after film formation by impurity addition or removal |
EP0962829B1 (en) * | 1998-06-05 | 2003-04-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Protective layer for color proofs |
US20020182376A1 (en) * | 2001-03-27 | 2002-12-05 | Debabrata Mukherjee | Novel universal ink jet recording medium |
US6951671B2 (en) | 2001-04-20 | 2005-10-04 | P. H. Glatfelter Company | Ink jet printable heat transfer paper |
JP3869243B2 (ja) * | 2001-10-16 | 2007-01-17 | リンテック株式会社 | 非接触型リライトサーマルラベル及びその使用方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60203494A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-15 | Ricoh Co Ltd | 感熱転写記録方法 |
JPS6111293A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-18 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 熱転写記録用受像シ−ト |
JPS6266997A (ja) * | 1985-09-19 | 1987-03-26 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 熱転写記録方法 |
EP0266430B1 (en) * | 1986-04-11 | 1995-03-01 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Image formation on object |
US4774224A (en) * | 1987-11-20 | 1988-09-27 | Eastman Kodak Company | Resin-coated paper support for receiving element used in thermal dye transfer |
US4965239A (en) * | 1989-12-11 | 1990-10-23 | Eastman Kodak Company | Thermal dye transfer receiving element with subbing layer for dye image-receiving layer |
-
1990
- 1990-05-04 US US07/519,610 patent/US5055444A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-03-14 CA CA002038320A patent/CA2038320A1/en not_active Abandoned
- 1991-04-30 DE DE69103462T patent/DE69103462T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-30 EP EP91107004A patent/EP0455213B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-02 JP JP3100778A patent/JPH0615266B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0455213B1 (en) | 1994-08-17 |
US5055444A (en) | 1991-10-08 |
CA2038320A1 (en) | 1991-11-05 |
EP0455213A1 (en) | 1991-11-06 |
JPH0615266B2 (ja) | 1994-03-02 |
DE69103462D1 (de) | 1994-09-22 |
DE69103462T2 (de) | 1995-04-06 |
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