JPH04214231A - 記録担体形成方法及び装置 - Google Patents
記録担体形成方法及び装置Info
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- JPH04214231A JPH04214231A JP3020303A JP2030391A JPH04214231A JP H04214231 A JPH04214231 A JP H04214231A JP 3020303 A JP3020303 A JP 3020303A JP 2030391 A JP2030391 A JP 2030391A JP H04214231 A JPH04214231 A JP H04214231A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 114
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 40
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 49
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 8
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims 3
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000000382 optic material Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24085—Pits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B27/00—Editing; Indexing; Addressing; Timing or synchronising; Monitoring; Measuring tape travel
- G11B27/36—Monitoring, i.e. supervising the progress of recording or reproducing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、記録層の光学特性に変
化をもたらすのに適した書込みエネルギーの放射パルス
により記録層を局部的に加熱することにより、光学特性
が変化した領域を有する記録層を具える記録担体を形成
する記録担体形成方法に関するものである。
化をもたらすのに適した書込みエネルギーの放射パルス
により記録層を局部的に加熱することにより、光学特性
が変化した領域を有する記録層を具える記録担体を形成
する記録担体形成方法に関するものである。
【０００２】本発明は更に、光学特性を変化させた領域
を有する記録層を具える記録担体を形成する記録担体形
成装置であって、書込みビームにより記録層を走査する
手段と、放射ビームのエネルギーを変調し、光学特性の
変化をもたらすのに適した書込みエネルギーを有する放
射パルスを得る手段と、書込みエネルギーを調整する手
段と、変化した光学特性を表わす特性が、走査されてい
る記録担体の部分から生じる放射中に生じる割合を検出
するように配置した検出手段とを具える記録担体形成装
置に関するものである。
を有する記録層を具える記録担体を形成する記録担体形
成装置であって、書込みビームにより記録層を走査する
手段と、放射ビームのエネルギーを変調し、光学特性の
変化をもたらすのに適した書込みエネルギーを有する放
射パルスを得る手段と、書込みエネルギーを調整する手
段と、変化した光学特性を表わす特性が、走査されてい
る記録担体の部分から生じる放射中に生じる割合を検出
するように配置した検出手段とを具える記録担体形成装
置に関するものである。
【０００３】
【従来の技術】このような方法及び装置は特に米国特許
第４，２２５，８７３号明細書から既知である。この米
国特許明細書には、光学記録担体の放射感応層中の光学
特性を変化された領域のパターンの形態で情報を記録す
る光学情報記録装置が記載されている。このようにして
形成されたパターンを確認する為に、このパターンは領
域が形成されている間に追加の確認ビームにより読出さ
れる。読出されたパターンに基づいて書込みエネルギー
が予め定めた基準に従って常に適合され、記録された領
域が記録担体表面のよごれ或いは書込みビームにより放
射感応層上に形成された走査スポットの形状の変化のよ
うな記録条件の変化に殆ど依存しないようにしている。 放射感応層を追加の確認ビームにより走査するとある問
題が生じる。その理由は、これを達成するのは技術的に
困難であり、装置が高価となる為である。この問題は特
に消費者市場に当てはまるものである。その理由は、こ
の場合価格問題が追加の重要点となる為である。
第４，２２５，８７３号明細書から既知である。この米
国特許明細書には、光学記録担体の放射感応層中の光学
特性を変化された領域のパターンの形態で情報を記録す
る光学情報記録装置が記載されている。このようにして
形成されたパターンを確認する為に、このパターンは領
域が形成されている間に追加の確認ビームにより読出さ
れる。読出されたパターンに基づいて書込みエネルギー
が予め定めた基準に従って常に適合され、記録された領
域が記録担体表面のよごれ或いは書込みビームにより放
射感応層上に形成された走査スポットの形状の変化のよ
うな記録条件の変化に殆ど依存しないようにしている。 放射感応層を追加の確認ビームにより走査するとある問
題が生じる。その理由は、これを達成するのは技術的に
困難であり、装置が高価となる為である。この問題は特
に消費者市場に当てはまるものである。その理由は、こ
の場合価格問題が追加の重要点となる為である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、書込
みエネルギーを常に簡単に適合せしめうる前述した記録
担体形成方法及び装置を提供せんとするにある。
みエネルギーを常に簡単に適合せしめうる前述した記録
担体形成方法及び装置を提供せんとするにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明記録担体形成方法
は、記録層の光学特性に変化をもたらすのに適した書込
みエネルギーの放射パルスにより記録層を局部的に加熱
することにより、光学特性が変化した領域を有する記録
層を具える記録担体を形成するに当り、前記の領域を形
成する速度の目安を決定し、この決定した目安に応じて
書込みエネルギーを決定することを特徴とする。
は、記録層の光学特性に変化をもたらすのに適した書込
みエネルギーの放射パルスにより記録層を局部的に加熱
することにより、光学特性が変化した領域を有する記録
層を具える記録担体を形成するに当り、前記の領域を形
成する速度の目安を決定し、この決定した目安に応じて
書込みエネルギーを決定することを特徴とする。
【０００６】又、本発明記録担体形成装置は、光学特性
を変化させた領域を有する記録層を具える記録担体を形
成する記録担体形成装置であって、書込みビームにより
記録層を走査する手段と、放射ビームのエネルギーを変
調し、光学特性の変化をもたらすのに適した書込みエネ
ルギーを有する放射パルスを得る手段と、書込みエネル
ギーを調整する手段と、変化した光学特性を表わす特性
が、走査されている記録担体の部分から生じる放射中に
生じる割合を検出するように配置した検出手段とを具え
る記録担体形成装置において、領域を形成する速度を表
わす形成速度信号を測定信号から取出す測定手段と、形
成速度信号に応じて書込みエネルギーを決定する手段と
を具えたことを特徴とする。
を変化させた領域を有する記録層を具える記録担体を形
成する記録担体形成装置であって、書込みビームにより
記録層を走査する手段と、放射ビームのエネルギーを変
調し、光学特性の変化をもたらすのに適した書込みエネ
ルギーを有する放射パルスを得る手段と、書込みエネル
ギーを調整する手段と、変化した光学特性を表わす特性
が、走査されている記録担体の部分から生じる放射中に
生じる割合を検出するように配置した検出手段とを具え
る記録担体形成装置において、領域を形成する速度を表
わす形成速度信号を測定信号から取出す測定手段と、形
成速度信号に応じて書込みエネルギーを決定する手段と
を具えたことを特徴とする。
【０００７】本発明は特に、形成した記録領域の寸法は
これら領域を形成する速度に関連しているという認識を
基に成したものである。領域を形成する速度に応じて書
込みエネルギーを適合させることにより領域の寸法に及
ぼす記録条件の変化による影響を減少せしめることがで
きる。
これら領域を形成する速度に関連しているという認識を
基に成したものである。領域を形成する速度に応じて書
込みエネルギーを適合させることにより領域の寸法に及
ぼす記録条件の変化による影響を減少せしめることがで
きる。
【０００８】領域を形成する速度の目安を極めて簡単に
得る本発明方法の例では、前記の領域の形成中、放射ビ
ームから生じ前記の記録担体から反射された或いはこの
記録担体を透過した放射の放射特性であって、変化した
光学特性を表わす放射特性を検出し、放射特性が生じて
いる割合に基づいて形成速度の目安を取出すようにする
。
得る本発明方法の例では、前記の領域の形成中、放射ビ
ームから生じ前記の記録担体から反射された或いはこの
記録担体を透過した放射の放射特性であって、変化した
光学特性を表わす放射特性を検出し、放射特性が生じて
いる割合に基づいて形成速度の目安を取出すようにする
。
【０００９】本発明の方法の他の例では、放射パルスの
開始瞬時から予め決定した期間後に位置する瞬時に前記
の放射特性が放射中に生じる割合を決定することにより
速度の目安を得、これにより決定した割合と前記の放射
特性が瞬時的な放射中に生じる割合との間の差を放射パ
ルスの開始瞬時から予め定めた期間後に位置する一定長
の測定期間中積分する。
開始瞬時から予め決定した期間後に位置する瞬時に前記
の放射特性が放射中に生じる割合を決定することにより
速度の目安を得、これにより決定した割合と前記の放射
特性が瞬時的な放射中に生じる割合との間の差を放射パ
ルスの開始瞬時から予め定めた期間後に位置する一定長
の測定期間中積分する。
【００１０】本発明の方法の更に他の例では、光学特性
がまだ生じていない層の一部を照射する場合に放射特性
が生じる割合で除算することにより速度の目安を正規化
する。
がまだ生じていない層の一部を照射する場合に放射特性
が生じる割合で除算することにより速度の目安を正規化
する。
【００１１】本例の場合、まだ書込みを行っていない層
の光学特性のいかなる変化も形成速度信号を決定する処
理に悪影響を及ぼさないという利点が得られる。書込み
エネルギーの設定を極めて正確に適合させる本発明の方
法の更に他の例では、校正処理中異なる書込みエネルギ
ーの放射パルスにより領域を形成し、予め定めた基準に
応じて形成した最適形状の領域を選択し、最適形状の領
域の形成中に得た形成速度の前記の目安を基準値として
用い、他の領域の形成中の書込みエネルギーを前記の基
準値と前記の他の領域の形成中に取出した形成速度の目
安との差に依存して決定する。この方法では、書込みエ
ネルギーが、用いる層に対し最適な基準信号値に基づい
て適合される。
の光学特性のいかなる変化も形成速度信号を決定する処
理に悪影響を及ぼさないという利点が得られる。書込み
エネルギーの設定を極めて正確に適合させる本発明の方
法の更に他の例では、校正処理中異なる書込みエネルギ
ーの放射パルスにより領域を形成し、予め定めた基準に
応じて形成した最適形状の領域を選択し、最適形状の領
域の形成中に得た形成速度の前記の目安を基準値として
用い、他の領域の形成中の書込みエネルギーを前記の基
準値と前記の他の領域の形成中に取出した形成速度の目
安との差に依存して決定する。この方法では、書込みエ
ネルギーが、用いる層に対し最適な基準信号値に基づい
て適合される。
【００１２】更に、領域の信頼的な形成がもはや保証さ
れ得ない程度に記録条件が変化する場合には、本発明に
よる方法ではこのことを書込みエネルギーの設定に基づ
いて検出しうるようにする。この特性を有利に利用する
本発明方法の実施例では、決定した書込みエネルギーが
予め定めた期間よりも長い期間の間特定の限界値よりも
大きいか、この限界値に等しい場合に、領域の形成を中
止する。
れ得ない程度に記録条件が変化する場合には、本発明に
よる方法ではこのことを書込みエネルギーの設定に基づ
いて検出しうるようにする。この特性を有利に利用する
本発明方法の実施例では、決定した書込みエネルギーが
予め定めた期間よりも長い期間の間特定の限界値よりも
大きいか、この限界値に等しい場合に、領域の形成を中
止する。
【００１３】以下図面につき説明する。変調した光学特
性を有する領域を層中に形成する通常の方法では、この
層をパルス状のエネルギーの放射ビームによって走査し
ている。適切な書込みエネルギーの各放射パルスにより
前記の層の１つの領域を、これにより光学的に検出しう
る変化、例えば反射率の変化、構造の変化又は磁化極性
の変化を生ぜしめるような高温度に加熱する。以後、変
調した光学特性を有する領域を簡単に“結果”と称する
。結果を形成するのに適した記録担体は、例えば加熱さ
れると構造が永久的に変化する染料の層を有する基板を
具えるようにすることができる。或いは又、結果を形成
するのに適した層は、加熱されると結晶から非晶質構造
に又はその逆に変化する材料、或いは層の加熱部分で磁
化方向が変化する磁気‐光学材料を有するようにするこ
とができる。結果形成処理は特に、放射ビームにより層
上に形成された走査スポット中の放射エネルギーの分布
に依存するということが確かめられている。図１は一例
として単位面積当りの放射エネルギーＩを走査スポット
の中心Ｘ０ からの距離Ｘの関数として示す。走査スポ
ット中のエネルギー分布は、例えば放射ビームが層に入
射される角度のような記録状態に著しく依存する。放射
ビームを層に照射する光学系における変化によっても走
査スポット内のエネルギー分布に影響を及ぼすおそれが
ある。結果を形成するのに不可避なこのようなエネルギ
ー分布の変化はこのようにして形成される結果の寸法に
著しい影響を及ぼす。放射ビームを透明基板を介して層
に向ける場合には、例えば指跡のような基板表面のよご
れによっても走査スポット内のエネルギー分布に、従っ
て結果の寸法に著しい影響を及ぼす。
性を有する領域を層中に形成する通常の方法では、この
層をパルス状のエネルギーの放射ビームによって走査し
ている。適切な書込みエネルギーの各放射パルスにより
前記の層の１つの領域を、これにより光学的に検出しう
る変化、例えば反射率の変化、構造の変化又は磁化極性
の変化を生ぜしめるような高温度に加熱する。以後、変
調した光学特性を有する領域を簡単に“結果”と称する
。結果を形成するのに適した記録担体は、例えば加熱さ
れると構造が永久的に変化する染料の層を有する基板を
具えるようにすることができる。或いは又、結果を形成
するのに適した層は、加熱されると結晶から非晶質構造
に又はその逆に変化する材料、或いは層の加熱部分で磁
化方向が変化する磁気‐光学材料を有するようにするこ
とができる。結果形成処理は特に、放射ビームにより層
上に形成された走査スポット中の放射エネルギーの分布
に依存するということが確かめられている。図１は一例
として単位面積当りの放射エネルギーＩを走査スポット
の中心Ｘ０ からの距離Ｘの関数として示す。走査スポ
ット中のエネルギー分布は、例えば放射ビームが層に入
射される角度のような記録状態に著しく依存する。放射
ビームを層に照射する光学系における変化によっても走
査スポット内のエネルギー分布に影響を及ぼすおそれが
ある。結果を形成するのに不可避なこのようなエネルギ
ー分布の変化はこのようにして形成される結果の寸法に
著しい影響を及ぼす。放射ビームを透明基板を介して層
に向ける場合には、例えば指跡のような基板表面のよご
れによっても走査スポット内のエネルギー分布に、従っ
て結果の寸法に著しい影響を及ぼす。
【００１４】エネルギー分布の変化による不所望な影響
は、結果を形成する速度をほぼ一定に維持するように放
射パルスの書込みエネルギーを適合させることにより可
成り減少せしめることができるということが確かめられ
ている。結果の形成中は、結果が層から反射される放射
に及ぼす影響から前記の速度を決定する手段を得ること
ができる。例えば、放射ビームによる加熱による影響の
下で構造が変化する材料を以て層を形成する場合には、
領域を形成する速度を、層から反射される放射の量の変
化から取出すことができる。磁気‐光学材料を用いる場
合には、反射された放射ビームにおける偏光方向の変化
を検出することによって前記の速度を取出すことができ
る。放射ビームを照射すると構造が変化する材料の層の
場合で、この層にパルス幅Ｔの定エネルギー放射パルス
を照射する場合に、層から反射される放射エネルギーＰ
１を時間ｔの関数として図２に示す。放射パルスの開始
時（ｔ＝０）では、反射率を減少させた結果の形成はま
だ行われておらず、反射された放射のエネルギーは高く
なる。放射により加熱が生ぜしめられる為、結果が広が
り、反射されたエネルギーＰは結果が形成される速度に
関連する割合で減少する。結果を形成する速度の目安は
例えば、放射パルスの開始時における反射放射エネルギ
ーＰｉＯ と、放射パルスの開始時に対し予め定めた時
間間隔ΔＴだけシフトした瞬時ｔ１における反射放射エ
ネルギーＰｉ１ との差ΔＰとすることができる。記録
領域を形成する速度に対する他の極めて適した目安α′
は次の数１
は、結果を形成する速度をほぼ一定に維持するように放
射パルスの書込みエネルギーを適合させることにより可
成り減少せしめることができるということが確かめられ
ている。結果の形成中は、結果が層から反射される放射
に及ぼす影響から前記の速度を決定する手段を得ること
ができる。例えば、放射ビームによる加熱による影響の
下で構造が変化する材料を以て層を形成する場合には、
領域を形成する速度を、層から反射される放射の量の変
化から取出すことができる。磁気‐光学材料を用いる場
合には、反射された放射ビームにおける偏光方向の変化
を検出することによって前記の速度を取出すことができ
る。放射ビームを照射すると構造が変化する材料の層の
場合で、この層にパルス幅Ｔの定エネルギー放射パルス
を照射する場合に、層から反射される放射エネルギーＰ
１を時間ｔの関数として図２に示す。放射パルスの開始
時（ｔ＝０）では、反射率を減少させた結果の形成はま
だ行われておらず、反射された放射のエネルギーは高く
なる。放射により加熱が生ぜしめられる為、結果が広が
り、反射されたエネルギーＰは結果が形成される速度に
関連する割合で減少する。結果を形成する速度の目安は
例えば、放射パルスの開始時における反射放射エネルギ
ーＰｉＯ と、放射パルスの開始時に対し予め定めた時
間間隔ΔＴだけシフトした瞬時ｔ１における反射放射エ
ネルギーＰｉ１ との差ΔＰとすることができる。記録
領域を形成する速度に対する他の極めて適した目安α′
は次の数１
【数１】
で与えられる。ここにｔ２は放射パルスの開始から一定
期間後の瞬時であり、ΔＴ２は放射パルスが発生してい
る期間内に完全に入っている一定長の期間である。
期間後の瞬時であり、ΔＴ２は放射パルスが発生してい
る期間内に完全に入っている一定長の期間である。
【００１５】図２において、斜線を付した領域１は、ｔ
２が放射パルスの開始と一致し、期間ΔＴ２がパルス持
続時間Ｔに等しくなった場合の目安α′の大きさを表わ
す。
２が放射パルスの開始と一致し、期間ΔＴ２がパルス持
続時間Ｔに等しくなった場合の目安α′の大きさを表わ
す。
【００１６】結果がまだ形成されていない層（以後非刻
層と称する）の反射率によって放射の反射に変化を与え
るおそれがあることに注意すべきである。これらの変化
は結果形成速度の目安α′を決定する際に誤り（エラー
）を導入する。これらの誤りの影響は、非刻層の反射率
の目安を決定し、この目安により、決定された目安α′
を割ることにより目安α′を正規化する。非刻層の反射
率の目安は、放射ビームのエネルギーをこの層からの放
射の反射変化が放射パルスの直前に生じない特定の低レ
ベルに設定し且つ反射した放射エネルギーを非刻層の反
射率の目安として選択することにより決定しうる。
層と称する）の反射率によって放射の反射に変化を与え
るおそれがあることに注意すべきである。これらの変化
は結果形成速度の目安α′を決定する際に誤り（エラー
）を導入する。これらの誤りの影響は、非刻層の反射率
の目安を決定し、この目安により、決定された目安α′
を割ることにより目安α′を正規化する。非刻層の反射
率の目安は、放射ビームのエネルギーをこの層からの放
射の反射変化が放射パルスの直前に生じない特定の低レ
ベルに設定し且つ反射した放射エネルギーを非刻層の反
射率の目安として選択することにより決定しうる。
【００１７】
【実施例】図３は、結果を形成する速度を表わす形成速
度信号に応じて書込み速度を調整する本発明による装置
の一実施例を示す。符号２は、特定の書込み温度以上に
加熱した際に光学的に検出しうる変化を受ける層３が設
けられたディスク状記録担体を示す。このような記録担
体は、例えば透明基板４を有し、この基板上に層３を堆
積するようにしうる。記録担体は通常の駆動システム５
により軸線６を中心に回転せしめられる。回転している
記録担体２に対向して通常の種類の光学的な書込みヘッ
ド８が配置され、放射ビーム７を層３に照射する。この
目的の為に、このような書込みヘッド８には例えば放射
ビーム７を発生するレーザ９の形態の放射源と、放射ビ
ーム７を層３上に集束させる集束用対物レンズとを設け
る。制御回路１３は、調整信号値Ｉｋに比例する書込み
エネルギーＰｓと調整信号値Ｉｌに比例する低エネルギ
ーＰｌとの間の２値情報信号（図４ａ参照） に応じて
レーザ９により生ぜしめるビーム７のエネルギーを制御
する。書込みエネルギーＰｓはビーム７によって局部的
に走査される層３の部分を書込み温度以上の温度に加熱
するのに充分に高い。エネルギーＰｌは層３を書込み温
度以上の温度に加熱するのに適していない。
度信号に応じて書込み速度を調整する本発明による装置
の一実施例を示す。符号２は、特定の書込み温度以上に
加熱した際に光学的に検出しうる変化を受ける層３が設
けられたディスク状記録担体を示す。このような記録担
体は、例えば透明基板４を有し、この基板上に層３を堆
積するようにしうる。記録担体は通常の駆動システム５
により軸線６を中心に回転せしめられる。回転している
記録担体２に対向して通常の種類の光学的な書込みヘッ
ド８が配置され、放射ビーム７を層３に照射する。この
目的の為に、このような書込みヘッド８には例えば放射
ビーム７を発生するレーザ９の形態の放射源と、放射ビ
ーム７を層３上に集束させる集束用対物レンズとを設け
る。制御回路１３は、調整信号値Ｉｋに比例する書込み
エネルギーＰｓと調整信号値Ｉｌに比例する低エネルギ
ーＰｌとの間の２値情報信号（図４ａ参照） に応じて
レーザ９により生ぜしめるビーム７のエネルギーを制御
する。書込みエネルギーＰｓはビーム７によって局部的
に走査される層３の部分を書込み温度以上の温度に加熱
するのに充分に高い。エネルギーＰｌは層３を書込み温
度以上の温度に加熱するのに適していない。
【００１８】図４ａは放射ビーム７の放射エネルギーＰ
の変化の一例を示す。この図は、一定の書込みエネルギ
ーＰｓのパルスを、ビームの放射エネルギーが低エネル
ギーＰｌに設定された期間と交互に発生せしめるように
したパルス状期間として強度変化を与えた例を示す。
の変化の一例を示す。この図は、一定の書込みエネルギ
ーＰｓのパルスを、ビームの放射エネルギーが低エネル
ギーＰｌに設定された期間と交互に発生せしめるように
したパルス状期間として強度変化を与えた例を示す。
【００１９】このようなエネルギーＰの変化の為に、光
学特性が変化した結果４１のパターンが層３に形成され
る（図４ｃ参照） 。層３における変化は光学的特性に
関するものである為、層３から反射された放射ビームは
光学特性の変化を表わす特性を表わす。光学特性の変化
が反射率の変化或いは構造上の変化である層の場合には
、反射ビームのエネルギーが光学特性に得られる変化を
表わす。層３が、磁化方向を放射パルスにより局部的に
変化させる磁気‐光学層である場合には、この変化は反
射放射の偏光方向の変化として反射ビームに現れる。光
学特性の変化を表わす反射ビームの特性を検出する為に
、書込みヘッド８はビーム分割素子、例えばハーフミラ
ー１０を有し、反射された放射ビームを適切な検出シス
テム１１に向ける。この検出システム１１は、検出され
る特性が反射ビーム中に生じる割合を表わす信号Ｖｍを
生じる。信号Ｖｍの変化の一例を時間ｔの関数として図
４ｂに示す。結果の形成速度の目安は調整回路１２にお
いて信号Ｖｍから取出され、結果形成速度の為に取出さ
れる目安がほぼ一定に維持されるような書込みエネルギ
ーＰを適合させる。
学特性が変化した結果４１のパターンが層３に形成され
る（図４ｃ参照） 。層３における変化は光学的特性に
関するものである為、層３から反射された放射ビームは
光学特性の変化を表わす特性を表わす。光学特性の変化
が反射率の変化或いは構造上の変化である層の場合には
、反射ビームのエネルギーが光学特性に得られる変化を
表わす。層３が、磁化方向を放射パルスにより局部的に
変化させる磁気‐光学層である場合には、この変化は反
射放射の偏光方向の変化として反射ビームに現れる。光
学特性の変化を表わす反射ビームの特性を検出する為に
、書込みヘッド８はビーム分割素子、例えばハーフミラ
ー１０を有し、反射された放射ビームを適切な検出シス
テム１１に向ける。この検出システム１１は、検出され
る特性が反射ビーム中に生じる割合を表わす信号Ｖｍを
生じる。信号Ｖｍの変化の一例を時間ｔの関数として図
４ｂに示す。結果の形成速度の目安は調整回路１２にお
いて信号Ｖｍから取出され、結果形成速度の為に取出さ
れる目安がほぼ一定に維持されるような書込みエネルギ
ーＰを適合させる。
【００２０】図５は結果形成速度の目安αを以下の数２
【数２】
に応じて決定する適切な測定回路５０を示す。ここにＶ
ｍ（０） は放射パルスの１つの開始時における測定信
号Ｖｍの値であり、Ｖｍ（ｔ） は放射パルス中の測定
信号の瞬時値であり、Ｖｍｌ は放射パルス間の測定信
号の値を表し、Ｔは放射パルスの開始に続く積分期間を
表わす。
ｍ（０） は放射パルスの１つの開始時における測定信
号Ｖｍの値であり、Ｖｍ（ｔ） は放射パルス中の測定
信号の瞬時値であり、Ｖｍｌ は放射パルス間の測定信
号の値を表し、Ｔは放射パルスの開始に続く積分期間を
表わす。
【００２１】図４では、斜線を付した領域の大きさがα
の値を表わす。値Ｖｍ（０） 及びＶｍｌ を決定する
為に、測定回路５０は、測定信号Ｖｍが供給される第１
サンプル・ホールド回路５１及び第２サンプル・ホール
ド回路５２を有する。通常、制御回路５３は信号Ｖｉｎ
からサンプル・ホールド回路５１及び５２に対する制
御信号を取出し、サンプル・ホールド回路５１がその都
度放射パルスの開始時に測定信号をサンプリングし、そ
の値を次のサンプリング瞬時まで保持し、一方サンプル
・ホールド回路５２は例えば放射パルスの終了後の固定
瞬時で各２つの放射パルス間のＶｍの値をサンプリング
し、この値を次のサンプリング処理まで保持する。
の値を表わす。値Ｖｍ（０） 及びＶｍｌ を決定する
為に、測定回路５０は、測定信号Ｖｍが供給される第１
サンプル・ホールド回路５１及び第２サンプル・ホール
ド回路５２を有する。通常、制御回路５３は信号Ｖｉｎ
からサンプル・ホールド回路５１及び５２に対する制
御信号を取出し、サンプル・ホールド回路５１がその都
度放射パルスの開始時に測定信号をサンプリングし、そ
の値を次のサンプリング瞬時まで保持し、一方サンプル
・ホールド回路５２は例えば放射パルスの終了後の固定
瞬時で各２つの放射パルス間のＶｍの値をサンプリング
し、この値を次のサンプリング処理まで保持する。
【００２２】サンプル・ホールド回路５１の出力端子は
電流源５４の制御入力端子に結合され、この電流源５４
が電流をコンデンサ５５に供給する。この電流源５４は
その制御入力端子における信号値に比例する値の電流を
生じる種類のものとする。測定信号Ｖｍは他の電流源５
６にも供給され、この電流源５６が測定信号Ｖｍに比例
する値の電流をコンデンサ５５から引き出すようにする
。このコンデンサ５５には第３サンプル・ホールド回路
５７の入力端子が接続されている。このサンプル・ホー
ルド回路５７は制御回路５３により、放射パルスの開始
瞬時に対し期間Ｔ（Ｔ＝０を含む）だけシフトした瞬時
にコンデンサ５５の両端間の電圧がサンプリングされ次
のサンプリング期間まで保持されるように制御される。 サンプル・ホールド回路５７によって行われるサンプリ
ング処理と次の放射パルスの開始時との間の期間中はコ
ンデンサ５５が制御回路５３によって制御されるスイッ
チ５８により短絡される。このようにして、サンプル・
ホールド回路５１の出力端子における測定信号Ｖｍ（０
） と測定信号Ｖｍの瞬時値との間の差の積分値がサン
プル・ホールド回路５７の出力端子に常に得られる。 この積分値が結果を形成する速度の目安である。サンプ
ル・ホールド回路５７の出力端子における信号は結果形
成速度の目安として直接用いうる。しかし、結果形成速
度に関係しない層３の光学特性の変化によって生じる信
号Ｖｍの変化を減少せしめる為に、サンプル・ホールド
回路５７の出力端子に得られる積分値をサンプル・ホー
ルド回路５２の出力信号で割ることによりこの積分値を
正規化するのが好ましい。この目的の為に、測定回路５
０が除算回路５９を有する。この除算回路５９の出力端
子における正規化信号を以後正規化形成速度信号α（ｔ
） と称する。
電流源５４の制御入力端子に結合され、この電流源５４
が電流をコンデンサ５５に供給する。この電流源５４は
その制御入力端子における信号値に比例する値の電流を
生じる種類のものとする。測定信号Ｖｍは他の電流源５
６にも供給され、この電流源５６が測定信号Ｖｍに比例
する値の電流をコンデンサ５５から引き出すようにする
。このコンデンサ５５には第３サンプル・ホールド回路
５７の入力端子が接続されている。このサンプル・ホー
ルド回路５７は制御回路５３により、放射パルスの開始
瞬時に対し期間Ｔ（Ｔ＝０を含む）だけシフトした瞬時
にコンデンサ５５の両端間の電圧がサンプリングされ次
のサンプリング期間まで保持されるように制御される。 サンプル・ホールド回路５７によって行われるサンプリ
ング処理と次の放射パルスの開始時との間の期間中はコ
ンデンサ５５が制御回路５３によって制御されるスイッ
チ５８により短絡される。このようにして、サンプル・
ホールド回路５１の出力端子における測定信号Ｖｍ（０
） と測定信号Ｖｍの瞬時値との間の差の積分値がサン
プル・ホールド回路５７の出力端子に常に得られる。 この積分値が結果を形成する速度の目安である。サンプ
ル・ホールド回路５７の出力端子における信号は結果形
成速度の目安として直接用いうる。しかし、結果形成速
度に関係しない層３の光学特性の変化によって生じる信
号Ｖｍの変化を減少せしめる為に、サンプル・ホールド
回路５７の出力端子に得られる積分値をサンプル・ホー
ルド回路５２の出力信号で割ることによりこの積分値を
正規化するのが好ましい。この目的の為に、測定回路５
０が除算回路５９を有する。この除算回路５９の出力端
子における正規化信号を以後正規化形成速度信号α（ｔ
） と称する。
【００２３】正規化形成速度α（ｔ） を決定する為に
は、積分期間を放射パルスの開始に連続させる必要がな
いことに注意すべきである。或いはまた、積分期間を放
射パルスの開始から一定の期間だけシフトさせることが
できる。しかし、信号Ｖｍの変化は放射パルスの開始直
後に最大となる為、積分期間を放射パルスの開始に連続
させるので好ましい。
は、積分期間を放射パルスの開始に連続させる必要がな
いことに注意すべきである。或いはまた、積分期間を放
射パルスの開始から一定の期間だけシフトさせることが
できる。しかし、信号Ｖｍの変化は放射パルスの開始直
後に最大となる為、積分期間を放射パルスの開始に連続
させるので好ましい。
【００２４】更に、結果形成速度を表わす信号を決定す
る為には、測定信号Ｖｍを積分する必要はないことに注
意すべきである。原理的には、測定信号が変化する速度
、従って結果形成速度を異なる方法でも決定しうる。こ
の決定は例えば、放射パルスの開始後で予め決定した２
つの瞬時間での測定信号の差を決定することにより可能
となる。更に、放射パルスの幅は放射パルスの開始時に
おける結果形成速度に影響を及ぼさない為、通常情報信
号記録で生じるような異なる幅の放射パルスに対し結果
形成速度の目安を匹敵しうるものとする。
る為には、測定信号Ｖｍを積分する必要はないことに注
意すべきである。原理的には、測定信号が変化する速度
、従って結果形成速度を異なる方法でも決定しうる。こ
の決定は例えば、放射パルスの開始後で予め決定した２
つの瞬時間での測定信号の差を決定することにより可能
となる。更に、放射パルスの幅は放射パルスの開始時に
おける結果形成速度に影響を及ぼさない為、通常情報信
号記録で生じるような異なる幅の放射パルスに対し結果
形成速度の目安を匹敵しうるものとする。
【００２５】上述した実施例は、反射放射の量が結果の
成果として減少するいわゆる“ブラック記録”層に適用
される。しかし、本発明は、反射放射の量が結果の成果
として増大するいわゆる“ホワイト記録”層にも適用し
うる。
成果として減少するいわゆる“ブラック記録”層に適用
される。しかし、本発明は、反射放射の量が結果の成果
として増大するいわゆる“ホワイト記録”層にも適用し
うる。
【００２６】図６は正規化形成速度信号α（ｔ） に依
存して放射ビーム７の書込みエネルギーを適合させる回
路６０を示す。この図中では、これまでの図中の素子に
対応する素子に同じ符号を付してある。回路６０では、
差分段６１が正規化形成速度信号α（ｔ） と基準信号
αｏ との間の差を決定する。これによって決定された
差は通常の制御回路、例えば積分段６２を有する制御回
路に供給される。この積分段６２は、これに供給される
信号の時間積分である信号値の出力信号を生じる型のも
のとする。この積分段の出力信号Δｉは、必要に応じ信
号リミッタ段６３を介して、加算段６４に供給される。 この加算段６４は放射ビーム７の書込みエネルギーＰｓ
の公称設定値を表わす信号値Ｉｈｏ の信号をも受ける
。この加算段６４は、書込みエネルギーＰｓを所望のも
のにする積分値を有する出力信号を生じる。回路６０は
以下のように動作する。調整信号値Ｉｈｏ により表さ
れる書込みエネルギーＲの公称値は、得られる結果の大
きさが最適な書込み条件で最適となるように選択する。 この場合基準信号αｏ は対応する結果形成速度を表わ
す。書込み条件が変化する場合には、結果は公称書込み
エネルギーで最適な寸法を有さなくなる。従って、基準
信号αｏ と正規化形成速度信号α（ｔ） との間に偏
差が生じる。これが為、積分段６２の出力信号ΔＩ 、
従って書込みエネルギーＰｓの適応が変化する。この様
にして正規化形成速度信号α（ｔ） と基準信号αｏ
との間の差が最小となるように書込みエネルギーが常に
適合される。書込み領域の寸法は結果形成速度に厳密に
相関している為、書込み条件が変化する場合に書込み領
域の寸法がほぼ最適となるように適合が行われる。
存して放射ビーム７の書込みエネルギーを適合させる回
路６０を示す。この図中では、これまでの図中の素子に
対応する素子に同じ符号を付してある。回路６０では、
差分段６１が正規化形成速度信号α（ｔ） と基準信号
αｏ との間の差を決定する。これによって決定された
差は通常の制御回路、例えば積分段６２を有する制御回
路に供給される。この積分段６２は、これに供給される
信号の時間積分である信号値の出力信号を生じる型のも
のとする。この積分段の出力信号Δｉは、必要に応じ信
号リミッタ段６３を介して、加算段６４に供給される。 この加算段６４は放射ビーム７の書込みエネルギーＰｓ
の公称設定値を表わす信号値Ｉｈｏ の信号をも受ける
。この加算段６４は、書込みエネルギーＰｓを所望のも
のにする積分値を有する出力信号を生じる。回路６０は
以下のように動作する。調整信号値Ｉｈｏ により表さ
れる書込みエネルギーＲの公称値は、得られる結果の大
きさが最適な書込み条件で最適となるように選択する。 この場合基準信号αｏ は対応する結果形成速度を表わ
す。書込み条件が変化する場合には、結果は公称書込み
エネルギーで最適な寸法を有さなくなる。従って、基準
信号αｏ と正規化形成速度信号α（ｔ） との間に偏
差が生じる。これが為、積分段６２の出力信号ΔＩ 、
従って書込みエネルギーＰｓの適応が変化する。この様
にして正規化形成速度信号α（ｔ） と基準信号αｏ
との間の差が最小となるように書込みエネルギーが常に
適合される。書込み領域の寸法は結果形成速度に厳密に
相関している為、書込み条件が変化する場合に書込み領
域の寸法がほぼ最適となるように適合が行われる。
【００２７】前述したように、積分段６２の出力信号は
リミッタ段６３を経て加算段に供給しうる。信号リミッ
タ段６３は、供給された信号が特定のリミット（限界）
値を越える場合にこの信号リミッタ段を通過する信号を
この特定のリミット値に制限する通常の種類のものとす
る。信号リミッタ段６３を用いるのは特に、書込みエネ
ルギーＰｓの適応による補償が最早や不可能となる程度
に激しく記録（書込み）条件が変化するおそれがある場
合に有利である。この場合、信号リミッタ段６３を用い
ることにより書込みエネルギーの設定値Ｐｓがレーザ９
又は記録担体２を損傷せしめる程度に大きくなるのを防
止する。入力信号が長期間リミット値を越えると、この
ことにより、記録領域への情報を最早や信頼的なものと
みなしえない程度に激しく記録条件が変化したというこ
とをも表している。従って、このような場合には記録領
域の形成を中止するのが好ましい。この中止は、例えば
、予め定めた期間よりも長い期間の間入力信号がリミッ
ト値を越えるということを表わす信号リミッタ段６３か
らのモニタ信号によって行うことができ、このモニタ信
号は情報信号Ｖｉと一緒にゲート回路、例えばＡＮＤ
ゲート６５に供給し、このＡＮＤ ゲート６５によりモ
ニタ信号に応じて情報信号Ｖｉの伝送を中止することが
できる。
リミッタ段６３を経て加算段に供給しうる。信号リミッ
タ段６３は、供給された信号が特定のリミット（限界）
値を越える場合にこの信号リミッタ段を通過する信号を
この特定のリミット値に制限する通常の種類のものとす
る。信号リミッタ段６３を用いるのは特に、書込みエネ
ルギーＰｓの適応による補償が最早や不可能となる程度
に激しく記録（書込み）条件が変化するおそれがある場
合に有利である。この場合、信号リミッタ段６３を用い
ることにより書込みエネルギーの設定値Ｐｓがレーザ９
又は記録担体２を損傷せしめる程度に大きくなるのを防
止する。入力信号が長期間リミット値を越えると、この
ことにより、記録領域への情報を最早や信頼的なものと
みなしえない程度に激しく記録条件が変化したというこ
とをも表している。従って、このような場合には記録領
域の形成を中止するのが好ましい。この中止は、例えば
、予め定めた期間よりも長い期間の間入力信号がリミッ
ト値を越えるということを表わす信号リミッタ段６３か
らのモニタ信号によって行うことができ、このモニタ信
号は情報信号Ｖｉと一緒にゲート回路、例えばＡＮＤ
ゲート６５に供給し、このＡＮＤ ゲート６５によりモ
ニタ信号に応じて情報信号Ｖｉの伝送を中止することが
できる。
【００２８】図６における信号リミッタ段６３の位置は
図示の位置に限定されず、加算段６４と制御回路１３と
の間にすることもできることに注意すべきである。所望
の書込みエネルギーの設定値が予め定めた期間よりも長
い期間の間特定のリミット値よりも大きいかこの値に等
しいか否かを表わすモニタ信号の発生に関しては、種々
の方法で実現しうること当業者にとって明らかである。 公称書込みエネルギーを表わす調整信号値Ｉｈｏ 及び
基準信号αｏ は一定値にすることができる。しかし、
書込みエネルギーの設定の精度に極めて厳しい条件が課
せられている場合には、結果パターンの実際の記録の前
に少なくとも基準値αｏ を別の校正処理で決定するの
が好ましい。このような校正処理中に書込みエネルギー
の種々の設定値に対し結果の検査パターンが形成され、
形成されたこれらの検査パターンに基づいて最適寸法の
パターンに属する形成速度信号αが基準信号αｏ とし
て選択される。最適寸法の結果のパターンを決定する装
置は、特にオランダ国特許出願第８，９０１，５９１
号及び第８，９０１，３４５ 号明細書に記載されてお
り、これら明細書に記載された装置はそれぞれ光学手段
及び磁気手段によって光学特性の変化した結果のパター
ンを形成するものである。これらの特許出願明細書に記
載された校正処理では、検査情報パターンが記録担体上
のトラック中のアドレス可能な位置に異なる書込みエネ
ルギーＰｓで記録されている。これらの検査情報パター
ンは後に読出され、読出された情報に基づいて最適な書
込み強度の検査情報パターンが選択され、基準信号αｏ
が、選択された検査情報パターンに対応する形成速度
信号αに適合される。調整信号値Ｉｈｏ と基準信号α
ｏ とを校正処理で決定する記録装置の一実施例を図７
に示す。この記録装置はモータ１００ の形態の駆動手
段と、放射感応記録担体４′を軸線１０２ を中心とし
て回転させるターンテーブル１０１ とを有する。この
記録担体は、サーボトラックのトラック情報の形態でア
ドレス情報が記録された種類のものとする。このような
記録担体４′はオランダ国特許出願第８，８００，１５
１ 号、第８，９００，７６６ 号及び第８９，００１
，１４５号に詳細に記載されている。これらの特許出願
明細書に記載された記録担体は、ウォブル（揺れ） の
周波数がアドレス符号ＡＴＩＰを有する位置情報信号に
従って変調されるウォブリングサーボトラックを有して
いる。回転する記録担体４′に対向して通常の型の光学
的な読出し／書込みヘッド１０５ が配置されており、
この読出し／書込みヘッド１０５ は、例えばモータ１
０３ 及び軸１０４ を有する位置決め装置により記録
担体４′に対して径方向に移動しうる。読出し／書込み
ヘッド１０５ は所望に応じ情報パターンを形成するの
と情報パターンを読出すのと双方に用いることができる
。この目的の為に、読出し／書込みヘッド１０５ は駆
動回路１０７ により調整しうる放射エネルギーを有す
る放射ビーム１０７ａを発生する半導体レーザを有する
ようにする。この放射ビーム１０７ａは既知のように記
録担体４′のサーボトラックをねらっている。このビー
ム１０７ａは次に記録担体４′から部分的に反射され、
反射されたビームはトラックウォブルに応じて且つ情報
パターンが存在する場合にはこの情報パターンに応じて
も変調される。反射したビームは放射感応検出器１０８
ａに向けられ、この検出器がビーム変調に対応する読出
し信号Ｖｌ″を発生する。この信号Ｖｌ″はトラックウ
ォブルにより生ぜしめられ通常の走査速度で約２２ＫＨ
ｚ である周波数の成分を有している。モータ１００
の速度は、このモータを制御するモータ制御回路１０８
により、読出し信号Ｖｌ″中のトラックウォブルによ
り生ぜしめられた成分の周波数がほぼ２２ＫＨｚ に等
しく保たれるように制御される。読出し信号Ｖｌ″は検
出回路１０９ にも供給され、この検出回路により読出
し信号Ｖｌ″中のトラックウォブル成分からアドレス符
号ＡＴＩＰを生ぜしめ、これらアドレス符号を例えば、
マイクロコンピュータ１１０を有する制御ユニットに供
給する。読出し信号Ｖｌ″は更に高域通過特性を有する
増幅回路１１１ に供給され、トラックウォブルにより
読出し信号Ｖｌ″中に生ぜしめられる信号成分を除去す
る。これにより低周波成分が除去された読出し信号Ｖｌ
′が分析回路６５に供給される。この分析回路は例えば
前記のオランダ国特許出願第８，９０１，５９１ 号明
細書に詳細に説明されている種類のものとすることがで
きる。この分析回路６５の出力端子における分析信号Ｖ
ａはパターンが最適パターンからずれている程度を表し
、この信号もマイクロコンピュータ１１０ に供給され
る。記録装置はさらに通常のＣＩＲＣ符号化回路１１２
を有し、このＣＩＲＣ符号化回路には、マイクロコン
ピュータ１１０ により制御されるスイッチ１１５ を
介して、記録すべき信号Ｖｉを供給しうる。このＣＩＲ
Ｃ符号化回路１１２ はＥＦＭ 変調器１１３ と直列
に配置されている。ＥＦＭ 変調器１１３ の出力端子
は駆動回路１０７ に接続されている。この駆動回路１
０７ は、制御信号を受ける為にマイクロコンピュータ
１１０ に結合された可制御型とする。駆動回路１０７
はマイクロコンピュータ１１０ から受けた制御信号
に応じて、発生せしめられた放射ビーム１０７ａを一定
の低エネルギーＰｌに設定するか、或いは駆動回路１０
７ は放射ビームのエネルギーをＥＦＭ 変調器１１３
から受けたＥＦＭ 被変調信号に応じて低エネルギー
Ｐｌ及び書込みエネルギーＰｓ間に設定する。更に、書
込みエネルギーＰｓはマイクロコンピュータ１１０ に
より調整せしめることができる。検査情報パターンを発
生させる目的の為に、図９に示す記録装置は信号発生器
１１４ を有し、この信号発生器により例えばランダム
なデジタル信号を発生せしめるか或いはアナログ信号値
零に相当する信号（デジタルサイレンス信号）を発生せ
しめる。 検査情報パターンは記録担体４′のサーボトラック中の
アドレス可能位置に形成するのが好ましい。記録担体４
′のフォーマットが前述したオランダ国特許出願第８，
９００，７６６ 号明細書に記載されたようなものであ
り、サーボトラックが順次に、内容の一次テーブル（一
時ＴＯＣ）を記録する領域（ＰＭＡ） 、内容の限定テ
ーブル（ＴＯＣ） を記録する領域（Ｌｅａｄ Ｉｎ
Ａｒｅａ）及びプログラム領域（Ｐｒｏｇｒａｍ Ａｒ
ｅａ）に分割されている場合には、検査情報パターンは
内容の一時テーブルを記録する領域（ＰＭＡ） に先行
する領域（ＰＣＡ） に記録するのが好ましい。
図示の位置に限定されず、加算段６４と制御回路１３と
の間にすることもできることに注意すべきである。所望
の書込みエネルギーの設定値が予め定めた期間よりも長
い期間の間特定のリミット値よりも大きいかこの値に等
しいか否かを表わすモニタ信号の発生に関しては、種々
の方法で実現しうること当業者にとって明らかである。 公称書込みエネルギーを表わす調整信号値Ｉｈｏ 及び
基準信号αｏ は一定値にすることができる。しかし、
書込みエネルギーの設定の精度に極めて厳しい条件が課
せられている場合には、結果パターンの実際の記録の前
に少なくとも基準値αｏ を別の校正処理で決定するの
が好ましい。このような校正処理中に書込みエネルギー
の種々の設定値に対し結果の検査パターンが形成され、
形成されたこれらの検査パターンに基づいて最適寸法の
パターンに属する形成速度信号αが基準信号αｏ とし
て選択される。最適寸法の結果のパターンを決定する装
置は、特にオランダ国特許出願第８，９０１，５９１
号及び第８，９０１，３４５ 号明細書に記載されてお
り、これら明細書に記載された装置はそれぞれ光学手段
及び磁気手段によって光学特性の変化した結果のパター
ンを形成するものである。これらの特許出願明細書に記
載された校正処理では、検査情報パターンが記録担体上
のトラック中のアドレス可能な位置に異なる書込みエネ
ルギーＰｓで記録されている。これらの検査情報パター
ンは後に読出され、読出された情報に基づいて最適な書
込み強度の検査情報パターンが選択され、基準信号αｏ
が、選択された検査情報パターンに対応する形成速度
信号αに適合される。調整信号値Ｉｈｏ と基準信号α
ｏ とを校正処理で決定する記録装置の一実施例を図７
に示す。この記録装置はモータ１００ の形態の駆動手
段と、放射感応記録担体４′を軸線１０２ を中心とし
て回転させるターンテーブル１０１ とを有する。この
記録担体は、サーボトラックのトラック情報の形態でア
ドレス情報が記録された種類のものとする。このような
記録担体４′はオランダ国特許出願第８，８００，１５
１ 号、第８，９００，７６６ 号及び第８９，００１
，１４５号に詳細に記載されている。これらの特許出願
明細書に記載された記録担体は、ウォブル（揺れ） の
周波数がアドレス符号ＡＴＩＰを有する位置情報信号に
従って変調されるウォブリングサーボトラックを有して
いる。回転する記録担体４′に対向して通常の型の光学
的な読出し／書込みヘッド１０５ が配置されており、
この読出し／書込みヘッド１０５ は、例えばモータ１
０３ 及び軸１０４ を有する位置決め装置により記録
担体４′に対して径方向に移動しうる。読出し／書込み
ヘッド１０５ は所望に応じ情報パターンを形成するの
と情報パターンを読出すのと双方に用いることができる
。この目的の為に、読出し／書込みヘッド１０５ は駆
動回路１０７ により調整しうる放射エネルギーを有す
る放射ビーム１０７ａを発生する半導体レーザを有する
ようにする。この放射ビーム１０７ａは既知のように記
録担体４′のサーボトラックをねらっている。このビー
ム１０７ａは次に記録担体４′から部分的に反射され、
反射されたビームはトラックウォブルに応じて且つ情報
パターンが存在する場合にはこの情報パターンに応じて
も変調される。反射したビームは放射感応検出器１０８
ａに向けられ、この検出器がビーム変調に対応する読出
し信号Ｖｌ″を発生する。この信号Ｖｌ″はトラックウ
ォブルにより生ぜしめられ通常の走査速度で約２２ＫＨ
ｚ である周波数の成分を有している。モータ１００
の速度は、このモータを制御するモータ制御回路１０８
により、読出し信号Ｖｌ″中のトラックウォブルによ
り生ぜしめられた成分の周波数がほぼ２２ＫＨｚ に等
しく保たれるように制御される。読出し信号Ｖｌ″は検
出回路１０９ にも供給され、この検出回路により読出
し信号Ｖｌ″中のトラックウォブル成分からアドレス符
号ＡＴＩＰを生ぜしめ、これらアドレス符号を例えば、
マイクロコンピュータ１１０を有する制御ユニットに供
給する。読出し信号Ｖｌ″は更に高域通過特性を有する
増幅回路１１１ に供給され、トラックウォブルにより
読出し信号Ｖｌ″中に生ぜしめられる信号成分を除去す
る。これにより低周波成分が除去された読出し信号Ｖｌ
′が分析回路６５に供給される。この分析回路は例えば
前記のオランダ国特許出願第８，９０１，５９１ 号明
細書に詳細に説明されている種類のものとすることがで
きる。この分析回路６５の出力端子における分析信号Ｖ
ａはパターンが最適パターンからずれている程度を表し
、この信号もマイクロコンピュータ１１０ に供給され
る。記録装置はさらに通常のＣＩＲＣ符号化回路１１２
を有し、このＣＩＲＣ符号化回路には、マイクロコン
ピュータ１１０ により制御されるスイッチ１１５ を
介して、記録すべき信号Ｖｉを供給しうる。このＣＩＲ
Ｃ符号化回路１１２ はＥＦＭ 変調器１１３ と直列
に配置されている。ＥＦＭ 変調器１１３ の出力端子
は駆動回路１０７ に接続されている。この駆動回路１
０７ は、制御信号を受ける為にマイクロコンピュータ
１１０ に結合された可制御型とする。駆動回路１０７
はマイクロコンピュータ１１０ から受けた制御信号
に応じて、発生せしめられた放射ビーム１０７ａを一定
の低エネルギーＰｌに設定するか、或いは駆動回路１０
７ は放射ビームのエネルギーをＥＦＭ 変調器１１３
から受けたＥＦＭ 被変調信号に応じて低エネルギー
Ｐｌ及び書込みエネルギーＰｓ間に設定する。更に、書
込みエネルギーＰｓはマイクロコンピュータ１１０ に
より調整せしめることができる。検査情報パターンを発
生させる目的の為に、図９に示す記録装置は信号発生器
１１４ を有し、この信号発生器により例えばランダム
なデジタル信号を発生せしめるか或いはアナログ信号値
零に相当する信号（デジタルサイレンス信号）を発生せ
しめる。 検査情報パターンは記録担体４′のサーボトラック中の
アドレス可能位置に形成するのが好ましい。記録担体４
′のフォーマットが前述したオランダ国特許出願第８，
９００，７６６ 号明細書に記載されたようなものであ
り、サーボトラックが順次に、内容の一次テーブル（一
時ＴＯＣ）を記録する領域（ＰＭＡ） 、内容の限定テ
ーブル（ＴＯＣ） を記録する領域（Ｌｅａｄ Ｉｎ
Ａｒｅａ）及びプログラム領域（Ｐｒｏｇｒａｍ Ａｒ
ｅａ）に分割されている場合には、検査情報パターンは
内容の一時テーブルを記録する領域（ＰＭＡ） に先行
する領域（ＰＣＡ） に記録するのが好ましい。
【００２９】マイクロコンピュータ１１０ には、公称
値Ｉｈｏ 及び基準信号αｏ を決定する処理を行わし
めるのに適した制御プログラムがローディングされてい
る。このようなプログラムの一例のフローチャートを図
８に示す。 ステップＳ１では、検査情報パターンを記録するのに用
いるべきトラック部分のアドレスが決定される。ステッ
プＳ２では、このアドレスを有するトラック部分がマイ
クロコンピュータ１１０ の制御の下に置かれる。この
トラック部分の領域に達すると、ステップＳ３において
書込みレベルＰｓが初期値Ｐｏに設定される。関連の記
録担体に対するＰｏの値は前記のオランダ国特許出願第
８，９０１，１４５ 号明細書に記載されているように
して記録担体上に予め記録しておくのが適している。こ
の場合、この値は調整サイクルの前に読出すことができ
る。更に、マイクロコンピュータ１１０による制御の下
で、信号発生器１１４ が可制御スイッチ１１５ によ
りＣＩＲＣ符号化回路１１２ に接続され、信号発生器
の出力信号により決定されたＥＦＭ 被変調検査信号が
ＥＦＭ 変調器１１６ により生ぜしめられる。最後に
、ステップＳ４で、駆動回路１０７ は制御信号Ｌ／Ｓ
により、放射ビーム１０７ａのエネルギーがＥＦＭ変
調器１１３ の出力端子におけるＥＦＭ 被変調信号Ｖ
ｅｆｍに応じて書込みエネルギーＰｓの選択値とエネル
ギーＰｌとの間で切換えられ、これによりＥＦＭ 信号
に対応する検査情報パターンが記録されるように設定さ
れる。ステップＳ４では更に、対応する正規化形成速度
信号α（ｔ） が測定回路５０によって決定され、これ
がエネルギー設定値Ｐｌに対応する読出し信号Ｉｈと一
緒にマイクロコンピュータ１１０ に記憶される。ステ
ップＳ５では、検出回路１０９ により検出されたアド
レス符号ＡＴＩＰがコンピュータ１１０ によって読出
される。ステップＳ６では、このアドレス符号が前に読
出されたものと比べて変わっているか否かが確認される
。変わっていない場合には、ステップＳ６が繰り返され
る。変わった場合には、ステップＳ７で、読出された絶
対時間符号が検査パターンを記録するためのトラック部
分の終了を表しているか否かが検査される。この終了を
表していない場合には、ステップＳ８が行われ、このス
テップＳ８で調整信号値ｉｈを適合させることにより書
込みエネルギーＰｓを少量ΔＳ だけ増大させ、その後
プログラムがステップＳ５に進む。ステップＳ７で、記
録するためのトラック部分の終了部に達したことが分か
ると、ステップＳ９が行われ、このステップで駆動回路
１０７ は制御信号Ｌ／Ｓ により放射ビーム１０７ａ
のエネルギーが低エネルギーレベルＰｌで一定に維持さ
れるように設定される。ステップＳ１０ では、検査パ
ターンが設けられたトラック部分の開始点に位置し、こ
れが読出される。ステップＳ１１ では、分析信号Ｖａ
がマイクロコンピュータ１１０ により読出される。ス
テップＳ１２ では、分析信号Ｖａの値が最適な書込み
エネルギーＰｓに相当するか否かが検査される。信号Ｖ
ａの値がＰｓに相当しない場合には、プログラムはステ
ップＳ１１ に進む。信号Ｖａの値がＰｓに相当する場
合には、検出回路１０９により検出されたアドレス符号
がステップＳ１３ で読出される。次にステップＳ１４
で、マイクロコンピュータに記憶された調整信号値ｉ
ｈ及び正規化形成速度信号α（ｔ） が前記のアドレス
と一緒に再び読出され、これにより読出された情報に応
じて基準信号αｏ 及び調整信号値Ｉｈｏ が調整され
る。次に、信号Ｖｉに対応する領域のパターンの形成中
、この決定された基準信号αｏ と測定回路５０の出力
端子における瞬時的な正規化形成速度信号α（ｔ） と
の間の差に基づいて書込みエネルギーが再び適合される
。この目的の為に、調整信号値Ｉｈの適合により、正規
化形成速度信号α（ｔ） と基準信号αｏ との間の差
を最小にするように書込みエネルギーＰｓを常に適合さ
せる適切なプログラムをマイクロコンピュータにローデ
ィングする。
値Ｉｈｏ 及び基準信号αｏ を決定する処理を行わし
めるのに適した制御プログラムがローディングされてい
る。このようなプログラムの一例のフローチャートを図
８に示す。 ステップＳ１では、検査情報パターンを記録するのに用
いるべきトラック部分のアドレスが決定される。ステッ
プＳ２では、このアドレスを有するトラック部分がマイ
クロコンピュータ１１０ の制御の下に置かれる。この
トラック部分の領域に達すると、ステップＳ３において
書込みレベルＰｓが初期値Ｐｏに設定される。関連の記
録担体に対するＰｏの値は前記のオランダ国特許出願第
８，９０１，１４５ 号明細書に記載されているように
して記録担体上に予め記録しておくのが適している。こ
の場合、この値は調整サイクルの前に読出すことができ
る。更に、マイクロコンピュータ１１０による制御の下
で、信号発生器１１４ が可制御スイッチ１１５ によ
りＣＩＲＣ符号化回路１１２ に接続され、信号発生器
の出力信号により決定されたＥＦＭ 被変調検査信号が
ＥＦＭ 変調器１１６ により生ぜしめられる。最後に
、ステップＳ４で、駆動回路１０７ は制御信号Ｌ／Ｓ
により、放射ビーム１０７ａのエネルギーがＥＦＭ変
調器１１３ の出力端子におけるＥＦＭ 被変調信号Ｖ
ｅｆｍに応じて書込みエネルギーＰｓの選択値とエネル
ギーＰｌとの間で切換えられ、これによりＥＦＭ 信号
に対応する検査情報パターンが記録されるように設定さ
れる。ステップＳ４では更に、対応する正規化形成速度
信号α（ｔ） が測定回路５０によって決定され、これ
がエネルギー設定値Ｐｌに対応する読出し信号Ｉｈと一
緒にマイクロコンピュータ１１０ に記憶される。ステ
ップＳ５では、検出回路１０９ により検出されたアド
レス符号ＡＴＩＰがコンピュータ１１０ によって読出
される。ステップＳ６では、このアドレス符号が前に読
出されたものと比べて変わっているか否かが確認される
。変わっていない場合には、ステップＳ６が繰り返され
る。変わった場合には、ステップＳ７で、読出された絶
対時間符号が検査パターンを記録するためのトラック部
分の終了を表しているか否かが検査される。この終了を
表していない場合には、ステップＳ８が行われ、このス
テップＳ８で調整信号値ｉｈを適合させることにより書
込みエネルギーＰｓを少量ΔＳ だけ増大させ、その後
プログラムがステップＳ５に進む。ステップＳ７で、記
録するためのトラック部分の終了部に達したことが分か
ると、ステップＳ９が行われ、このステップで駆動回路
１０７ は制御信号Ｌ／Ｓ により放射ビーム１０７ａ
のエネルギーが低エネルギーレベルＰｌで一定に維持さ
れるように設定される。ステップＳ１０ では、検査パ
ターンが設けられたトラック部分の開始点に位置し、こ
れが読出される。ステップＳ１１ では、分析信号Ｖａ
がマイクロコンピュータ１１０ により読出される。ス
テップＳ１２ では、分析信号Ｖａの値が最適な書込み
エネルギーＰｓに相当するか否かが検査される。信号Ｖ
ａの値がＰｓに相当しない場合には、プログラムはステ
ップＳ１１ に進む。信号Ｖａの値がＰｓに相当する場
合には、検出回路１０９により検出されたアドレス符号
がステップＳ１３ で読出される。次にステップＳ１４
で、マイクロコンピュータに記憶された調整信号値ｉ
ｈ及び正規化形成速度信号α（ｔ） が前記のアドレス
と一緒に再び読出され、これにより読出された情報に応
じて基準信号αｏ 及び調整信号値Ｉｈｏ が調整され
る。次に、信号Ｖｉに対応する領域のパターンの形成中
、この決定された基準信号αｏ と測定回路５０の出力
端子における瞬時的な正規化形成速度信号α（ｔ） と
の間の差に基づいて書込みエネルギーが再び適合される
。この目的の為に、調整信号値Ｉｈの適合により、正規
化形成速度信号α（ｔ） と基準信号αｏ との間の差
を最小にするように書込みエネルギーＰｓを常に適合さ
せる適切なプログラムをマイクロコンピュータにローデ
ィングする。
【００３０】上述した校正処理の例で、最適な偏差を有
するパターンを決定する方法は可能な種々の方法の１つ
であるにすぎないことに注意すべきである。このパター
ンを決定する他の方法については前記のオランダ国特許
出願第８，９０５，１９１ 号及び第８，９０１，３４
５ 号明細書を参照しうる。この場合、関連の形成速度
信号αを基準信号αｏ として用いることのみが重要な
ことである。
するパターンを決定する方法は可能な種々の方法の１つ
であるにすぎないことに注意すべきである。このパター
ンを決定する他の方法については前記のオランダ国特許
出願第８，９０５，１９１ 号及び第８，９０１，３４
５ 号明細書を参照しうる。この場合、関連の形成速度
信号αを基準信号αｏ として用いることのみが重要な
ことである。
【図１】放射ビームにより層を走査した場合に得られる
走査スポット中の通常のエネルギー分布を示す説明図で
ある。
走査スポット中の通常のエネルギー分布を示す説明図で
ある。
【図２】反射率を減少させた領域の形成中に層から反射
されたエネルギーの分布を示す説明図である。
されたエネルギーの分布を示す説明図である。
【図３】本発明による装置の一実施例を示す構成図であ
る。
る。
【図４】放射エネルギーと図３及び図７に示す装置で生
じるような反射放射から取出した測定信号とを示す線図
である。
じるような反射放射から取出した測定信号とを示す線図
である。
【図５】図３及び図７に示す装置に用いる回路を示すブ
ロック線図である。
ロック線図である。
【図６】図３及び図７に示す装置に用いうる回路を示す
ブロック線図である。
ブロック線図である。
【図７】本発明による装置の他の実施例を示す構成図で
ある。
ある。
【図８】図７に示す装置におけるマイクロコンピュータ
により実行されるプログラムのフローチャートを示す図
である。
により実行されるプログラムのフローチャートを示す図
である。
２ 記録担体
３ 層
４ 透明基板
４′ 放射感応記録担体
５ 駆動システム
６ 軸線
７ 放射ビーム
８ 書込みヘッド
９ レーザ
１０ ハーフミラー
１１ 検出システム
１３ 制御回路
４１ 結果
５０ 測定回路
５１ 第１サンプル・ホールド回路
５２ 第２サンプル・ホールド回路
５３ 制御回路
５７ 第３サンプル・ホールド回路
５９ 除算回路
６１ 差分段
６２ 積分段
６３ 信号リミッタ段
６４ 加算段
６５ 分析回路
１００， １０３ モータ
１０１ ターンテーブル
１０４ 軸
１０５ 読出し／書込みヘッド
１０７ 駆動回路
１０７ａ 放射ビーム
１０８ モータ制御回路
１０８ａ 放射感応検出器
１０９ 検出回路
１１０ マイクロコンピュータ
１１２ ＣＩＲＣ符号化回路
１１３ ＥＦＭ 変調器
１１４ 信号発生器
１１５ スイッチ
Claims (12)
- 【請求項１】 記録層の光学特性に変化をもたらすの
に適した書込みエネルギーの放射パルスにより記録層を
局部的に加熱することにより、光学特性が変化した領域
を有する記録層を具える記録担体を形成するに当り、前
記の領域を形成する速度の目安を決定し、この決定した
目安に応じて書込みエネルギーを決定することを特徴と
する記録担体形成方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の記録担体形成方法に
おいて、前記の領域の形成中、放射ビームから生じ前記
の記録担体から反射された或いはこの記録担体を透過し
た放射の放射特性であって、変化した光学特性を表わす
放射特性を検出し、放射特性が生じている割合に基づい
て形成速度の目安を取出すことを特徴とする記録担体形
成方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の記録担体形成方法に
おいて、放射パルスの開始瞬時から予め決定した期間後
に位置する瞬時に前記の放射特性が放射中に生じる割合
を決定することにより速度の目安を得、これにより決定
した割合と前記の放射特性が瞬時的な放射中に生じる割
合との間の差を放射パルスの開始瞬時から予め定めた期
間後に位置する一定長の測定期間中積分することを特徴
とする記録担体形成方法。 - 【請求項４】 請求項２又は３に記載の記録担体形成
方法において、光学特性がまだ生じていない層の一部を
照射する場合に放射特性が生じる割合で除算することに
より速度の目安を正規化することを特徴とする記録担体
形成方法。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか一項に記載の
記録担体形成方法において、校正処理中異なる書込みエ
ネルギーの放射パルスにより領域を形成し、予め定めた
基準に応じて形成した最適形状の領域を選択し、最適形
状の領域の形成中に得た形成速度の前記の目安を基準値
として用い、他の領域の形成中の書込みエネルギーを前
記の基準値と前記の他の領域の形成中に取出した形成速
度の目安との差に依存して決定することを特徴とする記
録担体形成方法。 - 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか一項に記載の
記録担体形成方法において、決定した書込みエネルギー
が予め定めた期間よりも長い期間の間特定の限界値より
も大きいか、この限界値に等しい場合に、領域の形成を
中止することを特徴とする記録担体形成方法。 - 【請求項７】 光学特性を変化させた領域を有する記
録層を具える記録担体を形成する記録担体形成装置であ
って、書込みビームにより記録層を走査する手段と、放
射ビームのエネルギーを変調し、光学特性の変化をもた
らすのに適した書込みエネルギーを有する放射パルスを
得る手段と、書込みエネルギーを調整する手段と、変化
した光学特性を表わす特性が、走査されている記録担体
の部分から生じる放射中に生じる割合を検出するように
配置した検出手段とを具える記録担体形成装置において
、領域を形成する速度を表わす形成速度信号を測定信号
から取出す測定手段と、形成速度信号に応じて書込みエ
ネルギーを決定する手段とを具えたことを特徴とする記
録担体形成装置。 - 【請求項８】 請求項７に記載の記録担体形成装置に
おいて、形成速度信号を決定する為に、前記の測定手段
が、放射パルスの開始瞬時に対して予め定めた瞬時にあ
るサンプリング瞬時に測定信号をサンプリングするサン
プル・ホールド手段と、放射パルスの開始瞬時に対して
予め定めた位置にあり予め定めた長さの測定期間中測定
信号の瞬時値及びサンプル値間の差を積分する積分手段
とを具えていることを特徴とする記録担体形成装置。 - 【請求項９】 請求項８に記載の記録担体形成装置に
おいて、正規化値を得る為に、前記の測定手段が、放射
パルスが発生している期間の間に位置している第２サン
プリング瞬時に測定信号をサンプリングする第２のサン
プル・ホールド手段と、この第２のサンプル・ホールド
手段によって決定されたサンプル値で除算することによ
り形成速度信号を正規化する手段とを有していることを
特徴とする記録担体形成装置。 - 【請求項１０】 請求項７〜９のいずれか一項に記載
の記録担体形成装置において、調整された書込みエネル
ギーが予め定めた期間よりも長い期間の間特定の限界値
に等しいかこの限界値よりも大きい場合にモニタリング
信号を発生するモニタリング手段が設けられていること
を特徴とする記録担体形成装置。 - 【請求項１１】 請求項１０に記載の記録担体形成装
置において、前記のモニタリング信号に応答した領域の
パターンの形成を中止する手段が設けられていることを
特徴とする記録担体形成装置。 - 【請求項１２】 請求項７〜１１のいずれか一項に記
載の記録担体形成装置において、校正期間中、異なる書
込みエネルギーを有する放射パルスにより領域を形成す
る制御手段と、特定の基準に応じて最適寸法の領域を選
択する手段とが設けられ、前記の制御手段は、基準信号
を決定する目的の為に、最適寸法の選択領域の形成中に
形成速度信号を決定せしめるように適合されており、こ
の適合手段は基準信号と瞬時の形成速度信号との間の差
に応じて測定期間に続くある期間中書込みエネルギーを
適合させるように校正されていることを特徴とする記録
担体形成装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9000150A NL9000150A (nl) | 1990-01-22 | 1990-01-22 | Werkwijze en inrichting voor het aanbrengen van een patroon van gebiedjes met veranderde optische eigenschappen in een registratiedrager. |
| NL9000150 | 1990-01-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04214231A true JPH04214231A (ja) | 1992-08-05 |
| JP2908887B2 JP2908887B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=19856460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3020303A Expired - Fee Related JP2908887B2 (ja) | 1990-01-22 | 1991-01-22 | 記録担体形成方法及び装置 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5255007A (ja) |
| EP (1) | EP0438828B1 (ja) |
| JP (1) | JP2908887B2 (ja) |
| KR (1) | KR100188378B1 (ja) |
| CN (1) | CN1023844C (ja) |
| CZ (1) | CZ287232B6 (ja) |
| DE (1) | DE69019720T2 (ja) |
| ES (1) | ES2073516T3 (ja) |
| HK (1) | HK171696A (ja) |
| NL (1) | NL9000150A (ja) |
| RU (1) | RU2060563C1 (ja) |
| SK (1) | SK280675B6 (ja) |
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| US5475666A (en) * | 1992-03-04 | 1995-12-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Optically modulated overwritable recording device |
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- 1990-01-22 NL NL9000150A patent/NL9000150A/nl not_active Application Discontinuation
- 1990-11-13 US US07/612,742 patent/US5255007A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-12-18 DE DE69019720T patent/DE69019720T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-18 EP EP90203395A patent/EP0438828B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-12-18 ES ES90203395T patent/ES2073516T3/es not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-01-17 KR KR1019910000680A patent/KR100188378B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-01-18 SK SK112-91A patent/SK280675B6/sk unknown
- 1991-01-18 RU SU914894156A patent/RU2060563C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1991-01-18 CZ CS1991112A patent/CZ287232B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1991-01-19 CN CN91100339A patent/CN1023844C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-22 JP JP3020303A patent/JP2908887B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-09-12 HK HK171696A patent/HK171696A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR910014890A (ko) | 1991-08-31 |
| RU2060563C1 (ru) | 1996-05-20 |
| CS11291A3 (en) | 1991-08-13 |
| KR100188378B1 (ko) | 1999-06-01 |
| EP0438828A1 (en) | 1991-07-31 |
| CN1023844C (zh) | 1994-02-16 |
| CN1053702A (zh) | 1991-08-07 |
| NL9000150A (nl) | 1991-08-16 |
| HK171696A (en) | 1996-09-20 |
| EP0438828B1 (en) | 1995-05-24 |
| SK280675B6 (sk) | 2000-06-12 |
| US5255007A (en) | 1993-10-19 |
| ES2073516T3 (es) | 1995-08-16 |
| CZ287232B6 (cs) | 2000-10-11 |
| DE69019720D1 (de) | 1995-06-29 |
| JP2908887B2 (ja) | 1999-06-21 |
| DE69019720T2 (de) | 1996-02-08 |
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