JP2000155941A

JP2000155941A - 記録装置

Info

Publication number: JP2000155941A
Application number: JP11114798A
Authority: JP
Inventors: Johannes L Bakx; レオポルダスバクシスヨハネス; Gerardus Fredericus Cabrau Johannes; ヘラルダスフレデリクスカブラウヨハネス
Original assignee: Koninklijke Philips Electronics NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1999-01-01
Filing date: 1999-04-22
Publication date: 2000-06-06

Abstract

(57)【要約】【目的】書込強度を最適にする。【構成】本装置は、書込ビーム走査手段と特定デュー
ティサイクル信号に応じて書込ビーム強度を低高レベル
に切換える変調手段とを含む書込手段と、情報パタンを
読取ビームにより走査して読取信号を生成する検出器と
を含む読取手段と、記録区域長と中間区域長との間の平
均比の該デューティサイクルに対応する最適比からの偏
倚を表わす解析信号を読取信号から得る解析回路と、書
込強度を解析信号に基づき記録区域長と中間区域長との
比が前記最適比に略対応する値に設定する設定手段とに
加え、書込手段により記録媒体に異なる書込強度でテス
トパタンを記録させる制御手段を有する。解析回路は、
記録テストパタンに対応する各読取信号に応じこれら各
読取信号の最大／最小値と直流レベルとに関係する解析
信号を発生しこれが所定値範囲内にあるか否かを判定す
る。設定手段は、解析信号の値が当該範囲内に入ると判
定されたときの書込強度を設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、第１の光学特性を
有する記録区域と、これら記録区域間に存在し第２の光
学特性を有する中間区域とから成る情報パターンを記録
媒体に記録する記録装置であって、記録媒体を書込ビー
ムで走査する手段、および書込ビームの強度を特定のデ
ューティサイクルの２値信号に従って、走査位置におい
て記録媒体の光学特性に変化を生じさせない低書込強度
と走査位置において記録媒体に光学的に検出可能な変化
を生じさせる高書込強度との間で切換える変調手段を含
む光学式書込手段と、形成された情報パターンを読取ビ
ームで走査し走査された情報パターンによって変調され
た読取ビームを発生させる手段、および変調された読取
ビームを対応する読取信号に変換する放射感知検出器を
含む光学式読取手段と、前記読取信号から、記録区域の
長さと中間区域の長さとの間の平均比のデューティサイ
クルによって規定される最適比からのずれを表わす解析
信号を取出す解析回路と、前記書込強度を、解析信号に
基づいて、記録区域の長さと中間区域の長さとの間の比
をデューティサイクルによって規定される最適比にほぼ
対応させるための値に設定する手段とを具える記録装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】上述した型式の記録装置は米国特許第４
２２５８７３号明細書から既知である。従来の記録装置
は、平均デューティサイクルが５０％の信号を記録する
ように構成されている。２次高調波信号成分の大きさ
は、記録区域の長さと中間区域の長さとの比のデューテ
ィサイクルによって規定される最適比からのずれの範囲
を指示する。尚、この場合デューティサイクルによって
規定される最適比は１である。検出された２次高調波の
信号成分の大きさに基づいて書込強度は、この信号成分
が零になる値にセットされるように構成されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような書込強度制
御の欠点は、記録領域に記録した記録区域の幅が一定に
ならずしばしば変化してしまうことであり、例えば加熱
処理によって記録区域の幅が、記録領域の終端部におい
て先頭部よりも大きくなってしまう。幅が変化する記録
区域を有する情報パターンが読取られると、幅の変化に
よって比較的大きな付加的な２次高調波成分が生じてし
まう。この付加的な高調波成分が生ずるため、２次高調
波信号成分の大きさを用いて書込強度の制御を行なうこ
とができなくなってしまう。

【０００４】本発明の目的は、冒頭部で述べた型式の記
録装置において、書込区域の幅が変化しても書込強度を
最適にすることができる記録装置を提供するものであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明による記録装置は、解析回路が、前記読取信
号の直流値と読取信号の最大値との間の第１の差分値を
決定する手段と、読取信号の最小値と直流値との間の第
２の差分値を決定する手段と、第１および第２の差分値
に基づいて、前記直流値の前記デューティ比によって規
定される最適値に対応する値からのずれを指示する信号
形態の解析信号を発生させる手段とを具えることを特徴
とする。本発明は、読取信号中の正および負のピーク値
に対する直流成分の位置が、記録区域の長さと中間区域
の長さとの比を表しているという認識に基づいている。
さらに、この位置は記録区域の幅の変化に対してほとん
ど影響を受けないことが見出されている。

【０００６】このように、読取信号の最大値と直流値と
の間の第１の差分値及び読取信号の最小値と直流値との
間の第２差分値の２個のパラメータを取り出し、これら
２個のパラメータに基づいて信号処理することにより最
適値からのずれ量を所望の形態で簡単に求めることがで
きる。すなわち、第１の差分値と第２の差分値を加算す
るだけで最適値からの直流レベルのずれ量を決定するこ
とができる。さらに、第１の差分値と第２の差分値との
加算値を、これら第１の差分値と第２の差分値との差で
除算することにより正規化された最適値からのずれ量を
決定することができるので、一層簡単化された信号処理
回路を用いて記録媒体の平均反射率の変化や読取ビーム
の強度変化による影響を受けない記録装置を実現するこ
とができる。

【０００７】さらに、別の実施例は、前記解析回路が、
読取信号の直流成分を除去するハイパスフィルタと、該
ハイパスフィルタによって濾波された読取信号の最大信
号値を前記第１の差分値として決定する第１ピーク検出
器と、前記濾波された読取信号の最小信号値を前記第２
の差分値として決定する第２ピーク検出器と、検出した
最大値と最小値との和がデューティサイクルによって規
定される最適値に対応するか否かを指示する信号形態の
解析信号を発生する手段とを具えることを特徴とする。
この実施例では直流成分を除去した後負および正のピー
ク値の和がこれらピーク値に対する直流成分の位置を表
わすという事実を有効に利用できる。

【０００８】すなわち、読取信号の直流値を直接取り出
すことなく、最適値からの直流レベルのずれ量を決定す
ることができる。

【０００９】本発明による記録装置の別の実施例は、前
記解析回路が、第１の差分値と第２の差分値との和と、
第１の差分値と第２の差分値との差との間の比が、デュ
ーティサイクルによって規定される最適値にほぼ対応す
るか否かを指示する信号形態の解析信号を発生するよう
に構成したことを特徴とする。この実施例は、正規化さ
れた解析信号を得ることができ、記録媒体の平均反射率
の変化の影響および読取ビームの強度変化の影響が除去
される利点がある。この利点は、特に最適の書込強度
が、ピーク値の和と差との間の比が非零値となる場合に
重要である。このような場合として、例えばピーク値の
和と差との最適比が０．１にほぼ等しくなるよう設定さ
れる標準ＥＦＭ信号を記録する場合がある。

【００１０】本発明による記録装置の別の実施例は、第
１のサブパターンと第２のサブパターンを有する情報パ
ターンを形成し、第２サブパターンの空間周波数を第１
のサブパターンの空間周波数よりも低くすると共に第１
サブパターンの数を第２サブパターンの数よりも大きく
し、これらサブパターンの寸法を、情報パターンの読取
中第１のサブパターンに対応する信号成分の振幅が第２
サブパターンに対応する信号成分の振幅よりも小さくな
るように選択したことを特徴とする。この実施例は、最
適の書込強度からわずかにずれるだけで直流成分の位置
が比較的大きく偏移する利点がある。ＥＦＭ信号を記録
する場合、低い空間周波数のサブパターンの数は比較的
高い空間周波数のサブパターンの数よりも少ないから、
最適書込強度は、標準ＥＦＭ信号を記録する際極めて高
精度に決定することができる。情報パターンの記録中、
書込強度は、例えば短い距離を以て書込ビームに後続す
る付加的な読取ビームを発生させることにより調整でき
る。しかしながら、この調整方法は比較的複雑な技術を
必要とする欠点がある。

【００１１】付加的な読取ビームを必要としない実施例
は、２値のテスト信号を発生させる手段と、前記テスト
信号に対応するテスト情報パターンを、記録媒体のアド
レス可能な位置に記録する制御手段とを具え、この制御
手段を、テスト情報パターンが前記光学式読取装置によ
って読取られるように適合させ、前記書込強度を設定す
る手段を、テスト情報パターンの読取中に得た解析信号
に基づいて最適の書込強度を設定するように適合したこ
とを特徴とする。この実施例は、書込強度を実際の情報
記録処理に先立って別の調整処理において決定でき、情
報パターンを記録するために用いた光学式走査装置を最
適書込強度を決定するためにも用いることができる利点
がある。記録媒体にアドレス情報が予め形成されている
場合、最適の書込強度を決定するための情報パターンを
記録するために用いた領域に、最適の書込強度を決定す
るために未だ用いられていない領域を先行させることが
できる利点がある。実際には、情報パターンが記録され
る間にアドレス情報が損傷を受けるおそれがあるため、
アドレス情報の正確な読出は保証されない。従って、ア
ドレス情報が変形した領域付近の領域を検索することは
問題となる。

【００１２】以下、図面に基づいて本発明を詳細に説明
する。

【００１３】

【実施例】図１は、光学式記録装置を線図的に示してい
る。この記録装置は、ターンテーブル１と駆動モータ２
とを具え、ディスク状記録媒体４を軸３を中心にして矢
印５で示す方向に回転させる。記録媒体４は放射感知記
録層を有し、この記録層は十分に高い強度の放射を照射
すると例えば反射率変化のような光学的に検出可能な変
化を発生する。この放射感知記録層は、例えば比較的高
い強度のレーザビームを照射することによって局部的に
除去される金属薄膜で構成することができる。或いは、
この記録層は放射感知性染料や放射光によって非晶質か
ら結晶に変化でき、結晶から非晶質に変化することがで
きる相変化材料のような別の材料で構成することもでき
る。光書込ヘッド６を回転記録媒体に対向して配置す
る。光書込ヘッド６は例えば固体レーザから成る放射源
を有し、書込ビーム13を発生する。書込ビーム13の強度
Ｉは、通常の方法により制御信号Ｖｓに従って変調する
ことができる。制御信号Ｖｓおよび書込ビーム13の対応
する変化を図２に示す。書込ビーム13の強度Ｉは書込強
度Ｉsと強度Ｉｌとの間で変化し、書込強度Ｉsは放射感
知性記録媒体の光学特性に検出可能な変化を生じさせる
強度であり、強度Ｉｌは検出可能な変化を生じさせない
強度である。記録層を強度変調されたビーム13で走査す
ると、光学特性が変化した記録区域８から成る情報パタ
ーンが記録層に形成され、この記録区域は光学性能が変
化していない中間区域11と交互に形成される。このよう
にして形成された情報パターンは読取ビームで走査する
ことにより読み取ることができ、読取ビームは光学特性
を変化させない程度の低い一定の強度とする。走査中、
記録媒体で反射した読取ビームは走査された情報パター
ンに基づいて変調される。読取ビームの変調状態は放射
感知検出器によって通常の方法で検出することができ
る。この検出器からビーム変調を表わす読取信号Ｖｌを
発生する。読取信号も図２に示す。読取信号Ｖｌを、基
準レベル信号Ｖrefと比較することにより二値信号Ｖdに
再変換する。高い信頼性を以て変換するためには、読取
信号Ｖｌが基準レベルと交差する位置が十分に規定され
るように、すなわち読取信号の“ジッタ”が最小になる
ように構成することが望ましい。既知のように、光学式
記録における読取信号のジッタは、情報パターンが対称
の場合すなわち記録区域８の平均長が中間区域11の平均
長に等しい場合に最小になる。ここで問題になること
は、記録区域８の長さが書込強度Ｉsに強く依存するこ
とである。書込強度が強すぎると、記録区域は長くなり
すぎてしまい、書込強度が弱くなりすぎると記録区域の
長さは短くなりすぎてしまう。従って、書込強度を正確
に調整することが必要になる。最適の書込強度を決定す
る通常の方法においては、５０％の平均デューティサイ
クルを有する書込信号を記録し、書込強度を、読取信号
Ｖｌの２次歪みが最小となるように調整している。しか
しながら、例えば熱的な作用によって記録区域の幅が一
定せず例えば記録区域の後端部に向けて増大するような
場合においては上記方法を採用することができない。区
域幅が変化すると読取信号Ｖｌに別の歪みが生じてしま
う。この別の歪みが生ずると、書込強度Ｉsの調整に信
頼性を害する別の２次高調波成分が生じてしまう。記録
幅変化に対してほとんど影響を受けない最適の書込強度
決定方法を図３に基づいて説明する。

【００１４】図３（ａ）〜図３（ｃ）は、書込強度Ｉｓ
が弱すぎる場合、最適の場合および強すぎる場合におけ
る書込強度変化Ｉ、記録区域８および中間区域11の対応
する情報パターン、および読取信号Ｖｌをそれぞれ示
す。

【００１５】図３において、読取信号Ｖｌは最大レベル
Ａ1と最小レベルＡ2との間で変化する。図３から明らか
なように、書込強度が最適値の場合、読取信号Ｖｌの直
流レベルDCは、レベルＡ1とＡ2との間のほぼ中間に位置
する。書込強度が低すぎる場合、直流レベルDCはレベル
Ａ1とＡ2との間の中間レベルよりも上方に位置し、書込
レベルが高すぎる場合直流レベルDCは中間レベルよりも
下側に位置する。従って、最適の書込強度は、直流レベ
ルDCがレベルＡ1とＡ2との間のほぼ中間に位置するよう
に書込強度を調整することにより得ることができる。

【００１６】上述した最適強度決定方法の改良を図４
（ａ）を参照して説明する。この改良方法においては、
最適強度を決定するため多数のサブパターン40を有する
情報パターンを記録する。各サブパターンは、５０％の
デューティサイクルを有する書込信号によって記録した
短い記録区域８と短い中間区域11を有している。さら
に、この情報パターンは、５０％のデューティサイクル
の書込信号を用いて同様に記録した比較的長い記録区域
８と中間区域11を有する第２のサブパターン41も有して
いる。サブパターン40の数は、サブパターン41の数より
も大きくなるように選択する。図４（ａ）は、光学式読
取装置を用いて読み取った場合の読取信号Ｖｌを示して
いる。

【００１７】サブパターン40の寸法は、サブパターン40
に対応する読取信号Ｖｌの信号成分の振幅がサブパター
ン41に対応する信号成分の振幅よりも小さくなるように
選択する。この設定は、この情報パターンの一次高調波
だけが光学式走査装置の光学的なカットオフ周波数以下
の周波数となるようにサブパターン40の寸法を選択する
ことにより達成することができる。第２のサブパターン
の寸法は、この情報パターンの少なくとも１次高調波お
よび２次高調波が光学的なカットオフ周波数以下の周波
数となるように選択する。この読取信号Ｖｌの直流レベ
ルDCは主としてサブパターン40に対応する信号成分によ
って指示される。読取信号Ｖｌの最大値と最小値との間
の差は、サブパターン41に対応する値によって排他的に
指示される。書込パワーＩｓの変化は、サブパターン41
における記録区域８の長さと中間区域11の長さとの間の
比に対するよりもサブパターン40における比に対して一
層大きな作用を及ぼすから、直流レベルＤＣは、読取信
号Ｖｌが情報パターンの全てのサブパターンに対して同
一な図３に示す方法における書込レベル変化より図４に
示す方法における書込レベルの変化に対して一層影響を
受け易い。すなわち、最適な書込パワーは、図４（ａ）
に示す方法によって一層正確に決定することができる。

【００１８】最適な書込強度で記録した図４（ａ）に示
す情報パターンと共に、同様な情報パターンを図４
（ｂ）及び図４（ｃ）に示す。これら図４（ｂ）及び図
４（ｃ）は低すぎる書込レベルおよび高すぎる書込レベ
ルで記録した情報パターンをそれぞれ示す。図４（ｂ）
及び図４（ｃ）から明らかなように、最適な書込強度に
おける直流レベルDCは読取信号Ｖｌの最大信号値Ａ1と
最小信号値Ａ2との間のほぼ中間に位置し、これらに対
して書込レベルが低すぎる場合および高すぎる場合直流
レベルDCは中間位置よりもそれぞれ上側および下側に位
置する。図４は、短い区域（８および11）から成る比較
的多数のサブパターンと長い区域(8または11)から成る
比較的少数のサブパターンとを具える情報パターンだけ
を示す。極めて好適なサブパターンは標準ＥＦＭ信号に
対応するパターンである。このＥＦＭパターンは少なく
とも３ビット（Ｉ３効果)および最高で11ビット(Ｉ１１
効果)に対応する長さの区域を有している。このＥＦＭ
パターンの全ての効果の約１／３はＩ３効果であり、全
ての効果の４％だけがＩ１１効果となる。Ｉ３効果の寸
法は、これら効果のうち基本部分だけが読取装置の光学
的カットオフ周波数以下になるように設定する。Ｉ１１
効果の寸法は、少なくとも１次、２次および３次高調波
が光学的カットオフ周波数以下になるように設定する。

【００１９】図５は、本発明による記録装置の第１実施
例を示す。記録装置は、書込ビーム13を発生する第１の
半導体レーザ51と読取ビーム53を発生する第２の半導体
レーザ52とを具える光ヘッド50を具える。書込ビーム13
および読取ビーム53は、対物レンズ54を有する光学系を
介して記録媒体４に入射する。この記録媒体は、矢印55
で示す方向に光ヘッド50を通過する。この動作は通常の
方法によって行われ、矢印55の方向に見て読取ビームは
書込ビーム13のスポット点よりわずかにずれて記録媒体
４に入射する。この結果、読取ビーム53によって形成さ
れるスポットは、書込ビームが形成するスポットの経路
に追従することになる。読取ビームおよび書込ビームの
両方を形成する光学系の詳細については米国特許第４，
２５５，８７３号及び第４，４８８，２７７号明細書を
参照されたい。

【００２０】書込ビーム13の強度は、信号Ｖｓで指示さ
れる値をとるように制御する。このため、本記録装置
は、半導体レーザ51の背面側から発生し書込ビームの強
度に比例する強度のビーム57を検出するように配置した
放射感知ダイオード56を有している。従って、放射感知
ダイオード56は検出した強度に比例した信号電流を発生
する。信号Ｖsとこの信号電流を比較回路58において互
いに比較する。比較結果を表わす信号を制御可能な電流
源59に供給し、この電流源から半導体レーザ51用の制御
電流を発生し、この制御電流によりダイオード56で発生
した信号電流つまり書込ビーム13の強度が、書込信号Ｖ
sによって指示される値をとるように制御する。

【００２１】本記録装置は通常のＣＩＲＣ符号化回路60
およびＥＦＭ変調器61から成るカスコード回路を具え、
供給した情報信号ＶiをＣＤ標準規準に従って変調され
たＥＦＭ信号Ｖefmに変換する。信号Ｖefmを制御可能な
スイッチ62の制御入力部に供給する。このスイッチは制
御入力部に供給される信号の論理値に応じて２個の入力
信号ｉｓまたはｉｌのうちの一方の信号をその出力部に
伝送する。スイッチ62の出力部の信号は、信号Ｖsとし
て比較回路58に供給する。信号ｉsは書込強度Ｉsを規定
し、信号ｉｌは強度Ｉｌを規定する。信号Ｖiを表す情
報パターンは以下のようにして記録する。

【００２２】ＣＩＲＣ符号化回路60およびＥＦＭ変調器
61により信号ＶiをＥＦＭ変調された２値信号Ｖefmに変
換する。このＶefm信号は、信号ｉｌおよびｉsが交互に
比較回路58に供給されるようにスイッチ62を制御する。
この結果、書込ビームの強度は信号ｉsによって規定さ
れる書込強度Ｉsと信号ｉｌによって規定される強度Ｉ
ｌとの間で切り換えられ、信号Ｖefmに対応する情報パ
ターンが記録媒体に記録されることになる。この情報記
録を行った後、記録した情報パターンを読取ビーム53に
よって走査する。読取ビームは記録媒体４によって反射
し、反射したビームは走査された情報パターンに従って
変調される。変調された読取ビームはハーフミラー63を
経て放射感知検出器64に入射し、この検出器からビーム
変調を表す読取信号Ｖｌを発生する。読取信号Ｖｌを解
析回路65に供給する。この解析回路は、最適書込強度に
対応する値から偏移した直流レベルDCの範囲を表す信号
Ｖa を発生する。この信号Ｖaを積分回路66に供給す
る。積分回路の出力信号Δiを加算回路67の入力部に供
給する。一定強度に対応する信号ｉ_０を加算回路67の他
方の入力部に供給する。信号ｉ_０とΔiとの和を表す出
力信号を信号ｉsとしてスイッチ62に供給する。図５に
示す記録装置において書込強度Ｉsが最適値からずれた
場合、このずれは非零値を有する解析信号Ｖaによって
表わされることになる。この結果、積分回路66の出力部
の信号Δｉsが変化し、書込強度は最適値に向けて制御
されることになる。この結果、書込強度Ｉsが最適の値
をとるように連続的に制御されることになる。

【００２３】図６は、解析回路65の第１実施例を示す。
この解析回路は読取信号Ｖｌの直流レベルDCを決定する
ローパスフィルタ70を具える。解析回路65は、さらに読
取信号Ｖｌの最大値Ａ1を決定する正ピーク検出器71お
よび読取信号Ｖｌの最小値Ａ2を決定する負ピーク検出
器72も有している。これらピーク検出器71および72の出
力信号を加算回路73の非反転入力部に供給し、ローパス
フィルタ70の出力信号を２倍の値に増幅した後加算回路
73の反転入力部に供給する。この結果、解析信号Ｖaを
構成する加算回路はＶa =Ａ1+Ａ2-２DCとなり、最大信
号値Ａ1と最小信号値Ａ2との間の中央値からの直流値DC
の位置のずれの範囲を示す。

【００２４】図７は解析回路の別の実施例を示す。この
解析回路は比較器90を具え、読取信号Ｖｌおよび直流値
DCを表す基準信号をそれぞれ非反転入力部および反転入
力部に供給する。比較器90の出力信号は積分回路91に供
給する。読取信号Ｖｌはさらに正ピーク検出器92および
負ピーク検出器93に供給し、これらピーク検出器により
読取信号Ｖｌの最大値および最小値をそれぞれ検出し、
それらの信号レベルを表す信号を１／２の利得因子を有
する加算回路94に供給する。この結果、加算回路94の出
力部の信号レベルは補正された読取信号Ｖｌの最大信号
レベルと最小信号レベルの中間に位置する。加算回路94
の出力部の信号を差動増幅器95の反転入力部に供給し、
直流値DCを表す基準信号を積分回路91から差動増幅器95
の非反転入力部に供給する。差動増幅器95の出力信号
は、この増幅器に入力する２個の信号間の差を表し、解
析信号Ｖaとして機能する。図７に示す解析回路は以下
のように作動する。積分回路91から比較器90の反転入力
部に至るフィードバック回路により、積分回路の出力部
における基準信号は、比較器90の出力信号Ｖ0が零にな
るようなレベルに調整され、積分器91の出力部の信号は
読取信号Ｖｌの直流成分のレベルを表す。従って、解析
信号Ｖaは、読取信号の最小レベルと最大レベルとの間
の中央値からの直流レベルの位置のずれの範囲を表すこ
とになる。

【００２５】図８は解析回路65の第３の実施例を示す。
この解析回路は読取信号Ｖｌから直流成分を除去するハ
イパスフィルタ80を具える。直流成分が除去された信号
Ｖｌ′を正ピーク検出器81および負ピーク検出器82に供
給する。正ピーク検出器81の出力部の信号値Ａ1′は信
号値Ａ1から直流値を減算した値に等しい。負ピーク検
出器82の出力部の信号値Ａ2′は信号値Ａ2から直流値を
減算した値に等しい。加算回路83により信号Ａ1′とＡ
2′の和が決定され、減算回路84により信号Ａ1′とＡ
2′との間の差が決定される。除算回路85により、加算
回路83の出力部の信号値と減算回路84の出力部における
信号値との商が決定される。この値は以後の説明におい
てβとして称し、この値βも信号値Ａ1とＡ2との間の中
央値からの直流レベルDCのずれの範囲を表す。値βを表
す除算回路の出力信号は、同様に解析信号Ｖaとして機
能する。信号Ａ1′とＡ2′との間の差で除算する結果正
規化された解析信号が得られ、半導体レーザ53から発生
する放射の強度変化すなわち記録媒体の平均反射率の変
化が解析信号Ｖaの信号値にいかなる影響も及ぼすこと
はない。この利点は後述する。

【００２６】ＥＦＭ信号の記録中書込強度は読取信号の
最大値と最小値との間の中央に正確に位置する直流レベ
ルDCに対応する値にセットされ満足する結果が得られる
が、このセッティングは正確に最適値にならないことが
見出されている。ＥＦＭ情報パターンが対称的な場合、
値βは正確に零とはならず０．１程度になってしまう。
この結果、高い空間周波数のパターンに対応する読取信
号における信号成分の直流的影響は、低い空間周波数の
パターンに対応する信号成分の直流的影響よりも一層小
さくなる。従って、ＥＦＭ変調された信号を記録する場
合に書込強度を最適にするため、書込強度Ｉsを、βが
ほぼ０．１に等しくなる値に適切にセットする。このβ
が非零値を有するようにセッティングを行なうためには
強度変化の効果を除去することが極めて重要である。こ
の理由は、強度変化の影響を除去しないと正確な調整が
困難になるからである。

【００２７】上述した本発明による記録装置の実施例に
おいて、書込強度は連続的に補正されている。この記録
装置の欠点は、上述した強度変化の影響を除去するため
付加的な読取ビームを発生させる必要があることであ
り、これは比較的に困難な技術的課題である。この欠点
を解消する別の方法について説明する。この実施例にお
いて、最適の書込強度は、情報信号Ｖiを記録する前に
別のセットアップサイクルで決定する。このセットアッ
プサイクル中テスト情報パターンを記録媒体のアドレス
可能な領域に異なる書込強度Ｉsで記録する。次に、こ
れらテストパターンを読み取り、これら読取信号から取
り出した解析信号Ｖaにより何のテスト情報パターンが
最適の書込強度で記録されているか否かを決定し、情報
信号Ｖiの記録中書込強度を、この決定したテスト情報
パターンに対応する書込強度にセットする。書込強度が
上述した方法に従って決定される記録装置の実施例を図
９に示す。図９に示す記録装置はモータの形態をした駆
動手段100とターンテーブル101を具え、放射感知性記録
媒体４′を軸102を中心にして回転させる。この記録媒
体は、サーボトラックのトラック変調機構によってアド
レス情報が記録される型式のものとする。この記録媒体
４′は本出願人のオランダ国特許出願Ａ−８８００１５
号、Ａ−８９００７６６号及びＡ−８９０１１４５号に
明瞭に記載されている。上記オランダ国特許出願に記載
されている記録媒体は“ウォブリング”サーボトラック
を有し、このウォブリング周波数を絶対時間コードATIP
を有する位置情報信号に従って変調している。通常の型
式の光学式読取／書込ヘッド105を回転する記録媒体
４′と対向して配置し、例えばモータ103とスピンドル1
04の形態の位置決め装置によって記録媒体４′に対して
その径方向に移動させる。所望の場合には、読取／書込
ヘッド105を用いて情報パターンの記録及び情報パター
ンの読取の両方を行なうことができる。この動作を行な
うため、読取／書込ヘッド105は放射ビーム107aを発生
させる半導体レーザを具え、そのビーム強度を制御回路
107によって制御する。既知の方法で放射ビーム107を記
録媒体４′のサーボトラックに入射させる。ビーム107a
は記録媒体４′によって部分的に反射し、反射ビームは
トラックウオッブルに従って変調され、情報パターンが
記録されている場合にはこの情報パターンに従って変調
される。反射ビームは放射感知検出器108aに入射し、こ
の検出器からビーム変調に対応した読取信号Ｖｌ″を発
生する。読取信号Ｖｌ″はトラックウオッブルに発生し
公称操作速度における約２２ｋＨｚの周波数を有する信
号成分を有している。モータ100を制御するモータ制御
回路108によってモータ速度を適切に制御してトラック
ウオッブルによって読取信号Ｖｌ″に生じた信号成分の
周波数をほぼ２２ｋＨｚに維持する。読取信号Ｖｌ″は
検出回路109にも供給し、この検出回路においてトラッ
クウオッブルによって読取信号Ｖｌ″に生じた信号成分
から時間コードATIPを取り出しこれらのコードを例えば
マイクロコンピュータで構成される処理装置110に供給
する。さらに、読取信号Ｖｌ″を増幅回路111に供給す
る。この増幅回路はハイパス特性を有し、トラックウオ
ッブルによって読取信号中に生じた信号成分を阻止す
る。低周波数成分が除去された読取信号Ｖｌ′を、例え
ば図８に示す解析回路65に供給する。解析回路65の出力
部の信号をマイクロコンピュータにも供給する。この記
録装置は通常のＣＩＲＣ符号化回路112も具え、この符
号化回路にスイッチ115を介して記録すべき信号Ｖiを供
給する。このスイッチ115はマイクロコンピュータ110に
よって制御する。ＣＩＲＣ符号化回路112に直列に通常
のＥＦＭ変調器113を配置する。ＥＦＭ変調器の出力部
を制御回路107に接続する。この制御回路は制御可能な
型式のものとし、マイクロコンピュータ110に接続され
て制御信号を受信する。マイクロコンピュータ110から
の制御信号に応じて、制御回路107は、発生したビーム1
07aの強度を一定の低強度Ｉｌにセットし又はＥＦＭ変
調器113からのＥＦＭ変調信号に従ってビーム強度を低
レベルＩｌと書込レベルＩsとの間で切り換える。さら
に、書込レベルＩsはマイクロコンピュータ110で調整す
ることができる。図１０は制御回路107の一例を示す。
この制御回路は半導体レーザ51の強度を制御する図５に
示す回路に極めて類似している。図１０において、図５
に示した素子と同一の素子には同一符号を付して説明す
る。本例の制御回路107は２入力型ANDゲート115を有
し、ＥＦＭ変調113から供給されるＥＦＭ変調信号Ｖefm
を一方の入力部に供給し、マイクロコンピュータ110か
らの制御信号L/Sを他方の入力部に供給する。制御信号L
/Sが論理値“０”をとる場合ANDゲート115の出力部の論
理値も零になる。ANDゲート115の出力信号をスイッチ62
の制御入力部に供給する。このスイッチは、制御信号が
論理値零の場合低強度レベルＩｌに対応する信号Ｉｌを
回路58に供給するように構成され、この結果レーザ106
で発生したビーム107aの強度は低レベル値Ｉｌにセット
される。制御信号L/Sの論理値が“１”の場合、アンド
ゲート115の出力部の論理値は信号EFMに従って変化し、
この結果ビーム107aの強度は信号Ｖefmに従って書込強
度Ｉsと強度Ｉｌとの間で交互に変化する。テスト情報
パターンを発生させるため、図９に示す記録装置は信号
器114を具え、この信号発生器から例えば任意のデジタ
ル信号を発生し又は零のデジタル信号値に対応する信号
を発生する。信号発生器114から発生した信号をスイッ
チ115を経てＣＩＲＣ符号化回路112に供給する。スイッ
チ115は、マイクロコンピュータ110からの制御信号に基
づいて記録すべき信号Ｖi又は信号発生器114の出力信号
を伝送する通常の型式のものとする。

【００２８】上述したように、テスト情報パターンは記
録媒体４′のアドレス可能な位置に記録するのが好まし
い。記録媒体４′が前述したオランダ国特許出願に記載
されているように構成されている場合、すなわちサーボ
トラックが、一時的な内容表(Temporary TOC)を記録す
る区域(PMA)、内容の有限の表を記録する区域(Lead InA
rea)及びプログラム区域(Pa)にこの順序で分割されてい
る場合、テスト情報パターンを内容の一時的な表を記録
する域(PMA)に後続する区域(PCA)に記録するのが好まし
い。図１１にサーボトトラック116 の構成を示す。さら
に、図１１は、分、秒及びフレームで表示した絶対時間
コードATIPによって指示した種々の区域に対するスター
ト位置を示す。例えば、プログラム区域の開始時に対す
る全体時間コードATIPを0.00.00とする。リードイン区
域の開始時における絶対時間コードATIPをTLIAで表示す
る。区域PMAの開始時における絶対時間コードATIPをTLI
A-0.13.15に等しくし、区域PCAの開始時はTLIA-0.34.00
に等しい全体時間コードとする。各絶対時間コードATIP
は、１フレームに対応する長さを有するサーボトラック
部分を指示する。従って、区域PCAにおいて、テストパ
ターンを記録するために1560フレームが有用になる。１
５フレームに対応する区域は最適書込み強度を決定する
のに十分に長いから、区域PCAの全長はセットアップサ
イクルを100回実行するのに十分な長さである。この記
録媒体を用いて、標準ＣＤ信号を記録する場合、この数
は、記録すべき各情報信号について１回セットアップサ
イクルを実行するのに十分である。この理由は、ＣＤ標
準規格によれば、種々の情報信号（トラック）の最大数
が１００であるからである。好ましくは、１００個の異
なる情報信号（トラック）の各々について、１５フレー
ムの長さ（単に１５フレーム区域と称する）の長さを有
する予め定めたセクションをPCA区域に用意する。

【００２９】テスト情報パターンが既に記録されている
区域のATIPコードを読出すことが常に保証されていない
から、１５フレーム区域が用いられている順序は後側か
ら前側に向けて並び、すなわち用いられるべき最初の１
５フレームがPCA区域の終端部（すなわち、PMA区域の境
界部近傍)に位置する。連番ｎを有する情報信号列（ト
ラック）を一時的な内容表に記録する場合、PCA区域の
終端部のｎ個前の１５フレーム区域に位置する１５フレ
ーム区域を用いる。このように構成すれば、光学的書込
強度を決定するために用いた区域に、情報パターンが未
だ記録されていない比較的大きな区域が先行することに
なる。これは極めて有益である。すなわち、用いるべき
１５フレーム区域の先頭を決定するための絶対時間コー
ドATIPを正確に読取ることが必要であるが、情報パター
ンが既に記録されているサーボトラック部分において絶
対時間コードATIPを正確に読出すことができないためで
ある。最適の書込強度は以下のように決定することがで
きる。新しい情報信号を記録する前にすでに記録されて
いる情報信号（トラック)の数をPMA区域の一時的表のデ
ータを用いて決定する。この数から、テスト情報パター
ンを記録するための１５フレーム区域のアドレスを取り
出す。次に、テスト情報パターン、好ましくは例えばＥ
ＦＭ信号に対応するパターンのような図４に示すテスト
パターン又は同様なテストパターンを、多数の異なる書
込設定条件で特定したアドレスの１５フレーム区域に記
録する。この後、記録したテスト情報パターンを読み出
し解折信号Ｖaを用いてどの部分のテスト情報パターン
が最適か否かを決定する。次に最適のテスト情報パター
ンを記録した書込強度に対応する書込強度で情報信号を
記録する。

【００３０】適切な制御プログラムを用いてマイクロコ
ンピュータ110をロードしセットアップサイクルを実行
する。図１２はこのプログラムのフローチャートの一例
を示す。このプログラムのステップS1において、マイク
ロコンピュータ110の制御のもとで読取／書込ヘッド105
を記録媒体のPMA区域に位置決めする。このアドレシン
グは検出回路109によって検出した読取信号Ｖｌ″の絶
対時間コードATIPにより実行する。ステップS2におい
て、PM区域から一時的表の内容を読み出し、テスト情報
パターンを記録するために用いるべき１５フレームのア
ドレスを、一時的な表に以前に記録した情報信号の数に
関する情報から取り出す。ステップS3において、マイク
ロコンピュータ110の制御のもとで上記アドレスの１５
フレーム区域の位置を突止める。ステップS4において、
ヘッドをこの区域に到達させ書込強度Ｉsを初期値Ｉ_０
に設定する。好ましくは、記録媒体に対する初期値Ｉ_０
を、前述した本願人のオランダ国特許出願Ａ−８９０１
１４５に記録されている方法で記録媒体に予備記録す
る。この値はセットアップサイクルに先立って読取るこ
とができる。さらに、マイクロコンピュータ110の制御
のもとで、信号発生器114を制御可能スイッチ115により
ＣＩＲＣ符号化回路112に接続し、信号発生器からの出
力信号によって決定したＥＦＭ変調されたテスト信号を
ＥＦＭ変調器113から発生させる。ステップS5におい
て、制御信号S/Lにより制御回路107を適切に設定し、EF
M 変調器113の出力部のＥＦＭ変調信号Ｖefmに基づいて
ビーム107aを書込強度Ｉsの設定値と強度Ｉｌとの間で
切換え、この結果ＥＦＭ信号に対応するテスト情報パタ
ーンが記録される。ステップS6において、検出回路109
によって検出された絶対値時間コードATIPをマイクロコ
ンピュータ110により読出す。ステップS7において、こ
の絶対時間コードが、以前に読出した絶対時間コードと
相異しているか否かを確認する。相異していない場合ス
テップS6を繰り返す。相異している場合ステップＳ８に
おいて読出した絶対時間コードが１５フレーム区域の終
わりを指示しているか否かをテストする。終わりを指示
していない場合ステップS9を実行する。ステップS9にお
いて書込強度Ｉsを微小量ΔＩだけ増加させ、その後ス
テップS6に戻る。ステップS8において１５フレーム区域
の終りに到達していることを確認した場合、ステップ10
を実行する。このステップ10において制御信号S/Lによ
りビーム107aの強度がレベルIｌの一定値に維持される
ように制御回路107を設定する。ステップS11において、
上記１５フレーム区域の先頭部を検索し、この区域を読
出す。ステップS12において、マイクロコンピュータ110
によって解折信号Ｖaを読出す。ステップS13において、
解折信号Ｖaの値が最適の書込強度に対応しているか否
かをチェックする。最適強度に対応していない場合プロ
グラムをステップS12に戻す。一方最適強度に対応して
いる場合、ステップS14において検出回路109によって検
出した絶対時間コードを読出す。次に、ステップS15に
おいて、ステップS14において読取った絶対時間コード
に対応する最適書込強度を演算する。この演算は、例え
ば最後に読出した絶対時間コードと１５フレーム区域の
先頭に対応する絶対時間コードとの間の差を決定するこ
とにより実行できる。この差を利用することにより、テ
スト情報パターンの記録中に最後に読出した絶対時間コ
ードATIPに到達する前に初期値Ｉ_０を微小量ΔI で何回
増分させるかを決定できる。この増分回数及び初期値Ｉ
_０は最適書込エネルギーＩoptを規定する。最後に、ス
テップS16において書込強度Ｉsを最適値Ｉoptに設定す
る。

【００３１】上述した解析回路65の全ての実施例は、読
取信号中の直流レベルDCの最適レベルからのずれの大き
さ及び符号の両方を特定する解析信号を発生する。しか
しながら、図９に示す記録装置の実施例の場合この解析
信号を発生させる必要はない。この記録装置において
は、直流レベルDCの位置が最適レベルを中心にして特定
の微小範囲内に位置するか否かを指示する論理信号を発
生する形態の解析回路67を用いるのが適切である。この
ような論理信号を解析信号Ｖaとして発生する実施例を
図１３に示す。本例では、フィルタ回路111によって直
流成分が除去された読取信号Ｖｌ′を正ピーク検出器13
0及び負ピーク検出器131に供給し、これらピーク検出器
によって読取信号Ｖｌ′中の最大信号値(Ａ1′)及び最
小信号値(Ａ2 ′)を決定する。最大値Ａ1′及び最小値
Ａ2′を表わすピーク検出器130及び131の出力信号を計
算回路132に供給し、この計算回路からＡ1′とＡ2′と
の和の値を表わす信号及びＡ1′とＡ2′との差の１／１
０の値を表わす信号をそれぞれ発生する。計算回路132
からの２個の出力信号を、例えば集積回路LM311で構成
されるウインド比較回路133に供給する。このウインド
比較回路113は、(Ａ1′+Ａ2′）- 0.1(Ａ1′-Ａ2′)の
絶対値がΣに等しいか又はそれ以下の場合論理値“１”
信号を排他的に発生する。ここで、Σは零よりも大きい
微小値とする。Σの値は、β＝(Ａ1′+Ａ2′)／(Ａ1′-
Ａ2′)が０．０９と０．１１との間の値となる場合に論
理値“１”信号が発生するように選択する。同様に、ウ
インド比較回路133の出力部の論理信号は解析信号Ｖaと
して作用する。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的な光学式記録装置の構成を示す線図。

【図２】記録の放射ビームの強度変化、関連する情報
パターン及び情報パターンを読み取ったときに生ずる読
取信号を示す線図。

【図３】本発明を明確にするための読取った情報パタ
ーンと関連する読取信号との関係を示すグラフ。

【図４】本発明を明確にするための読取った情報パタ
ーンと関連する読取信号との関係を示すグラフ。

【図５】本発明による記録装置の実施例を示す線図。

【図６】本発明の記録装置に用いる解析回路の構成を
示す回路図。

【図７】本発明の記録装置に用いる解析回路の構成を
示す回路図。

【図８】本発明の記録装置に用いる解析回路の構成を
示す回路図。

【図９】本発明による記録装置の別の実施例の構成を
示す線図。

【図１０】放射ビームの書込強度を制御する制御回路
の構成を示す回路図。

【図１１】アドレス情報が形成されている記録媒体の
構成を示す線図。

【図１２】図９に示す記録装置を制御する計算プログ
ラムを示すフローチャート図。

【図１３】解析回路の変形例を示す回路図。

【符号の説明】

４…記録媒体 13…書込ビーム 50…光ヘッド 51, 52…半導体レーザ 53…読取ビーム 54…対物レンズ 56, 64…放射感知ダイオード 60…ＣＩＲＣ符号化回路 61…ＥＦＭ変調器 62…スイッチ 65…解析回路 66…積分回路 67…加算回路

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 590000248 Ｇｒｏｅｎｅｗｏｕｄｓｅｗｅｇ１, 5621 ＢＡＥｉｎｄｈｏｖｅｎ，ＴｈｅＮｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ (72)発明者ヨハネスヘラルダスフレデリクスカブラウオランダ国 5621 ベーアーアインドーフェンフルーネヴァウツウェッハ１

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録媒体に、第１の光学特性を持つ記録
区域と、これら記録区域と交互に配されて第２の光学特
性を持つ中間区域とを有してなる情報パターンを記録す
る記録装置であって、前記記録媒体を書込ビームにより走査する手段と、特定
のデューティサイクルの２値信号に応じて前記書込ビー
ムの強度を、走査位置において前記記録媒体の光学特性
に変化を生じさせないような低書込強度と、走査位置に
おいて前記記録媒体に光学的検出可能な変化を生じさせ
るような高書込強度との間で切換える変調手段とを含む
光学式書込手段と、形成された前記情報パターンを読取ビームにより走査
し、走査された該情報パターンによって前記読取ビーム
が変調されるようにする手段と、変調された前記読取ビ
ームを対応する読取信号に変換する放射感知検出器とを
含む光学式読取手段と、前記読取信号から、前記記録区域の長さと前記中間区域
の長さとの間の平均比の、前記デューティサイクルによ
り規定される最適比からのずれを表わす解析信号を取り
出す解析回路と、前記書込強度を、前記解析信号に基づいて、前記記録区
域の長さと前記中間区域の長さとの間の比が前記デュー
ティサイクルにより規定される前記最適比にほぼ対応す
るような値に設定する設定手段と、を具える記録装置に
おいて、当該記録装置が、前記光学式書込手段により前記記録媒
体に対し異なる書込強度レベルでテスト情報パターンを
記録させる制御手段を更に有し、前記解析回路は、記録された前記テスト情報パターンに
対応する各読取信号に応じて、これら各読取信号の最大
及び最小値と直流レベルとに関係する解析信号を発生さ
せると共に、発生したこれら解析信号が所定の範囲内の
値を有するか否かを判定し、前記設定手段は、前記書込強度を、前記解析回路により
前記解析信号の値が前記所定範囲内に入ると判定された
テスト情報パターンの書込強度レベルに基づいて設定す
ることを特徴とする記録装置。
【請求項２】請求項１に記載の記録装置において、前
記制御手段は、前記テスト情報パターンが前記記録媒体
の前記書込強度設定用に確保された特定アドレスにより
規定される区域に記録されるように構成されていること
を特徴とする記録装置。