KR100245544B1 - 방사 감응층을 갖는 기록 매체 상에 정보를 기록하기 위한 장치 - Google Patents

방사 감응층을 갖는 기록 매체 상에 정보를 기록하기 위한 장치 Download PDF

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Abstract

광학 기록 장치에 있어서, 기록 캐리어 상에 광학적으로 기록 가능한 마크(8)의 정보 패턴을 형성하기 위하여, 기록 캐리어(4)는 세기-변조된 기록빔(13)으로 주사된다. 일정한 거리로 기록 빔(13)을 트레일링하는 검증 빔(14)에 의해, 기록된 정보는 기록 이후에 바로 판독된다. 기록 빔(13)과 검증 빔(14)은 세기가 기록된 정보에 따라 변조되는 동일한 방사원(10)에 의해 발생된다. 검증 빔(14)에 의해 얻어지는 판독 신호(VI)에서 이러한 변조의 영향을 제거하기 위하여 제산 회로(51)는 판독 신호(VI)를 방사원(10)에 의해 발생된 방사의 순간 세기를 나타내는 신호(Vn)로 나눈다.

Description

방사 감지층을 갖는 기록 캐리어 상에 정보를 기록하기 위한 장치
본 발명은 서보 트랙을 갖고 방사 감지 기록층을 구비하는 기록 캐리어 상에 정보를 기록하기 위한 장치에 관한 것으로, 상기 정보 기록 장치는, 단일 방사원에 의해 발생되는 기록 빔과 이 기록 빔 보다 약한 방사 세기를 갖는 두 개의 위성 빔을 상기 기록층으로 향하게 하기 위한 수단과, 상기 빔과 기록 캐리어 사이의 상대적인 이동을 실현하기 위한 구동 수단과, 상기 기록 빔이 서보 트랙의 중심에 위치되는 경우 상기 위성 빔 각각이 서보 트랙의 두 엣지 중 하나의 엣지에 입사되는 방식으로, 일정한 거리로 상기 기록 빔에 선행하는 상기 위성 빔 중 제 1 위성 빔과, 일정한 거리로 상기 기록 빔에 후속하는 상기 위성 빔 중 제 2 위성 빔을 포함하며, 상기 정보 기록 장치에는 상기 기록층을 거쳐 수신된 위성 빔의 방사에 기초하여 트랙킹 에러 신호를 유도하기 위한 수단이 제공되고, 상기 정보 기록 장치는 기록될 정보에 따라 방사원에 의해 발생되는 방사의 세기를 제어하여 상기 정보를 나타내는 광학적으로 검출 가능한 마크로 된 정보 패턴을 형성하도록 하는 제어 회로를 더 포함하며, 상기 기록빔에 후속하는 상기 제 2 위성빔은 상기 정보 패턴에 따라 변조되며, 상기 정보 기록 장치는 변조된 제 2 위성 빔을 검출하여 대응하는 판독 신호를 발생하기 위한 검출 수단을 더 포함한다.
이러한 장치는 일본 출원(JP-A) 제 63157340 호에 공지되어 있다. 기록 이후에 바로 정보를 판독하는 것은, 기록 조건이 최적 조건이 아닌 경우에, 판독되는 정보로부터 거의 즉시로 검출될 수 있다는 장점이 있다. 그러나, 종래 기술의 장치는 판독 신호가 방사원(radiation source)의 순간 세기에 따라 변조되는 단점이 있다.
유럽 특허 출원(EP-A) 제 309232 호에는 기록 영역이 퀴리 온도(Curie temperature)에 도달할 때까지는 편광 효과(polarizing effect)가 존재하지 않는 효과를 이용하여, 기록 동안에 기록 기능이 정확하게 실행되었는지의 여부를 검출하는 수단을 포함하는 장치가 개시되어 있다. 기록 빔은 매체에 의해 반사되어 두개의 편광된 빔으로 분리되고, 이 편광된 빔들의 진폭을 분석하여 이 진폭들이 동일할 때 기록 동작을 나타낸다.
본 발명의 목적은 기록된 정보가 기록 이후에 바로 판독될 수 있는 서두에 정의된 기록 장치를 제공하는 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 방사원에 의해 발생되어 방사의 순간 세기를 나타내는 보정 신호를 발생하기 위한 회로를 포함하는 기록 장치를 제공한다. 방사원은 예를 들어 반도체 레이저이다. 보정신호를 발생하기 위한 회로는 예를 들어, 방사원의 세기에 비례한 보정 신호를 발생하기 위한 방사 감지-다이오드이다. 본 발명에 따른 기록 장치는 방사원에 의해 발생된 방사의 순간 세기로 나누어진 판독 신호를 나타내는 보정된 판독 신호를 보정 신호 및 판독 신호로부터 유도하기 위한 제산 회로(dividing circuit)를 더 포함한다.
본 발명은 방사원에 의해 발생되는 방사의 순간 세기로 판독 신호를 나누어, 방사원의 세기 변조에 의해 판독 신호에서 발생되는 교란(disturbance)의 영향을 제거할 수 있으며, 변조된 기록 빔을 발생하기 위해 이용되는 것과 동일한 방사원을 이용하여 검증 빔(verification beam)을 발생할 수 있다는 사실에 기초한다. 보정된 판독 신호는 기록이 정확하게 실행되는지를 검증하기 위해 이용될 수 있다.
본 실시예는 위성 빔(satellite beam)이 기록된 정보 패턴에 따라 변조되는 3-빔 트랙킹 시스템(three-beam tracking system)을 이용할 때 특이한 장점을 갖는다.
일본 특허 출원 제 89-287825 호에는 광학 정보 기록 및 재생 장치가 개시되어 있음을 주목한다. 메인 빔(main beam) 이외에, 적어도 하나의 위성 빔이 발생된다. 이러한 적어도 하나의 위성 빔은 기록된 정보를 바로 판독하기 위해 이용된다. 그러나, 본 발명의 장치와는 달리, 위성 빔은 트랙 추적(track following)에 이용되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 트랙 추적은 반사된 주-빔을 수신하는 4-4분면 검출기(4-quadrant detector)를 구비하는 피드백 회로에 의해 실행된다.
바람직하게, 본 장치는 검증 빔에 의해 주사되는 정보 패턴이 특정 기준값에서 벗어나는 정도를 나타내는 분석 신호를 보정된 판독 신호로부터 유도하기 위한 분석 회로와, 분석 신호에 따른 방사원 제어를 적응시키기 위한 적응 회로(adaptation circuit)를 포함한다.
이러한 분석 회로는 기록될 정보 신호를 보정된 판독 신호와 비교하는 비교기 회로를 구비할 수 있다. 만일, 기록될 신호에 dc 성분이 없다면, 분석 회로는 듀티 사이클 검출 회로(duty cycle detection circuit) 또는 제 2 고조파 검출기(second harmonic detector)가 될 수 있다. 실제로, dc 성분이 없는 신호인 경우에는, 평균 듀티 사이클은 50% 이고, 제 2 고조파 신호 성분은 존재하지 않는다. 따라서, 보정된 판독 신호에서의 제 2 고조파 성분의 존재 또는 듀티 사이클의 편차는 보정된 신호가 dc 성분이 없는 신호로부터 벗어나는 정도를 나타낸다.
본 발명의 한 실시예에 따르면 이러한 분석 신호를 유도할 수 있는데, 그와 같은 본 발명의 한 실시예에 있어서, 분석 회로는 보정된 판독 신호를 제 1 기준 신호와 비교하기 위한 제 1 비교기를 포함한다. 적분 회로는 비교기의 출력 신호을 적분하여 제 1 기준 신호를 유도하는 적분회로를 포함한다. 이 출력 신호는 제 1 기준 신호와 보정된 판독 신호의 차를 나타낸다. 비교기와 적분기의 조합에 의해 발생되는 제 1 기준 신호는 기록 빔에 의해 발생되는 광학적으로 검출 가능한 마크(marks)의 길이에 대한 측정치(measure)이다. 그러한 마크가 길면 길수록, 제 1 기준 신호는 더 높아진다. 본 실시예에 있어서, 분석 회로는 보정된 판독 신호의 최소 신호값과 최대 신호값 사이의 실질적으로 중간에 위치한 신호 레벨을 갖는 제 2 기준 신호를 유도하기 위한 회로를 더 포함한다. 제 2 기준 신호는 예를 들어 포지티브(positive) 및 네가티브 피크 검출기(negative-peak detector)를 이용하여 2로 나누어 얻어진다. 부가적으로, 분석 회로는 제 1 기준 신호 및 제 2 기준 신호를 비교하여 이들 두 개의 기준 신호의 차를 나타내는 신호를 분석 신호로서 발생하기 위한 제2 비교기를 포함한다. 본 실시예의 한 예는 제 6 도에 도시되어 있다. 제 6 도는 이후에 상세히 설명한다.
방사원을 적응(adaptation)시키는 것은 예를 들어 방사원의 제어 신호의 듀티 사이클을 적응시켜 실행될 수 있다. 이러한 방사원의 적응 방법은 본원의 상세한 설명에서 제 7B 도 및 제 7C 도에 관련하여 상세히 설명되어 있다. 그러나, 변조된 방사의 세기를 적응시키는 것이 바람직하다. 그 이유는 특히, 방사-감지 정보층(radiation-sensitive information layer)의 감도(sensitivity)는 서로 다른 기록 캐리어들에 대해 상당한 차이를 나타낼 수 있기 때문이다. 더욱이, 기록의 정확성은 실제로 기록 세기에 크게 의존하는 것을 알 수 있다. 세기 제어에 의한 방사원의 적응은 본원의 상세한 설명에서 제 8 도에 관련하여 상세히 설명되어 있다.
방사원의 제어는 기록 처리 전체에 적응시킬 수 있다. 일반적으로, 방사-감지 기록층의 감도는 하나의 특정 기록 캐리어의 표면을 통해 아주 미세하게 변화하는 것을 알 수 있기 때문에, 주로 기록 처리의 초기에서 적응시키는 것이 적당하고, 제어는 나머지 기록 처리에 대해서 변경되지 않는다.
본 발명의 다른 실시예와 그에 따른 장점은 첨부된 도면 제 1 도 내지 제 11 도를 참조하여 아래에 상세히 설명한다.
제 1 도는 광 기록 장치를 개략적으로 도시한 도면.
제 2 도는 광 기록 헤드를 상세히 도시한 도면.
제 3 도는 기록 헤드에 사용되는 반도체 레이저에 대한 제어 신호, 발생된 레이저 방사의 세기 변화 및, 결과로서 나타나는 정보 패턴을 도시한 도면.
제 4 도는 발생된 방사, 판독 신호 및 보정된 판독 신호의 세기 변화를 도시한 도면.
제 5 도는 본 발명에 따른 기록 장치의 실시예에서 이용된 보정 회로를 도시한 도면.
제 6 도는 분석 회로의 한 예를 도시한 도면.
제 7a 도 내지 제 7c 도는 방사원의 다수의 상이한 세기 설정에 대해 보정된 판독 신호의 변화를 도시한 도면.
제 8 도는 적응 회로의 한 예를 도시한 도면.
제 9a 도 및 제 9b 도는 서보 트랙을 갖는 기록 캐리어를 도시한 도면.
제 10 도는 3-빔 트랙킹 시스템을 개략적으로 도시한 도면.
제 11 도는 기록 캐리어 상의 3-빔 트랙킹 시스템의 방사 빔의 랜딩 스폿(landing spots)을 도시한 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 턴테이블 2 : 구동 모터
4 : 디스크형 기록 캐리어 6 : 광학 기록 헤드
Vs : 제어신호 10 : 반도체 레이저
11 : 레이저 빔 11 : 빔 분리기(beam splitter)
제 1 도는 광학 기록 장치를 개략적으로 도시한 도면이다. 이러한 광학 기록장치는 턴테이블(1)과, 화살표(5)로 표시된 방향으로 회전축에 대해 디스크형 기록 캐리어(4)를 회전시키기 위한 구동 모터(2)를 포함한다. 기록 캐리어(4)는 충분히 강한 세기의 방사에 노출될 때 반사율의 변화와 같은 광학적으로 검출 가능한 변화가 쉽게 일어나는 방사 감지 기록층을 갖는다. 이러한 방사 감지층은 예를 들어 비교적 강한 세기의 레이저 빔에 노출될 때 국부적으로 제거될 수 있는 얇은 금속층을 포함한다. 선택적으로, 기록층은 방사의 영향하에서 구조가 비결정(amorphous)에서 결정으로 변화하거나 결정에서 비결정으로 변화할 수 있는 상변화 재료(phase-change material) 또는 방사-감지 염료와 같은 상이한 재료로 구성될 수 있다. 회전하는 기록 캐리어에 대향해서 광학 기록 헤드(6)가 배치되어 있다. 제 2 도에 상세하게 도시된 광학 기록 헤드(6)는 세기가 제어 신호(Vs)에 의해 제어될 수 있는 반도체 레이저(10)인 방사원을 포함한다. 반도체 레이저(10)는 레이저 빔(11)을 발생한다. 이러한 레이저 빔은 빔 분리기(12)에 의해 두 개의 서브-빔(subbeam)으로 분리되는데, 그들 각각의 서브-빔은 빔(11)의 세기(Ib)에 비례한 세기를 갖는다. 두 빔 중 한 빔은 기록층에서 광학적으로 검출 가능한 변화를 일으키는 충분히 강한 세기의 기록 빔(13)이다. 나머지 다른 빔은 광학적으로 검출 가능한 변화를 일으킬 수 없는 약한 세기의 검증 빔(verification beam)(14)이다. 빔(13 및 14)은 반투명 미러(15) 및 포커스 대물 렌즈(focus objective; )(16)를 통해 기록 캐리어(4)로 향한다.
기록을 위해, 정보 신호(Vi)는 반도체 레이저(10)에 의해 발생되는 방사의 세기(I)를 기록될 정보에 따라 제어하기 위한 제어 신호(Vs)로 변환된다. 제어신호(Vs)는 제 3 도에 도시되어 있다. 기록 빔(13)의 관련된 변화(I)도 역시 제 3 도에 도시되어 있다. 기록 빔(13)의 세기(I)는 광학적으로 검출 가능한 변화를 일으키기에 적당한 값(Is)과 어떠한 검출 가능한 변화도 일으키지 않는 값(I1) 사이에서 변한다. 따라서, 세기가 변조된 기록 빔(13)으로 기록층이 주사될 때, 광학적으로 검출 가능한 마크(8)의 정보 패턴은 기록층에 형성된다. 화살표(5)로 표시된 이동 방향에서 볼 때, 기록 빔(13)의 뒤에 짧은 거리에서 기록 캐리어(4) 상에 투사되어, 검증 빔(14)의 랜딩 스폿이 기록 캐리어(4)상의 기록 빔(13)의 랜딩 스폿에 의해 설명된 것과 같은 동일한 경로를 실질적으로 따르도록 하는 방식으로, 검증 빔(14)은 향하게 된다. 검증 빔(14)이 반사될 때, 제어 신호(Vs)에 따라 이미 변조된 빔은 검증 빔에 의해 주사되는 광학적으로 검출 가능한 마크(8)의 정보 패턴에 따라 부가적으로 변조되게 된다. 따라서, 변조된 검증 빔(14)은 포커스 대물 렌즈(16) 및 미러(15)에 의해 방사-감지 검출기(17)로 통과하게 된다. 그러면, 방사-감지 검출기(17)는 판독 신호(Vl)를 발생하는데, 이 판독 신호는 검출기(17)에 의해 수신된 방사 양의 세기에 실질적으로 비례한다.
제 4 도는 판독 신호(Vl)의 한 예를 시간의 함수로서 도시한 도면이다. 신호(Vl)의 시간적인 변화는 방사원(10)의 세기 변조에 따르고, 광학적으로 검출 가능한 마크(8)의 정보 패턴은 검증 빔(14)에 의해 주사된다. 제 4 도는 방사원의 세기(Ib)를 시간의 함수로서 도시한 도면이다. 이러한 세기 변화의 영향은 방사원의 세기의 순간 값으로 신호(Vl)를 나눔에 의하여 판독 신호(Vl)로부터 제거될 수 있다. 방사원의 세기 변조에 의한 영향을 제거한 이후에, 보정된 판독 신호(Vl')를 얻는데, 그 신호의 시간의 함수로서의 변화(variation)는 주사되는 정보 패턴에 의해서만 배타적으로 결정된다. 또한, 제 4 도는 보정된 판독 신호(Vl')를 타나낸다.
제 5 도는 보정된 신호(Vl')를 유도하기 위한 보정 회로를 도시한 도면이다. 예를 들어, 방사-감지 다이오드(50)에 의해, 보정 회로는 반도체 레이저(10)에 의해 발생되는 방사의 세기에 비례한 신호(Vm)를 발생한다. 통상적인 형태의 제산 회로(51)에 판독 신호(Vl) 및 신호(Vm)가 인가되어, 판독 신호(Vl)를 신호(Vm)로 나누어 보정된 신호(Vl')를 유도한다.
기록된 정보 패턴을 나타내는 보정된 판독 신호(Vl')는 분석 회로에 인가되는데, 분석 회로는 검증 빔(14)에 의해 주사되는 정보 패턴이 특정의 최적 조건에서 벗어나는 정도를 나타내는 분석 신호(Va)를 유도한다. 분석 신호(Va)는 레이저 제어 회로(7)에 인가되는데, 이 제어 회로는 분석 신호(Va)에 의해 표시되는 편차를 최소화 하기 위해 분석 신호의 영향하에서 반도체 레이저(10)의 제어를 적응시킨다. 분석 회로(52)는, 예를 들어 기록 빔(13)과 검증 빔(14) 사이의 거리에 대응하는 특정 시간만큼 정보 신호(Vi) 가 지연된 이후에, 보정된 판독 신호(Vl') 및 정보신호(Vi)가 인가되는 비교기를 포함할 수 있다. 이러한 분석 회로는 참고 문헌으로 본 명세서에 포함된 미국 특허 제 4,448,277 호에 상세하게 설명되어 있다. 기록될 정보 신호가 예를 들어, CD 신호 또는 VLP 신호와 같은 dc 성분이 없는 신호일 때, 정보 패턴의 판독 시에 얻어지는 신호 또는 dc 성분이 없는 신호가 되어야 한다. 신호가 dc 성분이 없는 신호로부터 벗어나는 정도는 보정된 판독 신호(Vl')에서 듀티 사이클 또는 제 2 고조파 신호 성분에 의해 표현될 수 있다. 실제로, dc 성분이 없는 신호는 50%의 평균 듀티 사이클을 갖고 있으며, 제 2 고주파 신호 성분을 갖지 않는다. 따라서, 50%로부터의 평균 듀티 사이클의 편차 또는 제 2 고조파 신호 성분의 존재는 제 2 고조파 성분이 감소하거나 듀티 사이클이 50%의 값에 더욱 가깝게 하는 방식으로 반도체 레이저 제어를 적응시키기 위해 이용될 수 있다. 듀티 사이클 검출기 또는 제 2 고조파 검출기를 이용하는 분석 회로는 본 명세서에 참고 문헌으로 포함된 미국 특허 제 4,225,873 호에 상세히 설명되어 있다. 제 6 도는 보정된 판독 신호(Vl') 및 제 1 기준 신호(Vref) 가 각각 비반전 입력 및 반전 입력에 인가되는 비교기(60)를 포함하는 분석 회로(52)의 다른 예를 도시한 도면이다. 비교기(60)의 출력 신호는 적분 회로(61)에 인가된다. 부가적으로, 보정된 판독 신호(Vl')는 포지티브 피크 검출기(62) 및 네가티브 피크 검출기(63)에 인가되는데, 이를 검출기 각각은 보정된 판독 신호(Vl')에서 최대 및 최소 신호 레벨을 검출하여 1/2 이득율을 갖는 가산기 회로(64)에 인가되기 때문에, 가산기 회로(54)의 출력의 신호 레벨은 보정된 판독 신호(Vl')의 최소 신호 레벨과 최대 신호 레벨의 중간에 위치하게 된다. 가산기 회로(64)의 출력 상의 신호는 제 2 기준 신호(Vref2)로서 차동 증폭기(65)의 반전 입력에 인가되고, 제 1 기준 신호(Vref)는 적분 회로(61)의 출력으로부터 차동 증폭기(65)의 비반전 입력에 인가된다. 차동 증폭기(65)의 출력 신호는 차동 증폭기의 두 입력 신호 사이의 차를 나타내고, 분석 신호(Va)로서 기능을 한다. 제 6 도에 도시된 분석 회로는 다음과 같이 동작한다. 적분 회로(61)에서 비교기(60)의 반전 입력으로의 피드백의 결과로서, 적분 회로의 출력 상의 제 1 기준 신호(Vref)는 비교기(60)의 출력 신호(Vo)가 평균이 0으로 되는 레벨로 설정된다. 보정된 판독 신호(Vl')에 dc 성분이 없다면, 이는 기준 신호의 신호 레벨이 보정된 판독 신호의 최대 신호 레벨과 최소 신호 레벨 사이의 중간에 위치되는 것을 의미한다. 보정된 판독 신호(Vl')에 dc 성분이 있다면, 제 1 기준 신호(Vref)의 신호 레벨은 보정된 판독 신호의 최대와 최소 중간에 더 이상 위치되지 않는다. 따라서, 제 1 기준 신호(Vref)가 제 2 기준 신호(Vref2)에 의해 나타나는 신호 레벨로부터 벗어나는 정도는 보정된 판독 신호가 dc 성분이 없는 신호로부터 벗어나는 정도를 나타낸다. 제 7a 도는 정보 신호(Vi), 광학적으로 검출 가능한 마크(8)의 관련된 정보 패턴과, 정보 신호 및 보정된 판독 신호(Vl') 모두가 dc 성분이 없는 경우의 보정된 판독 신호(Vl')를 나타낸다.
제 7b 도 및 제 7c 도는 정보 신호(Vi), 관련된 정보 패턴 및, 반도체 레이저(10)가 최적으로 제어되지 않아서 직류 성분이 있는 신호(Vl')로서 나타나는 경우의 보정된 판독 신호(Vl')를 도시하는데, 예를 들어, 제 7B 도에서 광학적으로 검출 가능한 마크(8)가 너무 짧기 때문에, 적분 회로(61)에 의해 발생되는 제 1 기준 신호(Vref)의 신호 레벨은 비교적 낮게 되지만, 제 7c 도의 경우에는, 마크가 너무 길기 때문에, 제 1 기준 신호(Vref)의 신호 레벨은 비교적 높게 된다. 제 2 기준 신호(Vref2)와 제 1 기준 신호(Vref) 사이의 차를 나타내는 분석 신호(Va)는 반도체 레이저(10)의 제어를 적응시키기 위해 이용될 수 있다. 이는 예를 들어, 세기 변조의 듀티 사이클을 적응시켜 가능하게 된다. 기록된 광학적으로 검출 가능한 마크가 너무 짧다는 것을 분석 신호가 나타내는 제 7B 도에 있어서는 세기 변조의 듀티 사이클을 정보 신호(Vi)의 듀티 사이클보다 크게 하여 실행될 수 있지만, 제 7c 도에 설명된 상태에서는 세기 변조의 듀티 사이클이 정보 신호의 듀티 사이클보다 작아야 한다. 세기 변조의 듀티 사이클을 적응시키기 위한 회로는 특히 상술한 미국 특허 제 4,488,277 호에 상세히 설명되어 있다. 그러나, 방사 빔의 세기가 정보 기록에 있어서 더욱 중요한 파라미터가 되기 때문에, 세기 변조의 듀티 사이클 대신 방사의 세기를 적응시키는 것이 바람직하다. 더욱이, 최적의 기록 세기는 상이한 기록 캐리어들에 따라서 크게 변화한다.
제 8 도는 반도체 레이저(10)에 의해 발생된 방사의 세기를 분석 신호(Va)의 영향하에서 자동적으로 최적화시키는 제어 회로(7)의 한 예를 도시한 도면이다. 제어 회로(7)는 분석 신호(Va)가 인가되는 적분 회로(82)를 포함한다. 적분 회로(82)의 출력 신호는 가산기 회로(83)의 두 입력 중 한 입력에 인가되고, 가산기 회로의 다른 입력에는 신호(So)가 인가된다. 그 신호(So)는 기록 빔(13)의 공칭 기록 세기 레벨(nominal write intensity)(Is)에 대응하는 신호 레벨을 갖는다. 가산기 회로의 출력 신호, 즉 입력에 인가되는 신호의 합을 나타내는 신호는 전자적으로 제어 가능한 스위치(84)의 두 신호 입력 중 한 입력에 인가된다. 기록 빔(13)의 판독 세기 레벨(Il)에 대응하는 신호(Lo)는 스위치의 다른 신호 입력에 인가된다. 정보 신호(Vi)는 스위치(84)의 제어 입력에 인가된다. 스위치(84)는 통상적인 형태, 즉 제어 신호(Vi)의 논리 신호 레벨에 따르는 형태로 되어, 그 신호 입력들 상의 신호 중 한 신호를 신호 출력에 전달한다.
스위치(84)의 신호 출력, 즉 결과적으로 기록 빔(13)의 원하는 세기 레벨을 항상 나타내는 출력은 반도체 레이저(10)의 세기를 스위치의 출력 신호에 의해 표시되는 레벨로 설정하는 제어 회로에 인가된다. 이러한 제어 회로는 발생된 방사의 세기를 측정하기 위한 방사-감지 다이오드와, 방사-감지 다이오드(50)에 의해 측정된 세기를 스위치(84)의 출력 신호에 의해 표시되는 원하는 세기와 비교하는 비교기 회로(81)를 포함한다. 이러한 비교의 결과에 따라, 비교기 회로(81)는, 다이오드(50)에 의해 검출된 방사 세기가 스위치(84)의 출력 신호에 의해 표시되는 원하는 값과 동일하게 되는 방식으로, 반도체 레이저(10)에 대한 제어 전류를 발생하는 제어 가능한 전류원(80)을 제어한다. 제 8 도에 도시된 제어 회로는 다음과 같이 동작한다. 만약, 기록된 마크(8)가 너무 짧거나 너무 길다는 것을 분석 신호(Va)가 나타내면, 적분 회로(82)의 출력 상의 전압 레벨은 증가되거나 감소된다. 이 결과로서, 기록 빔(13)의 기록 세기(Is)와 기록된 마크(8)의 길이는 적응된다. 따라서, 기록 빔(13)의 기록 세기는 분석 신호(Va)가 0으로 될 때까지 계속해서 적응되어, 결과적으로 기록 빔의 세기는 최적으로 된다.
정보 신호는 정보 패턴을 기록하기 위한 서보 트랙을 갖는 기록 캐리어 상에 종종 기록된다. 이와 같은 기록 캐리어는 제 9A 도 및 제 9B 도에 도시되어 있는데, 제 9A 도는 평면도이고, 제 9B 도는 라인(b-b)을 따라 취해진 기록 캐리어 일부의 단면도이다. 서보 트랙은 도면 부호(90)로 표시되어 있다. 이러한 서보 트랙(90)은, 예를 들어 방사-감지 기록층(92)으로 피복되고, 또한 보호층(93)으로 피복된 투명 기판(91) 내에/상에 형성된 홈(groove) 또는 릿지(ridge)를 포함할 수 있다. 서보 트랙(90)은 기록 빔(13)이 정확하게 서보 트랙을 향하도록 할 수 있다. 다시 말해, 서보 트랙은 방사 방향(radial direction)의 기록 빔의 위치가 기록 캐리어로부터 반사된 방사를 이용하는 트랙킹 시스템에 의해 제어되도록 할 수 있다. 자주 이용되는 트랙킹 시스템은 3-빔 트랙킹 시스템이며, 이는 예를 들어, 영국(GB) 제 1,434,834 호(PHN 6296) 및 유럽 출원(EP-A) 제 0,210,603 호에 상세히 설명되어 있다.
제 10 도는 3-빔 트랙킹 시스템의 한 예를 개략적으로 도시한 도면인데, 여기서, 방사 빔(11)은 격자(100)로 향하게 되어 강한 세기의 0차 빔(zero order beam)(101b)과 두 개의 약한 세기의 1차 빔(first order beam)(101a 및 101c)으로 분리된다. 빔(101a 내지 101c)은 대물 렌즈(102), 반투명 미러(103), 축(104)을 중심으로 회전 가능한 미러(105) 및, 포커스 대물 렌즈(focus objective)(106)를 포함하는 광학 시스템을 통해 기록층(92)으로 향하게 된다. 빔(101a 및 101c)은 각각 리딩 위성 빔(leading satellite beam) 및 트레일링 위성 빔(trailing satellite beam)을 형성하고, 이들은 화살표(5)에 의해 나타내어진 운동 방향에서 봤을 때, 빔(101b) 전, 후에 기록층(92)에 입사한다. 기록층 상의 빔(101a, 101b 및 101c) 각각의 랜딩 스폿 각각은 제 11도에서 도면 부호(110a, 110b 및 110c)로 표시되어 있다. 이들 빔은, 빔(101b)이 서보 트랙(90)의 중심에 위치하는 경우에, 위성 빔(101a 및 101c)은 랜딩 스폿(110a 및 110c)은 서보 트랙(90)의 엣지에 각각 실질적으로 입사되는 방식으로 향하게 된다. 그러면, 기록층(92)으로부터 반사된 빔은 포커스 대물 렌즈(106), 미러(105) 및 반투명 미러(103)를 통해 방사-감지 검출 시스템(107)으로 향하게 되는데, 이 시스템은 복수의 방사-감지 다이오드를 포함한다. 방사-감지 다이오드에 의해 발생된 신호 전류는 통상적인 방법으로 트랙킹-에러 신호(tracking-error signal)를 유도하기 위해 사용된다. 이 신호로부터 제어 신호가 유도되는데, 트랙킹-에러 신호를 최소화하도록 작동기(actuator)에 의해 미러(105)를 회전시키는 제어 신호를 유도한다.
본 발명은 3-빔 트랙킹 시스템과 관계하여 사용하는데 아주 적합하게 되어 있다. 이 경우에, 빔(101b)은 기록 빔으로 이용될 수 있고, 그 세기는 반도체 레이저의 세기를 변조에 의해 변조될 수 있다. 트레일링 위성 빔(101c)은 검증 빔으로 이용될 수 있다. 만약, 서보 트랙(90)이 아주 밀접하게 간격이 유지되어 있어 트레일링 위성 빔(101c)의 랜딩 스폿(110c)이 인접한 트랙을 부분적으로 중첩하게 되면, 광학적으로 검출 가능한 마크(8)가 아직 기록되지 않은 서보 트랙에 트레일링 위성 빔(101c)의 랜딩 스폿(110c)이 인접하게 되는 방식으로 빔(101a 및 101c)을 향하게 하는 것이 바람직하다. 이는 판독 신호(Vl)에서 인접한 트랙으로부터 크로스토크(crosstalk)를 방지하기 위함이다.
내용없음.

Claims (4)

  1. 서보 트랙(90)을 갖고 방사 감지 기록층(92)을 구비하는 기록 캐리어(4) 상에 정보를 기록하기 위한 장치로서, 단일 방사원(10)에 의해 발생되는 기록 빔(101b)과 이 기록 빔(101b) 보다 약한 방사 세기를 갖는 두 개의 위성 빔(101a, 101c)을 상기 기록층(92)으로 향하게 하기 위한 수단(100, 102, 103, 104, 106)과, 상기 빔(101a 내지 101c)과 기록 캐리어(4) 사이에서 상대적인 이동을 실현하기 위한 구동 수단(2)과, 상기 기록 빔(101b)이 서보 트랙(90)에 중심을 맞추고 있는 경우 상기 위성빔(101a, 101c) 각각이 서보 트랙(90)의 두 엣지 중 하나의 엣지에 입사되는 방식으로, 일정한 거리로 상기 기록빔(101b)에 선행하는 상기 위성 빔 중 제1위성 빔(101a) 및 일정한 거리로 상기 기록 빔(101b)에 후속하는 상기 위성 빔 중 제 2 위성 빔(101c)과, 상기 기록층(92)을 통해 수신된 위성 빔(101a, 101c)의 방사에 기초하여 트랙킹 에러 신호를 유도하기 위한 수단(108)과, 기록될 정보에 따라 방사원(10)에 의해 발생되는 방사의 세기를 제어하여 정보를 나타내는 광학적으로 검출 가능한 마크(8)로 된 정보 패턴을 형성하도록 하는 제어 회로(7)를 포함하고, 상기 기록 빔(101b)에 후속하는 상기 제 2 위성 빔(101c)은 상기 정보 패턴에 따라 변조되며, 변조된 제 2 위성 빔을 검출하여 대응하는 판독 신호(Vl)를 발생하기 위한 검출 수단(107)을 더 포함하는 정보 기록 장치에 있어서, 상기 방사원(10)에 의해 발생되는 방사의 순간 세기를 나타내는 보정 신호(Vm)를 발생하기 위한 회로(50)와, 상기 보정 신호(Vm) 및 판독 신호(Vl)로부터, 상기 방사원(10)에 의해 발생된 방사의 순간 세기로 나누어진 판독 신호(Vl)를 나타내는 보정된 판독 신호(Vl')를 유도하기 위한 보정 회로(51)를 포함하는 것을 특징으로 하는 정보 기록 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 장치는 상기 제 2 위성 빔(101c)에 의해 주사되는 정보 패턴이 특정의 최적 조건에서 벗어나는 정도를 나타내는 분석 신호(Va)를 보정된 판독 신호(Vl')로부터 유도하기 위한 분석 회로(52)와, 상기 분석 신호에 따라 방사원 제어를 적응시키기 위한 적응 회로(7)를 포함하는 것을 특징으로 하는 정보 기록 장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 분석 회로는 보정된 판독 신호(Vl')를 제 1 기준 신호(Vref)와 비교하기 위한 제 1 비교기(60)와, 제 1 기준 신호(Vref)와 보정된 판독 신호(Vl') 사이의 차이를 나타내는 상기 비교기(60)의 출력 신호로부터 적분에 의해 상기 제 1 기준 신호 (Vref)를 유도하기 위한 적분 회로(61)와, 상기 보정된 판독 신호(Vl')의 최소 및 최대 신호값 사이의 실질적으로 중간에 위치하는 신호레벨을 갖는 제 2 기준 신호(Vref2)를 유도하기 위한 회로(62, 63, 64)와, 상기 제 1 및 제 2 기준 신호(Vref, Vref2)를 비교하여 상기 두 개의 기준 신호 사이의 차이를 나타내는 신호를 분석 신호(Va)로서 발생하는 제 2 비교기(65)를 포함하는 것을 특징으로 하는 정보 기록 장치.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 적응 회로는 상기 방사원(10)에 의해 발생되는 변조된 방사의 세기를 적응시키기 위한 수단(7)을 포함하는 것을 특징으로 하는 정보 기록 장치.
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