JPH042103B2 - - Google Patents

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JPH042103B2
JPH042103B2 JP10005184A JP10005184A JPH042103B2 JP H042103 B2 JPH042103 B2 JP H042103B2 JP 10005184 A JP10005184 A JP 10005184A JP 10005184 A JP10005184 A JP 10005184A JP H042103 B2 JPH042103 B2 JP H042103B2
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embossing
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pattern
pinch roller
section
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JP10005184A
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/12Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by mechanical means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Panels For Use In Building Construction (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は金属薄板、紙、合成樹脂等のシート状
物からなる被加工材に対し、その化粧面に印刷、
塗装、エンボス加工を施して、より立体感のある
化粧面の被加工材を製造する凹凸模様の化粧面を
形成する装置に関するものである。 (従来の技術) 金属薄板、紙、合成樹脂などの被加工材に対し
てエンボス加工することはよく知られたことであ
る。その一例としては、印刷、塗装等した被加工
材に対してエンボス加工を施す装置、例えば特開
昭53−90347号公報である。そして、この種装置
で加工した金属薄板の化粧面は一回で深い凹凸模
様をエンボス加工で行うことと、エンボス加工前
に既に完成している化粧塗膜に対し無理にエンボ
ス加工を行うため、その屈曲部の塗膜にクラツ
ク、剥落が生ずることが多々あつた。また、従来
のこの種装置では所要なエンボス加工を1回で完
了する工程のため、複数段差の化粧面、クラツク
のない、深いエンボスの化粧面を形成できず、単
なる凹凸面の外観となり、十分に立体感を醸し出
すことができなかつた。 (発明の目的) 本発明は前述したような問題点を解決し、被加
工材に多段エンボス加工と印刷、および立体感助
長用の模様を凹凸模様の屈曲部等に形成すること
により、この屈曲部の化粧塗膜に亀裂が入つた
り、剥落したり、あるいはエンボス加工により模
様が変形したりすることもなく、耐候性、生産
性、立体感に富む凹凸模様の化粧面で、かつ、ペ
コツキのない被加工材を製造する装置(以下、単
にエンボス装置という)を提供することを目的と
して発明されたものである。 (発明の構成) そして、この目的を達成するため本発明に係る
エンボス装置は、金属薄板等のシート状物からな
る被加工材を装着した送出部と、この送出部から
送給される被加工材を貯留し、常時無理なく次工
程に送出するループ部と、前記ループ部から送出
された被加工材の表面に1色、または多色からな
る任意の模様を直接印刷する印刷部と、この印刷
部から送出された被加工材をガイドすると共に、
上記模様に同期して第1次の浅いエンボス加工を
行うと同時に該エンボス加工により形成された未
完成の凹凸模様の屈曲部、頂面、底面、側壁の少
なくとも全部、あるいは一部分に陰影となる立体
感助長用の模様を塗料、インク等の1種で形成す
るパイロツトエンボス加工機と、このパイロツト
エンボス加工機から送出された被加工材にそのエ
ンボス模様に合致してさらに深い凹凸模様をエン
ボス加工するエンボス加工機と、上記加工機の後
に配列したレベラと、その出口に配した引張用ピ
ンチローラとを直列に配列し、かつ、印刷部、パ
イロツトエンボス加工機、エンボス加工機間の同
調を図る同調機構とから構成したことを特徴とし
たものである。 (作用) この構成によると、被加工材の化粧面に対して
印刷部で任意模様を印刷し、また印刷した被加工
材はパイロツトエンボス加工機によつてエンボス
加工機に案内されると共に、前記と同一の模様に
合致して浅くエンボス加工され、かつ、その凹凸
模様の頂面、底面、側壁、屈曲部の少なくとも1
個所に立体感助長用の模様を形成するものであ
る。次ぎに、このように形成された被加工材は上
記の浅い凹凸模様に合致して上記同一の模様をエ
ンボス加工機によつて、さらに深くエンボス加工
を行い、被加工材をレベラによつて凹凸模様を消
去することなしに残留歪をとつて平坦にして次工
程に送給するため、このような加工をテンシヨン
下で行うようにピンチローラで引張つて加工時の
残留歪を低減したものである。 (実施例) 次ぎに本発明に係るエンボス装置の実施例につ
き図面を用いて説明する。第1図において、
送出部、はループ部、は印刷部でピンチロー
ラ8、印刷機9と必要により設けるトツプクリヤ
コータ16と焼付けオーブン17とからなり、
8はパイロツトエンボス加工機(以下、単に前エ
ンボス加工機という)、22はエンボス加工機、
25は同調機構、26はレベラ、30は引張り用
ピンチローラである。さらに説明すると、送出部
1は第2図に示すように金属薄板等のシート状物
からなる被加工材2、例えば表面処理鋼板、プラ
イマー鋼板、アルミニウム板、銅板、紙、合成樹
脂の1種をアンコイラ3に装着し、これをピンチ
ローラ4を介して次工程に送給するためのもので
ある。また、ループ部は例えば第3図に示すよ
うにローラ6を複数個、上下に移動できるように
配列して被加工材2を貯留し、被加工材2を常
時、無理なく次工程に送出するための逃げ部とし
て機能するものである。さらに、印刷部はピン
チローラ8と1段、あるいは複数段の印刷機9
(図では2段)からなり、被加工材2に化粧面に
対し、例えば第4図に示すような模様Aを1色、
または多色で印刷するものである。その印刷はグ
ラビア印刷、オフセツト印刷、スクリーン印刷、
凸版印刷、平板印刷のいずれかの方法によつて印
刷するものである。なお、印刷は化粧面の任意面
に行うものである。上記印刷機9の1組の一例と
しては第5図に示すようなグラビアオフセツト印
刷機からなり、圧胴10、オフセツトロール1
1、版胴12、フアンテンロール13、シメシロ
ール14、ドクター15とからなるものである。
また、前エンボス加工機18は印刷部で第4図
に示すような模様Aが印刷、焼付けされた被加工
材2をガイドすると共に、印刷模様Aと同一の模
様を外周に刻設したエンボスロール19と弾性ロ
ール20と版胴21と図示しないフアンテンロー
ル、ドクター等を介して被加工材2上に印刷され
た印刷模様Aにエンボスロール19の凹凸模様を
同期させて第7図aに示すように最終エンボス加
工深さより浅いエンボス加工をすると共に、被加
工材2上の凹凸模様B′,C′の頂面、底面、屈曲部
の少なくとも一部、例えば第7図bでは屈曲部に
陰影を助長する立体感助長用の模様2aを塗料、
インク等で形成するものである。前記エンボス加
工機22は第8図に示すように上下の雄、雌型の
エンボスロール23,24に対し、印刷模様Aと
同一の模様を刻設し、被加工材2上の未完成の凹
凸模様B′,C′を第9図に示すようにさらに深くエ
ンボス加工するものである。なお、印刷機9と前
エンボス加工機18とエンボス加工機22は同一
直径のロールで、しかも同期して回転し、印刷模
様にズレが生じないように図示しないマーキング
装置、チエーン、ベルト、電子制御装置などでコ
ントロールしたものである。同調機構25は印刷
と前エンボス加工機18、エンボス加工機
2の回転を同一にするためのものである。レベラ
26はエンボス加工された被加工材2に存在する
残留歪を矯正するものである。その構成は第10
図に示すように上ローラ群27a,27b,27
c,……27n、下ローラ群28a,28b,…
…28nのようにジグザグ状に配列し、かつ、そ
のギヤツプ29をコントロールできるようにした
ものである。30は引張り用ピンチローラで主に
エンボス加工機22の回転より速くし、被加工材
2を引張つた状態(テンシヨン下)で前エンボス
加工機18、エンボス加工機22の工程を通過さ
せるようにし、被加工材2が弛んだり、凹凸模様
B,Cのエンボス加工時のズレを除去するように
したものである。 次ぎに本発明に係るエンボス装置の動作につい
て簡単に説明すると、まず送給部1に装着された
例えばプライマー鋼板からなる被加工材2はピン
チローラ4を介してループ部に送給される。な
お、この際、被加工材2はピンチローラ4によつ
て引張られた場合でもアンコイラ3にブレーキ装
置(図示せず)が装着されているため、被加工材
2はある許容された張力下でループ部へ送給さ
れるものである。そして、ループ部から被加工
材2は印刷部へガイド兼用ピンチローラ8を介
して送給される。印刷部では被加工材2の表面
に第4図に示すような模様をインクで印刷し、そ
の上にクリアとして透明樹脂(アクリル樹脂)を
塗布し、このクリアを乾燥、焼付けした後に前エ
ンボス加工機18に送給し、被加工材2に対して
第4図に示す模様と合致する凹凸模様B′,C′を第
7図a,bに示すように形成すると同時に、その
屈曲部に立体感助長用の模様2aを付着せしめ
る。なお、この際の凹凸模様B′,C′は最終凹凸模
様B,Cの約8割位の大きさ、深さ、所謂ΔW=
0.8W、h=0.8H位である。また、ΔW,Wは凸
模様Cの頂面の幅、h,Hはエンボス深さであ
る。 次ぎに、被加工材2は前エンボス加工機18
送給され、被加工材2上の凹凸模様B′,C′と合致
させて第9図に示すような深さのエンボス加工が
施される。なお、この際の被加工材2に対するエ
ンボス加工はテンシヨンが付加された状態でのエ
ンボス加工となる。そして、エンボス加工機22
から送出された被加工材2はレベラ26によつて
エンボス加工時における残留歪を引張り用ピンチ
ローラ30によつて引張られた状態で矯正し、次
工程(図示せず)に送給されるものである。さら
に、ピンチローラ8と引張用ピンチローラ30間
の被加工材2に対する力関係をエンボス加工機
2の回転を基準とした際に、ピンチローラ8の回
転が遅く、引張り用ピンチローラ30の回転が速
い速度関係に設定して、被加工材2が引張られた
状態でエンボス加工と凹凸模様B,Cを消去する
ことなしに平坦化すると共に残留歪の除去を行う
ようにしたものである。その結果、被加工材2が
上記領域内で山状になつたり、捩じれて移動した
り、前エンボス加工機18、エンボス加工機22
の入口でバタついたりしなくなり、エンボス加工
時にズレて模様が不鮮明となつたり、2重に噛み
込むことがなくなる。また、レベラ26では一方
向へテンシヨンが付加された状態となるため、容
易に平坦化できると共に、残留歪も無埋なく逃す
ことができる。勿論、上記領域内におけるテンシ
ヨンはエンボス模様に変化を与えない力の範囲内
である。 次ぎに上記装置を用いてエンボス加工したテス
トピースと従来から使用されている装置によつ
てエンボス加工したテストピースとを比較す
る。なお、検査査法としては(1)被加工材2の1メ
ートル当たりに存在する見掛上のペコツキの数、
(2)ペコツキの分布状態、(3)ペコツキの高低差(設
計上の凹凸状部の底面、頂面と現実の底面、頂面
との差)、(4)全体の外観についての観察を示す。 【表】 (4)の外観について、 【表】 (イ) 凹凸模様の屈曲部における外観、
(ロ) 凹凸模様の変化、(ハ) 立体感。
さらに、耐候性においては従来の被加工材は
1500時間の塩水噴霧試験で塗膜にクラツク、ブリ
スターが生じていたが、本発明に係るエンボス装
置で加工した際は、これらが全く見られなかつ
た。 (発明の効果) 本発明に係るエンボス加工装置によれば、印
刷模様とエンボス模様を合致させて加工したた
め、立体感が助長される。エンボス加工を2段
階以上で加工するため深いエンボス加工を行なつ
ても壁膜にクラツクが入つたり、剥落することが
ない。複数段の成形ロールを用いることにより
急角度の凹凸模様を形成できる。残留歪が少な
く、かつ、レベラで容易に矯正できる。エンボ
ス加工時に凹凸模様の任意個所に立体感助長用の
模様を印刷、塗膜で形成できるため、3乗的な相
乗効果により立体感が大幅に強化される。ライ
ンを直線状に配列し、被加工材に対し無理な力が
付加されない機構としたため、スムーズに、か
つ、高速でエンボス加工できる。印刷部からエ
ンボス加工間をピンチローラで引張つた状態で加
工するため凹凸模様間のズレ、位置の誤差が生ぜ
ず、美しい外観に形成できる。等の特徴を有する
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る凹凸模様の化粧面を形成
する装置の一例を示す構成略図、第2図、第3
図、第5図、第6図、第8図、および第10図は
上記装置の各部の具体例を示す説明図、第4図は
印刷模様の一例を示す平面図、第7図a,bはパ
イロツトエンボス加工機によつて形成された凹凸
模様の一部を示す拡大端面図、第9図は完成した
凹凸模様の一部を拡大して示す端面図である。 ……送出部、……ループ部、……印刷
部、18……パイロツトエンボス加工機、22
…エンボス加工機、26……レベラ、30……引
張り用ピンチローラ、A……印刷模様、B,C,
B′,C′……凹凸模様、2a……立体感助長用の模
様。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 金属薄板等のシート状物からなる被加工材を
    装着した送出部と、該送出部から送給される被加
    工材を貯留し、常時無理なく次工程に送出するル
    ープ部と、該ループ部から送出された被加工材を
    確実に送給するピンチローラと該ピンチローラか
    ら送出された被加工材の表面に1色、または多色
    からなる任意の模様を直接印刷する印刷部と、該
    印刷部から送出された被加工材をガイドすると共
    に、上記模様に同期して第1次の浅いエンボス加
    工を行うと同時に該エンボス加工により形成され
    た未完成の凹凸模様の屈曲部、頂面、底面、側壁
    の少なくとも一部分に陰影となる立体感助長用の
    模様を塗料、インク等の1種で形成するパイロツ
    トエンボス加工機と、該パイロツトエンボス加工
    機から送出された被加工材にそのエンボス模様に
    合致してさらに深い凹凸模様をエンボス加工する
    エンボス加工機と、該加工機の後に配列したレベ
    ラと、該レベラの出口に配列した引張り用ピンチ
    ローラとを直列に配列したことを特徴とする凹凸
    模様の化粧面を形成する装置。
JP10005184A 1984-05-17 1984-05-17 凹凸模様の化粧面を形成する装置 Granted JPS60242062A (ja)

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JP10005184A JPS60242062A (ja) 1984-05-17 1984-05-17 凹凸模様の化粧面を形成する装置

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JPS60242062A JPS60242062A (ja) 1985-12-02
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