JPH04210361A - ウエハの両面加工方法 - Google Patents

ウエハの両面加工方法

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JPH04210361A
JPH04210361A JP40227490A JP40227490A JPH04210361A JP H04210361 A JPH04210361 A JP H04210361A JP 40227490 A JP40227490 A JP 40227490A JP 40227490 A JP40227490 A JP 40227490A JP H04210361 A JPH04210361 A JP H04210361A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
adhesive
glass disk
processing
sides
Prior art date
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Pending
Application number
JP40227490A
Other languages
English (en)
Inventor
Toyohiko Shirai
白井 豊彦
Koji Betsui
別井 孝次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Electronic Components Ltd
Original Assignee
Seiko Electronic Components Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、例えばエツチングで
形成される薄板水晶振動子の素板や半導体基板など両面
を鏡面加工してかつ、厚み精度の高いウェハを得る加工
法に関するものである。 [0002]
【従来の技術】従来、例えば水晶やシリコンのような硬
脆材よりなるブランクを、キャリア(案内板)内の枠に
セットして例えば4ウ工イ方式の研磨装置で両面を同時
に加工されていた。 [0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、その厚さが1
1001L以下のような薄い対象物において、従来の加
工方法ではキャリアの厚みに強度的限界があるとともに
、キャリア内での移動に対してウェハは耐えられず、加
工できるウェハの板厚に限界があり、このような両面同
時の加工では、高精度のウェハ加工は不可能であった。 本発明はこのような問題を克服して高精度のウェハを得
る方法を見出すことを目的とするものである。 [0004]
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に、本発明は片面ごとの処理を施すものである、すなわ
ち第1のガラス盤に複数の未加工のブランクを第1の接
着剤で貼付けて第1の面を平坦に研磨してウェハとする
工程、該ウェハの第1の研磨面に第2の接着剤を施し、
該第2の接着剤で第2のガラス盤を前記第1の研磨面に
貼付け、第1のガラス盤とウェハと、第2のガラス盤の
三者を一体にする工程、次に該一体化したものに第1の
接着剤だけを選択的に溶融し、該溶融により前記一体化
したものから第1のガラス盤を剥離する工程、該剥離に
より露出したウェハの未加工の第2の面を平坦に研磨す
る工程よりなることを基本とするウェハの両面加工方法
であり、さらに必要ならば前記第1のガラス盤に複数の
未加工のブランクを第1の接着剤で貼付けるとき、前記
ブランクの周辺の少なくとも3個所以上で、かつ略均等
な位置にダミー板を同時に貼付け、該ダミー板の厚さは
、前記複数のブランクの最大厚さより若干厚くするもの
である。さらに、前記第1の研磨面の上にコーティング
膜を施し、該コーティング膜の上で、前記ダミー板の上
の少なくとも3個所以上で、かつ略均等な位置にスペー
サを設けるものであり、前記第2のガラス盤のウェハと
接する面にあらかじめコーティング膜を施して用意する
、該第2のガラス盤と前記第1のガラス盤との間に挟ま
れたウェハの三者を一体にする工程は、積層した中層に
第2の接着剤を施して圧層し、該圧層を施した後に前記
第2の接着剤を硬化するものであり、該硬化は紫外線の
照射により行うものである。 [0005]
【作用】上記方法において、本発明の特徴とする作用効
果は、ダミー板により第1の面の加工は均一でフラット
な平面を得て、次にスペーサと第2の接着剤により、鏡
面仕上げを施した第1の面を内側に収め、未加工の第2
の面を加工するものであり、このときウェハは第2の接
着剤により第2のガラス半導体から浮いた状態となる。 本発明の作用の特徴は、第1のガラス盤と、第2のガラ
ス盤とに挟まれたウェハの三者が一体となった状態から
、いずれかの作用により第1の接着剤が選択的に硬化し
、これにより第1のガラス盤のみが除去されることであ
り、つまり、この作用は第1のガラス盤から第2のガラ
ス盤ヘウエハを転貼りすることである。 [0006]
【実施例】本発明の詳細な手順について水晶ブランクを
、両面とも鏡面仕上げした水晶ウェハに加工する工程を
例にして説明する。まず、図2の平面図に示す1面加工
用ガラス(以下単に第1のガラス盤1と記す)1をホッ
トプレート上に乗せ、熱くする。次に比較的溶解温度の
低い1面貼付用接着材(以下、単に第1の接着剤4と記
す)4を第1のガラス盤1の面に溶かし、その上に多数
個(図示では3×3の9個)の水晶ブランク2°と、そ
れを包囲するように図示では4枚のダミー板3を略均等
な間隔で貼りつける、この状態を図2のA−A’部の断
面で示すと、図1(A)となり、この場合ダミー板3の
厚みは、図示のように厚みの不均一な水晶ブランク2゛
より数10ミクロン程厚く、最低3板を必要とし、ダミ
ー板3の厚さは均一で、かつ等しい押圧力で水晶ブラン
ク2゛の周囲に等間隔で貼付いている。このダミー板3
は加工中、水晶ブランク2゛より先に加工定盤12に(
図3参照)に接し、水晶ブランク2′を保護し、第1の
ガラス盤1の傾きを防止して平行加工の機能を持つ、次
にラップ装置11 (図3参照)に水晶ブランク2゛の
貼付いた第1のガラス盤1をセットして加工を行う。水
晶ブランク2′の厚みとダミー板3の厚みが均一で、フ
ラット面になった後、さらにポリッシュ加工して鏡面に
仕上げ、図1(A)の点線で示す第1の研磨面1aが得
られ、水晶ブランク2°は水晶ウェハ2 (以下単にウ
ェハ2と記す)となる。 [0007a次にこの第1の研磨面1aを上にして、そ
の面にスピンをかけながらシンナーでうすめたラッカー
を塗布して極めて薄く、かつ均一なコーティング膜5を
施す(図1 (B)参照)、次にこのコーティング膜5
の上に所定の大きさのスペーサ8をダミー板3の上で、
かつ少なくとも3#所に乗せる。これらコーティング膜
5とスペーサ8の状態を図1(B)に示す。次に比較的
溶融温度の高い2面貼付用接着材(以下単に第2の接着
剤9と記す)を図1(C)に示すように加工された第1
の研磨面1aの側の中央部に注滴して流動させる。これ
とは別にあらかじめ、前述と同じ方法でラッカーコーテ
ィング膜5゛が施された2面貼付は用ガラス(以下単に
第2のガラス盤7と記す)を用意し、図1 (D)のよ
うにこのコーティング膜5゛を下にして、点線の矢印a
のように第2の接着剤9の上に静かに置く。このとき第
2の接着剤9と、その中にある気泡等はスペーサ8によ
るギャップの効果により外部に漏出する。数秒後、図1
(E)に示すように矢印になる加圧で、第2のガラス盤
7と第1のガラス盤1に、第2の接着剤9を介在して挟
圧されたウェハ2となる。 [0008]この加圧により第2の接着剤9の厚さはス
ペーサ8の厚さで規正され均一となる。ここで第2の接
着剤9が紫外線硬化性の場合については、同図(E)に
示す矢印10により紫外線の照射で第2の接着剤9の固
化を行う。この例の他にも接着剤として、多様な特性の
作用を利用することができる。ここでスペーサ8の機能
は、第2の接着剤9の厚みを均一にするとともに、第1
の研磨面1aで鏡面に仕上がったウェハ2はこの第2の
接着剤9の上に浮いた状態となって同図(E)に示すよ
うに3部材が一体となったものとなる。 [00091次にこの物をオーブンの中に入れて加熱す
る。すると比較的溶融温度の低い第1の接着剤4のみが
選択的に溶融する。そこで第1のガラス盤1に力を加え
てウェハ2から剥離し、第1の接着剤4を除去すると図
1 (F)のようにウェハ2の未加工の第2の面を外側
にして第2のガラス盤7に転結りされたウェハ2となる
。 このウェハ2を図3の断面図に示すラップ装置11のキ
ャリヤ6の中にセットし、第1の面の加工と同様に、テ
ップ加工とポリッシュ加工を施して第1(F)の点線で
示すように第2の研磨面7aとなり、所定の厚さと鏡面
に仕上げる。この研磨加工が終了した後、ウェハ2の貼
付いた第2のガラス盤7を溶剤の中に浸漬し、コーティ
ング膜5と5°を犯し、第2のガラス盤7からウェハ2
を剥離し、所定の工程による洗浄を施してウェハ2の完
成品となる。 [00101以上の加工方法は、最適条件を示したもの
であり、これに限定されるものではなく、基本的には請
求項1記載の工程によって実現できるものである。すな
わち、素材となるブランクの厚みにむらがなければダミ
ー板は不要であり、第1の研磨面と第2のガラス盤の接
着が平行かつ均等に精度よく施されればスペーサも不要
である。また両面研磨の仕上ったウェハを第2のガラス
盤から剥離する場合、及び第2のガラス盤から第2の接
着剤を剥離するに際し、剥離液や処理時間などの条件を
設定すれば2回のスピンによるコーティング膜も不要で
ある。さらに第2の接着剤は紫外線硬化性である必要は
なく、第1の接着剤と第2の接着剤を同じ条件で溶融し
たとき、第1.の接着剤のみが選択的に溶融するもので
あれば、その転結の目的は達成できるものである。 [00113
【図面の簡単な説明】
【図1】図(A)〜(F)は本発明の加工工程を示す断
面図である。
【図2】本発明のガラス盤の平面図である。
【図3】本発明に適用される加工装置の断面図である。
【符号の説明】
1 第1のガラス盤 1a 第1の研磨面 2 ウェハ 2° ブランク 3 ダミー板 4 第1の接着剤 5.5“ コーティング膜 7 第2のガラス盤 7a 第2研磨面 8 スペーサ 9 第2の接着剤 10 紫外線
【手綺補正書】
【提出日】平成3年3月14日
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名] 0005 【補正方法】変更
【補正内容】
[0005]
【作用】上記方法において、本発明の特徴とする作用効
果は、ダミー板により第1の面の加工は均一でフラット
な平面を得て、次にスペーサと第2の接着剤により、鏡
面仕上げを施した第1の面を内側に収め、未加工の第2
の面を加工するものであり、このときウェハは第2の接
着剤により第2のガラス盤から浮いた状態となる。本発
明の作用の特徴は、第1のガラス盤と、第2のガラス盤
とに挟まれたウェハの三者が一体となった状態から、い
ずれかの作用により第1の接着剤が選択的に硬化し、こ
れにより第1のガラス盤のみが除去されることであり、
つまり、この作用は第1のガラス盤から第2のガラス盤
ヘウエハを転貼りすることである。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名] 0009 【補正方法】変更
【補正内容1 [0009]次にこの物をオーブンの中に入れて加熱す
る。すると比較的溶融温度の低い第1の接着剤4のみが
選択的に溶融する。そこで第1のガラス盤1に力を加え
てウェハ2から剥離し、第1の接着剤4を除去すると図
1(F)のようにウェハ2の未加工の第2の面を外側に
して第2のガラス盤7に転貼りされたウェハ2となる。 このウェハ2を図3の断面図に示すラップ装置11のキ
ャリヤ6の中にセットし、第1の面の加工と同様に、ラ
ップ加工とポリッシュ加工を施して第1(F)の点線で
示すように第2の研磨面7aとなり、所定の厚さと鏡面
に仕上げる。この研磨加工が終了した後、ウェハ2の貼
付いた第2のガラス盤7を溶剤の中に浸漬し、コーティ
ング膜5と5゛を犯し、第2のガラス盤7からウェハ2
を剥離し、所定の工程による洗浄を施してウェハ2の完
成品となる。 【手続補正4】
【補正対象項目名】明細書
【補正対象項目名30011 【補正方法】変更
【補正内容】
[00111 【効果]以上の工程により、本発明の方法によれば各面
ごとにガラス盤に貼付けることにより、両面同時の加工
で加工不可能であったウェハを、実施例において40ミ
クロンから70ミクロンと極めて薄い水晶ウェハの加工
が可能になり、特にダミー板やスペーサを適用すること
により、第2面の接着の厚みが均一になり精度の高い水
晶ウェハや半導体基板のウェハが得られる効果を提供す
るものである。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1のガラス盤に複数の未加工のブランク
    を第1の接着剤で貼付けて第1の面を平坦に研磨してウ
    ェハとする工程、該ウェハの第1の研磨面に第2の接着
    剤を施し、該第2の接着剤で第2のガラス盤を前記第1
    の研磨面に貼付け、第1のガラス盤とウェハと、第2の
    ガラス盤の三者を一体にする工程、次に該一体化したも
    のに第1の接着剤だけを選択的に溶融し、該溶融により
    前記一体化したものから第1のガラス盤を剥離する工程
    、該剥離により露出したウェハの未加工の第2の面を平
    坦に研磨する工程よりなることを特徴とするウェハの両
    面加工方法。
  2. 【請求項2】前記第1のガラス盤に複数の未加工のブラ
    ンクを第1の接着剤で貼付けるとき、前記ブランクの周
    辺の少なくとも3個所以上で、かつ略均等な位置にダミ
    ー板を同時に貼付けることを特徴とする請求項1記載の
    ウェハの両面加工方法。
  3. 【請求項3】前記ダミー板の厚さは、前記複数のブラン
    クの最大厚さより若干厚いことを特徴とする請求項2記
    載のウェハ両面加工方法。
  4. 【請求項4】前記第1の研磨面の上にコーティング膜を
    施すことを特徴とする請求項1記載のウェハの両面加工
    方法。
  5. 【請求項5】前記コーティング膜の上で前記ダミー板の
    上の少なくとも3個所以上で、かつ略均等な位置にスペ
    ーサを設けることを特徴とする請求項1記載のウェハの
    両面加工方法。
  6. 【請求項6】前記第2のガラス盤のウェハと接する面に
    あらかじめコーティング膜を施すことを特徴とする請求
    項1記載のウェハの両面加工方法。
  7. 【請求項7】前記第1のガラス盤とウェハと第2のガラ
    ス盤の三者を一体にする工程は、積層した中層に第2の
    接着剤を施して圧層し、該圧層を施した後に前記第2の
    接着剤を硬化することを特徴とする請求項1記載のウェ
    ハの両面加工方法。
  8. 【請求項8】前記第2の接着剤が紫外線硬化性接着剤で
    あることを特徴とする請求項1記載のウェハの両面加工
    方法。
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