JPH04210361A - ウエハの両面加工方法 - Google Patents
ウエハの両面加工方法Info
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- JPH04210361A JPH04210361A JP40227490A JP40227490A JPH04210361A JP H04210361 A JPH04210361 A JP H04210361A JP 40227490 A JP40227490 A JP 40227490A JP 40227490 A JP40227490 A JP 40227490A JP H04210361 A JPH04210361 A JP H04210361A
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Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、例えばエツチングで
形成される薄板水晶振動子の素板や半導体基板など両面
を鏡面加工してかつ、厚み精度の高いウェハを得る加工
法に関するものである。 [0002]
形成される薄板水晶振動子の素板や半導体基板など両面
を鏡面加工してかつ、厚み精度の高いウェハを得る加工
法に関するものである。 [0002]
【従来の技術】従来、例えば水晶やシリコンのような硬
脆材よりなるブランクを、キャリア(案内板)内の枠に
セットして例えば4ウ工イ方式の研磨装置で両面を同時
に加工されていた。 [0003]
脆材よりなるブランクを、キャリア(案内板)内の枠に
セットして例えば4ウ工イ方式の研磨装置で両面を同時
に加工されていた。 [0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、その厚さが1
1001L以下のような薄い対象物において、従来の加
工方法ではキャリアの厚みに強度的限界があるとともに
、キャリア内での移動に対してウェハは耐えられず、加
工できるウェハの板厚に限界があり、このような両面同
時の加工では、高精度のウェハ加工は不可能であった。 本発明はこのような問題を克服して高精度のウェハを得
る方法を見出すことを目的とするものである。 [0004]
1001L以下のような薄い対象物において、従来の加
工方法ではキャリアの厚みに強度的限界があるとともに
、キャリア内での移動に対してウェハは耐えられず、加
工できるウェハの板厚に限界があり、このような両面同
時の加工では、高精度のウェハ加工は不可能であった。 本発明はこのような問題を克服して高精度のウェハを得
る方法を見出すことを目的とするものである。 [0004]
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に、本発明は片面ごとの処理を施すものである、すなわ
ち第1のガラス盤に複数の未加工のブランクを第1の接
着剤で貼付けて第1の面を平坦に研磨してウェハとする
工程、該ウェハの第1の研磨面に第2の接着剤を施し、
該第2の接着剤で第2のガラス盤を前記第1の研磨面に
貼付け、第1のガラス盤とウェハと、第2のガラス盤の
三者を一体にする工程、次に該一体化したものに第1の
接着剤だけを選択的に溶融し、該溶融により前記一体化
したものから第1のガラス盤を剥離する工程、該剥離に
より露出したウェハの未加工の第2の面を平坦に研磨す
る工程よりなることを基本とするウェハの両面加工方法
であり、さらに必要ならば前記第1のガラス盤に複数の
未加工のブランクを第1の接着剤で貼付けるとき、前記
ブランクの周辺の少なくとも3個所以上で、かつ略均等
な位置にダミー板を同時に貼付け、該ダミー板の厚さは
、前記複数のブランクの最大厚さより若干厚くするもの
である。さらに、前記第1の研磨面の上にコーティング
膜を施し、該コーティング膜の上で、前記ダミー板の上
の少なくとも3個所以上で、かつ略均等な位置にスペー
サを設けるものであり、前記第2のガラス盤のウェハと
接する面にあらかじめコーティング膜を施して用意する
、該第2のガラス盤と前記第1のガラス盤との間に挟ま
れたウェハの三者を一体にする工程は、積層した中層に
第2の接着剤を施して圧層し、該圧層を施した後に前記
第2の接着剤を硬化するものであり、該硬化は紫外線の
照射により行うものである。 [0005]
に、本発明は片面ごとの処理を施すものである、すなわ
ち第1のガラス盤に複数の未加工のブランクを第1の接
着剤で貼付けて第1の面を平坦に研磨してウェハとする
工程、該ウェハの第1の研磨面に第2の接着剤を施し、
該第2の接着剤で第2のガラス盤を前記第1の研磨面に
貼付け、第1のガラス盤とウェハと、第2のガラス盤の
三者を一体にする工程、次に該一体化したものに第1の
接着剤だけを選択的に溶融し、該溶融により前記一体化
したものから第1のガラス盤を剥離する工程、該剥離に
より露出したウェハの未加工の第2の面を平坦に研磨す
る工程よりなることを基本とするウェハの両面加工方法
であり、さらに必要ならば前記第1のガラス盤に複数の
未加工のブランクを第1の接着剤で貼付けるとき、前記
ブランクの周辺の少なくとも3個所以上で、かつ略均等
な位置にダミー板を同時に貼付け、該ダミー板の厚さは
、前記複数のブランクの最大厚さより若干厚くするもの
である。さらに、前記第1の研磨面の上にコーティング
膜を施し、該コーティング膜の上で、前記ダミー板の上
の少なくとも3個所以上で、かつ略均等な位置にスペー
サを設けるものであり、前記第2のガラス盤のウェハと
接する面にあらかじめコーティング膜を施して用意する
、該第2のガラス盤と前記第1のガラス盤との間に挟ま
れたウェハの三者を一体にする工程は、積層した中層に
第2の接着剤を施して圧層し、該圧層を施した後に前記
第2の接着剤を硬化するものであり、該硬化は紫外線の
照射により行うものである。 [0005]
【作用】上記方法において、本発明の特徴とする作用効
果は、ダミー板により第1の面の加工は均一でフラット
な平面を得て、次にスペーサと第2の接着剤により、鏡
面仕上げを施した第1の面を内側に収め、未加工の第2
の面を加工するものであり、このときウェハは第2の接
着剤により第2のガラス半導体から浮いた状態となる。 本発明の作用の特徴は、第1のガラス盤と、第2のガラ
ス盤とに挟まれたウェハの三者が一体となった状態から
、いずれかの作用により第1の接着剤が選択的に硬化し
、これにより第1のガラス盤のみが除去されることであ
り、つまり、この作用は第1のガラス盤から第2のガラ
ス盤ヘウエハを転貼りすることである。 [0006]
果は、ダミー板により第1の面の加工は均一でフラット
な平面を得て、次にスペーサと第2の接着剤により、鏡
面仕上げを施した第1の面を内側に収め、未加工の第2
の面を加工するものであり、このときウェハは第2の接
着剤により第2のガラス半導体から浮いた状態となる。 本発明の作用の特徴は、第1のガラス盤と、第2のガラ
ス盤とに挟まれたウェハの三者が一体となった状態から
、いずれかの作用により第1の接着剤が選択的に硬化し
、これにより第1のガラス盤のみが除去されることであ
り、つまり、この作用は第1のガラス盤から第2のガラ
ス盤ヘウエハを転貼りすることである。 [0006]
【実施例】本発明の詳細な手順について水晶ブランクを
、両面とも鏡面仕上げした水晶ウェハに加工する工程を
例にして説明する。まず、図2の平面図に示す1面加工
用ガラス(以下単に第1のガラス盤1と記す)1をホッ
トプレート上に乗せ、熱くする。次に比較的溶解温度の
低い1面貼付用接着材(以下、単に第1の接着剤4と記
す)4を第1のガラス盤1の面に溶かし、その上に多数
個(図示では3×3の9個)の水晶ブランク2°と、そ
れを包囲するように図示では4枚のダミー板3を略均等
な間隔で貼りつける、この状態を図2のA−A’部の断
面で示すと、図1(A)となり、この場合ダミー板3の
厚みは、図示のように厚みの不均一な水晶ブランク2゛
より数10ミクロン程厚く、最低3板を必要とし、ダミ
ー板3の厚さは均一で、かつ等しい押圧力で水晶ブラン
ク2゛の周囲に等間隔で貼付いている。このダミー板3
は加工中、水晶ブランク2゛より先に加工定盤12に(
図3参照)に接し、水晶ブランク2′を保護し、第1の
ガラス盤1の傾きを防止して平行加工の機能を持つ、次
にラップ装置11 (図3参照)に水晶ブランク2゛の
貼付いた第1のガラス盤1をセットして加工を行う。水
晶ブランク2′の厚みとダミー板3の厚みが均一で、フ
ラット面になった後、さらにポリッシュ加工して鏡面に
仕上げ、図1(A)の点線で示す第1の研磨面1aが得
られ、水晶ブランク2°は水晶ウェハ2 (以下単にウ
ェハ2と記す)となる。 [0007a次にこの第1の研磨面1aを上にして、そ
の面にスピンをかけながらシンナーでうすめたラッカー
を塗布して極めて薄く、かつ均一なコーティング膜5を
施す(図1 (B)参照)、次にこのコーティング膜5
の上に所定の大きさのスペーサ8をダミー板3の上で、
かつ少なくとも3#所に乗せる。これらコーティング膜
5とスペーサ8の状態を図1(B)に示す。次に比較的
溶融温度の高い2面貼付用接着材(以下単に第2の接着
剤9と記す)を図1(C)に示すように加工された第1
の研磨面1aの側の中央部に注滴して流動させる。これ
とは別にあらかじめ、前述と同じ方法でラッカーコーテ
ィング膜5゛が施された2面貼付は用ガラス(以下単に
第2のガラス盤7と記す)を用意し、図1 (D)のよ
うにこのコーティング膜5゛を下にして、点線の矢印a
のように第2の接着剤9の上に静かに置く。このとき第
2の接着剤9と、その中にある気泡等はスペーサ8によ
るギャップの効果により外部に漏出する。数秒後、図1
(E)に示すように矢印になる加圧で、第2のガラス盤
7と第1のガラス盤1に、第2の接着剤9を介在して挟
圧されたウェハ2となる。 [0008]この加圧により第2の接着剤9の厚さはス
ペーサ8の厚さで規正され均一となる。ここで第2の接
着剤9が紫外線硬化性の場合については、同図(E)に
示す矢印10により紫外線の照射で第2の接着剤9の固
化を行う。この例の他にも接着剤として、多様な特性の
作用を利用することができる。ここでスペーサ8の機能
は、第2の接着剤9の厚みを均一にするとともに、第1
の研磨面1aで鏡面に仕上がったウェハ2はこの第2の
接着剤9の上に浮いた状態となって同図(E)に示すよ
うに3部材が一体となったものとなる。 [00091次にこの物をオーブンの中に入れて加熱す
る。すると比較的溶融温度の低い第1の接着剤4のみが
選択的に溶融する。そこで第1のガラス盤1に力を加え
てウェハ2から剥離し、第1の接着剤4を除去すると図
1 (F)のようにウェハ2の未加工の第2の面を外側
にして第2のガラス盤7に転結りされたウェハ2となる
。 このウェハ2を図3の断面図に示すラップ装置11のキ
ャリヤ6の中にセットし、第1の面の加工と同様に、テ
ップ加工とポリッシュ加工を施して第1(F)の点線で
示すように第2の研磨面7aとなり、所定の厚さと鏡面
に仕上げる。この研磨加工が終了した後、ウェハ2の貼
付いた第2のガラス盤7を溶剤の中に浸漬し、コーティ
ング膜5と5°を犯し、第2のガラス盤7からウェハ2
を剥離し、所定の工程による洗浄を施してウェハ2の完
成品となる。 [00101以上の加工方法は、最適条件を示したもの
であり、これに限定されるものではなく、基本的には請
求項1記載の工程によって実現できるものである。すな
わち、素材となるブランクの厚みにむらがなければダミ
ー板は不要であり、第1の研磨面と第2のガラス盤の接
着が平行かつ均等に精度よく施されればスペーサも不要
である。また両面研磨の仕上ったウェハを第2のガラス
盤から剥離する場合、及び第2のガラス盤から第2の接
着剤を剥離するに際し、剥離液や処理時間などの条件を
設定すれば2回のスピンによるコーティング膜も不要で
ある。さらに第2の接着剤は紫外線硬化性である必要は
なく、第1の接着剤と第2の接着剤を同じ条件で溶融し
たとき、第1.の接着剤のみが選択的に溶融するもので
あれば、その転結の目的は達成できるものである。 [00113
、両面とも鏡面仕上げした水晶ウェハに加工する工程を
例にして説明する。まず、図2の平面図に示す1面加工
用ガラス(以下単に第1のガラス盤1と記す)1をホッ
トプレート上に乗せ、熱くする。次に比較的溶解温度の
低い1面貼付用接着材(以下、単に第1の接着剤4と記
す)4を第1のガラス盤1の面に溶かし、その上に多数
個(図示では3×3の9個)の水晶ブランク2°と、そ
れを包囲するように図示では4枚のダミー板3を略均等
な間隔で貼りつける、この状態を図2のA−A’部の断
面で示すと、図1(A)となり、この場合ダミー板3の
厚みは、図示のように厚みの不均一な水晶ブランク2゛
より数10ミクロン程厚く、最低3板を必要とし、ダミ
ー板3の厚さは均一で、かつ等しい押圧力で水晶ブラン
ク2゛の周囲に等間隔で貼付いている。このダミー板3
は加工中、水晶ブランク2゛より先に加工定盤12に(
図3参照)に接し、水晶ブランク2′を保護し、第1の
ガラス盤1の傾きを防止して平行加工の機能を持つ、次
にラップ装置11 (図3参照)に水晶ブランク2゛の
貼付いた第1のガラス盤1をセットして加工を行う。水
晶ブランク2′の厚みとダミー板3の厚みが均一で、フ
ラット面になった後、さらにポリッシュ加工して鏡面に
仕上げ、図1(A)の点線で示す第1の研磨面1aが得
られ、水晶ブランク2°は水晶ウェハ2 (以下単にウ
ェハ2と記す)となる。 [0007a次にこの第1の研磨面1aを上にして、そ
の面にスピンをかけながらシンナーでうすめたラッカー
を塗布して極めて薄く、かつ均一なコーティング膜5を
施す(図1 (B)参照)、次にこのコーティング膜5
の上に所定の大きさのスペーサ8をダミー板3の上で、
かつ少なくとも3#所に乗せる。これらコーティング膜
5とスペーサ8の状態を図1(B)に示す。次に比較的
溶融温度の高い2面貼付用接着材(以下単に第2の接着
剤9と記す)を図1(C)に示すように加工された第1
の研磨面1aの側の中央部に注滴して流動させる。これ
とは別にあらかじめ、前述と同じ方法でラッカーコーテ
ィング膜5゛が施された2面貼付は用ガラス(以下単に
第2のガラス盤7と記す)を用意し、図1 (D)のよ
うにこのコーティング膜5゛を下にして、点線の矢印a
のように第2の接着剤9の上に静かに置く。このとき第
2の接着剤9と、その中にある気泡等はスペーサ8によ
るギャップの効果により外部に漏出する。数秒後、図1
(E)に示すように矢印になる加圧で、第2のガラス盤
7と第1のガラス盤1に、第2の接着剤9を介在して挟
圧されたウェハ2となる。 [0008]この加圧により第2の接着剤9の厚さはス
ペーサ8の厚さで規正され均一となる。ここで第2の接
着剤9が紫外線硬化性の場合については、同図(E)に
示す矢印10により紫外線の照射で第2の接着剤9の固
化を行う。この例の他にも接着剤として、多様な特性の
作用を利用することができる。ここでスペーサ8の機能
は、第2の接着剤9の厚みを均一にするとともに、第1
の研磨面1aで鏡面に仕上がったウェハ2はこの第2の
接着剤9の上に浮いた状態となって同図(E)に示すよ
うに3部材が一体となったものとなる。 [00091次にこの物をオーブンの中に入れて加熱す
る。すると比較的溶融温度の低い第1の接着剤4のみが
選択的に溶融する。そこで第1のガラス盤1に力を加え
てウェハ2から剥離し、第1の接着剤4を除去すると図
1 (F)のようにウェハ2の未加工の第2の面を外側
にして第2のガラス盤7に転結りされたウェハ2となる
。 このウェハ2を図3の断面図に示すラップ装置11のキ
ャリヤ6の中にセットし、第1の面の加工と同様に、テ
ップ加工とポリッシュ加工を施して第1(F)の点線で
示すように第2の研磨面7aとなり、所定の厚さと鏡面
に仕上げる。この研磨加工が終了した後、ウェハ2の貼
付いた第2のガラス盤7を溶剤の中に浸漬し、コーティ
ング膜5と5°を犯し、第2のガラス盤7からウェハ2
を剥離し、所定の工程による洗浄を施してウェハ2の完
成品となる。 [00101以上の加工方法は、最適条件を示したもの
であり、これに限定されるものではなく、基本的には請
求項1記載の工程によって実現できるものである。すな
わち、素材となるブランクの厚みにむらがなければダミ
ー板は不要であり、第1の研磨面と第2のガラス盤の接
着が平行かつ均等に精度よく施されればスペーサも不要
である。また両面研磨の仕上ったウェハを第2のガラス
盤から剥離する場合、及び第2のガラス盤から第2の接
着剤を剥離するに際し、剥離液や処理時間などの条件を
設定すれば2回のスピンによるコーティング膜も不要で
ある。さらに第2の接着剤は紫外線硬化性である必要は
なく、第1の接着剤と第2の接着剤を同じ条件で溶融し
たとき、第1.の接着剤のみが選択的に溶融するもので
あれば、その転結の目的は達成できるものである。 [00113
【図1】図(A)〜(F)は本発明の加工工程を示す断
面図である。
面図である。
【図2】本発明のガラス盤の平面図である。
【図3】本発明に適用される加工装置の断面図である。
1 第1のガラス盤
1a 第1の研磨面
2 ウェハ
2° ブランク
3 ダミー板
4 第1の接着剤
5.5“ コーティング膜
7 第2のガラス盤
7a 第2研磨面
8 スペーサ
9 第2の接着剤
10 紫外線
【提出日】平成3年3月14日
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名] 0005
【補正方法】変更
[0005]
【作用】上記方法において、本発明の特徴とする作用効
果は、ダミー板により第1の面の加工は均一でフラット
な平面を得て、次にスペーサと第2の接着剤により、鏡
面仕上げを施した第1の面を内側に収め、未加工の第2
の面を加工するものであり、このときウェハは第2の接
着剤により第2のガラス盤から浮いた状態となる。本発
明の作用の特徴は、第1のガラス盤と、第2のガラス盤
とに挟まれたウェハの三者が一体となった状態から、い
ずれかの作用により第1の接着剤が選択的に硬化し、こ
れにより第1のガラス盤のみが除去されることであり、
つまり、この作用は第1のガラス盤から第2のガラス盤
ヘウエハを転貼りすることである。
果は、ダミー板により第1の面の加工は均一でフラット
な平面を得て、次にスペーサと第2の接着剤により、鏡
面仕上げを施した第1の面を内側に収め、未加工の第2
の面を加工するものであり、このときウェハは第2の接
着剤により第2のガラス盤から浮いた状態となる。本発
明の作用の特徴は、第1のガラス盤と、第2のガラス盤
とに挟まれたウェハの三者が一体となった状態から、い
ずれかの作用により第1の接着剤が選択的に硬化し、こ
れにより第1のガラス盤のみが除去されることであり、
つまり、この作用は第1のガラス盤から第2のガラス盤
ヘウエハを転貼りすることである。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名] 0009
【補正方法】変更
【補正内容1
[0009]次にこの物をオーブンの中に入れて加熱す
る。すると比較的溶融温度の低い第1の接着剤4のみが
選択的に溶融する。そこで第1のガラス盤1に力を加え
てウェハ2から剥離し、第1の接着剤4を除去すると図
1(F)のようにウェハ2の未加工の第2の面を外側に
して第2のガラス盤7に転貼りされたウェハ2となる。 このウェハ2を図3の断面図に示すラップ装置11のキ
ャリヤ6の中にセットし、第1の面の加工と同様に、ラ
ップ加工とポリッシュ加工を施して第1(F)の点線で
示すように第2の研磨面7aとなり、所定の厚さと鏡面
に仕上げる。この研磨加工が終了した後、ウェハ2の貼
付いた第2のガラス盤7を溶剤の中に浸漬し、コーティ
ング膜5と5゛を犯し、第2のガラス盤7からウェハ2
を剥離し、所定の工程による洗浄を施してウェハ2の完
成品となる。 【手続補正4】
る。すると比較的溶融温度の低い第1の接着剤4のみが
選択的に溶融する。そこで第1のガラス盤1に力を加え
てウェハ2から剥離し、第1の接着剤4を除去すると図
1(F)のようにウェハ2の未加工の第2の面を外側に
して第2のガラス盤7に転貼りされたウェハ2となる。 このウェハ2を図3の断面図に示すラップ装置11のキ
ャリヤ6の中にセットし、第1の面の加工と同様に、ラ
ップ加工とポリッシュ加工を施して第1(F)の点線で
示すように第2の研磨面7aとなり、所定の厚さと鏡面
に仕上げる。この研磨加工が終了した後、ウェハ2の貼
付いた第2のガラス盤7を溶剤の中に浸漬し、コーティ
ング膜5と5゛を犯し、第2のガラス盤7からウェハ2
を剥離し、所定の工程による洗浄を施してウェハ2の完
成品となる。 【手続補正4】
【補正対象項目名】明細書
【補正対象項目名30011
【補正方法】変更
[00111
【効果]以上の工程により、本発明の方法によれば各面
ごとにガラス盤に貼付けることにより、両面同時の加工
で加工不可能であったウェハを、実施例において40ミ
クロンから70ミクロンと極めて薄い水晶ウェハの加工
が可能になり、特にダミー板やスペーサを適用すること
により、第2面の接着の厚みが均一になり精度の高い水
晶ウェハや半導体基板のウェハが得られる効果を提供す
るものである。
ごとにガラス盤に貼付けることにより、両面同時の加工
で加工不可能であったウェハを、実施例において40ミ
クロンから70ミクロンと極めて薄い水晶ウェハの加工
が可能になり、特にダミー板やスペーサを適用すること
により、第2面の接着の厚みが均一になり精度の高い水
晶ウェハや半導体基板のウェハが得られる効果を提供す
るものである。
Claims (8)
- 【請求項1】第1のガラス盤に複数の未加工のブランク
を第1の接着剤で貼付けて第1の面を平坦に研磨してウ
ェハとする工程、該ウェハの第1の研磨面に第2の接着
剤を施し、該第2の接着剤で第2のガラス盤を前記第1
の研磨面に貼付け、第1のガラス盤とウェハと、第2の
ガラス盤の三者を一体にする工程、次に該一体化したも
のに第1の接着剤だけを選択的に溶融し、該溶融により
前記一体化したものから第1のガラス盤を剥離する工程
、該剥離により露出したウェハの未加工の第2の面を平
坦に研磨する工程よりなることを特徴とするウェハの両
面加工方法。 - 【請求項2】前記第1のガラス盤に複数の未加工のブラ
ンクを第1の接着剤で貼付けるとき、前記ブランクの周
辺の少なくとも3個所以上で、かつ略均等な位置にダミ
ー板を同時に貼付けることを特徴とする請求項1記載の
ウェハの両面加工方法。 - 【請求項3】前記ダミー板の厚さは、前記複数のブラン
クの最大厚さより若干厚いことを特徴とする請求項2記
載のウェハ両面加工方法。 - 【請求項4】前記第1の研磨面の上にコーティング膜を
施すことを特徴とする請求項1記載のウェハの両面加工
方法。 - 【請求項5】前記コーティング膜の上で前記ダミー板の
上の少なくとも3個所以上で、かつ略均等な位置にスペ
ーサを設けることを特徴とする請求項1記載のウェハの
両面加工方法。 - 【請求項6】前記第2のガラス盤のウェハと接する面に
あらかじめコーティング膜を施すことを特徴とする請求
項1記載のウェハの両面加工方法。 - 【請求項7】前記第1のガラス盤とウェハと第2のガラ
ス盤の三者を一体にする工程は、積層した中層に第2の
接着剤を施して圧層し、該圧層を施した後に前記第2の
接着剤を硬化することを特徴とする請求項1記載のウェ
ハの両面加工方法。 - 【請求項8】前記第2の接着剤が紫外線硬化性接着剤で
あることを特徴とする請求項1記載のウェハの両面加工
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40227490A JPH04210361A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハの両面加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40227490A JPH04210361A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハの両面加工方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04210361A true JPH04210361A (ja) | 1992-07-31 |
Family
ID=18512094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40227490A Pending JPH04210361A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハの両面加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04210361A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009182067A (ja) * | 2008-01-30 | 2009-08-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板を含む積層体および基板の処理方法 |
WO2018216433A1 (ja) * | 2017-05-24 | 2018-11-29 | 富士フイルム株式会社 | 被処理部材の製造方法および積層体 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5144394A (ja) * | 1974-10-15 | 1976-04-15 | Nippon Telegraph & Telephone | |
JPS61271841A (ja) * | 1985-05-27 | 1986-12-02 | Fujitsu Ltd | 半導体基板の研磨方法 |
JPS63160338A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の表面保護構造 |
-
1990
- 1990-12-14 JP JP40227490A patent/JPH04210361A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5144394A (ja) * | 1974-10-15 | 1976-04-15 | Nippon Telegraph & Telephone | |
JPS61271841A (ja) * | 1985-05-27 | 1986-12-02 | Fujitsu Ltd | 半導体基板の研磨方法 |
JPS63160338A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の表面保護構造 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009182067A (ja) * | 2008-01-30 | 2009-08-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板を含む積層体および基板の処理方法 |
WO2018216433A1 (ja) * | 2017-05-24 | 2018-11-29 | 富士フイルム株式会社 | 被処理部材の製造方法および積層体 |
KR20190126852A (ko) * | 2017-05-24 | 2019-11-12 | 후지필름 가부시키가이샤 | 피처리 부재의 제조 방법 및 적층체 |
JPWO2018216433A1 (ja) * | 2017-05-24 | 2020-04-09 | 富士フイルム株式会社 | 被処理部材の製造方法および積層体 |
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