JPH0420531A

JPH0420531A - 変性シリコーン化合物及びその製造方法

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Publication number: JPH0420531A
Application number: JP2124360A
Authority: JP
Inventors: Seiji Ichinohe; 省二一戸
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 1990-05-15
Filing date: 1990-05-15
Publication date: 1992-01-24
Anticipated expiration: 2009-11-09
Also published as: JPH0689147B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、界面活性剤等として好適に用いられる下記式
（１）及び（Ｉｔ）で示される新規な変性シリコーン化
合物及びその製造方法に関する。

〔但し、式中Ｒ１は炭素数１〜１０の一価炭化水素基、
Ｒ２は下記式（Ａ）（但し、Ｑは炭素数１〜ＩＯの二価炭化水素基である。

）で示される基、Ｒ３は炭素数１〜１０の一価炭化水素基
、又は上記式（Ａ）で示される基、ａ、　　ｂはそれぞ
れ０以上の整数であるが、ｂが０のときＲ３の少なくと
も１つは上記式（Ａ）で示される基である。〕〔但し、式中Ｒ１は炭素数１〜１０の一価炭化水素基、
Ｒ４は下記式（Ｂ）（但し、Ｑは炭素数１〜１０の二価炭化水素基である。

）で示される基、Ｒ５は炭素数１〜１０の一価炭化水素基
、又は上記式（Ｂ）で示される基、ａ、　　ｂはそれぞ
れ０以上の整数であるが、ｂがＯのときＲ５の少なくと
も１つは上記式（Ｂ）で示される基である。〕〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来よ
り、ノニオン系のシリコーン界面活性剤としてはポリエ
ーテル変性シリコーン化合物が広範に使用されているが
、このポリエーテル変性シリコーン化合物は界面活性剤
としての性能が不十分であり、また保湿性能も十分とは
いえず、これらの性能の改良が望まれていた。

一方、最近において、ポリグリセリン変性シリコーン化
合物も提案されている（特公昭６２−３４０３９号公報
）が、従来のポリグリセリン変性シリコーン化合物は純
度が低く、十分な界面活性機能を発揮し得ないものであ
った。

即ち、特公昭６２−３４０３９号公報に記載されている
ポリグリセリン変性シリコーン化合物は、＝ＳｉＨ含有
シリコーンと下記式％式％）で示される脂肪族不飽和結合を有するポリグリセリンと
を白金触媒の存在下で反応させることにより製造するも
のである。

しかしながら、上記製造方法には以下の如き欠点がある
。

即ち、第１に、上記脂肪族不飽和結合を有するポリグリ
セリンは、例えばグリセリンモノアリルエーテルにグリ
シドールを付加反応させて合成するが、この際グリシド
ール同士の付加反応が進行してしまい、その結果として
下記式で示される化合物が大量に生成し、末端がアリル化され
たポリグリセリンの割合が少な（なるため、その純度が
低くなるという問題がある。

また、第２に、上記アリル化ポリグリセリンと＝ｓｔｔ
ｔ含有シリコーンとを白金触媒下で付加反応させる際に
、脱水素反応を抑制する目的で酢酸カリウム等のバッフ
ァー剤を使用するが、しかしながら脱水素反応を完全に
防止することは困難であり、その結果として生成物が架
橋構造をとり、水あるいは有機溶剤に溶解し難いものと
なることが多いという問題がある。これは特公昭６２−
３４０３９号公報の実施例で比較的低分子量の＝ｓｔｎ
含有シリコーンを出発物質としていることからも認めら
れる。

従って、上記方法では高純度で界面活性剤としての機能
に優れたポリグリセリン変性シリコーン化合物を得るこ
とが困難であった。

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、高純度で界面
活性剤等としての性能に優れ、特に保湿性能に優れた変
性シリコーン化合物及びその製造方法を提供することを
目的とする。

〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記式（１
）式中Ｑ′ は、ＣＨｚＣＨ＝ＣＨｔ、 −ＣＨｚＣ＝ＣＨｚ「ＣＨコ等の末端に二重結合を有する炭素数１〜１０の− 価炭化水素基である。）で示される新規なトリグリセリン誘導体を使用すること
により、下記方法（イ）、（ロ）及び（ハ）で前記式（
１）及び（ＩＩ）で示される新規な変性シリコーン化合
物が得られることを知見した。

即ち、下記製造方法によれば、式（ＩＩＩ）で示される
水酸基を保護した高純度の新規なトリグリセリン誘導体
を使用したことにより、脱水素などの副反応がほとんど
なく、架橋構造を生じさせずに疎水性から親水性、低分
子量から高分子量までの種々の構造を有する新規な式（
１）で示されるトリグリセリン変性シリコーン化合物が
容易に高純度で得られると共に、かかるトリグリセリン
変性シリコーン化合物が界面活性剤等としての機能に優
れていることを知見したものである。

（イ）下記式（Ｉ［）（但し、Ｑ′は末端に二重結合を有する炭素数１〜１０
の一価炭化水素基である。）で示されるトリグリセリン誘導体を下記一般式（但し、
式中Ｒ１は炭素数１〜１０の一価炭化水素基、Ｒ６は炭
素数１〜１０の一価炭化水素基又は水素原子、ａ、ｂは
それぞれ０以上の整数であるが、ｂが０のとき、Ｒ６の
少なくとも１つは水素原子である。、）で示されるミＳｉＨ含有シリコーン化合物に白金系触媒
の存在下で付加反応させて式（Ｕ）で示される変性シリ
コーン化合物を製造する方法。

（ロ）上記のようにして得られた式（ｎ）で示される変
性シリコーン化合物を脱アセトン化して式（１）で示さ
れるトリグリセリン変性シリコーン化合物を製造する方
法。

（ハ）式（ＩＩ［）で示されるトリグリセリン誘導体を
予め脱アセトン化した下記式（Ｖ）Ｑ′ （但し、式中、Ｑ′は上記と同様の意味を示す。）で示
されるトリグリセリン誘導体を下記一般式（但し、式中
Ｒ１，・Ｒ’、ａ及びｂは上記と同様の意味を示す。）で示されるＥＳｉＨ含有シリコーン化合物に白金系触媒
の存在下で付加反応させて式（１）で示されるトリグリ
セリン変性シリコーン化合物を製造する方法。

以下、本発明について更に詳しく説明する。

本発明に係るトリグリセリン変性シリコーン化合物は、
下記一般式（１）〔但し、式中Ｒ１は炭素数１〜１０の一価炭化水素基、
Ｒ２は下記式（Ａ）ＨＨＱ　　０ＣＲ（ＣＨｚＯＣＨｚＣＨＣ）Ｉｚ）ｚ　　　
　　　　・・・（Ａ）（但し、Ｑは炭素数１〜１０の二
価炭化水素基である。）で示される基、Ｒ３は炭素数１〜１０の一価炭化水素基
、又は上記式（Ａ）で示される基、ａ、　　ｂはそれぞ
れ０以上の整数であるが、ｂが０のときＲ３の少なくと
も１つは上記式（Ａ）で示される基である。〕で示されるものである。

このトリグリセリン変性シリコーン化合物は、上述した
特公昭６２−３４０３９号公報記載のトリグリセリン変
性シリコーンと全く構造が異なっており、トリグリセリ
ンの中央のグリセリン基の部分で結合しているもので、
新規な化合物であると共に、その分子中のトリグリセリ
ン基の水酸基が親水基として、またオルガノポリシロキ
サン基が疎水基としてそれぞれ機能する優れた界面活性
剤の一種であり、シリコーン油のＷｌｏあるいはＯ／Ｗ
型の乳化剤として好適で、例えば化粧品、トイレタリー
、食品、塗料、プラスチック添加剤、帯電防止剤、防曇
剤、防霧剤、粘着剤、ポリウレタンフォーム用整泡剤、
繊維処理剤をはじめとして種々の分野に広く応用可能で
ある。また、安全性が高いので、化粧品、トイレタリー
、食品用途に特に好適であり、更にまたトリグリセリン
基の優れた保湿性能を生かして化粧品の保湿剤として有
効である。

ここで、式（１）中、Ｒ１及びＲ３の炭素数１〜１０の
一価炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、シクロヘキシル基、デシル基等のアルキル
基、フェニル基、トリル基等のアリール基、フェネチル
基、２−メチルフェネチル基等のアラルキル基などが挙
げられるが、これらの中でメチル基、エチル基、フェニ
ル基が好ましい。

また、式（Ａ）で示されるトリグリセリン基中、Ｑは炭
素数１〜１０の二価炭化水素基であり、具ＣＩ。

体的には−ＣＨｚＣＨｚＣＨｚ　　　　ＣＨｚＣＨＣＨ
ｚ−が−船釣であるが、この他−ＣＨｔＣＨｚＣＨｔＣ
Ｈｚ　　　　ＣＨｚＣＩｈｌｌ３（ＣＨｚ）　５ｃＨｚｃＨｔｃＨｔ　　　　　　ＣＨｚ
ＣＣＴｏＣＨｚ−ＢＩＨ３ＣＣＨｚＣＨｚ−などが挙げられる。

ＨＩ更に、式（１）中ａ、　　ｂは０以上の整数であるが、
オルガノポリシロキサン基が疎水基として機能し、式（
Ａ）で示されるトリグリセリン基が親水基として機能す
るので、両者のバランスを考慮して選定することができ
、特に制限されないが、−船釣にａは０〜２００の範囲
、ｂはＯ〜５０の範囲である。なお、ｂが０の場合、Ｒ
３の少なくとも一つば式（Ａ）で示される基である。

また、本発明の他の新規変性シリコーン化合物は、下記
一般式（ＩＩ）〔但し、式中Ｒ’　は炭素数１〜１０の一価炭化水素基
、Ｒ４は下記式（Ｂ）（但し、Ｑは上述と同様の意味を示す、）で示される基
、Ｒ５は炭素数１〜１０の一価炭化水素基、又は上記式
（Ｂ）で示される基、ａ、　　ｂはそれぞれ０以上の整
数であるが、ｂが００ときＲ５の少なくとも１つは上記
式（Ｂ）で示される基である。〕で示されるもので、これは式（１）の化合物の合成中間
体として使用し得る。

なお、Ｒ１、Ｒ４の炭素数１〜１０の一価炭化水素基、
ａ、ｂは上記と同様である。

上記式（１）で示されるトリグリセリン変性シリコーン
化合物は、上記式（ｎ）で示される変性シリコーン化合
物を脱アセトン化することにより得ることができる。

ここで、脱アセトン化反応は、式（ＩＩ）で示される変
性シリコーン化合物に希塩酸水等を加えて弱酸性水条件
下で、好ましくは５０〜１００℃に加熱して行なうこと
ができ、必要により水と変性シリコーン化合物（ＩＩ）
の接触をよくする目的でエタノール、イソプロピルアル
コールを同時に使用することも有効である。なお希塩酸
水の濃度は０、ＩＮから０．０００１Ｎのものを使用す
ることが好ましい。反応終了後は、反応生成物をストリ
ップして式（１）で示されるトリグリセリン変性シリコ
ーン化合物を得ることができる。

ここで、式（ＩＩ）で示される変性シリコーン化合物の
製造方法としては、下記式（Ｉ［［）で示されるアリル
化したトリグリセリン誘導体、（但し、式中Ｑ′は末端
に二重結合を有する炭素数１〜１０の一価炭化水素基で
ある。）と下記式（ＩＶ）で示される＝ＳｉＨ含有シリ
コーン化合物（オルガノハイドロジエンポリシロキシ）
（但し、式中Ｒ１は炭素数１−１０の一価炭化水素基、ＲｈはＲ’　と同様の炭素数１〜１０の一価炭化
水素基又は水素原子、ａ、ｂはそれぞれ０以上の整数で
あるが、ｂが０のとき、Ｒ６の少なくとも１つは水素原
子である。）とを白金触媒の存在下で付加反応させることにより得る
ことができる。

なお、上記式（Ｉ［［）中Ｑ′は末端二重結合を有する
炭素数１〜１０の一価炭化水素基であり、ｌｈ具体的には−ＣＨｚＣＨ＝ＣＨｔ、−ＣＨｔＣ＝ＣＨ２
が一般的であるが、このほか−ＣＩｂＣＨｚＣＨ＝ＣＨ
ｔ、−ＣＨミＣＨｚ　、（ＣＨｚ）ｓｃＨｘｃｆｌ＝ｃ
Ｒｚ　。

などが挙げられる。

上記式（ＩＩＩ）のトリグリセリン誘導体も新規化合物
であり、これは市販されている下記式（ＶＩ）で示され
るジイソプロピリデントリグリセリン（ｂ、ｐ１５７℃
１０．５閣Ｈｇ）を下記式（■）Ｑ’　Ｘ　　　　　　
　　　・・・（■）（但し、Ｑ′は上記と同様の意味を
示し、ＸはＣｊ！、Ｂｒ、Ｉである。）で示される末端に二重結合を有するハロゲン化物により
アルカリ触媒等を用いる公知の方法でアリル化して得る
ことができる。

一方、式（ＩＶ）のミＳｉＨ含有シリコーン化合物とし
ては、その分子中にＥＳｉＨ結合を少なくとも１個有す
ることが必須であるほかは、粘度、重合度、分子構造に
特に制限はな（、目的物質の式（１）で示されるトリグ
リセリン変性シリコーン化合物の疎水基としての機能を
考慮して選定することができる。

上記式（Ｉｌｌ）で示されるトリグリセリン誘導体と式
（ＩＶ）で示される三ＳｉＨ含有シリコーン化合物との
付加反応は、必要により溶媒を使用して白金系触媒下で
行なうものである。

この場合、式（ＩＩＩ）で示されるトリグリセリン誘導
体と式（ＩＶ）で示される＝Ｓ　ｉ　Ｈ含有シリコーン
化合物中のＥＳｉＨ結合とのモル比（ミＳｉＨ／（■）
）は０．１〜】、５、好ましくは０．６〜１の範囲とす
ることができる。

また本発明の製造方法で使用する白金系触媒としては、
塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸と
オレフィンとのコンプレックス、白金黒あるいはアルミ
ナ、シリカなどの担体に固体白金を担持したもの、ロジ
ウム−オレフィンコンプレックス等が挙げられ、これら
の１種を単独で又は２種以上を併用して触媒量で用いる
ことができ、通常式（ＩＩＩ）で示されるトリグリセリ
ン誘導体に対し白金として１０−”〜１０−４重量％の
使用量である。

上記付加反応では反応溶媒の使用は必須ではないが、必
要に応じて使用してもよく、付加反応を阻害しないもの
である限り種々のもの、例えば四塩化炭素、パークロロ
エチレン、トルエン、キシレン、ヘキサン、オクタン、
ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトンなどを使
用することができる。なお、エタノール、イソプロピル
アルコールなどのアルコール溶媒も使用できるが、この
場合は：ＳｉＨと−ＯＨとの脱水素反応を防止ないし抑
制するために酢酸カリウムのエタノール溶液などのｐＨ
ｔＪＲ整剤を使用することが好ましい。

上記付加反応は通常７０〜１２０℃で３０分間〜１０時
間の条件で行なうことができるが、この付加反応におけ
る付加反応率は該反応系からの水素ガス発生量か赤外吸
収スペクトルにより容易に確認することができ、目的の
付加反応率に達したならば必要に応じて反応溶媒を常法
により留去することにより、式（ＩＦ）で示される新規
な変性シリコーン化合物を得ることができる。

また、本発明の式（１）で示されるトリグリセリン変性
シリコーン化合物は、式（１）で示されるトリグリセリ
ン誘導体を予め脱アセトン化した下記式（Ｖ）Ｑ′ （但し、式中Ｑ′は上記と同様の意味を示す。）で示さ
れるトリグリセリン誘導体と上述した式（ＩＶ）で示さ
れる＝ｓｉｎ含有シリコーン化合物とを白金系触媒の存
在下で直接付加反応させることによっても得ることがで
きる。

この場合、脱水素などの副反応を抑制するため、酢酸カ
リウムのエタノール溶液などのｐＨｔｉｌ整剤を使用す
ることが好ましく、そのほかは上述した付加反応と同様
の条件で行なうことができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明のトリグリセリン変性シリ
コーン化合物の製造方法によれば、式（ＩＩＩ）で示さ
れる新規なトリグリセリン誘導体を用いたことにより、
かかるトリグリセリン誘導体が高純度であると共に、副
反応を生じず、反応生成物に架橋構造を生じさせること
がないので、高純度で式（ＩＩ）で示される新規な変性
シリコーン化合物を得ることができ、更にこの変性シリ
コーン化合物を脱アセトン化することにより式（、Ｉ　
）で示される新規なトリグリセリン変性シリコーン化合
物を高純度で得ることができるものであり、かかるトリ
グリセリン変性シリコーン化合物は界面活性剤等として
の性能に優れ、広範囲な用途を有するものである。

以下、実施例を示し本発明を具体的に示すが、本発明は
下記の実施例に制限されるものではない。

〔参考例〕

で示されるジイソプロピリデントリグリセリンを下記式
（Ｖ′）Ｃ）Ｉｚ＝ＣＨＣＨｚＣｆ　　　　　　　　　・・・（
Ｖ’　）で示されるアリルクロライドと付加反応させて
下記構造式（ｉ′）で示されるアリル化ジイソプロピリデントリグリセリン
を得た。

このものは粘度（２５℃）が２３．４　ｃｓ、屈折率（
２５℃）が１．４５１３、ガスクロマトグラフィーによ
る純度は９０％以上であり、ＩＲ，ＮＭＲの測定により
上記構造であることを確認した。このＩＲのチャートを
第１図に、ＮＭＲのチャートを第２図に示す。

〔実施例〕

平均構造式で示されるＥＳｉＨ含有シリコーン化合物２２８ｇ（０
，１４モル）、アリル化ジイソプロピリデントリグリセ
リン５０．４ｇ（０，１４モル）、トルエン２００ｇ及
び白金触媒０．４ｇ（白金濃度０．５％トルエン溶液）
を１！フラスコに仕込み、トルエンリフラックス下、反
応を行なった０反応終了後、反応液の残存ミＳｉＨを調
べたところ、９５％以上反応が進行していることが確認
された。

反応液を減圧ストリップして下記に示す変性シリコーン
化合物（Ｉｆ−１）２５０ｇを得た。

この化合物は粘度（２５℃）が４０．５ｃｓ、［折率（
２５°Ｃ）が１．４１５１であり、”　ＣＮＭＲ測定（
なお’　”ＣＮＭＲのチャートを第３図に示す）により
下記の構造であることが同定された。

ここで、’　”ＣＮＦ’ｌＲにおける各炭素のケミカル
シフトは以下の値■（０，７ｐｐｍ　）　、■（１４，
１ｐｐｍ）、■（２３，６ｐｐｍ）、■（２５，９ｐｐ
ｍ）、■（６６，８ｐｐｍ　）　、■（７２，２ｐｐｍ
）、■（７４，１ｐｐｍ）、■（７８，ｌｐｐｍ＋）、
■（１０８，５ｐｐｍ　）であり、アリル化ジイソプロ
ピリデントリグリセリンに存在していたアリル基に由来
する炭素のケミカルシフト１１５．７　ｐｐｍ　、　１
３５．３　ｐｐｍは消失していることから、ミＳｉＨ含
有シリコーン化合物とアリル化ジイソプロビリプントリ
グ′ｊノセリンが完全に反応していることが確認された
。

次に、上記化合物（ＩＩ−１）１００ｇ、イソプロピル
アルコール１００ｇ及び０．０２５　Ｎ塩ｆｍ水１００
ｇを５００　ｃｃフラスコに仕込み、イソプロピルアル
コールリフラックス下、６時間脱アセトン化反応を行な
った。反応物をストリップして下記に示すトリグリセリ
ン変性シリコーン化合物（１１）９２ｇを得た。

このものは粘度（２５°Ｃ）が５３４０ｃｓ、屈折率（
２５℃）が１．４１７４であった。上記（■〜１）と（
１−１）とはＧＰＣ測定の結果、分子量分布はほとんど
同じであったが、粘度が（ＩＩ−１）の４０、５　ｃｓ
から（Ｉ−１）の５３４０ｃｓに増粘した。これは、水
酸基が再生したためと考えられる。

この（１−１）のトリグリセリン変性シリコーン化合物
の”　ＣＮ？ＩＲを測定（なお、”　ＣＮＭＲのチャー
トを第４図に示す）した結果、下記の構造であることが
確認された。

■ＣＨ，−ＯＨ ■ＣＨ−ＯＨ ■ＣＩ２ ■ＣＨｔ ■ＣＨ−ＯＲ ■Ｃ）！２−ＯＲ・・・　（１−１）ここで、”ＣＮＭＲにおける各炭素のケミカルシフトは
以下の値■（１，０ｐｐｍ）　、■（，１４，３ｐｐｍ
）、■（２３，６ｐｐｍ　）　、■（６３，６ｐｐａ＋
）、■（７０，９ｐｐｍ　）　、■（７３，５ｐｐｍ）
、■（７７，６ｐｐｍ）であり、この結果から脱アセト
ン化反応が完全に進行し、化合物（１１−１）中のイソ
プロピリデン基に由来する■、■のシグナルは消失して
いることが認められた。

〔実施例２〕下記式で示される１、１．３．５，５．５−へブタメチル−３
−モノハイドロジエントリシロキサン８８．８ｇ（０，
４モル）、アリル化ジイソプロピリデントリグリセリン
３２４ｇ（０，３６モル）、トルエン３００ｇ及び塩化
白金酸のエタノール溶液０．１ｇ（白金濃度３％）を１
！フラスコにはかりとり、トルエンリフランクス下、５
時間反応を行なった。＝ＳｔＵの残存量により反応が完
全に完結したことを確認した後、溶剤のトルエンと過剰
の＝ｓｔｎ含有シリコーン化合物を減圧ストリップして
下記に示す変性シリコーン化合物（Ｉｆ−２）を得た。

このものは、粘度（２５°Ｃ）が３２．７ｃｓ、屈折率
（２５℃）が１．４３８４であった。

”　ＣＮＭＲ測定により、下記の構造であることが同定
された。

冨 ■Ｃｌ。

■ＣＨ。

ここで、”　ＣＮＭＲにおける各炭素のケミカルシフト
は以下の値■（−０，７ｐｐｍ　）　、＠　（１，６ｐ
ｐｍ　）、■（１３，４ｐｐｍ）、■（２３，４ｐｐｍ
＋）　、■（２５，９ｐｐ＋ｍ　　）　　％　　■　（
６６，７ｐｐ霧　）　、　■　（７１，８ｐｐｍ）　　
、■（７４，４ｐｐｍ）　、■（７８，１ｐｐｍ）　、
■（１０８，５ｐｐｍ　）であった。

上記式（Ｉｆ−２）の化合物１００ｇ、エタノール１０
０ｇ及び０．０１　Ｎ塩酸水１００ｇを５００ＣＣフラ
スコに仕込み、５０〜６０°Ｃで３時間脱アセトン化反
応を行なった０次いで、反応物をストリップすることに
より下記に示すトリグリセリン変性シリコーン（Ｉ−２
）７９ｇを得た。

このものは、粘度（２５°Ｃ）が９５００　ｃｐ　、屈
折率（２５°Ｃ）が１．４６７９であった。

”　ＣＮＭＲを測定した結果、下記構造であることが確
認された。

ここで、”　ＣＮＭＲにおける各炭素のケミカルシフト
は以下の値■（−０，６ｐｐｍ）　、［相］（１，７ｐ
ｐｍ）、■（１３，４ｐｐ＋ｗ）、■（２３，４ｐｐｍ
　）　、■（６３，４ｐｐｍ　）　、■（７０，８ｐｐ
ｍ）、■（７１，６ｐｐｍ）、■（７８，１ｐｐｍ）で
あった。

この式（１−２）のトリグリセリン変性シリコーン化合
物は水溶性であり、この化合物の１％水溶液の表面張力
は１　Ｂ、　８　ｄｙｎｅ／　ｃｍと極めて低く、弐（
１−２）のトリグリセリン変性シリコーン化合物が優れ
た界面特性を持つことが認められた。

〔実施例３］下記平均構造式％式％で示される＝ＳｉＨ含有シリコーン化合物６０．１　ｇ
（０，０５モル）、アリル化ジイソプロピリデントリグ
リセリン９０．０ｇ（０，０５モル）、イソプロピルア
ルコール１５０ｇ、塩化白金酸の２％イソプロピルアル
コール溶液０．１　ｇ及び酢酸カリウムの１０％エタノ
ール溶液１．０ｇを５０ｏｌｌｉ！、ノフラスコにはか
りとり、イソプロピルアルコールリフラックス下、５時
間反応させた。

次に、０．０１Ｎ塩酸水１００ｇを加え、イソプロピル
アルコールリフラックス下５時間脱アセトン化を行なっ
た。

次いで反応液を減圧ストリップすることによりトリグリ
セリン変性シリコーン化合物（１−３）を得た。

このものは、粘度（２５°Ｃ）が１９５０００ｃｐ、屈
折率（２５°Ｃ）が１．４６３６であり、また”　ＣＮ
ＭＲの結果より、下記平均構造式（Ｉ−３）（但し、Ａは上述した基を示す。）であることが確認された。

この式（１−３）のトリグリセリン変性シリコーン化合
物の１％水溶液の表面張力は２１．１　ｄｙｎｅ／ｃｍ
と低く、このトリグリセリン変性シリコーン化合物が優
れた界面特性を有することが認められた。

〔実施例４〕実施例３の方法に準じて、下記平均構造式（Ｉ（但し、
Ａは上述した基を示す。）で示されるトリグリセリン変性シリコーン化合物を得た
。

このものは粘度（２５℃）は１０００００　ｃｐ　、屈
折率（２５℃）は１．４１９３であった。

〔実施例５〕実施例３の方法に準じて、下記平均構造式（Ｉ（但し、
Ａは上述した基を示す。）で示されるトリグリセリン変性シリコーン化合物を得た
。

このものは粘度（２５°Ｃ）は１２５０００ｃｐ、屈折
率（２５°Ｃ）は１．４５７４であった。

〔実施例６〕実施例３の方法に準じて、下記平均構造式（Ｉ（但し、
Ａは上述した基を示す。）で示されるトリグリセリン変性シリコーン化合物を得た
。

このものは粘度（２５°Ｃ）は１４８０００ｃｐ、屈折
率（２５℃）は１．４５２７であった。

ｌ湿性少Ｉ定上記実施例で得られた化合物と、比較のため第１表に示
すポリエーテル単独とをそれぞれアルミニウムシャーレ
に２ｇはかりとり、２５″ｃ５６５％ＲＨ１２４時間の
条件で重量増加から吸湿性を求めた。

結果を第１表に示す。

第表この結果より、本発明のトリグリセリン変性シリコーン
化合物は、シリコーン含有量が５５％前後においてもポ
リエーテル単独より吸湿による重量増加率が大きく、極
めて吸湿性に優れることが明らかになった。従って、本
発明のトリグリセリン変性シリコーン化合物は保湿剤と
しても有効であることが認められる。

【図面の簡単な説明】

第１図はアリル化ジイソプロピリデントリグリセリンの
ＩＲのチャート、第２図はアリル化ジイソプロピリデン
トリグリセリンの”　ＣＮＭＲのチャート、第３図は実
施例１で得られた本発明に係る変性シリコーン化合物の
”　ＣＮＭＩ？のチャート、第４図は実施例１で得られ
た本発明に係るトリグリセリン変性シリコーン化合物の
”　ＣＮＭＲのチャートである。出　願　人　信越化学工業株式会社

Claims

【特許請求の範囲】１、下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）〔但し、式中Ｒ＾１は炭素数１〜１０の一価炭化水素基
、Ｒ＾２は下記式（Ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（Ａ）（但し、Ｑは炭素数１〜１０の二価炭化水素基である。）で示される基、Ｒ＾３は炭素数１〜１０の一価炭化水素
基、又は上記式（Ａ）で示される基、ａ、ｂはそれぞれ
０以上の整数であるが、ｂが０のときＲ＾３の少なくと
も１つは上記式（Ａ）で示される基である。〕で示されるトリグリセリン変性シリコーン化合物。２、下記一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（II）〔但し、式中Ｒ＾１は炭素数１〜１０の一価炭化水素基
、Ｒ＾４は下記式（Ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（Ｂ）（但し、Ｑは炭素数１〜１０の二価炭化水素基である。）で示される基、Ｒ＾５は炭素数１〜１０の一価炭化水素
基、又は上記式（Ｂ）で示される基、ａ、ｂはそれぞれ
０以上の整数であるが、ｂが０のときＲ＾５の少なくと
も１つは上記式（Ｂ）で示される基である。〕で示される変性シリコーン化合物。３、請求項２記載の式（II）で示される変性シリコーン
化合物を脱アセトン化することを特徴とする請求項１記
載の式（ I ）で示されるトリグリセリン変性シリコー
ン化合物の製造方法。４、下記式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（Ｖ）（但し、式中Ｑ′は末端に二重結合を有する炭素数１〜
１０の一価炭化水素基である。）で示されるトリグリセリン誘導体を下記一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（IV）（但し、式中Ｒ＾１は炭素数１〜１０の一価炭化水素基
、Ｒ＾６は炭素数１〜１０の一価炭化水素基又は水素原
子、ａ、ｂはそれぞれ０以上の整数であるが、ｂが０の
ときＲ＾６の少なくとも１つは水素原子である。）で示される≡ＳｉＨ含有シリコーン化合物に白金系触媒
の存在下で付加反応させることを特徴とする請求項１記
載の式（ I ）で示されるトリグリセリン変性シリコー
ンの製造方法。５、下記式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（III）（但し、Ｑ′は末端に二重結合を有する炭素数１〜１０
の一価炭化水素基である。）で示されるトリグリセリン誘導体を下記一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（IV）（但し、式中Ｒ＾１は炭素数１〜１０の一価炭化水素基
、Ｒ＾６は１〜１０の一価炭化水素基又は水素原子、ａ
、ｂはそれぞれ０以上の整数であるが、ｂが０のときＲ
＾６の少なくとも１つは水素原子である。）で示される≡ＳｉＨ含有シリコーン化合物に白金系触媒
の存在下で付加反応させることを特徴とする請求項２記
載の式（II）で示される変性シリコーン化合物の製造方
法。