JPH04197609A - 人造大理石製品の硬化方法 - Google Patents

人造大理石製品の硬化方法

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JPH04197609A
JPH04197609A JP33198290A JP33198290A JPH04197609A JP H04197609 A JPH04197609 A JP H04197609A JP 33198290 A JP33198290 A JP 33198290A JP 33198290 A JP33198290 A JP 33198290A JP H04197609 A JPH04197609 A JP H04197609A
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JP
Japan
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artificial marble
curing
product
mold
post
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JP33198290A
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Hiroaki Yamaguchi
山口 廣明
Tomoyuki Yamane
山根 朋行
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Toto Ltd
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Toto Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、人造大理石製品の製造方法において、同製品
の硬化を短時間で行うことができ、かつ、製品の品質の
向上も図ることができる人造大理石製品の硬化方法に関
する。
(ロ)従来の技術 第3図に、従来における人造大理石製品(カウンター)
の製造工程の1例を示す。
まず、型処理工程(100)において、前回使用の型(
FRP製型)の型処理を行う。即ち、型の内外面を掃除
するとともに、型内面に離型側を塗布する。
人造大理石製品の表面層(ゲルコート層)を形成するた
めに、型内面にゲルコートスプレーを施しく101) 
、約60°Cで40分、表面層の硬化を行う(102)
  。
不飽和ポリエステル÷水酸化アルミラムや、不飽和ポリ
エステル士炭酸カルシウム等を主成分として原料調合を
行い(103) 、311合原料を型枠内に注入する(
104)。
注入後、ヒーターとファンを具備する硬化室内で、一次
硬化を行い(105) 、一定時間(約90分)経過後
、人造大理石製品を脱型しく106) 、同人造大理石
製品を、60゛Cで約3時間、後硬化を行い(107)
 、完全に硬化させる。
完全硬化の後、ハリ切り、エプロン切断・接着、特殊加
工、補強未接着等の加工を行う(10B)。
次にハフ等を用いて仕上げ(109) 、検査(110
)、包装(110)を通して出荷することになる(11
1)。
しかし、かかる人造大理石製品の製造方法は、未だ、以
下の解決すべき課題ををしていた。
(ハ)発明が解決しようとする課題 即ち、上記した人造大理石製品の製造方法において、後
硬化工程は、一次硬化工程と同様に、ヒーターとファン
で硬化室内に対流を起こさせ、人造大理石製品を60’
Cの比較的低温で加熱することによって行われている。
これは、それ以上の高温で硬化すると、熱に弱いFRP
樹脂等からなる型に反りや曲げを生し、また、繰り返し
使用による低温・高温の繰り返しによって、亀裂を生し
るからである。
しかし、かかる後硬化工程は、以下の問題点を有してい
た。
■後硬化工程を行うために60°Cで約3時間、約90
分間を要する。
■ヒーターとファンとを用いた対流による加熱では、人
造大理石製品中の温度分布が、外部は高く、内部は低い
状態になるので、内部に気泡を発生し、かかる気泡がそ
のまま内部に残留し、内外部の組織や硬化が不均一にな
り、製品の物理的強度が劣化し、かつ、色の深みが得ら
れなくなる。
■内部と外部の硬化温度(速度)が相這するので、製品
に反りや曲がりを発生し、外観上見栄えが悪く、製品価
値を著しく滅しることになる。
■製品の収縮率が大きく、製品の寸法が不均一となる。
■品質劣化や外観不良等によって、歩留まりも悪くなる
(ニ)課題を解決するための手段 本発明は、一次硬化を行った、不飽和ポリエステルを主
成分とする人造大理石を脱型した後行う後硬化工程にお
いて、同人造大理石にマイクロウェーブを照射すること
によって人造大理石内部に分子間摩擦運動を生起させ、
人造大理石を硬化させることを特徴とする人造大理石製
品の硬化方法に係るものである。
また、上記方法において、一次硬化を行った、不飽和ポ
リエステルを主成分とする人造大理石を脱型した後、人
造大理石を上下反転し、その後、人造大理石にマイクロ
ウェーブを照射するのが望ましい。
さらに、上記硬化方法に用いるマイクロウェーブの周波
数帯は、300 M)lz〜3 GHzとするのが好ま
しい。
(ホ)作用及び効果 上記した方法により、本発明は、以下の作用及び効果を
奏する。
■本発明では、不飽和ポリエステルを主成分とする人造
大理石の後硬化を、マイクロウェーブを利用して、人造
大理石の内部に分子間摩擦運動を生起させることによっ
て行うので、人造大理石の硬化時間の大幅な短縮(例え
ば、5分間〜25分)を図ることができる。
■人造天理石の内部の分子間摩擦運動によって、内部空
気を上昇させ、外部に容易に排出することができ、人造
大理石の内部組織を全体にわたって均質化することがで
き、引張強度や耐熱性等の物理・化学的特性を向上する
ことができ、かつ、色の深みを得ることができ、製品価
値を向上することができる。
■人造天理石の内部と外部との間に硬化温度差(硬化速
度差)が無いので、人造大理石は全体ムこわたって均一
に硬化し、反りや曲がりの発生を防止でき、外観面から
も製品価値を向上することができる。
■さらに、製造された人造大理石は、均一な品質を確保
できるとともに、外観も優れているので、不良品の発生
率を著しく低減でき、歩留まりを向上できる。
■ さらに、−時硬化後で後硬化前に、人造大理石を反
転するようにした場合は、裏面からマイクロウェーブを
照射することができる。従って、表面側から後硬化を行
った場合に生ずるゲルコート焼けを防止でき、表面色の
変化を防止して製品価値を高めることができる。
(へ)実施例 以下、本発明に係る人造大理石製品の加熱方法を、添付
図に示す実施例を参照して具体的に説明する。
まず、本発明に係る後硬化工程に用いる後硬化処理室へ
の構造について第1図及び第2図を参照して説明する。
図示するように、後硬化処理室Aは長尺の箱体形状を有
し、密閉構造を有する。
後硬化処理室A内には、長平方向に搬送コンヘア10が
配設されており、同搬送コンベア10の両端は、硬化処
理室Aの前壁11と後壁12とを貫通して前後方向に伸
延しており、それぞれ、載置板導入コンヘア13及び載
置板導出コンヘア14に接続されている。
また、後硬化処理室Aは、その前壁11と後壁12とに
具陳自在な遮W&扉15.16を取付けている。
両遮蔽扉15.16は硬化処理時には完全に閉鎖されて
、後硬化処理室A内を完全密閉状態にするが、一次硬化
後の人造大理石製品Bを後硬化処理室A内に導入する際
には遮蔽扉15を開口することができ、人造大理石製品
Bを後硬化処理室Aから導出する際に遮蔽扉16を開口
することができる。
また、後硬化処理室への天井壁17には、前後方向に間
隔を開けて導波管18.19.20の先端部が、後硬化
処理室A内に下方に向けて開口した状態で取付けられて
いる。
かかる導波管18,19.20の基端側は導波木管21
の先端側に接続されており、導波本管21の基端側はマ
イクロウェーブ発生装置Cに接続されている。
なお、マイクロウェーブ発生装置cは、導波管18、1
9.20毎にそれぞれ設けることもできる。
かかる構成によって、マイクロウェーブ発生装置Cによ
って発生したマイクロウェーブを、導波本管21及び導
波管1B、19.20を通して後硬化処理室A内に収納
されている人造大理石製品に照射することができる。
また、後硬化処理室Aの天井壁17には攪拌ファン22
.23を取付けており、マイクロウェーブの拡散を効果
的に行えるようにしている。
ついで、上記構成を有する後硬化処理室A及びマイクロ
ウェーブ装置Cを用いた人造大理石の製造工程について
説明する。
まず、不飽和ポリエステル+水酸化アルミウムや、不飽
和ポリエステル−炭酸カルシウム等を主成分として原料
調合を行った後、調合原料を樹脂型内に注入する。
そして、調合後の原料を注型した樹脂型(例えば、長さ
3m、奥行60 cm、厚み15cm、  肉厚7cm
の繊維強化プラスチック製)を、ヒーターとファンを具
備する一次硬化処理室内に移送し、同室内で、一定時間
(約90分)一次硬化を行う。
その後、樹脂型から人造大理石製品Bを脱型し、FRP
製板や鉄板からなる載置板上に上下反転載置し、後硬化
処理室Aの前壁11に設けた遮蔽扉16を開けて、型導
入コンベア13及び搬出コンベア10を介して、後硬化
処理室A内に移送する。
次に、遮蔽扉16を完全に閉した後、マイクロウェーブ
発生装置Cを作動して、導波本管21及び導波管22を
通してマイクロウェーブを一次硬化処理された人造大理
石製品Bに照射して、人造大理石製品B内で分子間摩擦
運動を再度行い、加熱・硬化する。
しかして、不飽和ポリエステルを主成分とする人造大理
石製品Bの硬化を、マイクロウェーブを利用して、人造
大理石製品Bの内部に分子間摩擦運動を生起させること
によって行うので、人造大理石製品の後硬化時間の大幅
な短縮(例えば、周波数2450 Hzのマイクロウェ
ーブを用いた場合は、20分間)を図ることができる。
なお、マイクロウェーブの好ましい周波数帯は、300
 MHz 〜3 GHzにする。
また、人造大理石製品Bの内部の分子間摩擦運動によっ
て、内部空気を上昇させ、外部に容易に排出することが
でき、その後の処理を経て製造した人造大理石Bの内部
&ll織を全体にわたって均質化することができ、引張
強度や耐熱性等の物理・化学的特性を向上することがで
き、がっ、色の深みを得ることができ、最純製品価値を
向上することができる。
また、調合原料の内部と外部との間に硬化温度差(硬化
速度差)が無いので、人造大理石Bは全体にわたって均
一に硬化し、反りゃ曲がりの発生を防止でき、外観面か
らも製品価値を向上することができる。
さらに、製造された人造大理石Bは、均一な品質を確保
できるとともに、外観も優れているので、不良品の発生
率を著しく低減でき、歩留まりを向上できる。
さらに、本実施例では、−時硬化後で後硬化前に、人造
大理石Bを反転するようにしているので、裏面からマイ
クロウェーブを照射することができる。従って、表面側
から後硬化を行った場合に生ずるゲルコート焼けを防止
でき、表面色の変化を防止して製品価値を高めることが
できる。
次に、後硬化処理室Aの後部壁12に設けた遮蔽壁16
を開けて、人造大理石B@搬送コンヘア10上から型導
出コンベア14上に移送した後、ハリ切り、エプロン切
断、接着、特殊加工、補強木接着等の加工を行う。
また、上記実施例においては、一次硬化工程は一次硬化
室においてヒーターとファンを用いて行ったが、一次硬
化工程においても、上述した後硬化工程と同−又は同様
な条件の下に、マイクロウェーブによる硬化処理を行う
ことによって、一次硬化処理の時間を短縮することもで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る人造大理石製品の硬化方法に用い
る後硬化処理室等の側面図、第2図は同平面図、第3図
は従来の人造大理石製品の製造工程のフローチャートで
ある。 図中、 A:後硬化処理室 B:人造大理石製品 C:マイクロウェーブ発生装置 10:搬送コンベア 11:前壁 12:後壁 13:型導入コンベア 14;型導出コンベア 15:遮蔽扉 16:遮蔽扉 17;天井壁 18:導波管 19:導波管 20:導波管 21:導波本管 22:攪拌ファン 23、攪拌ファン 特許出願人 東P4機器株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一次硬化を行った、不飽和ポリエステルを主成分と
    する人造大理石を脱型した後行う後硬化工程において、
    人造大理石にマイクロウェーブを照射することによって
    人造大理石内部に分子間摩擦運動を生起させ、人造大理
    石をさらに硬化させることを特徴とする人造大理石製品
    の硬化方法。 2、一次硬化を行った、不飽和ポリエステルを主成分と
    する人造大理石を脱型した後、人造大理石を上下反転し
    、その後、人造大理石にマイクロウェーブを照射するこ
    とを特徴とする請求項1記載の人造大理石製品の硬化方
    法。 3、マイクロウェーブの周波数帯が、300MHz〜3
    GHzであることを特徴とする請求項1又は2記載の人
    造大理石製品の硬化方法。
JP33198290A 1990-11-28 1990-11-28 人造大理石製品の硬化方法 Pending JPH04197609A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001062462A1 (es) * 2000-02-25 2001-08-30 Universidad De Murcia Procedimiento de curado de resinas en marmoles
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