JPH04193850A - β―ニトロスチレン化合物の製造法 - Google Patents
β―ニトロスチレン化合物の製造法Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、医薬、農薬または工業用もしくは農園芸用殺
菌剤などの合成中間体として有用な一般式 (式中、Xは同一または異なって水素、ハロゲン、ニト
ロ、アミノ、水酸基、低級アルキル、ハロケン置換低級
アルキル、低級アルコキシ、アシルオキシ、カルボキシ
、低級アルコキシカルボニル、モノもしくはジ低級アル
キルアミノ、ベンジルオキシまたは置換ベンジルオキシ
を示し、nは1〜3の整数を示す。) により表わされるβ−ニトロスチレン化合物の工業的に
有利な製造法に関する。
菌剤などの合成中間体として有用な一般式 (式中、Xは同一または異なって水素、ハロゲン、ニト
ロ、アミノ、水酸基、低級アルキル、ハロケン置換低級
アルキル、低級アルコキシ、アシルオキシ、カルボキシ
、低級アルコキシカルボニル、モノもしくはジ低級アル
キルアミノ、ベンジルオキシまたは置換ベンジルオキシ
を示し、nは1〜3の整数を示す。) により表わされるβ−ニトロスチレン化合物の工業的に
有利な製造法に関する。
米国特許第3871860号明細書には、β−ブロモ−
β−ニトロスチレンが水中でスライムを形成するダラム
陽性菌、ダラム陰性菌、酵母およびカビなどの微生物を
抑制するのに有用である旨が開示されている。また、特
開昭62−39563号公報にはβ−ニトロフェネチル
誘導体が農園芸用殺菌剤として有用であることが開示さ
れている。
β−ニトロスチレンが水中でスライムを形成するダラム
陽性菌、ダラム陰性菌、酵母およびカビなどの微生物を
抑制するのに有用である旨が開示されている。また、特
開昭62−39563号公報にはβ−ニトロフェネチル
誘導体が農園芸用殺菌剤として有用であることが開示さ
れている。
これらの化合物は、出発原料として一般式(I)のβ−
ニトロスチレン化合物を用いて製造される。
ニトロスチレン化合物を用いて製造される。
一般式(I)の化合物のうち、β−ニトロスチレンの合
成法として、オーガニック・シンセシス(Organi
c 5yntheses)、 Co11ective
Vol、 I、 413(1956年)には、ベン
ズアルデヒドとニトロメタンをメタノール溶液中、水冷
下に過剰の水酸化ナトリウム水溶液を反応させ、ついで
、塩酸で処理して粗製のβ−ニトロスチレンを得、さら
に、エタノールから再結晶することにより収率80〜8
3%で得られることか記載されている。
成法として、オーガニック・シンセシス(Organi
c 5yntheses)、 Co11ective
Vol、 I、 413(1956年)には、ベン
ズアルデヒドとニトロメタンをメタノール溶液中、水冷
下に過剰の水酸化ナトリウム水溶液を反応させ、ついで
、塩酸で処理して粗製のβ−ニトロスチレンを得、さら
に、エタノールから再結晶することにより収率80〜8
3%で得られることか記載されている。
また、ケミカル・アブストラクツ、第78巻、1591
34d (1973年)には、2−ニトロ−1−ニトロ
ソエチルベンゼンを極性溶媒であるエタノール中、トリ
エチルアミンを加え反応させることにより、β−ニトロ
スチレンが収率95%で得られることが記載されている
。
34d (1973年)には、2−ニトロ−1−ニトロ
ソエチルベンゼンを極性溶媒であるエタノール中、トリ
エチルアミンを加え反応させることにより、β−ニトロ
スチレンが収率95%で得られることが記載されている
。
一方、ケミカル・アブストラクッ、第53巻、1756
1i (1959年)には、β−ニトロスチレンにナ
トリウムメトキシドを加えて加熱することにより融点2
15°Cのニトロスチレンのポリマーが得られることか
記載されている。
1i (1959年)には、β−ニトロスチレンにナ
トリウムメトキシドを加えて加熱することにより融点2
15°Cのニトロスチレンのポリマーが得られることか
記載されている。
前記オーガニック・シンセシスの方法を用いる場合の原
料であるベンズアルデヒドやニトロメタンは比較的高価
である。その上、ニトロメタンは、アルカリまたは異物
の混入により爆発の危険もある。
料であるベンズアルデヒドやニトロメタンは比較的高価
である。その上、ニトロメタンは、アルカリまたは異物
の混入により爆発の危険もある。
また、原料に2−ニトロ−■−ニトロソエチルベンゼ゛
ンを用い、メタノール、エタノール、イソプロピルアル
コールなどの極性溶媒中、トリエチルアミンなどの有機
塩基の存在下に反応させるケミカル・アブストラクッ、
第78巻、159134b(1973年)の方法を本発
明者らが追試したところ、β−ニトロスチレンが得られ
る場合もあるが、生成したβ−ニトロスチレンが容易に
重合してニトロスチレンのポリマーが得られることが判
明した。したがって、この方法によりβ−ニトロスチレ
ンを合成するためには厳密な反応コントロールが必要と
なる。
ンを用い、メタノール、エタノール、イソプロピルアル
コールなどの極性溶媒中、トリエチルアミンなどの有機
塩基の存在下に反応させるケミカル・アブストラクッ、
第78巻、159134b(1973年)の方法を本発
明者らが追試したところ、β−ニトロスチレンが得られ
る場合もあるが、生成したβ−ニトロスチレンが容易に
重合してニトロスチレンのポリマーが得られることが判
明した。したがって、この方法によりβ−ニトロスチレ
ンを合成するためには厳密な反応コントロールが必要と
なる。
このように、これら従来の方法は、大量合成を要する工
業的製造法には不向きであり、β−二トロスチレンを工
業上有利に製造する方法の提供が望まれている。
業的製造法には不向きであり、β−二トロスチレンを工
業上有利に製造する方法の提供が望まれている。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重
ねた結果、本発明を完成した。
ねた結果、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、一般式
(式中、Xおよびnは前記と同義である。)により表わ
される2−二トローニーニトロソエチルベンゼン化合物
を非極性溶媒中で反応させることを特徴とする一般式(
I)のβ−ニトロスチレン化合物の製造法に関する。
される2−二トローニーニトロソエチルベンゼン化合物
を非極性溶媒中で反応させることを特徴とする一般式(
I)のβ−ニトロスチレン化合物の製造法に関する。
一般式(I)および(It)の化合物の各定義をより詳
細に説明すると、ハロゲンとは塩素、臭素、フッ素、沃
素を、低級アルキルとはメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブチルなどを
、ハロゲン置換低級アルキルとはクロロメチル、ブロモ
メチル、フルオロメチル、ヨードメチル、ジクロロメチ
ル、ジブロモメチル、ジフルオロメチル、ショートメチ
ル、トリフルオロメチル、クロロエチル、ブロモエチル
、フルオロエチル、ヨードエチル、ジフルオロエチル、
トリフルオロエチル、トリクロロエチル(例えば、2.
2. 2−)ジクロロエチル)、クロロプロピル、ブ
ロモプロピル、フルオロプロピル、ヨードプロピル、ジ
フルオロプロピル、トリフルオロプロピル(例えば、3
,3.3−トリフルオロプロピル)、クロロブチル、ブ
ロモブチル、フルオロエチル、ヨードブチル、ジフルオ
ロエチル、トリフルオロブチルなどを、低級アルコキシ
とはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
、ブトキシ、イソブトキシ、第3級ブトキシなどを、ア
シルオキシとはアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチ
リルオキシ、ベンゾイルオキシ、置換ベンゾイルオキシ
などを、低級アルコキシカルボニルとはメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブ
トキシカルボニル、第3級ブトキシカルボニルなどを、
モノもしくはジ低級アルキルアミノとはメチルアミノ、
エチルアミノ、プロピルアミン、イソプロピルアミノ、
ブチルアミノ、イソブチルアミノ、第3級ブチルアミノ
、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ
、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチ
ルアミノ、ジイソブチルアミノなどを、置換ベンジルオ
キシとは置換基としてハロゲン、ニトロ、アミノ、水酸
基、低級アルキル、ハロゲン置換低級アルキル、低級ア
ルコキシ、アシルオキシまたはモノもしくはジ低級アル
キルアミノを1〜3個有しているベンジルオキシであっ
て、クロロベンジルオキシ、ブロモベンジルオキシ、フ
ルオロベンジルオキシ、ヨードベンジルオキシ、ニトロ
ベンジルオキシ、アミノベンジルオキシ、ヒドロキシベ
ンジルオキシ、メチルベンジルオキシ、エチルベンジル
オキシ、プロピルベンジルオキシ、イソプロピルベンジ
ルオキシ、ブチルベンジルオキシ、第3級ブチルベンジ
ルオキシ、フルオロメチルベンジルオキシ、ジフルオロ
メチルベンジルオキシ、トリフルオロメチルベンジルオ
キシ、メトキシベンジルオキシ、エトキシベンジルオキ
シ、プロポキシベンジルオキシ、イソプロポキシベンジ
ルオキシ、ブトキシベンジルオキシ、イソブトキシベン
ジルオキシ、第3級ブトキシベンジルオキシ、アセトキ
シベンジルオキシ、プロピオニルオキシベンジルオキシ
、ブチリルオキシベンジルオキシ、メチルアミノベンジ
ルオキシ、エチルアミノベンジルオキシ、プロピルアミ
ノベンジルオキシ、イソプロピルアミノベンジルオキシ
、ブチルアミノベンジルオキシ、イソブチルアミノペン
シルオキシ、第3級ブチルアミノベンジルオキシ、ジメ
チルアミノベンジルオキシ、ジエチルアミノベンジルオ
キシ、ジプロピルアミノベンジルオキシ、ジイソプロピ
ルアミノベンジルオキシ、ジブチルアミノベンジルオキ
シ、ジイソブチルアミノベンジルオキシ、ジイソブチル
アミノベンジルオキシなどを、置換ベンゾイルオキシと
は置換基としてハロゲン、低級アルキル、ハロゲン置換
低級アルキル、低級アルコキシを1〜3個有しているベ
ンゾイルオキシであって、クロロベンゾイルオキシ、ブ
ロモベンゾイルオキシ、フルオロベンゾイルオキシ、ヨ
ードベンゾイルオキシ、メチルベンゾイルオキシ、エチ
ルベンゾイルオキシ、プロピルベンゾイルオキシ、イソ
プロピルベンゾイルオキシ、ブチルベンゾイルオキシ、
第3級ブチルベンゾイルオキシ、フルオロメチルベンゾ
イルオキシ、ジフルオロメチルベンゾイルオキシ、トリ
フルオロメチルベンゾイルオキシ、メトキシベンゾイル
オキシ、エトキシベンゾイルオキシ、プロポキシベンゾ
イルオキシ、イソプロポキシベンゾイルオキシ、ブトキ
シベンゾイルオキシ、イソブトキシベンゾイルオキシ、
第3級ブトキシベンゾイルオキシなどを示す。
細に説明すると、ハロゲンとは塩素、臭素、フッ素、沃
素を、低級アルキルとはメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブチルなどを
、ハロゲン置換低級アルキルとはクロロメチル、ブロモ
メチル、フルオロメチル、ヨードメチル、ジクロロメチ
ル、ジブロモメチル、ジフルオロメチル、ショートメチ
ル、トリフルオロメチル、クロロエチル、ブロモエチル
、フルオロエチル、ヨードエチル、ジフルオロエチル、
トリフルオロエチル、トリクロロエチル(例えば、2.
2. 2−)ジクロロエチル)、クロロプロピル、ブ
ロモプロピル、フルオロプロピル、ヨードプロピル、ジ
フルオロプロピル、トリフルオロプロピル(例えば、3
,3.3−トリフルオロプロピル)、クロロブチル、ブ
ロモブチル、フルオロエチル、ヨードブチル、ジフルオ
ロエチル、トリフルオロブチルなどを、低級アルコキシ
とはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
、ブトキシ、イソブトキシ、第3級ブトキシなどを、ア
シルオキシとはアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチ
リルオキシ、ベンゾイルオキシ、置換ベンゾイルオキシ
などを、低級アルコキシカルボニルとはメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブ
トキシカルボニル、第3級ブトキシカルボニルなどを、
モノもしくはジ低級アルキルアミノとはメチルアミノ、
エチルアミノ、プロピルアミン、イソプロピルアミノ、
ブチルアミノ、イソブチルアミノ、第3級ブチルアミノ
、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ
、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチ
ルアミノ、ジイソブチルアミノなどを、置換ベンジルオ
キシとは置換基としてハロゲン、ニトロ、アミノ、水酸
基、低級アルキル、ハロゲン置換低級アルキル、低級ア
ルコキシ、アシルオキシまたはモノもしくはジ低級アル
キルアミノを1〜3個有しているベンジルオキシであっ
て、クロロベンジルオキシ、ブロモベンジルオキシ、フ
ルオロベンジルオキシ、ヨードベンジルオキシ、ニトロ
ベンジルオキシ、アミノベンジルオキシ、ヒドロキシベ
ンジルオキシ、メチルベンジルオキシ、エチルベンジル
オキシ、プロピルベンジルオキシ、イソプロピルベンジ
ルオキシ、ブチルベンジルオキシ、第3級ブチルベンジ
ルオキシ、フルオロメチルベンジルオキシ、ジフルオロ
メチルベンジルオキシ、トリフルオロメチルベンジルオ
キシ、メトキシベンジルオキシ、エトキシベンジルオキ
シ、プロポキシベンジルオキシ、イソプロポキシベンジ
ルオキシ、ブトキシベンジルオキシ、イソブトキシベン
ジルオキシ、第3級ブトキシベンジルオキシ、アセトキ
シベンジルオキシ、プロピオニルオキシベンジルオキシ
、ブチリルオキシベンジルオキシ、メチルアミノベンジ
ルオキシ、エチルアミノベンジルオキシ、プロピルアミ
ノベンジルオキシ、イソプロピルアミノベンジルオキシ
、ブチルアミノベンジルオキシ、イソブチルアミノペン
シルオキシ、第3級ブチルアミノベンジルオキシ、ジメ
チルアミノベンジルオキシ、ジエチルアミノベンジルオ
キシ、ジプロピルアミノベンジルオキシ、ジイソプロピ
ルアミノベンジルオキシ、ジブチルアミノベンジルオキ
シ、ジイソブチルアミノベンジルオキシ、ジイソブチル
アミノベンジルオキシなどを、置換ベンゾイルオキシと
は置換基としてハロゲン、低級アルキル、ハロゲン置換
低級アルキル、低級アルコキシを1〜3個有しているベ
ンゾイルオキシであって、クロロベンゾイルオキシ、ブ
ロモベンゾイルオキシ、フルオロベンゾイルオキシ、ヨ
ードベンゾイルオキシ、メチルベンゾイルオキシ、エチ
ルベンゾイルオキシ、プロピルベンゾイルオキシ、イソ
プロピルベンゾイルオキシ、ブチルベンゾイルオキシ、
第3級ブチルベンゾイルオキシ、フルオロメチルベンゾ
イルオキシ、ジフルオロメチルベンゾイルオキシ、トリ
フルオロメチルベンゾイルオキシ、メトキシベンゾイル
オキシ、エトキシベンゾイルオキシ、プロポキシベンゾ
イルオキシ、イソプロポキシベンゾイルオキシ、ブトキ
シベンゾイルオキシ、イソブトキシベンゾイルオキシ、
第3級ブトキシベンゾイルオキシなどを示す。
本発明において用いられる非極性溶媒としては、クロロ
メタン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロ
メタン、クロロエタン、1. 2−ジクロロエタン、1
,1.1−1−ジクロロエタン、1.1.2−トリクロ
ロエタン、クロロベンゼン、1、 2−ジクロロベンゼ
ンなどの塩素系炭化水素またはベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられる。反応は
、一般式(■)の化合物を非極性溶媒または水−非極性
溶媒に懸濁または分散させた溶液に、適宜量、好ましく
は2−ニトロ−1−ニトロソエチルベンゼン化合物1モ
ルに対して15/ 1000〜1/10モルの有機塩基
または無機塩基の存在下、必要であれば相間移動触媒を
加えて、0〜100°C1好ましくは0〜60°Cの温
度で行われる。
メタン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロ
メタン、クロロエタン、1. 2−ジクロロエタン、1
,1.1−1−ジクロロエタン、1.1.2−トリクロ
ロエタン、クロロベンゼン、1、 2−ジクロロベンゼ
ンなどの塩素系炭化水素またはベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられる。反応は
、一般式(■)の化合物を非極性溶媒または水−非極性
溶媒に懸濁または分散させた溶液に、適宜量、好ましく
は2−ニトロ−1−ニトロソエチルベンゼン化合物1モ
ルに対して15/ 1000〜1/10モルの有機塩基
または無機塩基の存在下、必要であれば相間移動触媒を
加えて、0〜100°C1好ましくは0〜60°Cの温
度で行われる。
ここで、有機塩基としては、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリブチルアミン、N−メチルモルホリン
、N、 N−ジメチルアニリンなどの第3級アミン、ピ
リジン、キノリン、ピコリンなどの窒素含有芳香族化合
物が、無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどが挙げられる。また、相間移動触媒としては
、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの4級アン
モニウム塩が挙げられる。
チルアミン、トリブチルアミン、N−メチルモルホリン
、N、 N−ジメチルアニリンなどの第3級アミン、ピ
リジン、キノリン、ピコリンなどの窒素含有芳香族化合
物が、無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどが挙げられる。また、相間移動触媒としては
、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの4級アン
モニウム塩が挙げられる。
本発明の製造法によって得られた反応液は、たとえば水
を加え、目的とする一般式(I)の化合物を含有する有
機層を分取し、希酸洗浄、水洗などの洗浄工程を経て、
有機層をそのまま次の工程に用いることができる。また
、濃縮等通常の精製手段を適用すると、高純度のβ−ニ
トロスチレン化合物を単離することができる。
を加え、目的とする一般式(I)の化合物を含有する有
機層を分取し、希酸洗浄、水洗などの洗浄工程を経て、
有機層をそのまま次の工程に用いることができる。また
、濃縮等通常の精製手段を適用すると、高純度のβ−ニ
トロスチレン化合物を単離することができる。
以下、本発明を実施例および比較例により具体的に説明
するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものでは
ない。
するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものでは
ない。
なお、本実施例および比較例で得られた化合物は、赤外
線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、元素分析ス
ペクトルなどの分析手段により目的物であることを確認
した。
線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、元素分析ス
ペクトルなどの分析手段により目的物であることを確認
した。
また、実施例1〜6のいずれにおいてもニトロスチレン
のポリマーの生成は全く見られなかった。
のポリマーの生成は全く見られなかった。
実施例1
攪拌機、温度計、冷却管゛を備えた20’Oml容四つ
ロフラスコに、2−ニトロ−1−二トロソエチルベンゼ
ン16gおよびクロロホルム65m1を仕込み、30°
Cにて攪拌しながらトリエチルアミン0.5gを一度に
加えた。得られた懸濁液をそのまま15分間攪拌すると
均一溶液が得られた(内温は50°Cまて上昇した)。
ロフラスコに、2−ニトロ−1−二トロソエチルベンゼ
ン16gおよびクロロホルム65m1を仕込み、30°
Cにて攪拌しながらトリエチルアミン0.5gを一度に
加えた。得られた懸濁液をそのまま15分間攪拌すると
均一溶液が得られた(内温は50°Cまて上昇した)。
反応終了後、1%塩酸、水の順で反応溶液を洗浄し、有
機層を濃縮すると、融点52〜54℃のβ−ニトロスチ
レン1’ 2.’6 gが得られた。(収率95%) 実施例2 クロロホルムの代わりにジクロロメタン65m1を用い
た以外、実施例1と同様に反応を行った。
機層を濃縮すると、融点52〜54℃のβ−ニトロスチ
レン1’ 2.’6 gが得られた。(収率95%) 実施例2 クロロホルムの代わりにジクロロメタン65m1を用い
た以外、実施例1と同様に反応を行った。
内温は35°Cまて上昇し、10分後に均一溶液となっ
た。反応終了後、実施例1と同様に処理する− 19
= と、融点53〜56°Cのβ−二トロスチレン12.5
gが得られた。(収率94%) 実施例3 クロロホルムの代わりに1,2−ジクロロエタン65m
1を用いた以外、実施例1と同様に反応を行った。内温
は50°Cまて上昇し、11分後に均一溶液となった。
た。反応終了後、実施例1と同様に処理する− 19
= と、融点53〜56°Cのβ−二トロスチレン12.5
gが得られた。(収率94%) 実施例3 クロロホルムの代わりに1,2−ジクロロエタン65m
1を用いた以外、実施例1と同様に反応を行った。内温
は50°Cまて上昇し、11分後に均一溶液となった。
反応終了後、実施例1と同様に処理すると、融点52.
5〜56°Cのβ−ニトロスチレン12.5gが得られ
た。(収率94%)実施例4 クロロホルムの代わりにトルエン65m’lを用いた以
外、実施例1と同様に反応を行った。内温は32〜52
°Cまで上昇し、11分後に均一溶液となった。反応終
了後、実施例1と同様に処理すると、融点55〜57°
Cのβ−ニトロスチレン12.5gが得られた。(収率
94%) 実施例5 攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた3 00
nrl容四つロフラスコに、濃塩酸22.2g、水3
0g、クロロホルム48m1およびスチレン10.4
gを仕込み、水冷下、攪拌しながら亜硝酸ナトリウム1
5.4 gを水20gに溶かした溶液を5〜10″Cで
36分を要して滴下した。滴下後、同温度で1時間攪拌
した。反応液に同温度で5%水酸化ナトリウム水溶液9
.3gを加え、過剰の塩酸を中和し、次いてトリエチル
アミン0.6gを加えた。徐々に40°Cまで昇温し4
0分間反応させた。冷後、均一溶液となったクロロホル
ム層を分取し、1%塩酸、水の順で反応溶液を洗浄し、
クロロホルム層を濃縮すると、融点51〜55°Cのβ
−ニトロスチレン14.6. gか得られた。(収率9
8%) 実施例6 1・リエチルアミンの代わりにピリジン0.5gを用い
た以外、実施例2と同様に室温にて反応を行った。反応
終了後、実施例5と同様に処理すると、融点54〜57
°Cのβ−ニトロスチレン12.5.gが得られた。(
収率94%) 同様にして下記の化合物が合成される。
5〜56°Cのβ−ニトロスチレン12.5gが得られ
た。(収率94%)実施例4 クロロホルムの代わりにトルエン65m’lを用いた以
外、実施例1と同様に反応を行った。内温は32〜52
°Cまで上昇し、11分後に均一溶液となった。反応終
了後、実施例1と同様に処理すると、融点55〜57°
Cのβ−ニトロスチレン12.5gが得られた。(収率
94%) 実施例5 攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた3 00
nrl容四つロフラスコに、濃塩酸22.2g、水3
0g、クロロホルム48m1およびスチレン10.4
gを仕込み、水冷下、攪拌しながら亜硝酸ナトリウム1
5.4 gを水20gに溶かした溶液を5〜10″Cで
36分を要して滴下した。滴下後、同温度で1時間攪拌
した。反応液に同温度で5%水酸化ナトリウム水溶液9
.3gを加え、過剰の塩酸を中和し、次いてトリエチル
アミン0.6gを加えた。徐々に40°Cまで昇温し4
0分間反応させた。冷後、均一溶液となったクロロホル
ム層を分取し、1%塩酸、水の順で反応溶液を洗浄し、
クロロホルム層を濃縮すると、融点51〜55°Cのβ
−ニトロスチレン14.6. gか得られた。(収率9
8%) 実施例6 1・リエチルアミンの代わりにピリジン0.5gを用い
た以外、実施例2と同様に室温にて反応を行った。反応
終了後、実施例5と同様に処理すると、融点54〜57
°Cのβ−ニトロスチレン12.5.gが得られた。(
収率94%) 同様にして下記の化合物が合成される。
(1) 2−クロロ−β−ニトロスチレン、融点48
〜50°C (2)、、3−クロロ−β−ニトロスチレン、融点51
〜51.5°C (3)4−クロロ−β−二トロスチレン、融点113〜
114.5°C (4)2.4−ジクロロ−β−ニトロスチレン、融点1
16〜116.5°C (5)2−ブロモ−β−二トロスチレン、融点88〜9
1℃ (6) 3−ブロモ−β−ニトロスチレン、融点61
〜63℃ (7) 4−ブロモ−β−ニトロスチレン、融点15
.6〜158°C (8)2−メチル−β−ニトロスチレン、沸点101〜
103°C(0,2mmHg)(9)3−メチル−β−
ニトロスチレン、沸点91〜93°C(0,25mmH
g) (10) 4−メチル−β−ニトロスチレン、融点1
03〜103.5°C (11) 2.4−ジメチル−β−ニトロスチレン、
沸点119〜126℃(0,2mmHg)(12)
2−メトキシ−β−ニトロスチレン、融点50〜51℃ (13) 3−メトキシ−β−ニトロスチレン、融点
93〜94℃ (14) 4−メトキシ−β−ニトロスチレン、融点
90°C (15) 2−ニトロ−β−ニトロスチレン、融点1
07〜108.5℃ (16) 3−ニトロ−β−ニトロスチレン、融点1
25、5〜126.8°C (17) 4−ニトロ−β−二トロスチレン、融点2
07、2〜208℃ (18) 2−ヒドロキシ−β−ニトロスチレン、融
点134.5〜136°C (19) 4−ヒドロキシ−β−二トロスチレン、融
168〜169°C (20) 2−メトキシカルボニル−β−ニトロスチ
レン、融点87°C (21) 4−メトキシカルボニル−β−ニトロスチ
レン、融点178°C 比較例1 攪拌機、温度計、冷却管を備えた200m1容四つ目フ
ラスコに、2−ニトロ−1−二トロソエチルベンゼン1
6gおよびエタノール65m1を仕込み、30°Cにて
攪拌しながらトリエチルアミン0.5gを一度に加えた
。得られた懸濁液をそのまま15分間攪拌すると均一溶
液が得られた(内温は50°Cまで上昇した)。そのま
ま攪拌すると、30分後に多量の不溶物が析出した。析
出物を濾取し、水、エタノールの順で洗浄後、乾燥する
と、融点226〜236°Cのβ−二トロスチレンのポ
リマーか得られた。
〜50°C (2)、、3−クロロ−β−ニトロスチレン、融点51
〜51.5°C (3)4−クロロ−β−二トロスチレン、融点113〜
114.5°C (4)2.4−ジクロロ−β−ニトロスチレン、融点1
16〜116.5°C (5)2−ブロモ−β−二トロスチレン、融点88〜9
1℃ (6) 3−ブロモ−β−ニトロスチレン、融点61
〜63℃ (7) 4−ブロモ−β−ニトロスチレン、融点15
.6〜158°C (8)2−メチル−β−ニトロスチレン、沸点101〜
103°C(0,2mmHg)(9)3−メチル−β−
ニトロスチレン、沸点91〜93°C(0,25mmH
g) (10) 4−メチル−β−ニトロスチレン、融点1
03〜103.5°C (11) 2.4−ジメチル−β−ニトロスチレン、
沸点119〜126℃(0,2mmHg)(12)
2−メトキシ−β−ニトロスチレン、融点50〜51℃ (13) 3−メトキシ−β−ニトロスチレン、融点
93〜94℃ (14) 4−メトキシ−β−ニトロスチレン、融点
90°C (15) 2−ニトロ−β−ニトロスチレン、融点1
07〜108.5℃ (16) 3−ニトロ−β−ニトロスチレン、融点1
25、5〜126.8°C (17) 4−ニトロ−β−二トロスチレン、融点2
07、2〜208℃ (18) 2−ヒドロキシ−β−ニトロスチレン、融
点134.5〜136°C (19) 4−ヒドロキシ−β−二トロスチレン、融
168〜169°C (20) 2−メトキシカルボニル−β−ニトロスチ
レン、融点87°C (21) 4−メトキシカルボニル−β−ニトロスチ
レン、融点178°C 比較例1 攪拌機、温度計、冷却管を備えた200m1容四つ目フ
ラスコに、2−ニトロ−1−二トロソエチルベンゼン1
6gおよびエタノール65m1を仕込み、30°Cにて
攪拌しながらトリエチルアミン0.5gを一度に加えた
。得られた懸濁液をそのまま15分間攪拌すると均一溶
液が得られた(内温は50°Cまで上昇した)。そのま
ま攪拌すると、30分後に多量の不溶物が析出した。析
出物を濾取し、水、エタノールの順で洗浄後、乾燥する
と、融点226〜236°Cのβ−二トロスチレンのポ
リマーか得られた。
元素分析値: 炭素64.15%、水素4.81%、窒
素9.42% 〔発明の効果〕 本発明の方法にしたがって、2−ニトロ−1−ニトロソ
エチルベンゼン化合物を原料として非極性溶媒で反応さ
せることにより、(1)安価で安全な工程で、(2)重
合によるニトロスチレンのポリマーが全く副生されず、
(3)高収率、高純度にβ−ニトロスチレン化合物を製
造することができる。
素9.42% 〔発明の効果〕 本発明の方法にしたがって、2−ニトロ−1−ニトロソ
エチルベンゼン化合物を原料として非極性溶媒で反応さ
せることにより、(1)安価で安全な工程で、(2)重
合によるニトロスチレンのポリマーが全く副生されず、
(3)高収率、高純度にβ−ニトロスチレン化合物を製
造することができる。
また、得られたβ−ニトロスチレン化合物は、単離する
ことなく溶液のまま、次の反応に利用できる。
ことなく溶液のまま、次の反応に利用できる。
したがって、本発明の方法は、β−ニトロスチレンの工
業的製造法として有用である。
業的製造法として有用である。
本発明により得られたβ−ニトロスチレンを用いて、例
えば、下記の参考例に示される方法によって、殺菌剤(
スライムコントロール剤)として有用なβ−ブロモ−β
−ニトロスチレンを製造することができる。
えば、下記の参考例に示される方法によって、殺菌剤(
スライムコントロール剤)として有用なβ−ブロモ−β
−ニトロスチレンを製造することができる。
参考例1
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた200m
1容四つロフラスコに、β−ニトロスチレンi o、
o gをクロロホルム50m1に溶かした溶液を仕込ん
だ。攪拌下、室温で臭素11.79 gを滴下、続いて
40°Cに加熱した。薄層クロマトグラフィー(TLC
)で反応を追跡し原料のβ−ニトロスチレンが消失した
時点で氷冷し、反応を止めた。次に、過剰の臭素を除去
するために5%チオ硫酸ナトリウム水50m1を加え、
臭素の色が消えるまで攪拌した。反応液を分液ロートに
移し、水層を廃棄した後、50m1の水で2回洗浄した
。この操作により1,2−ジブロモ−2−二トロエチル
ベンゼンのクロロホルム溶液が得られた。
1容四つロフラスコに、β−ニトロスチレンi o、
o gをクロロホルム50m1に溶かした溶液を仕込ん
だ。攪拌下、室温で臭素11.79 gを滴下、続いて
40°Cに加熱した。薄層クロマトグラフィー(TLC
)で反応を追跡し原料のβ−ニトロスチレンが消失した
時点で氷冷し、反応を止めた。次に、過剰の臭素を除去
するために5%チオ硫酸ナトリウム水50m1を加え、
臭素の色が消えるまで攪拌した。反応液を分液ロートに
移し、水層を廃棄した後、50m1の水で2回洗浄した
。この操作により1,2−ジブロモ−2−二トロエチル
ベンゼンのクロロホルム溶液が得られた。
次に、このクロロホルム溶液を再び攪拌機、温度計、滴
下ロート、冷却管を備えた200m1容四つ目フラスコ
に仕込み、攪拌下、10±2°Cで水酸化ナトリウム1
0.73 gを水90℃に溶かした溶液を滴下した。N
MRで反応を追跡すると約4時間で1. 2−ジブロモ
−2−二トロエチルベンゼンは消失し反応が完結した。
下ロート、冷却管を備えた200m1容四つ目フラスコ
に仕込み、攪拌下、10±2°Cで水酸化ナトリウム1
0.73 gを水90℃に溶かした溶液を滴下した。N
MRで反応を追跡すると約4時間で1. 2−ジブロモ
−2−二トロエチルベンゼンは消失し反応が完結した。
反応液を分液ロートに移し、水層を廃棄した後、50m
1の水で4回洗浄した。クロロホルム液を濃縮乾固する
ことにより、融点60.5〜64°Cのβ−ブロモ−β
−ニトロスチレン13.8 gが得られた。(収率90
%)参考例2 実施例5で得られたβ−ニトロスチレンのクロロホルム
溶液を濃縮せずに、そのまま用いて参考例1と同様に反
応させても、高収率でβ−ブロモ−β−ニトロスチレン
が得られた。
1の水で4回洗浄した。クロロホルム液を濃縮乾固する
ことにより、融点60.5〜64°Cのβ−ブロモ−β
−ニトロスチレン13.8 gが得られた。(収率90
%)参考例2 実施例5で得られたβ−ニトロスチレンのクロロホルム
溶液を濃縮せずに、そのまま用いて参考例1と同様に反
応させても、高収率でβ−ブロモ−β−ニトロスチレン
が得られた。
特許出願人 吉富製薬株式会社
代理人 弁理士 高宮城 勝
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xは同一または異なって水素、ハロゲン、ニト
ロ、アミノ、水酸基、低級アルキル、ハロゲン置換低級
アルキル、低級アルコキシ、アシルオキシ、カルボキシ
、低級アルコキシカルボニル、モノもしくはジ低級アル
キルアミノ、ベンジルオキシまたは置換ベンジルオキシ
を示し、nは1〜3の整数を示す。) により表わされる2−ニトロ−1−ニトロソエチルベン
ゼン化合物を非極性溶媒中で反応させることを特徴とす
る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xおよびnは、前記と同義である。)により表
わされるβ−ニトロスチレン化合物の製造法。 - (2)非極性溶媒が塩素系炭化水素または芳香族炭化水
素である請求項(1)記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32664390A JPH04193850A (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | β―ニトロスチレン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32664390A JPH04193850A (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | β―ニトロスチレン化合物の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04193850A true JPH04193850A (ja) | 1992-07-13 |
Family
ID=18190079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32664390A Pending JPH04193850A (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | β―ニトロスチレン化合物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04193850A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020043512A (ko) * | 2002-05-10 | 2002-06-10 | 김상웅 | 니트로 알켄 유도체의 합성법 |
WO2007066828A1 (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-14 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 光学活性な4-アミノ-3-置換フェニルブタン酸の製造方法 |
JP2007332129A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-12-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学活性な4−アミノ−3−置換フェニルブタン酸の製造方法 |
WO2009017091A1 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | β-ニトロスチレン化合物の製造方法 |
JP2010521424A (ja) * | 2007-03-02 | 2010-06-24 | ユニバーシダード デ ザラゴザ | 感染症の治療のための組成物 |
CN103497108A (zh) * | 2013-09-22 | 2014-01-08 | 中北大学 | 对羟基-β-硝基苯乙烯的合成方法 |
WO2017156688A1 (zh) * | 2016-03-14 | 2017-09-21 | 苏州大学张家港工业技术研究院 | 一种硝基烯衍生物的制备方法 |
-
1990
- 1990-11-27 JP JP32664390A patent/JPH04193850A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020043512A (ko) * | 2002-05-10 | 2002-06-10 | 김상웅 | 니트로 알켄 유도체의 합성법 |
WO2007066828A1 (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-14 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 光学活性な4-アミノ-3-置換フェニルブタン酸の製造方法 |
JP2007332129A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-12-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学活性な4−アミノ−3−置換フェニルブタン酸の製造方法 |
US8293926B2 (en) | 2005-12-09 | 2012-10-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method of producing optically active 4-amino-3-substituted phenylbutanoic acid |
JP2010521424A (ja) * | 2007-03-02 | 2010-06-24 | ユニバーシダード デ ザラゴザ | 感染症の治療のための組成物 |
WO2009017091A1 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | β-ニトロスチレン化合物の製造方法 |
US8067647B2 (en) | 2007-07-31 | 2011-11-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing β-nitrostyrene compound |
CN103497108A (zh) * | 2013-09-22 | 2014-01-08 | 中北大学 | 对羟基-β-硝基苯乙烯的合成方法 |
WO2017156688A1 (zh) * | 2016-03-14 | 2017-09-21 | 苏州大学张家港工业技术研究院 | 一种硝基烯衍生物的制备方法 |
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