WO2004022514A1

WO2004022514A1 - スピロフルオレノールの製造方法

Info

Publication number: WO2004022514A1
Application number: PCT/JP2002/013091
Authority: WO
Inventors: Hirohumi Shiigi; Noriyuki Fukada; Kenji Tanaka; Masao Yamaguchi
Original assignee: Tokuyama Corporation
Priority date: 2002-08-29
Filing date: 2002-12-13
Publication date: 2004-03-18
Also published as: EP1547993A4; JP4373342B2; KR100674522B1; US7087798B2; US20060025636A1; TW200403335A; EP1547993A1; KR20050057033A; JPWO2004022514A1

Description

明卿スピロフルォレノールの製造方法発明の属する分野

本発明は、フォトクロミック化合物の原料として有用なスピロフルォレノールの製造方法に関する。従来の技術

近年、フォ卜ク口ック化合物としてクロメン誘導体、特にスピロインデノナフトピランがその発色及び退色の早さと色調のコン卜ロールのしゃすさ、耐久性の高さなどから注目を集めている。スピロインデノナフ卜ピランとしてはスピロケタール型の化合物 (特許文献 1 参照）並びにビフエニル型スピロ化合物おょぴフェナントレン型スピ口化合物（特許文献 2 及ぴ 3 ) 等が知れられており、特に後者 2 種の化合物は、発色感度が高く、退色速度が早 < 、耐久性に優れている。

これら化合物は、所望の置換基を持つた下記式（ 5 ) で示されるインデノナフ卜ピラン — オンを中間体として製造し、これをさらに修飾することによリ得られることが知られている（特許文献 2 および 3 参照）。

ところが、このような方法を採用した場合には、中間体である上記インデノナフトピラン一オン自体がフォ卜クロミック性を有するために、反応中に副生する不純物も一般にフォ卜クロミツク性を有しているという問題を生じる。即ち、目的物であるスピロ化合物中にこのような不純物が混入した場合には、発色時における色調が目的物本来の色調と異なつてしまう。このため、所期の発色色調の目的物を得るためには高度の精製を行うことが必要となる。

一方、フォ卜クロミック性を示す不純物が生成する可能性が少ない製法としては、目的とするクロメン誘導体をスピロフル才レノールから製造する方法が知られている（特許文献 3 参照）。

特許文献 1 ：特表平 1 0 一 5 0 8 0 3 1 号公報特許文献 2 ：特開 2 0 0 0 — 3 4 4 1 8 号公報特許文献 3 ：特開 2 0 0 1 — 1 9 2 3 7 8 号公報し力、しながら、上記方法においては、フエノール性水酸基を有するヒドロキシフルォレノンとグリニャール試薬等とを反応させ、酸性条件下にスピロ化することによリスピロフルォレノールを得ているため、反応を完結させるためにはグリ二ヤール試薬等を過剰量使用しなければならず、この結果、収率が低いという問題があった。発明の開示そこで、本発明は、フォ卜ク口ミック性化合物の原料として有用なスピロフル才レノールを効率よく製造する方法を提供することを目的とする。

本発明者等は、スピ口フ；!レオレノールを製造する際にヒドロキシフノレォレノンの水酸基を保護することにより、グニヤール試薬等の有機金属試薬の使用量を低減しようと考え、様々な保護基 ( p r o t e c t i n g g r o u p )についてその効果を検討した。その結果、特定の保護基で水酸基を保護する場合には、通常一般的に使用されている保護基を用いた場合に比べて保護基導入時の選択率および転化率が共に高く、次の工程の反応で保護基が外れ難いこと、更には脱保護（保護基の除去）の際に収率良く反応が進行することを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明によれば、下記式（ 1 ) ：

で表されるスピロフルォレノール化合物の製造方法であつて、

で表されるフルォレノン化合物に結合している水酸基を、珪素原子に結合している置換基の炭素数の合計が 5 〜 1 2 である置換シリル基からなる保護基で保護し、次いで該フルォレノン化合物と下記式（ 3 ) ：

式中、 Μ は L M g C M g B r 、 M g I 又は C u L i でめる、

で示される有機金属化合物とを反応させて、水酸基が前記保護基で保護されたヒドロキシーアリールフルォレノ一ルを得、

ί ί守られたヒド、 □ キシーアリールフルォレノールをスピ口化及び脱保護することを特徴とするスピロフルォレノ一ル化合物の製造方法；

但、刖 □d i ( 1 ) 乃至（ 3 ) において、

X は、単結合または下記グループ A の中から選ばれる何れかの 2 価の墓であり、

Y は、ベンゾ環の 2 つの炭素原子と共に芳香族炭化水素環基または不飽和複素環基を形成している基であリ、

X が単結合である場合、 R ¹ および R ² は、それぞれ、水素原子、下記グループ B から選ばれる何れかの 1 価の基、または互いに結合して下記グループ

A から選ばれる何れかの 2 価の基（但し — Z — および - C R ⁵ R ⁶ — は除く）を形成している基であ

X がグループ A から選ばれる基である場合、 R ¹ および R ² は、それぞれ、水素原子または下記グルプ B から選ばれる何れかの 1 価の基であり、

R ³ および R ⁴ は、それぞれ、水素原子又は下記グループ B から選ばれる何れかの 1 価の基であり、

P および q は、それぞれ独立して 0 〜 3 の整数である；

グル一 ― フ A ：

- Z C R ⁵ R ⁶

一 ( C R ⁵ R

- Z - ( C R R _ Z —、

一 ( C R R — Z — ( C R ⁵ R

( C R C R k 一、及び

一 C R = N

( 但 — は一 o _ 、一 S — 又は一 N R ⁵ — であり、 R ⁵ および R ⁶ は、それぞれ独立に水素原子又は下記グループ B から選ばれる何れかの 1 価の基であり、 — つの基の中に一 Z — ， R ⁵ または

R ⁶ が複数存在する場合には、当該複数の一 Z — , R ⁵ または R は互いに異なっていてもよく a 、 b 、 k および β はそれぞれ独立に 1 〜 4 の整数であり、 m および η はそれぞれ独立に 1 〜 6 の整数である）；

グル一プ B ：

7 ルキル基、ァラルキル基、置換もしくは非置換のァリ — ル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ァラルコキシ基、ァミノ基、一置換アミノ基、二置換アミノ基、シァノ基、ニトロ基、ノヽロゲン原子、トリフルォロメチル基、炭素原子あるいは窒素原子上に結合手を有する置換または非置換の複素環基、及び芳香族炭化水素環または複素環が縮環した縮合複素環からなリ、炭素原子あるいは窒素原子上に結合手を有する置換または非置換の縮合複素環基。発明を実施するための最良の形態

( 製造目的物）

本発明の製造方法により製造される前記式（ 1 ) で示されるスピロフルォレノール化合物は、クロメン誘導体からなるフォトク口ミック性化合物の合成原料として有用である。

前記式（ 1 ) において、 X は、単結合または前記グル — プ A の中カヽら選ばれる何れかの 2 価の基である。

また、前記グループ B で列挙されている基は、グル — プ A で示されている基の R ⁵ 又は R ⁶ となるばかりでなく、前記式（ 1 ) における R ¹ 、 R ² 、' R ³ 又は R ⁴ ともなる。グループ B で示される基の中で好適なものを具体的に例示すれば、メチル基、ェチル基、イソプロピル基、 t —ブチル基、シクロへキシル基等の炭素数 1 〜 6 のアルキル基；ベンジル基、フエネチル基、トリチル基等の炭素数 7 〜 2 0 ァラルキル基；フ I ニル基、ナフチル基、アルコキシフエニル基等の置換もしくは非置換のァリール基；ヒドロキシ基；メトキシ基、 t 一ブトキシ基等の炭素数 1 〜 6 のアルコキシ基；ベンジルォキシ基、トリチルォキシ基等の炭素数 7 〜 2 0 のァラルコキシ基；アミノ基；メチルァミノ基、シクロへキシルァミノ基等の炭素数 1 〜 6 の一置換アミノ基；ジメチルァミノ基、ジシクロへキシルァミノ基等の炭素数 1 〜 2 0 までの二置換アミノ基；シァノ基；二トロ基；塩素原子、臭素原子基等のハロゲン原子；トリフルォロメチル基； 2 — ォキサゾリル基、 4 — モルホリノ基、 2 , 2 , 6 , 6 — 亍トラメチルー 1 — ピペリジノ基等の置換または非置換の複素環基；及び 2 — べンゾォキサゾリル基、 1 — ベンゾトリアゾリル基、 9 一カルバゾリル基、 8 — キノリル基等の置換または非置換の縮合複素環基等が挙げられる。

なお、前記式（ 1 ) において、 X が単結合である場合、 R ¹ 及び R ² は、それぞれ、水素原子、前記グル — プ B から選ばれる基、或いは互いに結合して前記グループ A で示され.ている基を形成する基である。即ち、 X が単結合である場合、前記式（ 1 ) の化合物は 9 , 9 ' — スピロビフルオレン骨格を持つことになる。例えば、 R ¹ 、 R ² が互し、に結合して一 C R ⁵ = C R ⁶ — を形成してし、るときには、スピロ [ フルオレン一 9 , 1 ' 一 ( 1 H — シクロペン卜 [ d , e , f ] フエナントレン） ] 骨格を持つことになる。但し、立体的な要請から R ¹ と R ² とが互いに結合して一 Z — (即ち一 O — 、 — S — 、あるし、は、一 N R ⁵ — ）や一 C R ⁵ R ⁶ 一になることは無しゝ。

また、 X が前記グループ A から選ばれる 2 価の基である場合、 R ¹ 及び R ² は、それぞれ、水素原子或いは前記グループ B から選ばれる基である。この場合、前記式（ 1 ) で示される化合物は、スピロ [ フルオレン一 9 ， 9 ' ーキサン亍ン ] 骨格（ X がー O — の場合）、スピロ [ フルオレン一 9 , 9 ' 一（ 9 , 1 0 — ジヒドロアクリジン） ] 骨格（ X が一 N H — の場合）、スピロ [ フルオレン一 9 , 9 ，一（ 9 , 1 0 — ジヒドロアン卜ラセン） ] 骨格（ X がー C H ₂ — の場合）等の骨格をもつことになるが、 R ¹ 及び R ² に関しては特に立体的な制限は受けない。また、前記式（ 1 ) において、 Y は、ベンゾ環の 2 つの炭素原子と共に芳香族炭化水素基または不飽和複素環基を形成する基である。 Y が芳香族炭化水素基を形成する場合、式（ 1 ) の化合物は、例えばべンゾフルォレノ —ル骨格やナフトフルォレノール骨格を持ち、 Y が不飽和複素環基を形成する場合は、式（ 1 ) の化合物は、例えばフロフルォレノール骨格やインドーロフルォレノール骨格を持つことになる。この際、縮環の場所や向きについては全く任意である。

また、前記式（ 1 ) において、 R ³ および R ⁴ は、それぞれ、前記グループ B で示される何れかの 1 価の基であり、 R ³ および R ⁴ の数を示す p 及び q は、夫々 0 〜 3 の整数である。なお、 p 又は q 力 2 又は 3 のとき、即ち、 R ³ または R ⁴ が複数存在するとき、複数の R ³ または R ⁴ は互いに異なっていてもよしヽ。 ( スピロフルォレノール化合物の製造）

出発原料；

上述した式（ 1 ) のスピロフルォレノール化合物を製造するために、本発明ではまず式（ 2 ) ：

式中、 Y , R ^d 、 R ⁴ 、 p 及び q は式（ 1 ) で説明した通り、

で表されるフゾレオレノン化合物に結合している水酸基を、置換シリル基からなる保護基で保護する。この場合、式（ 2 ) の化合物が、アミノ基ゃ一置換アミノ基を含んでいる場合には、水酸基と共に、アミノ基ゃ一置換アミノ基も置換シリル基で保護する。また保護する水酸基は、フル才レノン環の 2 位に結合しているものに限定されず、その他の位置に結合している水酸基も含む。例えば、 R ³ または R ⁴ が水酸基、アミノ基又は一置換アミノ基である場合には、フルォレノン環の 2 位に結合する水酸と共に、これらの基も置換シリル基によリ保護する。以下、このような保護すべき基を保護性官能基と呼ぶことがある。

出発原料として用いるヒドロキシフルォレノンは、前記式（ 2 ) で表されるものであれば特に限定されないが、 Y がべンゾ縮環であるもの（即ち、ヒドロキシベンゾフルォレノン骨格を有するもの）が、目的とするフォトク口ミック化合物の性能面から好適である。また、目的とするフォトク口ミック化合物の性能の点から、 R ³ 、 R ⁴ 力メチル基、ェチル基、イソプロピル基、 t 一ブチル基、シクロへキシル基等の炭素数 1 〜 6 のァルキル基；ベンジル基、フ； L ネチル基、トリチル基等の炭素数 7 〜 2 0 のァラルキル基；フエニル基、ナフチル基、アルコキシフエニル基等の置換もしくは非置換のァリール基；ヒドロキシ基；メトキシ基、 t 一ブトキシ基等の炭素数 1 〜 6 のアルコキシ基；ベンジルォキシ基、トリチルォキシ基等の炭素数 7 〜 2 0 までのァラルコキシ基であり、且つ p 及び q が 0 または 1 であることが好

¾1 であ。

本発明で好適に使用できる式（ 2 ) のヒドロキシフルォレノンを具体的に例示すれば、 3 — メトキシ一 5 — ヒドロキシベンゾ [ c ] フルオレン一 7 — オン、 9 — メトキシー 5 — ヒドロキシベンゾ [ c ] フルオレン一 7 — ォン、 3 , 9 — ジメトキシ一 5 — ヒドロキシベンゾ [ c ] フルオレン一 7 — オン等を挙げることができる。保護基の導入；

本発明では、前述した保護性官能基を保護する保護基として置換シリル基を使用するが、この置換シリル基におい (一 &

て、珪素原子レホ± ム

ロ口している 3 つの置換基の炭素数の合計が 5 〜 1 2 である力 ι¾大の特徴である。即ち、立体障害の大きい置換シリル基を保護基として用いることで、保護基導入時の選択率および転化率が共に高

< 、次の反応工程で保護基が外れることもなく、脱保護の収率も良くなリ、結果として目的物であるスピロフルォレノールを効率よく製造することができる。

般に、水酸基の保護基としては、メチル基、ベンジル基の他、メトキシメチル基ゃテトラヒドロビラニル基等のァセタール型、ァセチル基やべンゾィル基等のエステル型、ベンジルォキシ力ルポ二ル基や t — ブトキシカルポニル基等の力一ボネ一ト型、卜リメチルシリル基等のシリルェ一テル型等、様々な保護基が提案されている。しかし、メチル基を ax.基とした場合にはヒドロキシフルォレノンの R または R ⁴ にメトキシ基等のァルコキシ基がある ¾f n* には、保護基を除去する工程でァルコキシ基が破壊されるために、一般的な製造方法足り得ない。また、ベンジル基を Ί 蒦 ά とした場合は、保護基の導入時に目的とする水酸基だけでなく、分子骨格にもベンジル基が導入される傾向にあリ、これを除去する 1 禾王 (脱保護）においてもァルコキシ基の破壊や分子骨格の兀等の畐 lj反応が多 < 、効率的ではない。また、ァセタール型の保護 I ねいても保護基の導入時の選択性に問題があリ、ェステル型やカーボネート型では次のェ程の反応に耐えられない。更にシリルエーテル型についても、卜リメチノレシリル基のように立体的にシンプルな構造では次の工程の反応に耐えられないため、使用できない o

本発明で保護基として使用する置換シリル基は、 3 個の置換基の炭素数の合計が 5 〜 1 2 であるという条件を満足するものであれば特に限定されないが、後述する保護基導入のために使用するシリル化剤の入手が容易で効果も高しヽとしゝぅ理由から、 t — プチルジメチルシリル基、トリイソプロビルシリル基、又は 2 —メチル一 3 , 3.— ジメチル一 2 — プチルジメチルシリル基であるのが特に好適である。

上記保護基の導入のために使用するシリル化剤は、上記置換シリル基が脱離基と結合した化合物 'であリ、例えば、下記式（ 6 ) ：

E — S i R ⁷ R ⁸ R ⁹ ( 6 )

式中、 E は脱離基であり、 R ⁷ 、 R ⁸ 及び R ⁹ はそれぞれアルキル基であり、これらアルキル基の炭素数の合計は 5 〜 1 2 である、

で示される化合物を挙げることができる。また、上記の脱離基としては、ハロゲン原子、アジド基、アルコキシ基、ァリールスルホニルォキシ基、及び総炭素数 5 以上のトリアルキルシリルアミノ基等を例示することができる。上記式（ 6 ) で示されるシリル化剤の中でも入手の面力、ら t ーブチノレジメチルシリルクロライド、トリイソプロビルシリルクロライド、 2 — メチルー 3 , 3 — ジメチルー 2 — ブチルジメチルシリルクロライド等の塩素化ゲイ素化合物を用し、るのが好適である。

即ち、上記のシリル化剤を式（ 2 ) のヒドロキシフルォレノンと反応させることにより、置換シリル基からなる保護基を導入し、水酸基に代表される保護性官能基を保護することができる

保護の際の反応条件は特に限定されないが、一般的には溶剤を用い、ヒドロキシフルォレノンとシリル化剤との混合溶液に 3 級ァミン化合物を加えて反応中に生成する酸を補足しながら反応させることにより保護基を導入することができる。又、予めヒドロキシフゾレオレノンの水酸基を水素化ナ卜リウム、 t — ブトキシカリゥム、水酸化ナ卜リウ厶ゃ水酸化力リウム等と反応させてァリレ力リ金属塩にしてからシリル化剤と反応させることによつても保護基を導入することもでぎる。もちろん、両 ¾ 法を組み合わせて反応させることも可能である。

で用いる溶剤は上記シリル化剤と反応しなければ特に限定されず、卜ルェン、キシレン等の芳香族炭化水素；ジクロロメタン、クロ口ホルム等の塩素化炭化水素；ンェチノレエ一テル、テ卜ラヒドロフラン等の非環状または環状のエーテル；ァセ卜ニ卜リル、プチロニトリル等の二卜リル；ジメチルホルムアミド、 N — メチルビ

□ U ド、ン等の非環状または環状のアミド；ジメチルスルホキシド、スノレホラン等の非環状または環状のスノレホキシド；スルホン；又はこれらの混合溶剤等が使用できる。

また、上記 3 級ァミン化合物としては、特に限定されないが、トリエチルアミン、 N ーメチルモルホリン等の非環状または環状の脂肪族 3 級ァミン；ジメチルァニリン、メチルシフエニルァミン等の芳香族 3 級ァミン；ピリジン、 4 ージメチルァミノピリジン等の複素環 3 級ァミン等が使用できる。中でも、 1 , 8 — ジァザビシクロ [ 5 . 4 . 0 ] ゥンデカ一 7 — ェンゃジァザビシクロ [ 4 . 3 . 0 ] ノナ — 6 ーェン等の下記式（ 4 ) で示される造を持つ 3 級アミン化合物を用いると、選択率、転化率せに高くなるのでよリ好適に使用できる。さらに、式 ( 4 ) で示される 3 級アミン化合物を触媒量とし、他の 3 級ァミン化合物と組み合わせて使用することもできる

式中、 i は 2 〜 4 の整数であり、 j は 3 〜 6 の整数である。

このようにして水酸基等の保護性官能基が保護されたヒドロキシフルォレノンが得られる。この化合物は、定法に従って単離、精製することもできるが、そのまま次の反応に用しヽることもできる。有機金属化合物との反応；

本発明の製造方法では、上記で得られた置換シリル基で保護されたヒドロキシフルォレノンを、式（ 3 )

式中、 M 【ま L i 、 M g C I 、 M g B r 、 M g I 又は C u L i であり、 X 、 R ¹ 及び R ² 【ま式（ 1 ) で説明した.通リ、

で示される有機金属化合物と反応させて、ヒドロキシァリ一ルフルォレノンを調製する。この反応に際しては、フル才レノン環の ² 位に結合している水酸.基等の保護性官能基は置換シリル基で保護さ.れているため、上記有機金属化合物との反応に関与せず、カルボニル基（ C = o ) のみが有機金属化合物と反応する。従って、得られるヒド口キシ一ァリールフルォレノンは、例えば下記式

( 7 ) で表され、水酸基等は置換シリル基で保護されてしヽる。

尚、上記式（ 7 ) において、 R ³ 或いは R ⁴ が水酸基、アミノ基或いは一置換アミノ基であるときには、これらも保護基（置換シリル基'， - S i R ⁷ R ⁸ R ⁹ ) で保護されている。

上記反応に用いる有機金属化合物は、式（ 3 ) の分子骨格に対応する分子構造を有するハロゲン化物を、プチルリチウム等の有機リチウム化合物、リチウム金属、マグネシゥム金属或いはアルキル銅リチウム化合物等と反応させることにより製造することができる。また、式（ 3 ) の分子骨格に対応する分子構造を有する有機リチウム化合物を銅化合物と反応させることによつても製造することができる。

水酸基等が保護されたヒドロキシフルォレノンと前記有機金属化合物との反応は、上記のようにして製造された有機金属化合物を単離することなく水酸基等が保護されたヒドロキシフルォレノンと反応させることによリ行うことができる。反応に際して用いる溶剤は、有機金属化合物と反応しない溶剤であれば特に限定されないが、へキサン、シクロへキサン等の非環状または環状の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジェチルエーテル、テ卜ラヒドロフラン等の非環状または環状のエーテル等が使用でき、これらの混合溶剤も使用できる。反応温度と反応時間は特に限定されないが、一 1 0 °C〜溶剤の沸点程度の温度で、 0 . 5 時間〜 1 0 時間程度の反応時間で、反応の進行を確認しながら決定すればよい。反応終了後は水でクェンチし水酸基等が保護されたヒドロキシーアリールフルォレノールを得る。このように得られる水酸基等が保護されたヒドロキシーァリールフルォレノールは、定法に従って単離、精製することもできるが、そのまま次の反応に用しヽることもでぎる。スピロ " (匕及び脱保護；

本発明においては、上記のようにして得られた "水酸基等が保護されたヒドロキシーアリールフルォレノール " を酸性条件下でスピロ化させ、水酸基等の保護性官能基が置換シリル基で保護されたスピロフルォレノールを得る。

酸性条件とするために酸が使用される。酸としては、 '硫酸、リン酸等の無機酸； P 一トルエンスルホン酸、トリフル才口酢酸等の有機酸；塩化アルミ二ゥ厶、四塩化チタン、四塩化ゲイ素、塩化スズ、塩化鉄等の無機のルイス酸；酸性ァルミナ、酸性ィォン交換樹脂等の固体酸；などの公知の酸が特に限定なく使用することができる。また、五酸化リン、五塩化リン、塩化チォニル、塩化スレフリルといつた水と反応して酸となるよつな脱水剤も使用できる。酸の使用量は、その種類によつても異なリ特に限定されなしヽが、一般的には、ヒドロキシーアリ — ルフルォレノール 1 0 0 重量部に対して、 0 . 0 1 重量部〜 1 0 0 0 重量部、より好ましくは 1 重量部〜 5 0 重量部を用いればよい。

酸性条件下でのスピロ化反応は、通常、溶媒（溶剤）中で行われる。ここで用いる溶媒（溶剤）は、使用する酸等と反応しないものであれば特に限定されないが、へキサン、シクロへキサン等の非環状または環状の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、クロ口ホルム等の塩素化炭化水素、テトラヒドロフラン等の環状エーテル、酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル類、ァセトニトリル等の二トリル類等が好適に使用できる。反応温度と反応時藺は特に限定されないが、室温〜溶剤の沸点程度の温度で、 0 . 5 時間〜 1 0 時間程度の反応時間で、反応の進行を確認しながら决定すればよい。この時、条件によっては保護基（置換シリル基）の除去が起こることがあるが、次の工程に影響は無い。このようにして製造した水酸基等が保護されたスピロフルォレノールは、定法に従って単離、精製することもできるが、そのまま次の反応に用しヽることもできる。本発明の製造方法では、最後に上記のようにして得られた水酸基等が保護されたスピロフルォレノ一ルについて脱保護（置換シリル基の除去）を行う。脱保護の方法は特に限定されないが、溶剤中でフッ素ァニオンを含む脱保護剤と反応させることにより容易に行うことができる。フッ素ァニオンを含む脱保護剤としては、テトラブチルアンモニゥムフルオラィド、ベンジリレ卜リメチルァンモニゥムフルオラィド等の四級アンモニゥ厶フルオラィド；フッ化ナトリウムやフッ化カリウム等のアルカリ金属フルオライドが使用できる。また、脱保護剤としてアルカリ金属フルオライドを用いる場合には、テトラブチルアンモニゥ厶ブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニゥムクロライド等の四級アンモニゥ厶塩を併用することが好ましい。また、ここで用いる溶剤は、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、へキサン、シク口へキサン等の非環状または環状の脂肪族炭化水，素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ジクロロメタン、クロ口ホルム等の塩素化炭化水素；ジェチルェ一テル、亍トラヒドロフラン等の非環状または環状のェ一テル；ァセトニトリル、プチロニトリル等の二トリル；メタノール、エタノール等のアルコール；ジメチルホルムアミド、 N — メチルピロリドン等の非環状または環状のアミド；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非環状または環状のスルホキシド；スルホン；これらの混合溶剤を用いることができる。また、これら溶剤は含水溶剤であってもよ I 。

さらに、脱保護の方法としては、水酸基等が保護されたスピロフルォレノールに、前記式（ 4 ) で示される化合物をアルコール類または水と共に反応させる方法も簡便である。この際の溶剤は前述の溶剤が使用できるが、反応試薬兼溶剤としてアルコール類を用いることが好適セある。

また、三フッ化ホウ素などのルイス酸を用いて脱保護を行なうことも可能である。この際の溶剤は酸によつて分解しない溶剤であれば特に限定されないが塩素化炭化水素等が好適に使用される。

このような脱保護によって得られたスピロフルォレノールは、定法に従って単離、精製することもできるが、そのままフォトクロミック化合物を合成するための反応に用しゝることもできる。さらに、本発明の製造方法では、酸を用いることによリスピロ化反応と脱保護反応を一段で行なうことも可能であり、このような方法を採用することは効率化の観点から特に好適である。この時、酸としては、上記スピロ化反応と脱保護反応で使用できるものとして例示した酸の中でも、有機スルホン酸、有機酸又はルイス酸、特に p — トルエンスルホン酸、トリフルォロ酢酸、三フッ化ホウ素（通常、エーテルコンプレックスとして使用される）臭化マグネシウム又は塩化アルミニウムが好適に使用できる。また、溶媒としては、上記スピロ化反応あるいは脱保護反応で使用可能な溶媒が特に制限なく使用できるが、反応の選択率の点からァセトニトリルを用いるのが最も好ましい。なお、反応終了後は、例えば、酸を不活性化した後に、水又は食塩水を加えて洗浄し、更に有機層から溶媒を除去することにより目的物を得ることができる。本発明の製造方法によれば、フォトクロミック性化合物の原料として有用なスピロフルォレノールを効率よく製造することが可能となる。

実施例以下、実施例を挙げて本発明を詳細に述べるが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例 1

3 ， 9 ージメトキシー 5 — ヒドロキシベンゾ [ c ] フルオレン一 7 — オン 2 g ( 6 . 5 m m o I ) を亍トラヒドロフラン（ T H F ) 1 0 m I に懸濁し、水酸化ナトリゥ厶 0 . 3 1 g ( 7 . 8 m m o l 〉のメタノール（ 4 0 m l ) 溶液を加え、室温で 1 時間攪拌した。一旦トルェン 8 0 m I を加えてから溶媒を全て減圧留去し、ナトリゥム塩とした。これを T H F 5 0 m l に溶解し、 t — ブチルジメチルシリルクロライド 1 . 2 g ( 7 . 8 m m o

I ) の T H F ( 2 0 m l ) 溶液を滴下して室温で 2 時間反応させた。この時の転化率は 9 9 % であった。

次いで T H F を減圧留去し、メタノール 3 0 m I から晶析して 2 . 4 g (純度 9 7 % 、収率 8 7 % ) の 3 , 9 — ジメトキシ一 5 — t 一プチルジメチルシリルォキシベンゾ [ c ] フルオレン一 7 — オン（ D B B F と略す）を得た。

1 — ブロモフエナントレン 2 . 1 g ( 8 . 3 m m o I ) をヘプタン 4 3 m I に溶解し、ブチルリチウム 5 . 3 m l 、 1 . D m o I / I 8 . 5 m m o I ) を室温で加えて 1 — リチォフエナントレンとし、 ― 5 °Cまで冷却してから、上記 D B B F 2 . 2 g ( 5 . 2 m m o I ) を加え 1 時間攪拌し、さらに T H F を 0 °C 以下で加えてその温度で 2 時間攪袢した。この時の転化率は 9 9 % であつた。

反応後、 1 N 塩酸 8 . 5 m l 、水 1 0 m I で洗浄し、溶媒を減圧留去した。メタノール 2 0 m I カヽ b 晶析して 2 . 5 g (純度 9 7 % 、収率 8 2 % ) の 3 , 9 — ジメトキシ一 5 — t — ブチルジメチルシリルオヤシー 7 — ヒドロキシ一 7 — フエナントレン一 1 — ィルベンゾ

[ c ] フルオレン（ D B H P B F と略す）を得た。

得られた 2 . 5 g の D B H P B F のうち 1 . 0 g ( 1 . 7 m m o l ) を酢酸 1 0 g に懸濁し、 6 0 °C に加熱した。ここに酢酸 3 . 5 g 、濃硫酸 0 . 7 g 、水 2 . 1 g からなる溶液を添加して 6 0 °C で 3 時間攪'拌した。この時の転化率は、 9 9 % であった。

その後、冷却して 5 N 水酸化ナトリウム水溶液 4 6 m l と T H F 5 0 m L を加えて洗浄し、更に水 2 0 m で 2 回洗浄して溶媒を減圧留去した。メタノール 3 0 m

I から晶析して 0 . 8 フ g (純度 9 6 % 、収率 9 0 o/o ) の 3 ' , 9 ' 一ジメ卜キシ一 5 ' — t — ブチルジメチルシリルォキシスピロ [ ( 1 H — シクロベント [ d , e , f ] フエナントレン）一 1 ， 7 ' — べンゾ [ c ] フルォレン ] ( D B C P B F と略す）を得た。得られた 0 . 8 7 g の D B C P B F のうち 0 . 5 8 g ( 1 . 0 m m o I ) を T H F 3 0 m l に溶解し、テトラブチルアンモニゥ厶ブロマイド 1 . 3 g ( 4 m m o I ) とフッ化カリウム 0 . 2 3 g ( 4 m m o I ) をカロえ、 1 0 時間加熱還流した。この時の転化率は 9 8 % だつた。その後、冷却して水 1 0 m I で 3 回洗淨し、溶媒を減圧留去した。純度 9 5 % で 3 ' ， 9 ，一ジメトキシ一 5 ' — ヒドロキシスピロ [ ( 1 H — シクロベント [ d ， e , f ] フエナントレン）一 1 , 7 ' — ベンゾ [ c ] フルォレン ] を 0 . 4 7 g (収率 1 0 0 % ) で得た。全収率を計算すると、 6 4 % であった。比較例 1

水酸化ナトリウム 0 . 2 8 g ( 7 m m o I ) をメタノ — ル 2 0 m I 【こ溶解し、 3 , 9 — ジメトキシ一 5 — ヒドロキシベンゾ [ c ] フルオレン一 7 —オン 2 g ( 6 . 6 m m o I ) とべンジルクロライド 0 . 8 2 g ( 6 . 5 m m o I ) をカロえ、 T H F を 2 0 m I 力□ えて 2 0 時間還流した。この時の転化率は 9 0 % であった。反応中にベンジル基が 2 個反応したと思われる副生成物が生成した。溶媒を減圧留去してァセトン 3 2 m i から晶析し、 1 . 4 g の 3 , 9 — ジメトキシー 5 — ベンジルォキシべンゾ [ c ] フルオレン一 7 — オンを得た（純度 9 フ％、収率 5 2 % ) 。

実施例 1 に準じてフエナントレン付加、脱水反応を行なしヽ、 3 ， , 9 ，ージメトキシー 5 ，一ベンジルォキシスピロ [ ( 1 H — シクロペン卜 [ d , e ， f ] フエナントレン）一 1 , 7 ' — べンゾ [ c ] フルォレン ] ( スピ口べンゾフルオレンと略す）を得た。純度及び収率は各々 8 5 % 、 9 0 % であった。

得られたスピロべンゾフルオレン 0 . 6 7 g ( 1 . 2 m m o I ) を T H F 3 0 m l 、メタノール 5 0 m I 【こ溶解し、 5 %パラジウム活性炭 0 . 2 7 g 、ギ酸アンモニゥ厶 1 5 . 1 ( 2 4 0 m m o I ) を加え、室温で 2 時間反応させた。このときの転化率は 9 9 % たた。反応後、パラジウム活性炭をろ別し、水 2 0 m I で洗浄し、溶媒を減圧留去した。純度 9 8 % で 3 ' , 9 ' — ジメ卜キシー 5 ' — ヒドロキシスピロ [ ( 1 H — シクロペント [ d , e , f ] フエナントレン）一 1 ， 7 ' 一ベンゾ [ c ] フルオレン ] を 0 . 5 5 g ( 収率 9 9 % ) で得た。全収率を計算すると、 3 9 % であった。比較例 2 3 , 9 一ジメトキシー 5 — ヒドロキシベンゾ [ c ] フルオレンオン 1 0 g ( 3 2 . 6 m m o l ) を T H F 5 0 0 m I に溶解し、二炭酸ジ一 t — ブチル 1 0 · 7 g ( 4 9 m m o に）と 0 . 0 4 g の 4 — ジメチルァミノピリジン ( 0 . 3 m m o I ) を加え、室温で 3 時間攪拌した。結晶が析出するまで T H F を濃縮し、 4 0 0 m l のへプタンを加えて晶析し、 1 2 . 8 g (純度 9 6 % 、収率 9 7 % ) の 3 , 9 — ジメトキシ一 5 — t — ブトキシカルボ二ルォキシベンゾ [ c ] フルオレン一 7 — オン（ベンゾフルォレノンと略す）を得た。

上記のベンゾフルォレノンを実施例 1 と同様に 1 — リチォフエナントレンと反応させたところ、 t — ブトキシカルボ二ル基が反応し、純度が 6 1 % まで低下した。このまま、実施例 1 と同様に脱水反応を行なったところ、脱保護反応も同時に進行したが純度 4 4 %の 3 ' , 9 ' 一ジメ卜ヤシ一 5 ' — ヒドロキシスピロ [ ( 1 H — シク口ペン卜 [ d ， e , f ] フエナントレン）一 1 ， 7 ' ― ベンゾ [ c ] フルオレン ] が得られたに過ぎなかった。これは精製ができなかった。なお、ロス無く精製ができたとしても、全収率を計算すると 4 3 % であった。実施例 2

3 — メトキシ _ 5 — ヒドロキシベンゾ [ c ] フルォレンー 7 — オン 1 0 g ( 3 6 . 2 m m o l ) を 1 5 0 m l の T H F に懸濁し、トリェチルァミン 4 . 4 g ( 4 3 . 5 m m o I ) を力！] えた。次いで、 t — プチルジメチルシリルクロライド 6 . 5 5 g ( 4 ό . o m m o I ) を T H F 5 0 m I に溶解した溶液を室温で滴下し、 4 5 °Cで 6 時間攪拌した。この時の転化率は 9 8 % であった。 T H F を減圧留去し、メタノール 2 3 0 m I から晶析して 1 g (純度 9 8 %、収率 8 5 % ) の 3 _ メトキシー 5 ― t — プチルジメチルシリノレォキシベンゾ [ c ] フルォレン一 7 — オン（ M B B F と略す）を得た

2 — ヨウ化ビフエ二ル 1 0 . 9 g ( 3 8 . 9 m m o I ) をヘプタン 1 5 0 m I に溶解し、一 5 °Cに冷却した。ここにブチノレリチゥム 2 6 . 5 m L ( ， . Ό m o I / 1 、 4 2 . 4 m m o I ) を加え、 — 5 。Cで 1 時間攪袢する。ここに、上記で調製された M B B F 1 0 . 5 g

( 2 7 m m o I ) を加え、さらに T H F を 0 °G以下で加えてその温度で.2 時間攪袢した。この時の転化率は 9 9 % であった。反応後、 1 N 塩酸 4 2 m I 、 T H F 2 0 0 m I を力 Π えて洗浄し、さらに水 5 0 m I で 2 回洗浄した。溶媒を減圧留去して、 1 4 g の 3 — メ卜キシー 5 — t — プチルジメチルシリルォキシー 7 — ヒドロキシ一 7 一（ 2 — フエニルフエニル）ベンゾ [ c ] フル才レン

( M B H P B F と略す ) を得た (純度

9 5 <¼ 、収率 9 5 % )

得られた 1 4 g の M B H P B F のうち 1 0 . 9 g ( 2 0 m m o i ) を酢酸 1 1 5 g に懸濁し、 6 0 °c に加熱した。ここに酢酸 5 5 g 、濃硫酸 1 0 . 9 g 、水 3 2 . 6 g からなる溶液を添加して 6 0 °C で 3 時間攪拌した。この時の転化率は 9 9 % であった。その後、 3 0 °C まで冷却し、 5 N の水酸化ナトリウム水溶液 7 4 0 m l と酢酸ェチル 4 0 0 m l を加えて洗浄し、さらに 1 0 % 食塩水 2 0 0 m I で洗浄した。溶媒を留去して 1 0 _g の 3 ' — メ卜キシ _ 5 ' — t 一ブチルジメチルシリルォキシスピ口 [ フルオレン一 9 , 7 ' 一べンゾ [ c ] フルオレン ] ( M B S F B F と略す ) を得た（純度 9 5 % 、収率 9 5 % ) 。

得られた 1 0 g の M B S F B F のうち 0 . 5 3 g ( 1 m m o I ) を T H F 3 0 m I に溶解し、 1 . 5 2 g の 1 , 8 — ジァザビシクロ [ 5 . 4 . 0 ] ゥンデカー 7 —ェン 1 0 m m ο I ； ¾· 加え、室温で 2 4 時間攪拌した。この時の転化率は 9 9 % であった。その後、 1 N 塩酸 1 0 m I で洗浄し、さらに水 1 0 m I で 3 回洗浄した。 T H F を留去して 3 ' - メ卜キシー 5 ' — ヒドロキシスピ口 [ フルオレン一 9 , 7 ' 一べンゾ [ c ] フルオレン ] 0 . 4 1 g (純度 9 6 % 、収率 9 9 % ) を得た。全収率を計算すると、 7 6 % であった。実施例 3

実施例 2 に準じて 3 ' — メトキシ一 5 ' t — ブチルジメチゾレシリルォキシスピロ [ フルオレン 9 , フ ' 一ベンゾ [ c ] フルオレン ] ( M B S F B F 略す）を得た。上記の M B S F B F O . 5 3 g ( 1 m m o I ) をクロロホルム 3 0 m I に溶解し、 5 °C に冷却して力、ら三フッ化ホウ素のジェチルェ一テルコンプレックス 3 . 4 g

( 2 4 m m o I ) を力！] え、 5 0 °C で 2 0 時間反応させた。この時の転化率は 9 9 % であった。その後、冷却し、 1 N 水酸化ナトリウム水溶液 2 4 m 1 、水 5 0 m I で 4 回洗浄した。

クロ口ホルムを留去して 3 ' — メトキシ一 5 ' — ヒドロキシスピロ [ フルオレン _ 9 , 7 ' — べンゾ [ c ] フルオレン ] 0 . 4 0 g (純度 9 6 % 、収率 9 7 % ) を得た。全収率を計算すると、 7 4 % であった。比較例 3

水酸化ナトリウム 0 . 4 _g ( 1 0 m m o I ) をメタノ —ル 1 0 m I に溶解し、 3 — メトキシ一 5 — ヒドロキシベンゾ [ c ] フルオレン一. フーオン 2 . 5 g ( 9 . 1 m m o I ) と T H F 3 0 m l 、およびべンジルクロライド 3 . 7 g ( 2 9 m m o I ) を加え、 6 0 °Gで 1 0 時間攪拌した。この時の転化率は 9 5 % であった。

その後、 2 0 °C まで冷却し、析出した結晶をろ過し、水 1 0 m I で洗浄してから乾燥し、 3 — メトキシ一 5 — ベンジルォキシベンゾ [ c ] フルオレン一 7 — オン 2 . 0 g (純度 9 9 <½ 、収率 6 1 % ) を得た。

実施例 2 に従ってビフエ二ル付加、脱水反応を行なし、、 2 . 5 g の 3 ' — メトキシ一 5 ' — ベンジルォキシスピロ [ フルオレン一 9 , 7 ' 一べンゾ [ c ] フルォレン ] ( M B O S F B F と略す）を得た。収率は各々 9 7 % 、 9 5 % であった。

上記の M B O S F B F 0 . 5 g ( 1 m m o I ) を T H F 5 0 m I 、酢酸 1 0 m I 、メタノール 5 m I 、水 .1 . 5 m I の混合溶媒に溶解し、 5 %パラジウム活性炭 0 . 0 5 g を加えた。水素風船を用いて 4 0 ^DC で 2 4 時間攪拌した。この時の転化率は 9 9 % であった。反応後、冷却し、パラジウム活性炭をろ別し、溶媒を減圧留去して 3 ' — メトキシ一 5 ' — ヒドロキシスピロ [ フルオレン一 9 ， 7 ' 一べンゾ [ c ] フルオレン ] 0 . 4 1 g (純度 9 8 0/0 、収率 9 8 % ) を得た。全収率を計算すると、 5 5 % であった。実施例 4

実施例 1 に準じて 3 , 9 — ジメトキシ一 5 _ t — プチルジメチルシリルォキシ一フーヒドロキシ一 7 — フエナントレン一 1 — ィルベンゾ [ c ] フルオレン（ D B H P B F と略す）を得た。

この D B H P B F 1 . 0 g ( 1 . 7 m m o I ) をァセトニトリル 7 0 m I に溶解し、三フッ化ホウ素ェ一テルコンプレックス 0 . 7 1 g ( 5 m m o I ) を力 Π えて 5 0 °C で 3 時間攪拌した。フッ化カリウム 0 . 3 2 g ( 5 . 5 m m o I ) を加えて三フッ化ホウ素エーテルコンプレックスを不活性ィ匕し、 T H F 9 0 m I を加えてから 1 0 <½食塩水 8 0 m I で 3 回洗浄した。溶媒を減圧留去して、純度 9 8 % で 3 ，， 9 ' — ジメトキシー 5 ' — ヒドロキシスピロ [ ( 1 H — シクロベント [ d , e , f ] フェナントレン）一 1 , 7 ' — ベンゾ [ c 〕フルオレン ] を 0 . 4 6 g (収率 9 8.% ) で得た.。全収率を計算すると、 6 3 % であった。実施例 5 〜 1 1

実施例 4 に準じて、表 1 に示す条件で 3 , 9 _ ジメトキシー 5 — t — プチルジメチルシリルォキシ一 7 — ヒド口キシ一 7 — フエナントレン一 1 ーィルベンゾ [ c ] フルオレンのスピロ化と脱保護反応を行い、表 1 に示す結果を得た。比較例 4

1 一ブロモフエナントレン 2 . 1 g ( 8 . 3 m m o

1 ) をヘプタン 4 3 m I に溶解し、プチルリシゥム 5 .

3 m l ( 1 . 6 m o l Z |、 8 . 5 m m o l ) を室温で加えて 1 一リチォフエナントレンとし、一 5 °C まで冷却して 3 , 9 — ジメトキシー 5 — ヒドロキシベンゾ [ G ]フルオレン一 7 —オン 1 . 6 g ( 5 . 2 m m o I ) を加え

1 時間攪拌し、さらに T H F を 0 °C 以下で加えてその温度で 2 時間攪袢した。この時の転化率は 4 0 %であつた。さらに 2 0 時間、継続して攪拌したが転化率は 4 0 % のままであった。反応後 1 N — 塩酸 8 . 5 m I 、水 1 0 m I で洗浄し、溶媒を減圧留去した。メタノ一ル 2 0 m I から晶析して 0 . 8 1 g (純度 9 2 % 、収率 3 2 % ) の 3 , 9 — ジメトキシ一 5 — ヒドロキシ一 7 — ヒドロキシー 7 — フエナン卜レン一 1 — ィルベンゾ [ c ] フルオレン（ D H H P B F と略す）を得た。

得られた D H H P B F のうち 0 . 5 g ( 1 . O m m o l ) を酢酸 5 . 9 g に懸濁し、 6 0 °C に加熱した。ここに酢酸 2 . 1 g 、濃硫酸 0 . 4 g 、水 1 . 2 g からなる溶液を添力 Π して 6 0 °Cで 3 時間攪拌した。この時の転化率は 9 9 % であった。

その後、冷却して 5 N — 水酸化トリウム 2 7 m I 、 T H F 3 0 m l を力!] えて洗浄して、さらに水 1 3 m I で 2 回洗浄して溶媒を減圧留去した。メタノール 1 7 m I から晶析して 0 . 2 g (純度 9 5 % 収率 4 0 % ) の 3 ' 、 9 ' — ジメトキシー 5 ' — ヒドロキシスピロ [ ( 1 H シクロペン卜 [ d , e , f ] フエナントレン）一 1 , 7 ' — ベンゾ [ c ] フルォレン ]を得た。全収率を計算すると 1 3 % であった。

表 1 実施例溶媒酸の種類酸の量温度時間純度収率

N o . 1 (60m l ) (mmol) (°C) (h r) (%) (%)

5 1. 6 7 ァセトニトリノレ三フツイ匕ホウ素エーテノレ 16. 7 25 10 97 9 7 コンプレックス

6 1. 6 7 ァセトニトリル p一：トノレエンスノレホ.ン酸 5. 3 50 3 97 96 '·.

7 , 1. 6 7 ァセトニトリル臭化マグネシゥム 54. 3 50 3 98 98

.8 1. 6 7 THF トリフルォロ酢酸 6. 5 40 1 96 95

' 9 1. 6 7 ァセトニトリル塩化アルミ 16. 7 25 1 0 9 7 97

10 1. 6 7 酢酸ェチノレ四塩化チタン 16. 7 25 10 9 6 ·· 9 6 '

1 1 1. 6 7 ァセトエトリル四塩化ケィ素 8. 4 50 5 9 6 96

Claims

請求の範囲

で表されるスピロフルォレノル化合物の製造方法であつて、

下記式（ 2 ) ：

式中、 M は L i 、 M g C l 、 M g B r 、 M g I 又は C u L i である、

で示される有機金属化合物とを反応させて、水酸基が前記保 p¾基で保護されたヒドロキシ — ァリ — レフレオレノ一ルを得

<曰

ィ守られたヒドロキシーアリールフルォレノールをスピ口化及び脱保護することを特徴とするスピロフルォレノ一ル化合物の製造方法；

但し、前記式（ 1 ) 乃至（ 3 ) において、

X は、単結合または下記グループ A の中から選ばれる何れかの 2 価の基であり

Y は、ベンゾ環の 2 つの炭素原子と共に芳香族炭化水素環基または不飽和複素環基を形成している基でぁり、

X が単結合である場合、 R ¹ および R ² は、それぞれ、水素原子、下記グル — プ B から選ばれる何れかの 1 価の基、または互いに結合して下記グループ A から選ばれる何れかの 2 価の基（但し一 Z — および一 C R R 一は除く）を形成している基であレ J

X がグループ A から選ばれる基である場合 R および R ² は、それぞれ、水素原子または下記グル一プ B から選ばれる何れかの 1 価の基であり、

R ³ および R ⁴ は、それぞれ、水素原子又は下記グループ B から選ばれる何れかの 1 価の基であり、 P および q は、それぞれ独立して 0 〜 3 の整数である；

グル一プ A

Z - - ( C R R

( c R R

Z 一 ( C R R

( c R R 一 Z — ( C R ⁵ R ⁶ ) ( c R ° = C R 一、及び

C R = N

但し、一 Z — は一 O — 、一 S — 又は一 N R ° - であリ、 R ⁵ および R ⁶ は、それぞれ独立に水素原子又は下記グループ B から選ばれる何れかの 1 価の基であり、一つの基の中 - , R または R ⁶ が複数存在する場合には、当該複数の一 Z —

R ⁵ または R ⁶ 【ま互いに異なっていてもよく、 a . b 、 k および β iはそれぞれ独立に 1 ~ 4 の整数であリ、 m および n はそれぞれ独立に 1 〜 6 の整数で ab る ) ；

グル一プ B

ァルキル基、ァラルキル基、置換もしくは非置換のァリ一ル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ァラルコキシ基、アミノ基、一置換アミノ基、二置換アミノ基、シァノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、トリフルォロメチル基、炭素原子あるいは窒素原子上に結合手を有する置換または非置換の複素環基、及び芳香族炭化水素環または複素環が縮環した縮合複素環からなリ、炭素原子あるいは窒素原子上に結合手を有する置換または非置換の縮合複素環基。

2 . 前記式（ 2 ) で表されるフルォレノン化合物がァミノ基或いは一置換アミノ基を有している場合には、前記水酸基と共に、当該アミノ基或いは一置換アミノ基を前記保護基で保護する請求の範囲 1 に記載の製造方法。

3 . 前記置換シリル基による保護を下記式（ 4 ) ：

式中、 ί は 2 〜 4 の整数であり、 j は 3 〜 6 の整数である、

で示される化合物の存在下に行う請求の範囲 1 に記載の製造方法。

4 . 前記保護基で保護されたヒドロキシーアリールフルォレノールをスピロ化して得られたスピロフルォレノールを、四級アンモニゥ厶フルオラィドまたはアルカリ金属フッ化物と反応させることによリ脱保護が行われる請求の範囲 1 に記載の製造方法。

5 . 前記保護基で保護されたヒドロキシーアリールフルォレノールをスピロ化して得られたスピロフルォレノールを、前記式（ 4 ) で示される化合物の存在下に、ァルコールまたは水と反応させることにより、脱保護を行う請求の範囲 3 に記載の製造方法。

6 . 前記保護基で保護されたヒドロキシーアリールフルォレノールを、ァセトニトリル溶媒中で、酸と反応させることにより、スピロ化と脱保護とを一段で行なう請求の範囲 1 に記載の製造方法。

フ . 酸として三フッ化ホウ素エーテルコンプレックス、臭化マグネシウム、パラトルエンスルホン酸、塩化アルミニウムおよびトリフルォロ酢酸よりなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物を用いる請求の範囲 6 に記載の製造方法。